国際特許分類[C23C16/442]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般 (47,648) | 金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般 (43,865) | ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着 (14,497) | 被覆の方法に特徴のあるもの (8,485) | 流体床法を用いるもの (4)
国際特許分類[C23C16/442]に分類される特許
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流動床反応器
高純度シリコン被覆粒子の生産用の流動床反応器システムを開示する。容器は、外部壁と、該外部壁の内面に面する断熱層と、該断熱層の内側に配置された少なくとも一つのヒーターと、該ヒーターの内側の着脱式同心状ライナーと、中央注入ノズルと、複数の流動化ノズルと、少なくとも一つの冷却ガスノズルと、および少なくとも一つの生成物排出口とを有する。システムは、ライナーの内側に着脱式同心状スリーブを含み得る。特定のシステムにおいて、中央注入ノズルは、反応器チャンバーの中央に第一ガスの垂直プルームを生成し、反応器表面上へのシリコン堆積を最小限にするように構成される。
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圧気輸送の間の粒子への原子又は分子層堆積のための装置及び方法
本発明は、チューブの中を圧気輸送されている粒子にコーティングを堆積するための方を提供する。本方法は、入口及び出口を有するチューブを用意する段階、チューブの入口において又はその近くにおいて、粒子を運んでいるキャリアガスをチューブの中へと供給して、チューブを通る粒子の流れを作る段階、及び該粒子の流れの中の粒子との反応のために、チューブの入口から下流で少なくとも1の注入点を介してチューブの中へと自己停止する第一の反応物を注入する段階を含む。本方法は、原子層堆積及び分子層堆積に適切である。本方法を実施するための装置もまた開示されている。 (もっと読む)
基材粒子にナノ粒子を付着させる方法
本発明は、気体放電の非熱プラズマによる、気相からのナノ粒子の堆積、及び、それに続く基材粒子へのナノ粒子の付着に関する。本発明は、固体バルク材料の流動性を高めるために使用することができる。特に、製薬産業は、その乏しい流動性により処理上の問題を引き起こす、粉末状の中間及び最終生成物を多数利用する。微粒子材料を用いると、ファン・デル・ワールス力のため、好ましくない接着効果が第1に起こる。この効果は、処理される材料の表面にナノ粒子を塗布することにより軽減できる。本発明は、ナノ粒子を製造し、基材表面に付着させるという結合プロセスによって特徴付けられる。さらに、非熱プラズマを用いることで、製薬産業でしばしば使用される感温材料を処理することが可能となる。 (もっと読む)
被覆微粒子、CVD装置及びCVD成膜方法、マイクロカプセル及びその製造方法
【課題】 微粒子又は粉体の表面に薄膜又は超微粒子を均一性よく被覆できるCVD装置及びCVD成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るCVD装置は、微粒子1を載置する容器2と、前記容器2を収容するチャンバー3と、前記容器2に載置された微粒子1を加熱するヒーター4と、前記チャンバー3内に原料ガスを導入するガス導入機構と、を具備し、サーマルCVD法を用いることにより、前記微粒子1の表面に該微粒子より粒径の小さい超微粒子又は薄膜を被覆することを特徴とする。
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