圧力変動エアーナイフ
【課題】湿式枚用洗浄装置の最終液切りエアーナイフの液切り効果を高めるため、エアーナイフを上下して被洗浄物に対する気体の風圧を制御する上下動手段を具備した圧力変動エアーナイフを提供することにある。
【解決手段】基板６０の搬入方向Ｄに対し所定の角度θで設置されたエアーナイフ８と、エアーナイフ８から噴射される気体の噴射量を一定にした状態で、エアーナイフ８を上下動させる上下動手段２０と、被洗浄物６０の搬送位置を検出する１つ以上の位置検出センサ４０と、位置検出センサ４０の出力により上下動手段２０を制御する上下動制御手段５０とを有し、エアーナイフ８と被洗浄物６０との対向距離Ｇが、基板６０の搬送位置に応じて制御されることにより、基板面上に噴射される気体の風圧が制御される。
【解決手段】基板６０の搬入方向Ｄに対し所定の角度θで設置されたエアーナイフ８と、エアーナイフ８から噴射される気体の噴射量を一定にした状態で、エアーナイフ８を上下動させる上下動手段２０と、被洗浄物６０の搬送位置を検出する１つ以上の位置検出センサ４０と、位置検出センサ４０の出力により上下動手段２０を制御する上下動制御手段５０とを有し、エアーナイフ８と被洗浄物６０との対向距離Ｇが、基板６０の搬送位置に応じて制御されることにより、基板面上に噴射される気体の風圧が制御される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、湿式枚用洗浄装置の最終液切り乾燥手段として用いられるエアーナイフに係り、詳しくは、液切り効果を高めるため、エアーナイフから噴射される気体の被洗浄物面上の風圧を制御する上下動手段を具備した圧力変動エアーナイフに関する。
【背景技術】
【０００２】
図３は、特許文献１の乾燥処理装置の構成を示す装置構成図である。図３において、上流側の洗浄処理槽で処理が行われた基板（図示されず）は、乾燥処理槽２の搬送ローラ３上に、矢印方向から搬入される。搬入後、時間が経過し、基板の前端縁の幅方向一端部がエアーナイフ８から噴射される気体の噴射領域に至ると、第１のスイッチ１１によって検出され、検出信号が制御装置１３に入力される。
【０００３】
制御装置１３に第１のスイッチ１１の検出信号が入力されると、この制御装置１３から第１の流量制御弁１５と第２の流量制御弁１６とに駆動信号が出力され、流量制御弁１５、１６が開放される。それにより、一対のエアーナイフ８に管路１４を通じて最大流量の気体が供給され、基板に付着残留した処理液は搬送方向と逆方向に押し流される。乾燥処理を開始した時点では、基板に付着残留する処理液の量が多いが、エアーナイフ８から最大流量で気体が噴出されるため、基板の乾燥処理を確実に行なうことが可能となる。
【０００４】
さらに時間が経過すると、基板は第２のスイッチ１２によって検出される位置まで搬送される。つまり、基板の後端縁の幅方向一端部がエアーナイフ８から噴射される気体の噴射領域に到達すると、それを第２のスイッチが検出する。制御装置１３は、その検出信号によって第２の流量制御弁１６を閉じ、エアーナイフ８から噴射される気体の量を半分にする。これにより、エアーナイフ８から噴射される気体は基板に残留する処理液を穏やかに押し流すから、勢い良く流す場合のように処理液が基板の搬送方向後端縁で跳ね、再付着することが防止される。
【０００５】
しかも、エアーナイフ８に供給する気体の量を半減することができるから、気体の使用量を大幅に低減することができる。さらに、基板の後端縁の幅方向一端部がエアーナイフ８の噴射領域に到達した時点では、基板の上面に付着残留する処理液の量が乾燥処理開始時に比べて大幅に減少しているから、その時点で気体の供給量を半減しても、乾燥処理に悪影響を及ぼすことがなく、乾燥能率は低下しない。
【０００６】
基板が所定の位置まで搬送されたことを第２のスイッチ１２が検出すると、その時点から制御装置１３に接続されたタイマ１０が作動する。タイマ１０が作動してから所定の時間が経過すると、エアーナイフ８から噴射される気体によって乾燥処理されていない部分は基板の後端縁の幅方向他端部だけとなる。タイマ１０がタイムアップする経過時間では、制御装置１３からの駆動信号によって第２の流量制御弁１６が開放されてエアーナイフ８には最大流量の気体が供給される。それによって、基板の後端部の幅方向他端部に押し流された処理液はその後端部から確実に除去されることになる。
