【課題】大型の被露光材を露光するために、複雑且つ高コストの露光機構を要することなく、露光に使用するマスクのコストを抑えることである。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、光源からの照射光を遮断する遮光領域と照射光を透過させる透光領域とを金属板に形成した複数のメタルマスクと、光源と搬送された被露光材との間に、複数のメタルマスクを保持するマスク保持部とを備える。マスク保持部は、同一平面上に並置された複数のメタルマスクを、隣り合うメタルマスクの各端部が互いに接触するように、連結して保持するものであり、複数のメタルマスクは、並置且つ連結されることによって全体として１個のメタルマスクを構成すると共に、マスク保持部に対して、それぞれ個別に着脱できるものである。 （もっと読む）

【課題】大型の被露光材を露光するために、複雑且つ高コストの露光機構を要することなく、露光に使用するマスクのコストを抑えることである。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、光源からの照射光を遮断する遮光領域と照射光を透過させる透光領域とをガラス基板に形成した複数のフォトマスクと、光源と搬送された被露光材との間に、複数のフォトマスクを保持するマスク保持部とを備える。マスク保持部は、同一平面上に並置された複数のフォトマスクを、隣り合うフォトマスクの各端部が互いに接触するように、連結して保持するものであり、複数のフォトマスクは、並置且つ連結されることによって全体として１個のフォトマスクを構成すると共に、マスク保持部に対して、それぞれ個別に着脱できるものである。 （もっと読む）

【課題】ステップアンドリピート露光におけるつなぎ部の基板パターンの精度を改善し、ウエハ基板上の基板パターンの均一性を改善する。
【解決手段】レクチル２１のマスクパターン６１でウエハ基板４１を繰り返し露光し、多数のドットパターン１０１が所定のピッチで複数方向に周期性を有して配置された基板パターン８１を製造する方法であって、マスクパターン６１で既に露光したウエハ基板上の露光領域Ａ（及び／又はＢ）に、マスクパターン６１を重複させて露光する多重露光工程を含み、多重露光工程では、ウエハ基板４１上の露光領域Ａに対して、マスクパターン６１を、ドットパターンのピッチの整数倍だけシフトさせるとともに、既にした露光を含む２回以上の露光を、露光の重複数に応じて減少させた光量で行うことを特徴とする基板パターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】物体支持装置上の物体の交換を迅速に行う。
【解決手段】 搬出対象の基板Ｐａを支持する第１エア浮上ユニット６９の＋Ｘ側に、搬入対象の基板Ｐｂを支持する第２エア浮上ユニット７０が配置され、第２エア浮上ユニット７０の下方に第３エア浮上ユニット７５がθｙ方向に傾斜して配置されている。第１エア浮上ユニット６９が第３エア浮上ユニット７５に合わせてθｙ方向に傾斜されて、基板Ｐａが第１エア浮上ユニット６９上から第３エア浮上ユニット７５上に搬送された後、第１エア浮上ユニット６９が水平にされ、基板Ｐｂが第２エア浮上ユニット７０上から第１エア浮上ユニット６９上に搬送される。すなわち、第１エア浮上ユニット６９に対する基板の搬入経路と搬出経路が異なる。したがって、第１エア浮上ユニット６９上の基板の交換を迅速に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】露光対象物を高速、高精度で位置制御でき、かつ小型、軽量のステージ装置を提供する。
【解決手段】 基板ステージ装置は、Ｙステップ定盤上に搭載された基板支持部材に基板が保持される。基板支持部材は、Ｙステップ定盤上でスキャン方向に長ストロークで移動する。基板の露光領域に対応する部位が定点ステージにより下方から非接触で吸着保持され、その他の部位は、Ｙステップ定盤上に配置された複数のエア浮上装置により浮上支持される。基板の露光領域に対応する部位は、定点ステージにより基板の面位置が投影光学系の焦点深度内に位置するように制御される。 （もっと読む）

