ここに開示するリアクティブ回路は、高密度のプラズマを生成する方法及びシステムにおいて、動的整合用回路網を使用することを必要とせずに、インピーダンスが動的に変化するプラズマを直接的に駆動できるようにするものである。このリアクティブ回路網は、プラズマインピーダンスのリアクタンス成分であるプラズマリアクタンスの値が第１の値であるときに小さな合計リアクタンスを提供し、且つ、プラズマリアクタンスの値が第２の値であるときに所定リアクタンス限界値を超えないリアクタンスを示すようにしたものである。プラズマリアクタンスの前記第１の値及び前記第２の値は、動的に変化するプラズマリアクタンスの値の予期される値域の大部分に及ぶ値である。プラズマリアクタンスの前記第１の値及び前記第２の値を、例えば、このプラズマリアクタンスの予期される上限値及び下限値に夫々対応した値としてもよく、或いはまた、プラズマリアクタンスの前記第１の値を、プラズマリアクタンスの予期される平均値に対応した値としてもよい。
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【課題】空間的に均一な密度のプラズマを生成することができるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】真空容器１１内に複数個の高周波アンテナ１６を配置し、各高周波アンテナ１６にインピーダンス素子１７を接続する。高周波電源２０に、銅板１８を介して複数の高周波アンテナ１６を並列に接続する。各インピーダンス素子１７をそれぞれ適切な値に調節することにより、高周波電源２０から各高周波アンテナ１６に供給される高周波電力を制御する。これにより、真空容器１１内のプラズマ密度の均一性を高くすることができる。 （もっと読む）

【技術課題】 基板に損傷や表面汚染を与えることなく、エッチングや成膜が行え、チャンバや電極等の構造は同一であるにも拘らず、導入するガスやプラズマ励起周波数を変えることにより、エッチングや成膜にも応用可能であり、生産性に優れるとともに、低価格で高性能なプラズマプロセス用装置を提供すること。
【解決手段】 容器内105に対向するように設けられ夫々平板状に形成された第１及び第２電極102，104と、プラズマに対して安定な材料から成り第１電極102上を覆うように設けられる保護部材101と、第２電極104上に被処理物103を取り付けるための保持手段と、第１電極102に接続される第１の高周波電源111と、第２電極104に接続される第２の高周波電源110と、容器105内に所望のガスを導入するためのガス供給手段とを少くとも備え、第１の高周波電源の周波数が前記第２の高周波電源の周波数より高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理チャンバ内に、外周部がチャンバの側壁よりも小さいプラズマを生成する。
【解決手段】少なくとも一部の境界が絶縁シールド１８及び側壁によって構成された内部空間を有するプラズマ処理チャンバ１２と、チャンバ１２の内部空間において基板Ｗを支持する基板支持体１３と、ＲＦエネルギを絶縁シールド１８を通してチャンバ１２の内部空間に伝え、チャンバ１２内の絶縁シールド１８の下に領域が制限された略均一な磁界を生成する電気伝導コイル２０を有するＲＦエネルギ源とを備える。この磁界は、コイル２０の下の領域である中央部よりもチャンバの内部空間の周辺領域で実質的に弱く、該磁界により処理ガスが略均一なプラズマに励起される。 （もっと読む）