国際特許分類[B41C3/00]の内容
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鉛版
ゴム版を製作するもの (2)
プラスチック版を製造するもの (4)
電鋳版;バッキング層の使用 (1)
国際特許分類[B41C3/00]に分類される特許
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印刷用版および印刷用版の製造方法
【課題】パターン形成方法として反転オフセット印刷法を用いた場合においても、欠陥を生じ難く、連続的に高精細パターンを印刷可能な印刷用版およびその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】金型を用いた成形により製造した反転オフセット印刷用版であって、少なくとも前記印刷用版の最表面が樹脂であることを特徴とする印刷用版。これにより、少なくとも最表面が樹脂からなる印刷用版を容易に低コストに複製し、連続印刷のための交換用の印刷用版とする。
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微細パターン複製物の作製方法及び複製物
【課題】コントラストのある分子レベルの微細な複製物を簡単に作製する。
【解決手段】表面に凸状パターンを有する版に樹脂をコーティングし、その樹脂を前記版から剥離することにより前記樹脂からなる判子を作製し、疎水性分子を分散させてなる疎水性分子インクを前記判子に付着させ、その分子インクの付着した判子を用いて基板上に疎水性分子の層からなる微細パターンを形成し、前記微細パターンの周囲の基板面に親水性分子を分散させてなる親水性分子インクに浸漬することにより化学修飾を施す微細パターン複製物を作製する。その場合において、前記微細パターンの形成後に、基板上に微細パターンを形成したものを水中に浸漬し、微細パターンを構成する疎水性分子同士を疎水結合させて疎水性分子同士を集合せしめてから、水中で微細パターンの周囲の基板面に前記親水性分子インクによる化学修飾を施す。
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パターン形成体及びパターン形成体を用いた複製方法
【課題】電鋳可能な樹脂版を得る第一のパターン形成材料と第二のパターン形成材料を提供し、前記パターン形成材料を用いパターン形成体を提供する。
【解決手段】第一の金属原版の凹状パターン又は凸状パターンを転写するパターン形成材料から成るパターン形成体又はパターン形成体から第二の金属原版を形成する複製方法において、パターン形成体は、第一層と第二層の二層から成り、第一層は、エポキシ化合物と光カチオン重合開始剤から成る組成物の第一のパターン形成材料から成り、第二層は、エポキシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤から成る組成物の第二のパターン形成材料から成ることを特徴とするパターン形成体に関するものである。
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