【課題】温度測定装置において、熱の影響を受けることなく、真空環境下において複雑に移動する被測定物の温度を正確に測定できるようにする。
【解決手段】装置本体３１と、これを固定状態で収容する内装ケース３３と、内面寸法が内装ケース３３の外面寸法よりも大きく形成されて、内装ケース３３との間に隙間が形成されるように内装ケース３３を収容する外装ケース３５と、外装ケース３５の外側に配されると共に内装ケース３３及び外装ケース３５の挿通孔３３ｃ，３５ｃを介して装置本体３１に電気配線された温度計３７と、外装ケース３５内において内装ケース３３を非接触状態で浮遊させる浮遊手段４９とを備える温度測定装置５を提供する。 （もっと読む）

【課題】特別な光源を必要としない安価なモニタリングが可能なリチウムイオン電池用集電体の表面処理方法を提供すること。
【解決手段】 集電体基材２の表面に、表面皮膜３を成膜するリチウムイオン電池用集電体１の表面処理方法において、成膜をするときに発生する放電光１７を光源として使うこと、放電光１７が照射された成膜状態を状態モニタ１５で撮像し、撮像された成膜状態に基づいて、成膜異常、ターゲット不良、集電体基材２のしわ、集電体基材２の搬送蛇行の異常を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバーを大気開放することなく、膜厚センサーの振動子を繰り返し再生して使用することを可能にする。
【解決手段】複数の振動子５を振動子ホルダー６上に設置し、検知部３に位置する振動子５の表面にある程度の膜厚の蒸着膜が堆積したら、振動子ホルダー６を回転させ、誘導電極９を有する再生部８に移動させる。誘導加熱によって振動子５の表面の蒸着膜を再蒸発させて再生する間、検知部３に位置する振動子５を測定に使用する。この工程を繰り返すことで、真空チャンバーを大気開放せずに膜厚センサーを再使用して蒸着を続けることが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 真空チャンバ内に浮遊する粒子の観察窓への付着を防止でき、真空チャンバ内の広範囲を連続観察が可能な観察窓を有する真空処理装置を提供する。
【解決手段】 真空処理装置の観察窓２は、真空チャンバ壁１ａに取り付けられ外壁接続部分２１と外壁接続部分２１に連通する筒状体１０と、筒状体１０の内部に軸方向を一致させて挿着したハニカム構造柱状体１１と、筒状体１０の外側端部に組み込まれた窓材１２で構成されている。外壁接続部分２１は可撓管なので、筒状体を真空チャンバ壁１ａの法線方向で前記法線を中心に０°として−４５°以上から４５°以下の範囲に傾けることができる。ハニカム構造柱状体長さに対するハニカム断面最長対角線長さの比は０.０８５以下が好ましい。ハニカム構造柱状体のハニカム断面最長対角線長さは１０ｍｍ以上、ハニカム構造柱状体長さは１０００ｍｍ以下が好ましい。 （もっと読む）

本発明は蒸着物質供給装置およびこれを備えた基板処理装置に係り、さらに詳しくは、有機物質が大容量で充填されて変質なしに保管されると共に、所望の量だけ有機物質を気化させて基板に供給することのできる蒸着物質供給装置およびこれを備えた基板処理装置に関する。
本発明に係る蒸着物質供給装置は、内部に原料物質が充填される貯留空間および原料物質が気化される気化空間が連通状に形成される坩堝と、前記坩堝に充填された原料物質を貯留空間から気化空間に連続的に又は周期的に搬送する搬送ユニットと、前記坩堝に形成される気化空間の外側に配設されて原料物質を気化させる熱を供給する発熱ユニットと、を備える。また、本発明に係る蒸着物質供給装置は、前記坩堝に形成される貯留空間の外側に配設されて前記貯留空間に貯留された原料物質の熱変質を防止する冷却ユニットをさらに備える。 （もっと読む）

【課題】ガス配管内のガスの流れが電磁バルブを実際に開閉する前に表示されることで、誤った操作による電磁バルブの開閉し忘れ、或は誤ったガスの混合による危険を防止し、安全性の向上を図る。
【解決手段】ガス配管路１に設けられたバルブ２，３，３６，３８の開閉要求状態及び開閉状態を検出する状態検出部４４と、前記バルブの開閉要求状態により予測される前記ガス配管路を流れるガスの予測状態と、前記バルブを開いて前記ガス配管路を流れるガスの状態とを状態毎に識別表示する表示部４４とを具備する。 （もっと読む）

【課題】本願発明者らによると、ＶＬＳＩ（Ｖｅｒｙ Ｌａｒｇｅ Ｓｃａｌｅ Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ）のウエハ・プロセスにおいて、以下のような問題があることが明らかとなった。すなわち、プリ・メタル（Ｐｒｅｍｅｔａｌ）工程のタングステン・プラグ形成の準備工程としてのバリア・メタル・スパッタリング成膜時や第１層メタル配線層のスパッタリング成膜時に、ウエハからの脱ガスによる水分に起因する異物の発生がみられる。
【解決手段】本願発明は半導体集積回路装置の製造工程におけるプラズマ・プロセスで、プロセス・チャンバ外に設けられたアンテナにより、プラズマから発生する電磁波を受信することで、同チャンバ内の水分をインサイチュー・モニタ（Ｉｎ Ｓｉｔｕ Ｍｏｎｉｔｏｒ）するものである。 （もっと読む）

【課題】水晶モニタを基板ドームの中央部に配置しても高精度な膜厚測定ができる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空槽１、真空槽１内の蒸発源、蒸発源に対向配置され成膜対象基板が搭載される基板ドーム、基板ドームにイオンを照射するためのイオン生成手段、基板ドームの中央部に配置された水晶モニタ５、及び水晶モニタの発振周波数を測定する測定手段６を備えた成膜装置において、水晶モニタ５が真空槽１及び基板ドームから電気的に絶縁される構成とした。 （もっと読む）

【課題】ホスト材料とドーパントとからなる膜層のドーパントの混合比率を、コストを抑制しつつ測定する。
【解決手段】第１の基板１１を、周縁部を除いて開放した状態で基準面２５上を第１の方向線５１に沿って搬送する第１の搬送手段３１と、第１の搬送手段３１と隣り合う搬送手段であって、第２の基板１２を周縁部を除いて開放した状態で基準面２５上を第１の方向線５１に沿って搬送する第２の搬送手段３２と、基準面２５上において第１の方向線５１と直行する第２の方向線５２を中心とする所定の幅を有する帯状の領域４０と第１の基板１１とが重なり得る第１の領域４１及び帯状の領域４０と第２の基板１２とが重なり得る第２の領域４２、の双方の領域に第２の蒸着材料を同時に飛翔させることが可能な第２の蒸着源６２と、第１の蒸着材料を第１の領域４１にのみ飛翔させることが可能な第１の蒸着源６１と、を備えることを特徴とする蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】微小な付着量を正確に測定できる技術を提供する。
【解決手段】膜厚センサ１０に冷却媒体を流し、水晶振動子３２を０℃よりも低温に冷却して共振周波数を測定する。熱雑音が低減され、Ｓ／Ｎが向上する為蒸気放出量が少ない成膜材料の付着量も正確に測定することができる。メンテナンスの際には冷却媒体が流れた流路に加熱媒体を流し、膜厚センサ１０を昇温させてから真空槽１１の内部に大気を導入する。冷却された部材に結露が生じないので、メンテナンス作業終了後の真空排気時間が短く、また、形成される薄膜の膜質もよい。 （もっと読む）