【０００７】
すなわち、エアーナイフ８からの気体の噴射領域に基板の前端縁の幅方向一端部が到達した時点から、後端縁の幅方向一端部が到達するまでの間は気体の噴射量を最大とし、その後、乾燥処理されていない部分が基板の後端縁の幅方向他端部だけとなるまでは気体の噴射量を最大時の半分とし、さらに基板の後端縁の幅方向他端部を乾燥処理するときには再び気体の噴射量を最大にしている。
【０００８】
そのため、気体の噴射量を常時最大として乾燥処理する場合に比べて気体の使用量を大幅に低減することができる。しかも、気体の噴射量を低減するタイミングは、基板の全面に処理液が付着残留している場合に比べその量が低減しているときであるから、気体の供給量を半減しても、基板に付着残留する処理液を確実に除去し、基板を乾燥することが可能である。
【特許文献１】特開２００２−３５３１８９号公報
【０００９】
ところがこの乾燥処理装置によると、気体の噴射量を常時最大として乾燥処理する場合に比べて気体の使用量を低減することができるものの、気体の噴射量を低減できるタイミングは、気体の噴射量を最大とするタイミングより短いため、依然として多量の気体を消費することになる。このため、基板サイズがさらに大きくなれば、さらに消費量が増えることとなる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、湿式枚用洗浄装置の最終液切りエアーナイフの液切り効果を高めるため、エアーナイフを上下して被洗浄物に対する気体の風圧を制御する上下動手段を具備した圧力変動エアーナイフを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の圧力変動エアーナイフは、湿式枚用洗浄装置の最終液切り乾燥手段として用いられる圧力変動エアーナイフであって、被洗浄物の搬入方向に対し所定の角度で設置されたエアーナイフと、エアーナイフから噴射される気体の噴射量を一定にした状態で、エアーナイフを上下動させる上下動手段と、被洗浄物の搬送位置を検出する１つ以上の位置検出センサと、位置検出センサの出力により上下動手段を制御する上下動制御手段とを有し、エアーナイフと被洗浄物との対向距離が、被洗浄物の搬送位置に応じて制御されることにより、被洗浄物面上に噴射される気体の風圧が制御されることを特徴とする。
【００１２】
本発明の圧力変動エアーナイフのエアーナイフは、角度調整手段に設置され、被洗浄物の寸法形状に応じて、所定の角度に調整されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、エアーナイフを乾燥処理効果が最大となる角度に設定し、エアーナイフから噴射される気体の噴射量を一定にした状態で、エアーナイフを上下することにより、被洗浄物に対する気体の風圧を制御することが可能であるため、エアーナイフによる乾燥処理効果を低下させること無く、気体の消費量を低減することができ、この圧力変動エアーナイフを装備することにより、気体の消費量が少なく、乾燥処理効率の高い湿式枚用洗浄装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の実施の形態について、図を用いて説明する。図１ａは、本発明による圧力変動エアーナイフの装置構成を搬送面の上側から見た構成図である。図１ａにおいて、圧力変動エアーナイフのエアーナイフ８は、角度調整手段３０に設置され、角度調整手段３０は上下動制御手段２０に設置されている。また、エアーナイフ８の両端は、気体供給源Ｓから気体停止バルブＶを介して気体が供給されるよう、パイプ接続されている。さらに、エアーナイフ８は、角度調整手段３０により、被洗浄物である基板６０の搬入方向を示す矢印Ｄの方向に対して角度θをなして設置されている。
【００１５】
