説明

Fターム[5F172AE02]の内容

レーザ (22,729) | レーザホスト (2,042) | 結晶 (1,066) | ガーネット (503)

Fターム[5F172AE02]の下位に属するFターム

YAG (490)

Fターム[5F172AE02]に分類される特許

1 - 13 / 13


【課題】長期劣化への耐性を有する固体レーザ、およびそのようなレーザを提供する。
【解決手段】高強度の内部赤外放射による長期劣化への耐性をレーザに付与するための、ダイオード励起赤外レーザの利得媒質の共ドーピングに関する。Cr3+およびCe3+などのイオンを用いる利得媒質の共ドーピングは、外部イオン化放射への耐性を利得媒質に付与し、利得媒質の長期劣化の問題を解決する。 (もっと読む)


【課題】冒頭に記載した様式のレーザ装置を改善して、経済的な製造と同時に改善された冷却能力を与えること。
【解決手段】レーザ装置であって、受動的なQスイッチを有している少なくとも1つのレーザ活性固体を有しており、レーザ活性固体は少なくとも1つの、レーザ活性である第1の領域とレーザ非活性である第2の領域とを有しており、当該領域はレーザ装置の長手軸に沿って配置されている形式のものにおいて、第2の領域の長さは、第1の領域の1.5倍の長さよりも長いまたは第1の領域の1.5倍の長さと同じであるレーザ装置。 (もっと読む)


【課題】本来のレーザ性能特性を著しく低下させることのない受動Qスイッチ一体型マイクロレーザからの熱除去装置および方法を提案する。
【解決手段】一体型受動Qスイッチマイクロレーザは、第2の光透過性熱伝導エレメントに接着され得る過飽和吸収体に接着された利得媒体に接着された、光透過性熱拡散器を含む。利得媒体および過飽和吸収体のみがレーザ共振器内に配置される。 (もっと読む)


【課題】 加工対象物上の加工面が相対的に傾いている場合であっても、加工パターンを正しく加工することができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】 レーザ光Lの出射点に基づいて予め定められる加工基準面上に設けられる3以上の基準点の位置座標を記憶する基準点記憶部401と、レーザ光Lを加工基準面上で走査させ、各基準点のいずれか2つを加工対象物上に表示する走査制御部407と、表示された基準点及び当該基準点に対応する加工基準面上の基準点間における位置の差分情報に基づいて、各基準点の位置座標を加工基準面内で変更する基準位置変更処理部402と、基準位置変更処理部402による変更後の基準点の位置座標及び変更前の基準点の位置座標に基づいて、加工基準面上の照射位置が規定された加工パターン情報の位置座標を変換する座標変換処理部404により構成される。 (もっと読む)


【課題】多結晶構造のガーネット型Tb含有発光性化合物において、Tbドープ量と発光特性との関係を明らかにして、Tbドープ量を好適化する。
【解決手段】本発明のTb含有発光性化合物は、Tb及び2種以上のTb以外の金属元素を含み、励起光照射により発光するTb含有発光性化合物において、Tbを含むすべての金属元素の総モル数に対するTb濃度が3.75モル%超20.625モル%以下であることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】レーザ媒質が動かないように固定することができ、レーザ動作時の歪みを低減することができる固体レーザ装置を得る。
【解決手段】励起光を吸収して利得を発生する薄板状のレーザ媒質1と、レーザ媒質1の熱を外部に排熱するヒートシンク3と、レーザ媒質1とヒートシンク3を接合する接合剤2とを備えた固体レーザ装置であって、レーザ媒質1の接合面内における線膨張係数をα、ヒートシンク3の線膨張係数をη、接合剤2の硬化温度をTs、レーザ媒質1の動作温度をTd、ヒートシンク3の動作温度をThとそれぞれ表すと、Ts≧Td≧Thの関係を有するとともに、α(Ts−Td)≒η(Ts−Th)の関係を有する。 (もっと読む)


【課題】出力ミラーの位置を移動させてもレーザー発振モードの変化が小さい高出力・短パルスレーザー発振器を有するレーザー装置を提供。
【解決手段】一方の面がヒートシンクに接合され、レーザー光を外部に入出射するレーザー媒質とレーザー媒質から出射されるレーザー光の波長に対し第二高調波を発生する非線形光学結晶とをレーザー共振器内に備え、凹面ミラー(M1,M2)と凹面ミラー(M3,M4)に挟まれ、ミラー(M2)とミラー(M3)はレーザー発振光の光路で結合されており、レーザー媒質からミラー(M1)に出射されたレーザー光はミラー(M1)で反射され、平面ミラー(EM)で元の光路に折り返され、非線形光学結晶からミラー(M4)へ通過したレーザー光はミラー(M4)で反射され、平面ミラー(OC)で元の光路に折り返される共振器を備え、ミラー(M4)とミラー(OC)が第二高調波の波長に対して90%以上の反射率を有する。 (もっと読む)


