国際特許分類［C08F24/00］の内容
化学；冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ１つの炭素−炭素二重結合を含有する１個以上の不飽和脂肪族基をもち，その少なくとも１つが酸素含有複素環によって停止されている化合物の単独重合体または共重合体 (42)
国際特許分類［C08F24/00］に分類される特許
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新規な含フッ素化合物、および含フッ素重合体
機械的強度、および透明性に優れ、高温使用に適する高いガラス転移点を有し、かつ高い屈折率を有する含フッ素重合体を提供する。
新規な下式（１）で表される化合物、および該化合物が重合モノマー単位（２）を含む含フッ素重合体。ＲＡＦ、ＲＢＦ、ＲＣＦ、ＲＤＦ：それぞれ独立に、フッ素原子、塩素原子、ペルフルオロ１価飽和炭化水素基、またはペルフルオロ（部分クロロ１価飽和炭化水素）基であって、ＲＡＦ、ＲＢＦ、ＲＣＦ、およびＲＤＦの１個以上はペルフルオロ（部分クロロ１価飽和炭化水素）基である。
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含フッ素１，３−ジオキソラン化合物の製造方法、含フッ素１，３−ジオキソラン化合物、含フッ素１，３−ジオキソラン化合物の含フッ素ポリマー、及び該ポリマーを用いた光学材料又は電気材料
有用で新規な含フッ素化合物の製造方法、該製造方法により得られる含フッ素化合物、含フッ素化合物の含フッ素ポリマー、及び含フッ素ポリマーを用いた光学材料又は電気材料を提供すること。下記式（１）で表される化合物の１種以上と、下記式（２）で表される化合物の１種以上とを反応させた後、フッ素ガス雰囲気下で、フッ素系溶液中において下記式（３）で表される含フッ素化合物を製造する方法。類似して、下記式（１）と下記式（２）’との反応によって得られる化合物のフッ素化によって下記式（４）で表される含フッ素化合物。下記式（３）及び下記式（４）で表される化合物の重合によって得られるフッ素化ポリマーは、光学材料又は電気材料として有用である。Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒff1，Ｒff2，Ｒff3，Ｒff4，Ｘ，Ｙ，Ｚ及びｎは、各々明細書に定義されたものである。
【化１】
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