基板６０が搬送される経路の基板６０の下側には、基板６０の搬送方向の前端部Ｆと後端部Ｂの通過を検知する１つ以上の位置検出センサ４０−１〜６が設置されている。位置検出センサ４０−１〜６は、上下動制御手段５０に接続され、検知した位置検出信号を送信する。上下動制御手段５０は、この位置検出信号を受信して、上下動手段２０と気体停止バルブＶとを制御する。図１ｂは、図１aのエアーナイフ８と基板６０とを、一点差線Ａで切断した断面図である。エアーナイフ８と基板６０との対向距離を示すギャップＧは、上下動手段２０の上下動により制御される。
【００１６】
図２は、基板の搬送位置のタイミングと基板表面の気体の圧力との関係を示す基板表面圧力図である。図１において、気体供給源Ｓから供給される気体の圧力は、図２で示される圧力Ｐ１に設定されている。基板６０が方向Ｄから搬入されると、位置検出センサ４０−１は、前端部ＦをタイミングＴ１で検知した位置検出信号を、上下動制御手段５０に送信する。上下動制御手段５０はこの信号を受信すると、エアーナイフ８を降下させる降下開始信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は、降下を開始する。
【００１７】
次に位置検出センサ４０−２が、前端部ＦをタイミングＴ２で検知した位置検出信号を、上下動制御手段５０に送信する。上下動制御手段５０はこの信号を受信すると、エアーナイフ８の降下を停止させる降下停止信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は、降下を停止する。このタイミングＴ１からタイミングＴ２の間に、エアーナイフ８は、基板６０の面の気体の圧力が圧力Ｐ２となる位置まで降下して停止する。
【００１８】
次に位置検出センサ４０−３が、前端部ＦをタイミングＴ３で検知した位置検出信号を上下動制御手段５０に送信すると、上下動制御手段５０は、気体停止バルブＶにバルブを開ける信号を送信する。気体停止バルブＶがこの信号を受信しタイミングＴ３でバブルを開けると、エアーナイフ８から圧力Ｐ２の気体が基板６０の表面に向け噴射される。この圧力Ｐ２の状態は、位置検出センサ４０−１が、基板６０の後端部ＢをタイミングＴ４で検知した位置検出信号を上下動制御手段５０に送信するまで継続する。これにより基板６０の乾燥処理を開始した時点での多量の処理液を、確実に乾燥処理できる。
【００１９】
位置検出センサ４０−１が、タイミングＴ４で位置検出信号を上下動制御手段５０に送信すると、上下動制御手段５０はエアーナイフ８を上昇させる上昇開始信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は上昇を開始する。次に位置検出センサ４０−２又は３が、後端の端部ＢをタイミングＴ５で検知した位置検出信号を上下動制御手段５０に送信すると、上下動制御手段５０は上昇を停止させる上昇停止信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は上昇を停止しする。
【００２０】
このタイミングＴ４からタイミングＴ５の間に、エアーナイフ８は、基板６０の面の気体の圧力が圧力Ｐ１となる位置まで上昇して停止する。この圧力Ｐ１の状態は、位置検出センサ４０−４が、後端部ＢをタイミングＴ６で検知した位置検出信号を上下動制御手段５０に送信するまで継続する。タイミングＴ４において基板６０の後端部Ｂが位置検出センサ４０−１に検知される時点においては、基板６０の表面の処理液の量は減少しており、気体圧力Ｐ１でも乾燥処理が低下することは無い。
【００２１】
位置検出センサ４０−４が位置検出信号を上下動制御手段５０に送信すると、上下動制御手段５０は再度エアーナイフ８を降下させる降下開始信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は降下を開始する。次に位置検出センサ４０−５が、後端部ＢをタイミングＴ７で検知した位置検出信号を、上下動制御手段５０に送信する。上下動制御手段５０はこの信号を受信すると、エアーナイフ８の降下を停止させる降下停止信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は、降下を停止する。このタイミングＴ６からタイミングＴ７の間に、エアーナイフ８は、基板６０の面の気体の圧力が圧力Ｐ２となる位置まで降下して停止する。
