【課題】 経時的に堆積される薄膜の膜厚を別部材を用いずとも簡単かつ容易に、さらには使い捨て可能な低コストで的確に測定しうる膜厚計を提供すること、及び該膜の成膜操作において、膜厚を簡単かつ容易に、さらには低コストで、的確に測定する方法を提供する。
【解決手段】 膜厚計を経時的に堆積される薄膜の膜厚を測定するための検出材料として圧電セラミックを用いてなる発振式質量膜厚計とし、また、膜厚測定法を、経時的に堆積される成膜操作において、それにより得られる成膜本体とは別に、検出材料として圧電セラミックを配設し、その表面に成膜本体と同様に或いは成膜本体の膜厚に比例して成膜させ、それによる質量変化に比例する、該圧電セラミックを組み入れた発振回路の発振周波数の変化を利用して行うものとする。 （もっと読む）

高周波（ＲＦ）測定システムの構成部品の現場での交換のためのシステム。このシステムは、センサ／ケーブルの組と分析ユニットとを含む。現場に高周波測定システムを設置する前に、高周波測定システムのパラメータを決定しておく。これらのパラメータから、センサ／ケーブルの組または分析ユニットの、いずれの構成部品も、交換後のユニットのためにシステムを再較正することにより、現場で交換することができる。その再較正は、高周波測定システムを現場に設置する前に決定したパラメータを利用して、実行される。
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プラズマプロセスシステムは、プラズマ特性のその場測定を行う診断装置を備える。この診断装置は、通常、プラズマプロセスチャンバ内に配置された非侵襲性センサアレイと、このセンサを刺激する電気回路と、プラズマプロセスをモニタまたは制御するために、センサの測定値を記録して通信する手段とを備える。一実施形態では、このセンサは、入射荷電粒子電流と電子温度とを、プロセスシステム内のプラズマ境界近傍で測定する動的にパルス化したデュアルフローティング・ラングミュアプローブである。このプラズマ測定値を用いて、プロセス用プラズマの状態をモニタしてもよいし、プラズマプロセスを制御するのに用いるために、このプラズマ測定値をプロセスシステムコントローラに提供してもよい。 （もっと読む）

【目的】本発明はクリーニング寿命が長く、稼働率が高い反応検出装置を実現する。
【構成】反応室２に設けられている透明部材でなる窓８の内側に、開口部１１を有するシヤツタ手段６を設ける。反応室２内部の反応を観察するときだけ、シヤツタ手段６の開口部１１を窓８と対向する位置に移動させて反応室２内部の反応を観察できるようにする。反応室２内部の反応を観察するとき以外は、シヤツタ手段６の開口部１１以外の部分で窓８の全面を覆う。これにより、きれいな状態にある窓を介して発光スペクトルの発光強度を観察できるので安定した終点判定を行うことができると共に、反応室２をクリーニングする回数を格段的に低減することができる。 （もっと読む）