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国際特許分類[C07C275/50]の内容

国際特許分類[C07C275/50]に分類される特許

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【課題】 高解像性のレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表される化合物[式中、Rは水素原子または低級アルキル基であり;Xは硫黄原子または酸素原子であり;Yは、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数1〜20の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である。]。
【化1】
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本発明は、アシル尿素を含むポリイソシアネート組成物の合成方法に関するものである。本発明によれば、少なくとも2個のイソシアネート官能基を含む誘導体を含有する出発組成物を、少なくとも50℃に等しい温度で、少なくとも2種の酸であって該酸のうちの少なくとも1種が強酸(pKa=3)であり、かつ、少なくとも1種が中程度の強さの酸(3≦pKa≦6)であるものの作用に付す。本発明は被覆剤に好適である。 (もっと読む)


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