【００２２】
この圧力Ｐ２の状態は、位置検出センサ４０−６が、後端部ＢをタイミングＴ８で検知した位置検出信号を上下動制御手段５０に送信するまで継続する。タイミングＴ７からタイミングＴ８の間は、基板６０の後端部Ｂがエアーナイフ８を通過し終えるタイミングであり、後端部Ｂの部分に残留している処理液は、気体の圧力Ｐ２により確実に乾燥処理される。上下動制御手段５０には処理枚数が予めセットされており、タイミングＴ８の位置検出信号で１枚目の基板６０の通過を確認すると、圧力Ｐ２の状態はそのまま継続される。次に、上記タイミングＴ３の場合と同様、２枚目の基板６０の搬入を告げる位置検出信号を位置検出センサ４０−６から受信することにより、上記と同じ工程に入れるため、基板乾燥の連続処理を維持することができる。上下動制御手段５０は、タイミングＴ８の位置検出信号が、最後に処理された基板６０の信号であると判断すると、気体停止バルブＶにバルブを閉める信号を送信する。気体停止バルブＶはこの信号を受信し、タイミングＴ８でバルブの停止を開始し、乾燥処理が終了する。
【００２３】
基板６０の特性や寸法形状により、乾燥処理を開始した時点Ｔ３で圧力Ｐ２の高圧噴射を行なうと、液ハネがひどく基板６０への再付着が発生する場合がある。このため基板６０の特性や寸法形状に合わせて、タイミングＴ３からＴ６の間を、液残りが無く且つ液ハネも無い圧力Ｐ３（Ｐ１＜Ｐ３＜Ｐ２）に設定することも可能である。エアーナイフ８は基板６０の下側にも設けられ、一対のエアーナイフとして構成しても良い。また、角度調整手段３０は、種々の基板６０の特性や寸法形状に対応して、エアーナイフ８の角度θを調整し、乾燥処理効果が最大となる角度に設定することができる。さらに、連続処理における基板６０の搬送間隔は、エアーナイフ８の角度θに応じて、互いの前端部Ｆと後端部Ｂとがエアーナイフ８に同時に掛からないよう配置されて搬送されることが望ましい。
【００２４】
以上説明したように本発明によれば、エアーナイフを乾燥処理効果が最大となる角度に設定し、エアーナイフから噴射される気体の噴射量を一定にした状態で、エアーナイフを上下することにより、被洗浄物に対する気体の風圧を制御することが可能であるため、エアーナイフによる乾燥処理効果を低下させること無く、気体の消費量を低減することができる。この圧力変動エアーナイフを装備することにより、気体の消費量が少なく、乾燥処理効率の高い湿式枚用洗浄装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】ａは、本発明による圧力変動エアーナイフの装置構成を示す構成図、ｂは、本発明によるエアーナイフと基板とを、一点差線Ａで切断した断面図。
【図２】本発明の圧力変動エアーナイフによる気体の基板表面圧力図。
【図３】従来の乾燥処理装置の構成を示す装置構成図。
【符号の説明】
【００２６】
８ エアーナイフ
２０ 上下動手段
３０ 角度調整手段
４０ 位置検出センサ
５０ 上下動制御手段
６０ 基板
Ｆ 前端部
Ｂ 後端部
Ｄ 搬入方向矢印
Ｇ ギャップ
θ 角度
Ｓ 気体供給源
Ｐ 圧力計
Ｖ 気体停止バルブ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、湿式枚用洗浄装置の最終液切り乾燥手段として用いられるエアーナイフに係り、詳しくは、液切り効果を高めるため、エアーナイフから噴射される気体の被洗浄物面上の風圧を制御する上下動手段を具備した圧力変動エアーナイフに関する。
【背景技術】
【０００２】
図３は、特許文献１の乾燥処理装置の構成を示す装置構成図である。図３において、上流側の洗浄処理槽で処理が行われた基板（図示されず）は、乾燥処理槽２の搬送ローラ３上に、矢印方向から搬入される。搬入後、時間が経過し、基板の前端縁の幅方向一端部がエアーナイフ８から噴射される気体の噴射領域に至ると、第１のスイッチ１１によって検出され、検出信号が制御装置１３に入力される。
