Fターム[5F157BH00]の内容
半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | その他の洗浄技術及び補助手段 (573)
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基板洗浄方法および基板洗浄装置
【課題】基板にダメージを与えることなく、優れたパーティクル除去率で基板の被処理面を洗浄することができる基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】凍結洗浄処理前に基板に対してライトエッチングを実行している。ライトエッチングにより基板の表面が軽くエッチング除去されてパーティクルと基板表面の接触部分が減少し、凍結膜を構成するDIWが接触除去部分に回り込む。そして、その接触除去部分に回り込んだDIWが凍結されて凍結膜の一部となった後に除去される。その結果、パーティクル除去率が向上される。
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