【課題】小型マスク連続露光方式を用いて、カラーフィルタ基板の表示領域４辺の外側に位置する
【解決手段】非表示領域にダミーＰＳを形成できる露光方法を提供する。
（ａ）に示すように、フォトレジストを塗布した基板２０をＹ方向に搬送しながら、基板２０上の第１の非表示領域５１（右上がりのハッチングで示す領域）に第１のレイヤー８１を露光しながら、表示領域にレイヤー９１を露光する。次に、基板２０を９０度回転させて、（ｂ）に示すように、基板２０をＸ方向に搬送しながら、第２の非表示領域５２（右上がりのハッチングで示す領域）に第２のレイヤー８２を露光する。これにより、所望の配置ピッチ及び形状にて、第１の非表示領域５１内にダミーＰＳ７１を形成し、第２の非表示領域５２内にダミーＰＳ７２を形成することができる。 （もっと読む）

基板搬出装置（７０）は、基板ステージ（２０）上に載置された露光済みの基板（Ｐ）を基板ホルダ（５０）内に収容された基板トレイ（９０）上に載置された状態で水平面に平行な一軸方向（Ｘ軸方向）に移動させることにより、基板ホルダ（５０）から搬出する。これに対し、基板搬入装置（８０）は、基板ステージ（２０）に搬入される未露光の基板（Ｐ）を別の基板トレイ（９０）上に載置された状態で基板交換位置に待機させ、露光済みの基板（Ｐ）が基板ステージ（２０）から搬出された後、その別の基板トレイ（９０）を降下させることにより、未露光の基板（Ｐ）を基板ホルダ（５０）上に載置する。
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本発明は、対象物上に配置された感光層において露光された構造を作り出すための露光システムに関し、該露光システムは、対象物を受容する対象物キャリアと露光装置とを備え、対象物キャリア及び露光装置は相互に変位可能であり、露光装置から出る露光ビームの各々によって露光ユニットが露光スポットを感光層上に形成可能となるように、露光装置は露光スポットを制御された位置で感光層上に形成することができる。本発明の提案によれば、一連の第１露光ビームを発生させる少なくとも一つの第１露光ユニット及び一連の第２露光ビームを発生させる少なくとも一つの第２露光ユニットが、少なくとも一つの偏向要素に関連付けられ、その第１露光ビーム又は第２露光ビームは、変位中に同偏向要素によって偏向可能であり、第１露光ビームに対する反射領域及び第２露光ビームに対する反射領域が、連続方向にて相互にオフセットして偏向要素に配置される。
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【課題】ステッパのショットサイズを越えて連なるストライプ状パターンをステッパにより露光焼き付けを行う際に、形成するストライプ状パターンの幅の寸法のばらつきを低減する。
【解決手段】ショットパターン幅いっぱいに伸びる、先端が段階的に先細りとなったくさび型となっている端部を有するストライブ状のマスクパターン５を備えるショットパターンを、ショットパターン幅の１／ｎピッチで送ってショット露光を行い、ｎ回重ねた露光を行うことにより、形成したストライプ状パターンに途切れ、くびれ、および太りが生じるのを防ぎ、ストライプ状パターンの寸法のばらつきを低減する。 （もっと読む）

【課題】マザーガラス基板が更に大型化しても、露光ステージの平面度の精度を保持し、移動速度を確保し、位置精度を確保した、カラーフィルタ製造用のＸＹステップ露光装置を提供する。
【解決手段】マザーガラス基板を保持するステージは、露光ステージ６０ｂ−１、６０ｂ−２と、露光ステージを第１軸（Ｘ軸）方向へステップ移動させるＸ軸スライダー４０ＸｂのＸ軸と平行な両側部に設けられた基板保持ステージ７０で構成され、マザーガラス基板をＸＹステップ移動させる機構として、上記Ｘ軸スライダーと吸着スライダー４０Ｙｂ−１、４０Ｙｂ−２を少なくとも具備すること。基板保持ステージは空気浮上ステージであること。露光ステージの第２軸（Ｙ軸）方向の大きさがフォトマスクの大きさに対応した大きさであること。 （もっと読む）