【０００３】
制御装置１３に第１のスイッチ１１の検出信号が入力されると、この制御装置１３から第１の流量制御弁１５と第２の流量制御弁１６とに駆動信号が出力され、流量制御弁１５、１６が開放される。それにより、一対のエアーナイフ８に管路１４を通じて最大流量の気体が供給され、基板に付着残留した処理液は搬送方向と逆方向に押し流される。乾燥処理を開始した時点では、基板に付着残留する処理液の量が多いが、エアーナイフ８から最大流量で気体が噴出されるため、基板の乾燥処理を確実に行なうことが可能となる。
【０００４】
さらに時間が経過すると、基板は第２のスイッチ１２によって検出される位置まで搬送される。つまり、基板の後端縁の幅方向一端部がエアーナイフ８から噴射される気体の噴射領域に到達すると、それを第２のスイッチが検出する。制御装置１３は、その検出信号によって第２の流量制御弁１６を閉じ、エアーナイフ８から噴射される気体の量を半分にする。これにより、エアーナイフ８から噴射される気体は基板に残留する処理液を穏やかに押し流すから、勢い良く流す場合のように処理液が基板の搬送方向後端縁で跳ね、再付着することが防止される。
【０００５】
しかも、エアーナイフ８に供給する気体の量を半減することができるから、気体の使用量を大幅に低減することができる。さらに、基板の後端縁の幅方向一端部がエアーナイフ８の噴射領域に到達した時点では、基板の上面に付着残留する処理液の量が乾燥処理開始時に比べて大幅に減少しているから、その時点で気体の供給量を半減しても、乾燥処理に悪影響を及ぼすことがなく、乾燥能率は低下しない。
【０００６】
基板が所定の位置まで搬送されたことを第２のスイッチ１２が検出すると、その時点から制御装置１３に接続されたタイマ１０が作動する。タイマ１０が作動してから所定の時間が経過すると、エアーナイフ８から噴射される気体によって乾燥処理されていない部分は基板の後端縁の幅方向他端部だけとなる。タイマ１０がタイムアップする経過時間では、制御装置１３からの駆動信号によって第２の流量制御弁１６が開放されてエアーナイフ８には最大流量の気体が供給される。それによって、基板の後端部の幅方向他端部に押し流された処理液はその後端部から確実に除去されることになる。
【０００７】
すなわち、エアーナイフ８からの気体の噴射領域に基板の前端縁の幅方向一端部が到達した時点から、後端縁の幅方向一端部が到達するまでの間は気体の噴射量を最大とし、その後、乾燥処理されていない部分が基板の後端縁の幅方向他端部だけとなるまでは気体の噴射量を最大時の半分とし、さらに基板の後端縁の幅方向他端部を乾燥処理するときには再び気体の噴射量を最大にしている。
【０００８】
そのため、気体の噴射量を常時最大として乾燥処理する場合に比べて気体の使用量を大幅に低減することができる。しかも、気体の噴射量を低減するタイミングは、基板の全面に処理液が付着残留している場合に比べその量が低減しているときであるから、気体の供給量を半減しても、基板に付着残留する処理液を確実に除去し、基板を乾燥することが可能である。
【特許文献１】特開２００２−３５３１８９号公報
【０００９】
ところがこの乾燥処理装置によると、気体の噴射量を常時最大として乾燥処理する場合に比べて気体の使用量を低減することができるものの、気体の噴射量を低減できるタイミングは、気体の噴射量を最大とするタイミングより短いため、依然として多量の気体を消費することになる。このため、基板サイズがさらに大きくなれば、さらに消費量が増えることとなる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、湿式枚用洗浄装置の最終液切りエアーナイフの液切り効果を高めるため、エアーナイフを上下して被洗浄物に対する気体の風圧を制御する上下動手段を具備した圧力変動エアーナイフを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の圧力変動エアーナイフは、湿式枚用洗浄装置の最終液切り乾燥手段として用いられる圧力変動エアーナイフであって、被洗浄物の搬入方向に対し所定の角度で設置されたエアーナイフと、エアーナイフから噴射される気体の噴射量を一定にした状態で、エアーナイフを上下動させる上下動手段と、被洗浄物の搬送位置を検出する１つ以上の位置検出センサと、位置検出センサの出力により上下動手段を制御する上下動制御手段とを有し、エアーナイフと被洗浄物との対向距離が、被洗浄物の搬送位置に応じて制御されることにより、被洗浄物面上に噴射される気体の風圧が制御されることを特徴とする。
