説明

エスエヌユー プレシジョン カンパニー,リミテッドにより出願された特許

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【課題】本発明は、3次元形状測定方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、基板と、基板上に設けられた半田ボールを有する被検査体の3次元形状測定方法において、半田ボールのイメージを取得し、半田ボールの中心部を決定する中心部決定ステップと、被検査体に正弦波形を形成し、基板の上面と半田ボールを同時に含む統合イメージを取得するイメージ取得ステップと、統合イメージから半田ボールの中心を通過する仮想の直線である基準線を選定し、基準線上に位置した半田ボールの中心部で正弦波形が投影された部分の位相値を抽出して半田ボールの中心部の位相値として決定し、基準線上に位置する基板で正弦波形が投影された部分の位相値を抽出して基板の位相値として決定する位相値決定ステップ、及び半田ボールの中心部の位相値と基板の位相値との差に基づき、基板の上面から半田ボールの中心部までの高さを算出する高さ算出ステップと、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ビジョン検査システム及びこれを用いた座標変換方法を提供する。
【解決手段】本発明は、被検査体を支持するテーブルと、テーブルをY方向に直線往復移動させるステージと、被検査体またはテーブルのイメージを取得するためにX方向に沿って離隔して配置される複数のカメラを含むビジョン検査システムにおいて、X方向に沿ってテーブルの一端部に離隔して配置される複数の第1マークと、最も左側及び右側の第1マークから各々テーブルの一側部にY方向に沿って離隔して配置される複数の第2マークとを含み、第1マークのイメージを取得してイメージの座標値をステージの座標値に変換し、第2マークのイメージを取得してイメージの座標値とステージの座標値を被検査体を基準とした絶対座標値に変換し、被検査体を基準とした絶対座標値はステージの精度が補正された座標値であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、バンドパスされて一定の波長帯域内に入射される光の場合、波長帯域内で積分する方式を利用し、薄膜層により反射される光の反射度分布曲線をモデリングすることで、実際の測定により得られる反射度分布曲線に実質的に近接する反射度分布曲線を数学的にモデリングすることのできる反射度分布曲線のモデリング方法及びこれを利用する厚さ測定方法、ならびに厚さ測定反射計を提供する。
【解決手段】本発明は、反射度分布曲線のモデリング方法およびこれを利用する厚さ測定方法、ならびに厚さ測定反射系に関するものであって、本発明による反射度分布曲線のモデリング方法は、一定の厚さの薄膜層に対して光の波長の変化に伴う薄膜層の反射度分布をモデリングする反射度分布曲線のモデリング方法であって、光の波長の変化に伴う上記薄膜層の反射度分布を示す反射度分布曲線を用意する反射度分布曲線用意ステップと、白色光を特定波長に対してバンドパスし、上記の特定の波長を中心に一定の波長帯域で光の強度分布を示す強度分布曲線を用意し、上記の強度分布曲線を上記の波長帯域内で積分して上記特定波長の入力強度として設定する入力強度設定ステップと、上記反射度分布曲線と上記強度分布曲線を結合した複合強度分布曲線を上記波長帯域内で積分して上記特定波長の出力強度として設定する出力強度設定ステップと、上記特定波長の出力強度を上記特定波長の入力強度で割った値を、上記特定波長に対する上記薄膜層の積分反射度として設定する積分反射度設定ステップと、上記特定波長を変化させながら、上記入力強度の設定ステップ、上記出力強度の設定ステップ、および上記積分反射度の設定ステップを繰り返して、波長の変化に伴う上記積分反射度分布を示す積分反射度分布曲線を生成する積分反射度分布曲線の生成ステップと、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は蒸着物質供給装置およびこれを備えた基板処理装置に係り、さらに詳しくは、有機物質が大容量で充填されて変質なしに保管されると共に、所望の量だけ有機物質を気化させて基板に供給することのできる蒸着物質供給装置およびこれを備えた基板処理装置に関する。
本発明に係る蒸着物質供給装置は、内部に原料物質が充填される貯留空間および原料物質が気化される気化空間が連通状に形成される坩堝と、前記坩堝に充填された原料物質を貯留空間から気化空間に連続的に又は周期的に搬送する搬送ユニットと、前記坩堝に形成される気化空間の外側に配設されて原料物質を気化させる熱を供給する発熱ユニットと、を備える。また、本発明に係る蒸着物質供給装置は、前記坩堝に形成される貯留空間の外側に配設されて前記貯留空間に貯留された原料物質の熱変質を防止する冷却ユニットをさらに備える。 (もっと読む)


