【課題】 膜パターンを形成する材料が無駄に消費されることを抑制できると共に、後工程において、不良品を良品と区別し易くすることができる、膜パターン形成方法、弾性表面波デバイスの製造方法、及び液滴吐出装置、並びに弾性表面波デバイス、弾性表面波発振装置、及び電子機器を実現する。
【解決手段】 本発明による膜パターン形成方法、弾性表面波デバイスの製造方法、及び液滴吐出装置は、ウェハ５１上に形成されたＳＡＷパターン５２の接続電極面に向けてレジスト膜材料の液滴を吐出することで、レジスト膜８３を形成する際に、不良であるＳＡＷパターン５２が形成された区画においては、レジスト膜８３を形成しない、又は不良マークを形成する。弾性表面波発振装置は、当該方法、製造方法、又は液滴吐出装置を用いて製造された弾性表面波デバイスを備え、電子機器は、当該弾性表面波発振装置を備える。 （もっと読む）

【課題】 弾性表面波素子片の製造に好適な、液滴吐出方式を用いた絶縁膜形成方法を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決するための液滴吐出方式を用いた絶縁膜形成方法は、圧電基板に成膜された均等膜厚のパターン電極を覆う絶縁膜を形成する方法であって、液滴吐出方式により圧電基板に形成された金属配線の絶縁膜形成部及び圧電基板に、吐出量を制御した絶縁膜形成材料の液滴を選択的に塗布し、前記金属配線に絶縁膜形成部と非形成部を設けたことを特徴とする。そして、前記絶縁膜形成材料は、無機材料物質を用いて構成することとする。 （もっと読む）

イオンビームエッチングにより生じるパーティクルが製品の特性に悪影響を与えるおそれのない信頼性の高い電子部品の周波数調整装置及び該周波数調整装置を用いた電子部品の周波数調整方法を提供する。 イオンビーム電流（イオン又は電子）を検知する制御コレクタ４の、少なくともイオンビームが照射される部分を無機絶縁体１２から構成する。 制御コレクタ４の、イオンビーム５が照射されない部分の少なくとも一部を導電体１３から構成する。
（もっと読む）

【課題】 絶縁化処理に対して十分な密着強度を有する生産性の高い保護膜を備えた絶縁化処理前基板、および基体表面のうち所望の範囲のみが絶縁化処理された基板の製造方法、弾性表面波振動子の製造方法、さらに当該製造方法によって製造された弾性表面波振動子、弾性表面波装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】 基板の製造方法が、表面に導電性を有する部位を含む基体１１を加熱する第１の工程と、基体１１上に前記導電性を有する部位の一部を覆うように機能液３０Ａを付与する第２の工程（図８（ｂ））と、機能液３０Ａを乾燥させて、周状の外縁部が該周状の外縁部以外の領域に比べて相対的に厚い保護膜３０を表面に備えた絶縁化処理前基板１２を形成する第３の工程（図８（ｃ））と、前記絶縁化処理前基板１２の表面に絶縁化処理を施す第４の工程（図８（ｄ））と、前記保護膜３０を剥離する第５の工程（図８（ｅ））とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】 アンテナの占めていた基板平面の面積を減らし、小型化を図ることができる電子デバイス、パッケージ型電気回路装置、及び電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の電子デバイス１０は、基板１１、絶縁層１２，２２、接続電極１４、外部接続電極１５、接続部である配線層１６ａ，１６ｂ，１６ｃ、アンテナ１８ａ，１８ｂ，１８ｃ、回路２０および接続配線２１から構成されている。この電子デバイス１０のアンテナ１８ａ，１８ｂ，１８ｃは、基板１１の側面１７上に形成されている。 （もっと読む）

【課題】球状弾性表面波素子の製造過程において、被塗布物である球状基材の表面にレジスト、感応膜等の被膜を伝搬路又は電極パターンを形成すること等を目的としたフォトリソグラフィープロセスの適用される領域に均一な被膜を形成するための被膜形成方法及び被膜形成装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の球状基材への被膜形成装置は、回転支持体３１を回転する回転手段３０と、球状基材１０を回転支持体３１の回転軸から離間した箇所に固定して搭載する手段とを有しており、回転支持体３１の中心の回転軸から離れた位置に設置された基材支持台４１に球状基材１０を固定し、回転軸中心について球状基材を回転させることによって、伝搬路領域（円環領域）に亘って均一な厚さの被膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】金属ケースを基板にはんだ付けする際に、基板上に搭載された部品にダメージを与えることなく、信頼性の高い金属ケース付き電子部品を効率よく製造することが可能な金属ケース付き電子部品の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】金属ケース取付用のランド６上に付与されたはんだ組成物（はんだペースト）４ａ上に金属ケース５を載置し、金属ケースの主として上面に加熱手段２５（１４）を接触させ、金属ケースをはんだの融点以上に加熱してランド上に付与されたはんだ組成物中のはんだを溶融させて、金属ケース５とランド６とを接合する。
また、加熱手段２５を、発熱部１３と、発熱部からの熱を金属ケースに伝える伝熱部１４とを備えた構成とし、発熱部と伝熱部とを分離可能として、加熱・冷却のサイクル時間を短くするとともに、金属ケースをはんだ付けした後、伝熱部１４を金属ケース５に押し付けたまま冷却することを可能にする。 （もっと読む）

【課題】 圧電基板に形成した弾性表面波素子の共振周波数のばらつきを小さくする。
【解決手段】 圧電基板の表面に導電膜を形成する成膜工程（ステップ１２）と、導電膜の上にレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程（ステップ１４）と、フォトマスクに設けたパターンを前記レジスト膜に縮小投影露光して現像するレジスト膜パターニング工程（ステップ１６）と、パターニングされたレジスト膜をマスクにして前記導電膜をエッチングする電極形成工程（ステップ１８）と、前記圧電基板に形成された前記弾性表面波素子の共振周波数を測定する周波数測定工程（ステップ２４）と、測定共振周波数と予め定めた目標共振周波数とから前記電極の陽極酸化量を演算して陽極酸化電圧を求める電圧演算工程（ステップ２６）と、求めた前記陽極酸化電圧によって陽極酸化し、前記電極の酸化反応の終点を検出して陽極酸化を終了する陽極酸化工程（ステップ２８）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 弾性表面波素子の電極パターン形成において、フォトマスクに印刷されている（電極）パターンニングを正確に圧電基板ウエハー上に転写することを目的とする。
【解決手段】 目的を実現するために本発明は、弾性表面波装置を構成するウエハー上に配置された弾性表面波素子に電極を形成するために用いるフォトマスクにおいて、圧電基板の主面と該フォトマスクが密接する間隔を空けることで、該圧電基板と該フォトマスクとの間を真空引きするときの引きを向上することで課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 弾性表面波共振片の電極パターンに形成される陽極酸化膜の厚さを一定にするとともに、弾性表面波共振片の共振周波数を一定にする陽極酸化装置および終点検出方法を提供する。
【解決手段】 陽極酸化装置１０は、被処理物に形成される陽極酸化膜の厚さに応じて前記被処理物に印加される電圧値を求めるとともに、前記電圧値より陽極酸化を終了する終点電流設定値を求める電源制御部２０と、前記電源制御部２０で求めた値の電圧を陽極酸化槽１２の電解液中に浸漬された前記被処理物に印加するとともに、前記電源制御部２０によって前記被処理物への電源供給が制御される電源部１８と、前記被処理物に供給される電流値を監視するとともに、前記電流値が前記終点電流設定値を下回ったときに陽極酸化の終点と判定する監視部２４とを有する構成である。 （もっと読む）