【課題】電子、半導体及び精密加工分野等で使用可能なレベルにまで金属イオン濃度を低減することができる有機スルホン酸のアルカリ金属塩の処理方法、該処理方法によって得られる金属イオン濃度を低減した有機スルホン酸及びかかる有機スルホン酸を用いることにより同様に金属イオン濃度を低減した有機スルホン酸アンモニウム塩型界面活性剤を提供する。
【解決手段】特定の有機スルホン酸のアルカリ金属塩を、強酸性カチオン交換樹脂を用いたイオン交換法に供し、該有機スルホン酸に対する金属イオン濃度を各金属イオン毎で２００ｐｐｂ以下となるように処理した。またかかる金属イオン濃度を低減した有機スルホン酸を、特定の塩基性化合物で中和し、同様に金属イオン濃度を低減した有機スルホン酸アンモニウム塩型界面活性剤とした。 （もっと読む）

【課題】スルホン酸基が導入された無定形炭素を使用したプロトン伝導膜、固体酸触媒、イオン交換膜、燃料電池用触媒層等をさらに性能向上させる組成物を提供すること。
【解決手段】電子不足な電子雲を持つスルホン酸基が導入された無定形炭素と、それよりも電子が過剰なπ電子雲を持つスルホン酸基が導入された無定形炭素とを少なくとも含有することを特徴とする組成物を用いること。
前記電子不足な電子雲を持つスルホン酸基が、スルホン酸基が導入された無定形炭素のフッ素化物であること。 （もっと読む）

化学式（Ｉ）のナフタレンスルホン酸又はキノリンスルホン酸であって、式中、Ａは、Ｎ、又はＣＲ⁸の化学式群であり、ここでＲ⁸は、互いに独立して、Ｈ、ＯＨ、ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹であり、ここでＲ¹⁰及びＲ¹¹は、Ｈ、又はＣ₁−Ｃ₆アルキル又は化学式ＮＨ−ＣＯ−Ｒ¹²基を表し、ここでＲ¹²はＣ₁−Ｃ₆アルキル又はＣ₆−Ｃ₁₀アリールであり；Ｒ¹及びＲ²は、互いに独立して、Ｈ、又はＳＯ₃Ｒ⁹であり、ここでＲ⁹は、Ｈ、アンモニウム、又はアルカリ若しくはアルカリ土類金属のカチオンであり；Ｒ³は、Ｈ、又はＯＨであり；そして、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、及びＲ⁷は、互いに独立して、Ｈ、ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹、又はＮＨ−ＣＯ−Ｒ¹²基を表し；但し、（ｉ）Ｒ¹又はＲ²の少なくとも１つがＳＯ₃Ｒ⁹であり、そして（ii）Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、又はＲ⁷の少なくとも１つは、ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹、又はＮＨ−ＣＯ−Ｒ¹²基である、あるいはこれらの医薬組成物的に受容可能な塩；及び医薬的に受容可能な賦形剤。
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