【００１２】
本発明の圧力変動エアーナイフのエアーナイフは、角度調整手段に設置され、被洗浄物の寸法形状に応じて、所定の角度に調整されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、エアーナイフを乾燥処理効果が最大となる角度に設定し、エアーナイフから噴射される気体の噴射量を一定にした状態で、エアーナイフを上下することにより、被洗浄物に対する気体の風圧を制御することが可能であるため、エアーナイフによる乾燥処理効果を低下させること無く、気体の消費量を低減することができ、この圧力変動エアーナイフを装備することにより、気体の消費量が少なく、乾燥処理効率の高い湿式枚用洗浄装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の実施の形態について、図を用いて説明する。図１ａは、本発明による圧力変動エアーナイフの装置構成を搬送面の上側から見た構成図である。図１ａにおいて、圧力変動エアーナイフのエアーナイフ８は、角度調整手段３０に設置され、角度調整手段３０は上下動制御手段２０に設置されている。また、エアーナイフ８の両端は、気体供給源Ｓから気体停止バルブＶを介して気体が供給されるよう、パイプ接続されている。さらに、エアーナイフ８は、角度調整手段３０により、被洗浄物である基板６０の搬入方向を示す矢印Ｄの方向に対して角度θをなして設置されている。
【００１５】
基板６０が搬送される経路の基板６０の下側には、基板６０の搬送方向の前端部Ｆと後端部Ｂの通過を検知する１つ以上の位置検出センサ４０−１〜６が設置されている。位置検出センサ４０−１〜６は、上下動制御手段５０に接続され、検知した位置検出信号を送信する。上下動制御手段５０は、この位置検出信号を受信して、上下動手段２０と気体停止バルブＶとを制御する。図１ｂは、図１aのエアーナイフ８と基板６０とを、一点差線Ａで切断した断面図である。エアーナイフ８と基板６０との対向距離を示すギャップＧは、上下動手段２０の上下動により制御される。
【００１６】
図２は、基板の搬送位置のタイミングと基板表面の気体の圧力との関係を示す基板表面圧力図である。図１において、気体供給源Ｓから供給される気体の圧力は、図２で示される圧力Ｐ１に設定されている。基板６０が方向Ｄから搬入されると、位置検出センサ４０−１は、前端部ＦをタイミングＴ１で検知した位置検出信号を、上下動制御手段５０に送信する。上下動制御手段５０はこの信号を受信すると、エアーナイフ８を降下させる降下開始信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は、降下を開始する。
【００１７】
次に位置検出センサ４０−２が、前端部ＦをタイミングＴ２で検知した位置検出信号を、上下動制御手段５０に送信する。上下動制御手段５０はこの信号を受信すると、エアーナイフ８の降下を停止させる降下停止信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は、降下を停止する。このタイミングＴ１からタイミングＴ２の間に、エアーナイフ８は、基板６０の面の気体の圧力が圧力Ｐ２となる位置まで降下して停止する。
【００１８】
次に位置検出センサ４０−３が、前端部ＦをタイミングＴ３で検知した位置検出信号を上下動制御手段５０に送信すると、上下動制御手段５０は、気体停止バルブＶにバルブを開ける信号を送信する。気体停止バルブＶがこの信号を受信しタイミングＴ３でバブルを開けると、エアーナイフ８から圧力Ｐ２の気体が基板６０の表面に向け噴射される。この圧力Ｐ２の状態は、位置検出センサ４０−１が、基板６０の後端部ＢをタイミングＴ４で検知した位置検出信号を上下動制御手段５０に送信するまで継続する。これにより基板６０の乾燥処理を開始した時点での多量の処理液を、確実に乾燥処理できる。
