本発明は剥離工程を簡略化し、且つ大型基板に対する剥離・転写を均一に行う方法を提供する。本発明は剥離工程における第１の接着剤の剥離と、第２の接着剤の硬化と、を同時に行って、作製工程を簡略化することを特徴とする。また本発明は、半導体素子の電極まで形成された被剥離層を所定の基板に転写するタイミングを工夫することを特徴とする。特に大型基板に複数の半導体素子を形成した状態で剥離を行う場合、圧力差を利用して基板を吸着して剥離を行うことを特徴とする。
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本発明は、従来の希土類イオン分散蛍光体に優る輝度を有し、しかも耐光性、経時安定性などに優れた新規な蛍光体材料、及びこの様な蛍光体材料を用いた高輝度のディスプレイパネルや照明器具などの光デバイスを提供する。即ち、水に分散させた状態で、開放された大気雰囲気下において１０〜２０℃で５日間保持した場合に、５０％以上のフォトルミネッセンスの発光効率を維持することを特徴とする半導体超微粒子、及びゾルゲル法によって形成されたガラスマトリックス中に該半導体超微粒子を分散させてなる蛍光体等に関する。
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【課題】コントラスト比を低下させずに直接アドレッシングを可能にする液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置２４は平均面積が少なくとも４ｍｍ²のアドレス可能なピクセルの２次元アレイを規定する少なくとも１つのセル１０を含む。セル１０は、間に空隙２０を規定する２つの基板１１、１２；空隙内の液晶材料１９の層；各基板状の導電層１３、１４を備える。導電層１３、１４はパターン形成されて個別駆動電極３１の矩形状アレイを規定し、それぞれ各駆動電極に隣接する液晶材料の層の一領域をピクセルの１つとして駆動可能である。導電層１３、１４は個別のトラック３３を規定し、トラック３３は各個別の駆動電極３１に接続され、トラック３３が端子３４を形成する位置まで延びており、それぞれの駆動信号を受信可能である。これによりピクセルの直接アドレッシングが可能になる。 （もっと読む）

ＳＬＭ装置の製造のために、基板（３）に近接して位置付けられるようになっている空間光変調器（ＳＬＭ）（２）の主材料と同じ材料の基板（３）に（ＳＬＭ）（２）を実装する。特に、シリコンベースのＳＬＭ装置の製造方法（２）がシリコン基板（３）に実装されている。このことは、ＳＬＭ（２）の位置及び平面性に対して高精度を保つＳＬＭ（２）のアレイに繋がる。平面性を更に改善するように、はんだ接続（２０）のセルフアライメント効果を用いて、はんだ付けにより基板（３）にＳＬＭ（２）を実装することは好適である。
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【課題】 ロール状のワークに設けられた実描画領域に対し、描画動作を行う直前にフラッシング動作を行うことができ、実描画領域に安定して描画を行うことができる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】 実描画領域ａと、フラッシング開口ｂとから成る描画領域を、長手方向に複数有する長尺のワークＷを長手方向に間欠送りし、複数の描画領域を順次描画スペースに導入するワーク導入手段３と、描画スペースに配置され、描画スペースに導入された描画領域を描画領域単位で吸着セットする吸着テーブル３１と、描画スペースに対して、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させる移動テーブル２４と、吸着セットされた描画領域のフラッシング開口ｂに臨み、フラッシング開口ｂを通過した機能液滴吐出ヘッドからの吐出を受けるフラッシングボックス１１１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 ロール状のワークに対し、描画動作を行う直前にフラッシング動作を行うことができ、実描画領域に安定して描画を行うことができるロール・ツー・ロール方式の液滴吐出装置等を提供する。
【解決手段】 長手方向に複数の描画領域を配したロール状のワークＷを吸着セットする吸着テーブル３１と、ワークＷを間欠的に繰り出し、ワークＷを撓ませた状態で吸着テーブル３１に導入する繰り出し手段３と、機能液滴吐出ヘッド４２を有し、機能液滴吐出ヘッド４２を相対的に移動させながら、吸着セットされたワークＷに描画領域単位で描画を行う描画手段と１２、描画済みのワークＷを撓ませた状態で巻き取る巻取り手段５と、機能液滴吐出ヘッド４２からの吐出を受けるフラッシングボックス１１１を、ワークＷのたわみ部分の少なくとも一方に収まるように配設したフラッシングユニット１０１と、を備えた （もっと読む）

【課題】洗浄液や処理液の活性度を高めることによって、洗浄能力や被膜除去能力を大幅に向上させることができる。
【解決手段】基板Ｗに供給された洗浄液Ｓに対してＵＶ照射部３１から紫外線を照射する。このときオゾンを含む洗浄液Ｓは紫外線が照射されたことによって、“O₃ → O(³p)＋ O₂ ”のような励起状態をとり、低エネルギーで酸素ラジカルを得ることができる。したがって、酸素ラジカルを容易に発生させることができ、洗浄液Ｓの活性度を高めることができて、洗浄能力を大幅に向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】検査対象に形成された端子と導電性接触子との間の位置あわせを容易に行うことが可能なコンタクトブロックを実現する。
【解決手段】コンタクトユニット２は、検査対象に形成された信号入出力用の端子に対応した配列パターンで配置された導電性接触子３と、導電性接触子３を保持する保持基板４と、保持基板４上であって導電性接触子３の保持領域に対応した領域に配置されたコンタクトブロック５と、コンタクトブロック５を保持基板４上に固定する固定部材６とを備える。固定部材６は、導電性接触子３が保持された領域よりも保持基板中央側においてネジ部材１３を介して保持基板４に対して固定され、押圧面１１ａを介してコンタクトブロック５を形成するブロック部材１１に対して保持基板４に近接する方向に押圧力を印可することによって、コンタクトブロック５を保持基板４に対して固定する機能を有する。 （もっと読む）

【課題】 検査ステージの交換をすることなく、異なる大きさの表示用パネルの検査を可能にすることにある。
【解決手段】 電気的接続装置は、第１の開口を有する板状の第１のベースと、板状をした４つの第２のベースであって第１のベースに枠状に配置された第２のベースと、少なくとも２つの隣り合う第２のベースに配置された複数の接触子ユニットとを含む。第２のベースは、第１のベースと平行の面内において二次元的に移動可能とされており、また表示用パネルを受けるパネル受けであって第１の開口と対向する第２の開口を共同して形成するパネル受けを備えている。 （もっと読む）

【課題】単結晶シリコンにより構成された基板を用いても透過性を有し、かつ基板上にキャリアの移動度が高い半導体素子を形成することができ、信頼性を高めた電気光学装置を提供する。
【解決手段】単結晶シリコンにより形成され、該単結晶シリコンのバンドギャップエネルギに相当する光の波長より長い波長の赤外光を透過し、半導体素子が形成されたＴＦＴ基板１０と、前記ＴＦＴ基板１０の前記赤外光の出射側に配設された前記赤外光を可視光に変換する赤外可視波長変換ガラス１４０と、を有し、前記可視光により画像表示を行うことを特徴とする。 （もっと読む）