【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、メルカプト基を有するシランカップリング剤とを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が２５〜５０質量％であり、上記ゴム成分１００質量部に対する上記シリカの含有量が４０〜８０質量部であり、上記シリカ１００質量部に対する上記シランカップリング剤の含有量が１〜２０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、軟化点が−２０〜２０℃の液状レジンとを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が２５〜５０質量％であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が４０〜８０質量部、上記液状レジンの含有量が１〜２０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカとを含み、上記共役ジエン系重合体の含有量が２５〜５０質量％であり、上記ゴム成分１００質量部に対する上記シリカの含有量が４０〜８０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】熱インプリントリソグラフィー技術を用いて、ベンゾシクロブテン樹脂のパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】下記式（２）：


で表されるジビニルシロキサン−ビスベンゾシクロブテンを重合して得られるベンゾシクロブテン樹脂を含む層を基板上に形成する工程、前記ベンゾシクロブテン樹脂を含む層に、加熱及び加圧しながらモールドを押しつけ、該ベンゾシクロブテン樹脂を含む層にパターンを形成する工程、及び冷却後に、前記パターンが形成されたベンゾシクロブテン樹脂を含む層を前記モールドから離型する工程を有し、前記加熱の温度が１５０℃乃至３５０℃である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、絶縁膜、さらに詳しくは、半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有する膜が形成可能な、しかも誘電率、ヤング率などの膜特性に優れた絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】シロキサン構造を有する化合物を含む膜に周波数５．８ＧＨｚのマイクロウエーブを照射して形成される絶縁膜。 （もっと読む）

【課題】薄型ディスプレイ等の光学部材に対し、優れた耐衝撃性能を付与するとともに、適度な粘着力とリワーク性（再剥離性）を兼ね備え、かつ所望の厚みに対し気泡等を含まない厚膜シートを効率良く生産できる衝撃緩和機能性透明粘着エラストマーから成るシート及びその原料となる組成物を提供すること。
【解決手段】ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー組成物は、ポリオキシアルキレンポリオール(A)と、成分(A)に可溶なモノオール及び／又はイソシアネート基と反応し得るシランカップリング剤(B)と、ポリイソシアネート(C)と、水酸基含有モノ（メタ）アクリレート化合物(D)とを、各成分の水酸基、活性水素基及びイソシアネート基の当量数が所定の関係を満足する比率で反応させて得られ、未反応のイソシアネート基を実質的に含まない。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜を形成できる絶縁膜形成用組成物、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜および該絶縁膜を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】カゴ型シルセスキオキサンをコア部にもち、重合性基を分岐末端にもつデンドリマー及び／またはその重合体と塗布溶剤を含む絶縁膜形成用組成物、および該膜形成組成物を用いて得られる絶縁膜、および該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）