Fターム[5F140AC02]の内容
絶縁ゲート型電界効果トランジスタ (137,078) | 動作、用途、素子構造 (4,642) | 空乏層制御型(ディプレッション型) (42)
Fターム[5F140AC02]に分類される特許
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電界効果型MOSトランジスタ
【課題】 高信頼性を実現するプロセスモニタに適したデプレッション型電界効果型MOSトランジスタを提供する。
【解決手段】 多結晶シリコン中に作製したダイオード及び半導体基板中に作製したダイオードで双方向ダイオードを形成し、この双方向ダイオードを金属配線でデプレッション型電界効果型MOSトランジスタのゲート電極と半導体基板間に接続する。
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半導体装置および半導体装置の製造方法
【課題】 ホットキャリア耐性が高いFETを備える半導体装置および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 シリコン基板102とシリコン基板102上に形成されるLDD構造のMOSFET110とを備える半導体装置100において,MOSFET110のLDD部は,相互に注入エネルギが異なる2度以上のイオン注入により形成されることを特徴としている。したがって,ホットキャリアの発生位置をシリコン基板102の深部に移動させ,MOSFET110のホットキャリア耐性が向上する。
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