少なくとも１つのフルオロ界面活性剤が分散剤として用いられる非弾性フルオロポリマーの製造のための乳化重合法であって、前記フルオロ界面活性剤が式Ｘ−Ｒｆ−（ＣＨ₂）_n−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）₂（式中、ｎは１または２であり、Ｘ＝ＨまたはＦであり、Ｍ＝一価のカチオンであり、ＲｆはＣ₄〜Ｃ₆フルオロアルキルまたはフルオロアルコキシ基である）のフルオロアルキルリン酸エステルである乳化重合法が開示される。任意選択的に、第２の分散剤が重合に用いられてもよく、前記第２の分散剤は、カルボン酸、その塩、スルホン酸およびその塩、リン酸およびその塩からなる群から選択される少なくとも１つの末端基を有するパーフルオロポリエーテルである。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像時のコントラスト性にきわめて優れ、耐熱性とともに透明性にも優れ、顔料分散性のきわめて良好な塗膜を形成しうるアルカリ可溶性ポリマー、レジスト組成物を提供すること
【解決手段】本発明のアルカリ可溶性ポリマーは、耐熱性とともに透明性にも極めて優れた塗膜を形成することができるものであり、例えば、レジスト材料、各種コーティング剤、塗料等の用途において好適に用いることができる。また、本発明によれば、パターンの欠損や現像残渣のない良好な品質のカラーフィルタを提供することができる。また、本発明によれば、輝度および色純度が高く、色ムラ等を生じることのない良好な表示品質の表示装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】高い重合反応性を有しかつフルオロスルホニル基を複数有するフルオロスルホニル基含有モノマーを提供する。また、このモノマーを使用して得られる、フルオロスルホニル基含有ポリマーおよびスルホン酸基含有ポリマーを提供する。
【解決手段】２つのフルオロスルホニル基を有するパーフルオロ（２−メチレン−１，３−ジオキソラン）誘導体、その製造方法およびその合成中間体。この化合物を単独でまたはコモノマーと重合して得られるフルオロスルホニル基含有ポリマー、および該ポリマーのフルオロスルホニル基を加水分解して得られるスルホン酸基含有ポリマー。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れたエーテル基含有ジエン重合体およびその製造方法。
【解決手段】下記式（１）で表される単位を含む重合体および重合体の製造方法。


（ただし、上記式（１）において、Ｙ¹はエーテル結合を含むアルキル基、エーテル結合を含むアラルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基またはアリールオキシ基を表し、Ｙ²は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトリル基、アルデヒド基、アルキル基、アラルキル基、シリル基、シロキシ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アミド基、イミド基、または炭化水素チオ基を表し、Ｙ¹とＹ²は互いに結合して環を形成していてもよい。） （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、光学等方性がいずれも高く、各種光学用途に応じた特性を十分に発揮できる、面状熱可塑性樹脂成形体を提供する。
【解決手段】本発明に係る面状熱可塑性樹脂成形体は、ラクトンまたはラクタム環構造を有する重合体を主成分として含む。本発明に係る面状熱可塑性樹脂成形体は、フィルムまたはシート、好ましくは、光学用保護フィルム、光学フィルム、あるいは光学シートである。 （もっと読む）

【課題】従来以上に優れたキラル識別能力と高い加溶媒分解耐性を兼ね備えたキラルな高分子化合物、及び、従来以上に分離能が高く耐久性に優れた光学異性体分離用クロマト充填剤を提供する。
【解決手段】
下記の構造式１で表されるキラルな高分子化合物。円偏光二色性スペクトル吸収のモル楕円率最大値の絶対値が、溶液試料の測定において１０００ｄｅｇ・ｃｍ^２・ｄｍｏｌ^−１以上である点が特徴。


式中のＡｒは芳香環、Ｒ_１及びＲ_２は水素原子又は有機基、Ｒ_３及びＲ_４は水素原子又は有機基（Ｒ_３とＲ_４が同時に水素原子となることはない）、ｎは２以上の整数、−Ｘ−は−（ＣＨ_２）ｑ−，芳香族基、ビニル基、ヘテロ原子又はヘテロ原子を含む基、ｑは０以上の整数である。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、耐水性に優れ、フォトレジスト樹脂層に均一な塗膜形成が可能であり、さらにアルカリ現像液で溶解処理が可能であるレジスト保護膜用樹脂及びその保護膜を使用した半導体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は分子中に環状酸無水物骨格を有する重合単位を少なくとも含む半導体レジスト樹脂の保護膜用樹脂を提供する。また、環状酸無水物骨格を有する重合単位が例えば、下記式（１Ａ）及び（１Ｂ）
【化１】



（上記式（１Ａ）及び（１Ｂ）において、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｎは０から３の整数を示す。）
のいずれかで表される重合単位などを含む半導体レジスト樹脂の保護膜用樹脂である。 （もっと読む）

【課題】電荷輸送能に優れた側鎖にフルオレン残基を有する新しいタイプのポリマーを利用する電荷輸送材料を提供する。
【解決手段】式：


（式中、ＲａおよびＲｂは芳香環Ａｒに結合している電子供与性基；ＡおよびＢは電気伝導性を発現し得る構造単位）で示される構造単位を３０〜１００モル％有するポリマーを含む電荷輸送材料。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、露光ラチィチュード、ＰＥＢ温度依存性改良、プロファイル改良、スカム低減について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される環構造を主鎖に有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
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【課題】新規な、ペルフルオロ（２−アルキリデン−１，３−ジオキソラン）構造を有する化合物およびペルフルオロ（２−アルコキシメチレン−１，３−ジオキソラン）構造を有する化合物、ならびに、これらの化合物が重合したモノマー単位を含む新規な含フッ素重合体を提供する。
【解決手段】下式（ａ）で表される化合物、および該化合物が重合したモノマー単位を含む含フッ素重合体。ただし、Ｙ^Ｆは、炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基または炭素数１〜３のペルフルオロアルコキシ基である。Ｒ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、Ｒ^Ｆ３およびＲ^Ｆ４は、それぞれ独立に、フッ素原子、フルオロスルホニル基または式−Ｑ^ＦＸで表される基である。Ｑ^Ｆは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基または炭素数２〜６のペルフルオロ（アルキレンオキシアルキレン）基である。Ｘは、フッ素原子またはフルオロスルホニル基である。
【化１】
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