【課題】ワークの細部まで清浄に、且つ、効率よく乾燥させる乾燥装置を提供する。
【解決手段】乾燥装置１は、乾燥室５の側壁９５に設けた投入口１０から投入されたワークＷを、複数の貫通孔を有する底板を備えるバケット４０の底板上に載置した状態で、所定の間隔をおいて無限軌道帯に一列に吊るして複数配置させ、水平移動、下降移動、送り方向とは反対方向へ水平移動、上昇移動の順に該バケットを搬送させて、側壁９５に設けた排出口２０からワークＷを排出させる。ワークＷのバケット４０Ａへの投入に際して、底板のワーク出入口側が高所となるようにバケット４０Ａを傾斜させる投入用バケット傾斜手段と、ワークＷのバケット４０Ｂからの排出に際して、底板のワーク出入口側が低所となるようにバケット４０Ｂを傾斜させる排出用バケット傾斜手段と、乾燥室５の底部からバケット４０の底面に向かって熱風を送る送風手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】湿式枚用洗浄装置の最終液切りエアーナイフの液切り効果を高めるため、エアーナイフを上下して被洗浄物に対する気体の風圧を制御する上下動手段を具備した圧力変動エアーナイフを提供することにある。
【解決手段】基板６０の搬入方向Ｄに対し所定の角度θで設置されたエアーナイフ８と、エアーナイフ８から噴射される気体の噴射量を一定にした状態で、エアーナイフ８を上下動させる上下動手段２０と、被洗浄物６０の搬送位置を検出する１つ以上の位置検出センサ４０と、位置検出センサ４０の出力により上下動手段２０を制御する上下動制御手段５０とを有し、エアーナイフ８と被洗浄物６０との対向距離Ｇが、基板６０の搬送位置に応じて制御されることにより、基板面上に噴射される気体の風圧が制御される。 （もっと読む）

【課題】エア圧力を高くすることなく基板に残る水滴を確実に除去することが可能である基板乾燥装置及び基板処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る基板乾燥装置は、処理対象である基板１２０に対して流体を噴出する噴出口１１２を備え、基板１２０と噴出口１１２とを相対的に移動させながら、噴出口１１２から流体を噴出して基板１２０を乾燥させる基板乾燥装置であって、流体の噴出方向Ｂのうち基板表面に平行な面の成分と基板１２０が噴出口１１２に対して移動する移動方向Ａとが傾いており、流体の噴出方向Ｂのうち基板表面に平行な面の成分と移動方向Ａとの成す角度が噴出口上の任意の部位に位置する変化部１１１で変化しているものである。 （もっと読む）