国際特許分類[C07F9/26]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物 (10,137) | 周期律表の第5族の元素を含有する化合物 (2,968) | リン化合物 (2,849) | P−C結合をもたないもの (570) | リンの酸のアミド (83) | P−ハライド基を含有するもの (4)
国際特許分類[C07F9/26]に分類される特許
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ハロゲン化有機リン化合物の製造方法
【課題】オリゴマーやポリマーが有する本来の特性を損なうことなく、樹脂組成物の難燃性を向上できるハロゲン化有機リン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式
(式中、Xはハロゲン原子を示し、R1、R2はそれぞれアミノ基を示し、R1、R2の少なくともいずれか一方は末端に不飽和二重結合基を有する。)で表されるハロゲン化有機リン化合物の製造方法であってトリハロゲン化ホスフィンオキシドと、一般式
で表されるアミン等とを反応させる。
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ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法
【課題】一般的な要求特性である透明性、表面硬度、耐溶剤性、及び電圧保持率を満足する層間絶縁膜を形成可能であり、かつ放射線感度に優れ、十分な保存安定性を有するポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成される層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法の提供。
【解決手段】[A]同一又は異なる重合体分子中にアセタール基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、及び[B]下記式(2)で表される酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物。
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イミド酸化合物の製造方法
【課題】式
[式中、Rはハロスルホニル基(−SO2X1;X1はハロゲン(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素))、又はジハロホスホリル基(−POX2X3;X2、X3は同一、又は異なるハロゲン(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素))を表す。Bは有機塩基を表す。]で表される「イミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を、安価な原料を用いて、高選択率で効率よく製造する。
【解決手段】「イミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を製造するにあたり、有機塩基存在下、ハロゲン化スルフリルもしくはハロゲン化ホスホリル、及びアンモニアを反応させる。副生物の生成を大幅に抑制しつつ、高収率で目的とするイミド酸化合物を製造できる。また、得られた該イミド酸化合物をアルカリ金属の水酸化物、又はアルカリ土類金属の水酸化物を反応させることにより、容易にイミド酸金属塩に誘導できる。
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リチウム塩およびその製造方法
【課題】本発明は、例えば電解液の支持塩として用いた場合に、リチウム輸率の向上を図ることができるリチウム塩を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、下記一般式(1)
(式中、R1〜R3は、互いに、同じであっても良く、異なっていても良く、フルオロアルキル基、アルキル基またはフェニル基を示す。)
で表される化学構造を有することを特徴とするリチウム塩を提供することにより、上記課題を解決する。
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