【課題】薄型固体レーザー媒質からの蛍光や寄生発振光による励起光学系へのダメージを防止することができるレーザー装置の励起光集光レンズを提供する。
【解決手段】レーザー発振元素を含む固体レーザー媒質の側面、あるいは固体レーザー媒質に近接あるいは一体化された励起光に対し透明な光ガイドの側面より、励起光を導入し、固体レーザー媒質又は光ガイド内を伝搬させた励起光により固体レーザー媒質を励起する構成の薄型固体レーザー媒質を搭載したレーザー装置において、励起光4を集光するレンズ5の面に、レーザー発振光の波長に対し高反射率の膜7を形成する。 (もっと読む)


【課題】寄生発振を防止しかつ側面からの励起光の導入も阻害しない寄生発振防止レーザー装置を提供する。
【解決手段】中央部にレーザー発振元素を含むコア47を有し、そのコア47に近接あるいは一体化された、励起光に対し透明な光ガイド48を有し、その外側面より励起光を光ガイド48に導入し、光ガイド48内を伝搬させた励起光により前記コア47を励起する構成の薄型固体レーザー媒質を搭載したレーザー装置において、励起光を導入する光ガイド48の側面の励起光窓につながる前記光ガイド48の上下面の少なくとも一方の面上に沿って発振光を散乱する散乱体あるいは発振光を吸収する吸収体50を配置した。 (もっと読む)


【課題】固体レーザー装置の反射防止膜面を積極的に冷却して固体レーザ装置のレーザー出力、効率、安定性を向上させることができる反射防止面冷却固体レーザー装置を提供する。
【解決手段】固体レーザー媒質の一方の面がヒートシンクに固着され、相対する反射防止膜面が大気中に露出した構成の薄型固体レーザー媒質を搭載したレーザー装置において、大気中に露出した反射防止膜6面に、空気あるいはレーザー発振光に対し透明なガス10を強制的に吹き付ける強制冷却手段を具備する。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、特に、三準位レーザーを効果的にポンピングすることにある。
【解決手段】
上記課題を達成するために、レーザーの空洞共振器内に、波長λpのポンプビームによって励起可能で、ポンプ波長と三準位レーザーの波長λsの間の中間波長λiをエミットする第二のレイジング媒質をレーザーの空洞共振器内に収容させた。レーザーの空洞共振器のミラーが、波長λiで最高反射率Rmaxを有することを確実にさせるための処置が取られている。好ましくは、レーザーλsが直接的にポンピングされる場合に、レーザーλiの閾値がレーザーλsの閾値を下回る。更に、波長λiは、好ましくは、三準位レイジング媒質によって吸収され、この吸収が空洞共振器のその他の損失を上回る。空洞共振器内には、偏光子、フィルター又は非線形クリスタルの如き他の素子を追加してもよい。本発明は、特に、母材に応じて波長が約980nmのI’Yb3+三準位遷移に適用される。これにより、約980nmでエミットするレーザー、又は空洞共振器内周波数重複装置を含んでいる場合には、約490nmでエミットするレーザーを作ることが可能となる。
(もっと読む)


光源光の光学利得を供給するように構成される増幅器モジュール(120)を有する、チューブ状の活性媒質(108)を備えた固体レーザ(100)であって、増幅器モジュールは、内面および外面を有し、レーザ利得物質(108a)を含むチューブ(108)と、チューブ(108)の内面に隣接し、第1の複数のマイクロチャネル(132)を含む第1の基板(107a)と、チューブ(108)の外面に隣接し、第2の複数のマイクロチャネル(132)を含む第2の基板(107b)と、第2の基板(107b)の外部に配置され、光学励起照射をレーザ利得物質(108a)に供給するように構成される複数のダイオードバー(101)とを備える。チューブ(108)は、90度円環水晶回転子(118)および光学的に透明なエンドキャップ(106)によって分離される、2つの同様に負荷されたレーザ利得素子(108a)を含んでもよい。レーザは、環状ビームを密集した円筒形ビームに変換するアキシコン、ワキシコン、またはリフラキシコン光学部品(103)を含んでもよい。複数の増幅器モジュール(220)が連結されてもよい。好都合にも、熱レンズ効果と、典型的なチューブSSLと関連した複屈折、複焦点およびアライメントの問題とを低減させるかまたは除去しつつ、高ビーム品質および高平均パワーレベルを提供する。
(もっと読む)


【課題】レーザー結晶面内できわめて均一かつ高い熱伝導で固着を行い、かつ、レーザー結晶やその表面に付加された反射制御膜を傷つけることのないレーザー結晶用ダイボンド装置を提供する。
【解決手段】レーザー結晶をヒートシンクに固着するダイボンダ装置において、ピン台座10が係合するピン保持部8とピン鍔部7A間に配置されるスプリング9により、前記ピン保持部8より上下にスライド可能なピン7を備え、前記ピン7の先端面をレーザー結晶6上に接触させて前記レーザー結晶6を所定の圧力でヒートシンク4に押し付けた状態で加熱し、前記レーザー結晶6をヒートシンク4に固定する。 (もっと読む)


1 - 13 / 13