【課題】反射防止膜としての機能を有するとともに、パターン転写性能及びエッチング耐性に優れ、微細化したパターンの転写時においてもパターンが曲がらないレジスト下層膜形成方法及びそれに用いるレジスト下層膜用組成物並びにパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本レジスト下層膜形成方法は、レジスト下層膜用組成物（例えば、フェノール性水酸基を有する化合物、溶剤及び促進剤を含有する組成物等）を被加工基板に塗布する塗布工程と、得られた塗膜を、酸素濃度が１容量％以上、且つ温度が３００℃以上の酸化性雰囲気下において成膜させる成膜工程と、を備えるものである。 （もっと読む）

本出願は、ａ）少なくともブタノールを含有する混合物を製造するために再生可能な出発物質を発酵させ、必要に応じて精製する工程；ｂ）ブタノールを脱水してブテンを得る工程；ｃ）ブタンを転化してイソブテンを得る工程；ｄ）ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを製造するために過酸化水素とイソブテンを反応させる工程；およびｅ）ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを単離する工程を含む、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを製造する方法に関する。本発明はまた、再生可能な資源の炭素原子を含有するｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、前記ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含有する組成物、およびさらに重合開始剤としてのこれらの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】コンパクトな形状で殺菌・消毒、消臭、防虫効果を有し、かつ耐久性と持続性がありメンテナンスが容易な空気清浄用フィルターを提供することであり、またそれを装填した空気清浄装置及び空調装置を提供すること。
【解決手段】一般式（I）で表されるペルオキシカルボン酸を含浸させたフィルター素材を有することを特徴とする空気清浄用フィルター
【化１】


（式中、Ｒ¹はＣ１−Ｃ１０のアルキル基（但し置換基としてOH基を有する置換基は除く）、又はＣ６−Ｃ１０のアリール基を示し、ＬはＣ２−Ｃ１２の２価の連結基を示し、Ｒ¹とＬは結合して環を形成してもよい）。 （もっと読む）

シクロヘキサノンペルオキシド三量体の製造のために、シクロヘキサノンは過酸化水素と、触媒としての硝酸の存在で適している溶剤中で反応される。 （もっと読む）