【課題】本発明は、荷電粒子ビームの走査領域内の歪みに関する情報の抽出を実現する画像形成装置、及びコンピュータプログラムの提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子線装置によって得られた画像データを積算する画像形成装置であって、荷電粒子線装置の走査方向が異なる複数の画像から、荷電粒子線のビーム照射時間に応じて変化する特徴量の変化量に関する第１の情報と、ビームの走査方向の変化前と変化後の特徴量の変化量に関する第２の情報、及び／又はビームの走査方向の変化前と変化後の前記画像上のパターンの位置ずれに関する第３の情報を算出する画像形成装置、及び上記処理を演算装置に実行させるコンピュータプログラムを提案する。 （もっと読む）

【課題】迅速に偏向アンプの故障の有無を判断できる偏向アンプの評価方法と、この機能を備えた荷電粒子ビーム描画装置とを提供する。
【解決手段】描画装置１００は、第ｎ番目にショットする電子ビーム２００のオン状態を生成する信号が発せられてから、第（ｎ−１）番目にショットする電子ビーム２００のオン状態の電圧からオフ状態の電圧に切り替わるまでの遅延時間を設定する設定部１１４と、ブランキング偏向器２１２によりショット回数が所定値になるまで電子ビーム２００のオン状態とオフ状態とを交互に繰り返す間、成形偏向器２０５または副偏向器２０９により２種類の動作パターンが交互に繰り返されて偏向された電子ビーム２００のビーム電流を測定するファラデーカップ２１６とを有する。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射する照射系での非点収差を評価する。
【解決手段】基準試料ＷＰの表面に、複数（例えば４つ）の同心円からなる図形パターンを形成し、この基準試料ＷＰを電子線でスキャンすることによって得られる電子信号に基づいて画像（スキャン画像）を形成する。このスキャン画像では、非点収差の方向を長手方向とする領域に像のボケが生じ、また、非点収差の大きさによって、ボケが生じた領域の範囲が変化する。したがって、得られたスキャン画像に基づいて、照射装置１０の照射系での非点収差の方向及び大きさを検出することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】高い精度でステンシルマスクの異物検査を実現できるステンシルマスクの検査方法および装置を提供すること。
【解決手段】レーザをシートビーム状に形成するスリットもしくはシリンドリカルレンズと対物レンズ等の集光レンズを組み合わせ、マスク表面に対して斜め上方から表面上に焦点を結ぶよう光学系を構成する。ステンシルマスクに対し前記光学系により斜め上方から照射されたシートビームは前記ステンシルマスク表面で集光して反対側へ反射するが、反射光を撮像素子等へ任意の倍率で結像させることで、前記ステンシルマスク表面の照射部位の形状に応じた光切断線画像が得られる。そして、前記光切断線画像に対し特定のエリアを監視することでマスク表面の異物を検出する。 （もっと読む）

【目的】描画装置の機能がダミーモードか実モードかを自動的に確認する手法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、コマンド「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」を入力する入力部１２４と、かかるコマンド「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」に基づいて、「ｃｈｅｃｋ．ｓｈ」プログラムを実行し、電子ビーム２００を用いた描画に使用する所定の機能の状態をチェックするチェック部１２６と、チェックされた所定の機能の状態をモニタ１９４に出力する出力部１２８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 荷電ビーム描画装置により形成された試料上のパターンの欠陥を検査することができ、且つ描画装置起因の欠陥又はプロセス起因の欠陥に対する検査スループットの向上をはかる。
【解決手段】 被描画領域が荷電ビーム描画装置の偏向器の偏向幅で決まる複数の偏向領域に分割され、分割された各偏向領域毎にパターン設計データを基に荷電ビーム描画装置によりパターンが描画された試料に対し、該試料上のパターンの欠陥を検査するパターン検査方法であって、偏向領域の接続部分の座標を決定する工程と、パターン設計データを、偏向領域の接続部である境界領域パターンデータとそれ以外のパターンデータとに分割する工程Ｓ１３と、試料上に形成されたパターンの画像データを取得する工程Ｓ１５と、境界領域パターンデータと画像データとを比較検査する工程Ｓ１６とを含む。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム描画装置において放電が発生した場所を特定する機構を提供する。
【解決手段】本発明の放電検出機構は、電子ビーム２００を照射する電子銃２０１と、電子銃２０１に電圧を印加する高圧電源２１２と、電子銃２０１と高圧電源２１２とを接続する高圧ケーブル２１４と、電子銃２０１と容量結合されたセンサアンプ２２０と、高圧電源２１２と容量結合されたセンサアンプ２３０と、センサアンプ２２０の出力信号波形とセンサアンプ２３０の出力信号波形とを表示するモニタ２１６と、を備え、信号波形のズレから放電が発生した場所を特定することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は電子ビーム描画装置における高さ測定方法に関し、正確なビーム描画を行なうことを目的としている。
【解決手段】 投光レンズによってスリット像を基準上に結像し、受光レンズによって前記ＣＣＤカメラ上にスリット像を結像し、該スリット像を画像化し、画像を２値化し、２値化画像内のＬＵＴ値２５５の領域の重心位置検出によってスリット像位置を求め、該スリット像位置に基づいて材料面の高さを求める方法において、
ａ．２値化画像内のＬＵＴ値２５５領域の面積を算出する
ｂ．算出した面積が所定の範囲ならＬＵＴ値２５５の領域の重心位置を求めるが、所定の領域外なら２値化閾値を変えて画像を２値化する、
処理を算出した面積が所定の範囲内になるまで繰り返し、この処理後の２値化画像においてＬＵＴ値２５５の領域の重心位置を求める。 （もっと読む）

【課題】 照明用電子のエネルギーを切り換えた場合でも、光軸がずれたり照明条件が変わったりすることのない荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】 偏向器１６を作動させることにより、照明ビームの光束中心の位置を４に示す位置から１８に示す位置に変更することができる。補助レンズ１７は、その中心軸が照明ビーム１８の光束中心と一致するように配置されており、照明用荷電粒子線のエネルギーが変更された場合に、電磁プリズム３への入射位置を補正するために用いられる。電磁プリズム３に入射する照射ビームは、そのエネルギーの違いに応じて、２つの位置から入射するが、その位置は、何れの場合にも、電磁プリズム３を出るときの照明ビームの光束中心が光軸１９に一致するような位置に選ばれている。よって、照明ビームのエネルギーを変えた場合でも、試料６を軸ずれの影響が少ない条件で照明することが可能となる。 （もっと読む）