【００１９】
位置検出センサ４０−１が、タイミングＴ４で位置検出信号を上下動制御手段５０に送信すると、上下動制御手段５０はエアーナイフ８を上昇させる上昇開始信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は上昇を開始する。次に位置検出センサ４０−２又は３が、後端の端部ＢをタイミングＴ５で検知した位置検出信号を上下動制御手段５０に送信すると、上下動制御手段５０は上昇を停止させる上昇停止信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は上昇を停止しする。
【００２０】
このタイミングＴ４からタイミングＴ５の間に、エアーナイフ８は、基板６０の面の気体の圧力が圧力Ｐ１となる位置まで上昇して停止する。この圧力Ｐ１の状態は、位置検出センサ４０−４が、後端部ＢをタイミングＴ６で検知した位置検出信号を上下動制御手段５０に送信するまで継続する。タイミングＴ４において基板６０の後端部Ｂが位置検出センサ４０−１に検知される時点においては、基板６０の表面の処理液の量は減少しており、気体圧力Ｐ１でも乾燥処理が低下することは無い。
【００２１】
位置検出センサ４０−４が位置検出信号を上下動制御手段５０に送信すると、上下動制御手段５０は再度エアーナイフ８を降下させる降下開始信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は降下を開始する。次に位置検出センサ４０−５が、後端部ＢをタイミングＴ７で検知した位置検出信号を、上下動制御手段５０に送信する。上下動制御手段５０はこの信号を受信すると、エアーナイフ８の降下を停止させる降下停止信号を上下動手段２０に送信し、上下動手段２０は、降下を停止する。このタイミングＴ６からタイミングＴ７の間に、エアーナイフ８は、基板６０の面の気体の圧力が圧力Ｐ２となる位置まで降下して停止する。
【００２２】
この圧力Ｐ２の状態は、位置検出センサ４０−６が、後端部ＢをタイミングＴ８で検知した位置検出信号を上下動制御手段５０に送信するまで継続する。タイミングＴ７からタイミングＴ８の間は、基板６０の後端部Ｂがエアーナイフ８を通過し終えるタイミングであり、後端部Ｂの部分に残留している処理液は、気体の圧力Ｐ２により確実に乾燥処理される。上下動制御手段５０には処理枚数が予めセットされており、タイミングＴ８の位置検出信号で１枚目の基板６０の通過を確認すると、圧力Ｐ２の状態はそのまま継続される。次に、上記タイミングＴ３の場合と同様、２枚目の基板６０の搬入を告げる位置検出信号を位置検出センサ４０−６から受信することにより、上記と同じ工程に入れるため、基板乾燥の連続処理を維持することができる。上下動制御手段５０は、タイミングＴ８の位置検出信号が、最後に処理された基板６０の信号であると判断すると、気体停止バルブＶにバルブを閉める信号を送信する。気体停止バルブＶはこの信号を受信し、タイミングＴ８でバルブの停止を開始し、乾燥処理が終了する。
【００２３】
基板６０の特性や寸法形状により、乾燥処理を開始した時点Ｔ３で圧力Ｐ２の高圧噴射を行なうと、液ハネがひどく基板６０への再付着が発生する場合がある。このため基板６０の特性や寸法形状に合わせて、タイミングＴ３からＴ６の間を、液残りが無く且つ液ハネも無い圧力Ｐ３（Ｐ１＜Ｐ３＜Ｐ２）に設定することも可能である。エアーナイフ８は基板６０の下側にも設けられ、一対のエアーナイフとして構成しても良い。また、角度調整手段３０は、種々の基板６０の特性や寸法形状に対応して、エアーナイフ８の角度θを調整し、乾燥処理効果が最大となる角度に設定することができる。さらに、連続処理における基板６０の搬送間隔は、エアーナイフ８の角度θに応じて、互いの前端部Ｆと後端部Ｂとがエアーナイフ８に同時に掛からないよう配置されて搬送されることが望ましい。
【００２４】