本発明による蒸着装置は反応空間を形成する工程チャンバと、工程チャンバに連結された移送チャンバと、工程チャンバ内に位置して基板を安置する基板安置手段と、基板安置手段と対向配置されて原料物質を保存する蒸着源と、移送チャンバに設置されて基板に蒸着された蒸着膜の実際の厚さを直接測定する厚さ測定手段を含む。
本発明は厚さ測定手段を備える蒸着装置を利用して薄膜が蒸着される基板に形成された蒸着膜の実際の厚さを直接測定してモニタリングできる。これに、基板に蒸着された蒸着膜の実際の厚さをリアルタイムにモニタリングして、前記蒸着膜の実際の厚さを制御する蒸着制御の厚さをリアルタイムに補正することで、蒸着膜の厚さを正確に制御することができる。これにより、基板に形成される素子の信頼性及び生産収率を進めることができる。
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本発明は、厚さまたは表面形状の測定方法に関するものであって、本発明に係る厚さまたは表面形状の測定方法は、白色光干渉計を用いた、基底層上に積層された薄膜層の厚さまたは表面形状の測定方法であって、互いに異なる厚さを有する複数のサンプル薄膜層を想定し、各サンプル薄膜層に対する干渉信号をシミュレーションすることにより、各厚さに対応するシミュレーション干渉信号を生成するステップと、前記薄膜層に白色光を照射して前記薄膜層に入射する光軸方向に対する実際の干渉信号を取得するステップと、前記実際の干渉信号から前記薄膜層の厚さとなり得る複数の予想厚さを求めるステップと、前記予想厚さに対応する厚さを有するシミュレーション干渉信号と前記実際の干渉信号とが実質的に一致するか否かを比較するステップと、前記実際の干渉信号と実質的に一致するシミュレーション干渉信号の厚さを前記薄膜層の厚さに決定するステップとを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、暗視野検査装置に関するものであって、本発明に係る暗視野検査装置は、ベース上の被検査体側に光を照射する照明部と、前記被検査体によって反射されて入射される光または前記ベースを透過して入射される光を前記被検査体側にさらに反射する反射部と、前記被検査体によって散乱された光を受光して、前記被検査体を撮像する撮像部とを備え、前記照明部から照射された光のうちの一部は、前記被検査体によって散乱されて前記撮像部に入射され、前記照明部から照射された光のうちの他の一部は、前記反射部に入射され、前記反射部によって前記被検査体側にさらに反射された光は、前記被検査体によって散乱されて前記撮像部に入射されるように、前記照明部、前記反射部、及び前記撮像部が配置されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】干渉光検出器と、分光検出器と、干渉光検出器または分光検出器のいずれか一方に光を選択的に伝送する光路変換部とを備えることにより、マイクロ以下単位の厚さを有する透明な薄膜層の厚さを正確に測定することができ、測定しようとする薄膜層部位の厚さ形状(thickness profile)も測定できる厚さ測定装置を提供すること。
【解決手段】光源から照射された光または測定対象物によって反射される光を反射させたり、透過させる第1の光分割器と、前記測定対象物に光を集束させ、前記測定対象物によって反射される光と光路差が生じる基準光を生成する第1のレンズ部と、前記測定対象物に光を集束させる第2のレンズ部と、前記第1のレンズ部と対応して光路を形成し、前記測定対象物によって反射される光と前記基準光によって発生する干渉信号とを検出する干渉光検出器と、前記第2のレンズ部と対応して前記干渉光検出器によって形成される光路とは異なる光路を形成し、前記測定対象物によって反射される光を分光して、分光された光の強度と波長を検出する分光検出器と、前記干渉光検出器または前記分光検出器のいずれか一方に光を選択的に伝送する光路変換部とを備え、前記第1のレンズ部と前記第2のレンズ部とは、光路上で位置交換されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】厚さ測定方法に関し、より詳細には、透明な薄膜層と基底層との境界面に対する干渉光の位相変化を測定し、マイクロ以下の単位の厚さを有する透明な薄膜層の厚さを正確に測定できる厚さ測定方法を提供すること。
【解決手段】干渉計を用いて基底層上に積層された対象層の厚さを測定するための厚さ測定方法であって、前記対象層と実質的に同じ材質で設けられ、互いに異なる厚さを有したサンプル層から前記サンプル層の厚さに対する位相差の相関式を取得するステップと、空気層と前記基底層との境界面で、前記基底層に入射される光軸方向に対する第1の干渉信号を求めるステップと、前記対象層と前記基底層との境界面で、前記光軸方向に対する第2の干渉信号を求めるステップと、前記光軸方向に対して実質的に同じ高さで、前記第1の干渉信号の位相と前記第2の干渉信号の位相との間の位相差を求めるステップと、前記位相差を前記相関式に代入して、前記対象層の厚さを決定するステップとを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】正弦波縞を測定物に形成させて、前記正弦波縞による測定物の画像情報をカメラで取得した後、これを分析して測定物の形状を測定する3次元形状測定装置を提供すること。
【解決手段】前方に光を照射する光源と、該光源の前方に位置し、コンピュータのパルス信号に応じて種々の位相と多様な周期の正弦波縞を発生させるLCDパネルと、該LCDパネルの前方及び後方に位置する偏光板と、前記LCDの前方に位置し、所定距離離隔し、前記LCDから発生した正弦波縞を測定物に結像させる第1の結像レンズと、前記光源、前記LCDパネル、前記偏光板、及び前記第1の結像レンズが固定的に支持されるハウジングとを備えるLCDプロジェクターを有することを特徴とする。 (もっと読む)


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