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国際特許分類[B01D53/54]の内容

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【課題】処理効率の向上と、処理コストの低減を実現できる排ガス排水処理装置を提供する。
【解決手段】この排ガス排水処理装置は、マイクロナノバブル反応槽31で作製したマイクロナノバブル水を洗浄水としてスクラバー18で排ガスを処理するので、マイクロナノバブルがもつ物体表面の高速洗浄機能により、排ガスを効率良く洗浄できる。また、上記排ガスを処理した洗浄水を排水処理部を構成する調整槽1、脱窒槽3、硝化槽11での排水処理に再使用するので、この洗浄水に含まれるマイクロナノバブルを排水処理に役立てることができ、排水処理効率の向上を図れる。 (もっと読む)


【課題】 室温で混合ガスから酸性ガスを吸収し、容易に吸収液の再生と液体酸性ガスの回収を同時に実現し、省エネルギ、低コストで酸性ガスを直接液体状態で分離回収する。
【解決手段】 所定の温度及び所定の圧力に維持した吸収塔13の上部に、有機溶剤又は水を主成分とする吸収液42を供給し、吸収塔13の下部に、酸性ガス及び非酸性ガスを含む混合ガスを供給して、吸収液に混合ガスを接触させる。これにより酸性ガスを吸収液に吸収させて、非酸性ガスを酸性ガスから分離して吸収塔13から回収する。所定の圧力に維持しかつ吸収塔内の温度より低い温度に維持した分離再生器46に、酸性ガスを吸収した吸収液を供給することにより、酸性ガスを液化しこの液体酸性ガス41と吸収液の相互不溶解性及び比重差により吸収液から液体酸性ガスを分離して分離再生器から回収するとともに吸収液を再生する。この再生された吸収液を吸収塔の上部に供給する。 (もっと読む)


【課題】アミン系化合物を含む被処理溶液のアミン系化合物を短時間で分解処理することができるアミン系化合物分解装置を提供する。
【解決手段】アミン系化合物のN−H結合の解離エネルギー以上のエネルギーを有する紫外線を含む光を照射する紫外光源13と、光を照射すると活性化する光触媒11と、被処理溶液Aを光触媒の上方から散水する散水ノズル12と、被処理溶液を蓄える筐体14と、ポンプとを有する。アミン系化合物を含む被処理溶液Aをポンプにより光触媒11の上方から散水して光触媒に接触させながら、紫外光源から光を照射する。これにより、アミン系化合物のN−H結合の解離を促進して、従来の装置に比べて、アミン系化合物の分解処理を短時間で行なうことができる。 (もっと読む)


【課題】過熱水蒸気を用いることにより減酸素雰囲気で熱が短時間に伝わり処理対象有害ガスの分解・無害化を効率よく安全に行え、長時間にわたって安定した浄化ができる有害ガスの浄化手段を提供する。
【解決手段】過熱水蒸気発生装置1は、パイプ本体2の外周面に高周波コイル3が巻装され、その中空内部に発熱体4が設けられ、当該発熱体4の隣りに処理室5を備えて成る。過熱水蒸気発生装置1に送り込まれた水7が、発熱体4を通過して処理室5内で過熱水蒸気8となっており、そこに半導体製造工程から排出された有害ガス20が送り込まれ過熱水蒸気8に接触して分解され無害化可能である。 (もっと読む)


【課題】例えば半導体の製造設備や液晶パネルの製造設備から排気された有害排ガスを処理する処理装置に於いて、燃焼室から排気された燃焼排ガスを冷却し、且つ燃焼排ガスに含まれた粉塵の回収と有害ガスの吸収を効率的に行えるようにする。
【解決手段】処理装置は、主燃焼室1に於いて供給された排ガスを高温にして燃焼或いは分解し排気筒4から排気する燃焼室Aと、排気された燃焼排ガスを冷却すると共に該燃焼排ガスに含まれた粉塵を排除する水スクラバーCと、燃焼室Aと水スクラバーCを納める筐体Dと、燃焼室Aの排気筒4と水スクラバーCとを接続して配置された閉鎖容器状の排ガス通路Bと、排ガス通路Bに配置された冷却媒体の噴射ノズル23と、を有する。 (もっと読む)


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