【課題】波長毎に凹面回折格子２１２の調節をする必要が無く、半導体ウエハＷの異なる層を処理するときに生じる光を、各層の物理的及び／又は化学的特性を分析するのに必要な分解能で分光することができる。
【解決手段】導入スリット２１１と、凹面回折格子２１２と、光検出部と、を備え、前記光検出部の受光面２１３ａが、前記凹面回折格子２１２により定まる仕様位置Ｐとは異なり、前記半導体ウエハＷの２以上の異なる処理の際に生じる光それぞれに対して、当該各処理の物理的及び／又は化学的特性を得るのに必要な分解能を有する位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】異常の有無及び原因を容易に判別することができるプラズマ処理装置の異常検出器、プラズマ処理システム、及びプラズマ処理装置の異常検出方法を提供する。
【解決手段】プラズマ処理システム１では、マッチングボックス３０を介して取得したＲＦ反射波の出力信号の波形をモニタリングし、この波形に予め設定された所定の閾値を超えるピーク部分が現れたか否かを検出する。そして、ピーク部分が検出された場合には、さらに、ピーク部分が閾値を超えている持続時間の検出、及び予め設定された所定時間内におけるピーク部分の検出回数の計数を行う。このように、ＲＦ反射波の波形におけるピーク部分の持続時間及び検出回数を検出することにより、アークモードと故障モードとで異なるＲＦ反射波の波形の挙動を互いに区別でき、異常の有無及び原因を容易に判断することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】Ｉｎ−ｓｉｔｕで安定した測定を行うことのできる反り測定システム、反り測定方法、及び成膜システムを提供する。
【解決手段】鉛直上下方向に移動可能であり、成膜用ホルダに載置されたウエハの外周部を支持して持ち上げるウエハ持ち上げ機構と、持ち上げられた前記ウエハの所定位置の高さを検出する高さ測定機構と、制御部とを具備する。前記ウエハ持ち上げ機構は、成膜チャンバ内で前記ウエハを支持する。前記制御部は、前記ウエハの成膜前後に、前記ウエハを支持した状態で前記ウエハ持ち上げ機構を測定用高さに位置させ、持ち上げられた前記ウエハの高さを測定し、成膜前後の前記ウエハの高さデータに基いて、成膜前後での前記ウエハの反り変化量を算出する。 （もっと読む）

【課題】 真空チャンバ内に浮遊する粒子の観察窓への付着を防止でき、真空チャンバ内の連続観察が可能な観察窓を有する真空処理装置を提供する。
【解決手段】 真空処理装置の観察窓２は、真空チャンバ壁１ａに取り付けた筒状体１０と、筒状体１０の内部に軸方向を一致させて挿着したハニカム構造柱状体１１と、筒状体１０の外側端部に組み込まれた窓材１２とで構成されている。ハニカム構造柱状体長さに対するハニカム断面最長対角線長さの比は０.０８５以下が好ましい。ハニカム構造柱状体のハニカム断面最長対角線長さは１０ｍｍ以上、ハニカム構造柱状体長さは１０００ｍｍ以下が好ましい。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングロールコータに組み込まれ多層膜の透過率を継続的に監視可能な簡易構造の透過率モニターを提供する。
【解決手段】このモニターは、光源11と、光源からの光を３光路に分配しその２光路を構成する第一、第二光ファイバ121、122が成膜室１内に導入される分岐光ファイバ12と、第一光ファイバから照射され薄膜が形成された樹脂フィルム100を透過した光を受光する第一受光ファイバ201の端部20、第二光ファイバから照射された光を受光する第二受光ファイバ202の端部19および第三光ファイバ123の端部18がそれぞれ接続される測定光切替器17を備え、第一受光ファイバを経由し測定された透過率と第二受光ファイバを経由し測定された透過率が第三光ファイバを経由し測定された光源光量に基づき補正されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 真空処理装置内で搬送されているウェーハの中から欠落部分を有する欠落ウェーハを低コストで検出する方法を提供すること。
【解決手段】 反射型光センサである１７個のユニットセンサ４３を搬送室１０と処理室１３の間のゲートバルブ２０の弁箱２１の天井部の開口に硬質ガラス窓２５を介してウェーハＷの搬送方向と直角な方向へウェーハの幅以上の幅に等間隔で一列に並べて設置する。列の中央のユニットセンサが搬送されてくるウェーハの先端を検知すると、高速演算部４８によって、全てのユニットセンサにおいて投光部からの投光がウェーハの正常部分で反射され受光部で受光されている状態をミリ秒単位の周期でカウントし蓄積することを開始し、ウェーハの後端が検知されるとカウントを停止する。各ユニットセンサで蓄積されたカウント数を正常ウェーハのそれと比較する。欠落部分ではカウントされないので欠落部分の存在を認識することができる。 （もっと読む）

【課題】膜厚を高精度にモニタ制御することができるとともに、設計自由度を高めることができるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】スパッタ装置は、基板５が設置される基板設置領域５ａと、ターゲット８が設置される領域であって、該ターゲットからのスパッタ粒子が放出される粒子放出領域８ａと、基板上に形成された膜厚を測定するためのセンサ１１が設置されるセンサ設置領域１１ａとを有する。基板設置領域とセンサ設置領域は、粒子放出領域の中心線Ｌ１に関して対称性を有する位置関係に設けられている。 （もっと読む）

【課題】真空処理槽のシール性能を損なうことなく、真空処理槽内における被回転体の回転の状態を検知することが可能な回転装置を提供する。
【解決手段】真空処理槽に取り付けられる回転装置であって、該真空処理槽内において回転される被回転体と、前記真空処理槽の内側に設けられ該被回転体を回転させる内側回転軸と、前記真空処理槽の外側に設けられかつ前記内側回転軸と磁気継手を介して連結された外側回転軸と、該外側回転軸を駆動可能な駆動装置と、を備えた回転装置において、前記被回転体の回転情報を前記真空処理槽の壁を透過させて前記真空処理槽の外側に送出する回転情報送出手段と、前記送出される回転情報に基づいて前記被回転体の回転の状態を検知する回転検出装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された薄い酸化膜の膜厚を、二次イオン質量分析法により、より簡便且つ正確に測定する。
【解決手段】既知の膜厚を有する酸化膜に一次イオンを照射することでスパッタリングしつつ放射される二次イオンの検出強度の最大値を取得して膜厚と二次イオンの検出最大値との関係を示す検量線を作製し、次いで、未知の膜厚を有する同一酸化膜に対して同様に二次イオンの検出最大値を取得し、その値を先の検量線に外挿することによって膜厚に換算することにより未知の膜厚を得る。 （もっと読む）

【課題】 基板上に堆積する物質の膜厚又は成膜速度の測定において、安定した測定手段によって成膜中リアルタイムで膜厚又は成膜速度を監視する。
【解決手段】 発振回路を有する水晶振動子上に堆積する物質の膜厚又は膜厚変化量をモニタする測定装置であって、水晶振動子の振動周波数を送信する送信手段、水晶振動子および送信手段を連動して移動させる移動手段、並びに水晶振動子の振動周波数を受信する受信手段を有し、水晶振動子上への物質堆積時に送信手段の送信部が移動する移動経路内の任意の一点と受信手段の受信部とが常に略一定距離を保つように構成した。 （もっと読む）