以上説明したように本発明によれば、エアーナイフを乾燥処理効果が最大となる角度に設定し、エアーナイフから噴射される気体の噴射量を一定にした状態で、エアーナイフを上下することにより、被洗浄物に対する気体の風圧を制御することが可能であるため、エアーナイフによる乾燥処理効果を低下させること無く、気体の消費量を低減することができる。この圧力変動エアーナイフを装備することにより、気体の消費量が少なく、乾燥処理効率の高い湿式枚用洗浄装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】ａは、本発明による圧力変動エアーナイフの装置構成を示す構成図、ｂは、本発明によるエアーナイフと基板とを、一点差線Ａで切断した断面図。
【図２】本発明の圧力変動エアーナイフによる気体の基板表面圧力図。
【図３】従来の乾燥処理装置の構成を示す装置構成図。
【符号の説明】
【００２６】
８ エアーナイフ
２０ 上下動手段
３０ 角度調整手段
４０ 位置検出センサ
５０ 上下動制御手段
６０ 基板
Ｆ 前端部
Ｂ 後端部
Ｄ 搬入方向矢印
Ｇ ギャップ
θ 角度
Ｓ 気体供給源
Ｐ 圧力計
Ｖ 気体停止バルブ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
湿式枚用洗浄装置の最終液切り乾燥手段として用いられる圧力変動エアーナイフであって、
被洗浄物の搬入方向に対し所定の角度で設置されたエアーナイフと、
前記エアーナイフから噴射される気体の噴射量を一定にした状態で、前記エアーナイフを上下動させる上下動手段と、
前記被洗浄物の搬送位置を検出する１つ以上の位置検出センサと、
前記位置検出センサの出力により前記上下動手段を制御する上下動制御手段とを有し、
前記エアーナイフと前記被洗浄物との対向距離が、前記被洗浄物の搬送位置に応じて制御されることにより、前記被洗浄物面上に噴射される気体の風圧が制御されることを特徴とする圧力変動エアーナイフ。
【請求項２】
前記エアーナイフは角度調整手段に設置され、前記被洗浄物の寸法形状に応じて、前記所定の角度に調整されることを特徴とする請求項１に記載の圧力変動エアーナイフ。
【請求項１】
湿式枚用洗浄装置の最終液切り乾燥手段として用いられる圧力変動エアーナイフであって、
被洗浄物の搬入方向に対し所定の角度で設置されたエアーナイフと、
前記エアーナイフから噴射される気体の噴射量を一定にした状態で、前記エアーナイフを上下動させる上下動手段と、
前記被洗浄物の搬送位置を検出する１つ以上の位置検出センサと、
前記位置検出センサの出力により前記上下動手段を制御する上下動制御手段とを有し、
前記エアーナイフと前記被洗浄物との対向距離が、前記被洗浄物の搬送位置に応じて制御されることにより、前記被洗浄物面上に噴射される気体の風圧が制御されることを特徴とする圧力変動エアーナイフ。
【請求項２】
前記エアーナイフは角度調整手段に設置され、前記被洗浄物の寸法形状に応じて、前記所定の角度に調整されることを特徴とする請求項１に記載の圧力変動エアーナイフ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００９−２０４２４８（Ｐ２００９−２０４２４８Ａ）
【公開日】平成２１年９月１０日（２００９．９．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−４８３５７（Ｐ２００８−４８３５７）
【出願日】平成２０年２月２８日（２００８．２．２８）
【出願人】（０００２１９００４）島田理化工業株式会社 (205)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年９月１０日（２００９．９．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年２月２８日（２００８．２．２８）
【出願人】（０００２１９００４）島田理化工業株式会社 (205)
【Ｆターム（参考）】
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