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国際特許分類[H01H85/046]の内容

国際特許分類[H01H85/046]に分類される特許

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【課題】高密度化された基板面に設けられる遮断配線による遮断性能の低下を抑制し得る電子制御装置を提供する。
【解決手段】遮断配線30は、過電流による発熱に応じて溶断することで当該遮断配線30を介した接続を遮断するように構成されている。そして、基板面を被覆するソルダレジスト28には、遮断配線30の一部を外方に露出させるための矩形状の開口28aが形成されている。この開口28aは、遮断配線30のうち最も発熱する部位であるその全長の中央近傍部位を外方に露出させるように形成されている。 (もっと読む)


【課題】遮断部間のばらつきやヒューズエレメント間のばらつきを抑えながらも、It値の低減、コスト低減、小型化を図ることができる電力用ヒューズを提供する。
【解決手段】セラミック基板20上に導電膜22が形成されて構成され、導電膜22による複数の放熱部24と複数の遮断部26とが一体的に連続形成されたヒューズエレメント18を有する電力用ヒューズ10において、導電膜22は、セラミック基板20の表面に対する1回以上の印刷による印刷層32にて構成され、放熱部24を構成する印刷層32の積層数が、遮断部26を構成する印刷層32の積層数以上である。 (もっと読む)


【課題】基板面に設けられる遮断配線による遮断性能の低下を抑制し得る電子制御装置を提供する。
【解決手段】遮断配線30は、一側接続配線40および他側接続配線50を介して電源配線23およびランド26に接続されている。一側接続配線40は、両側の側縁41,42が遮断配線30の両側の側縁31,32となだらかに連続しており電源配線23に向かうにつれて円弧状に広がるように、形成されている。また、他側接続配線50は、両側の側縁51,52が遮断配線30の両側の側縁31,32となだらかに連続しておりランド26に向かうにつれて円弧状に広がるように、形成されている。 (もっと読む)


【課題】半導体素子に接続された一対の導電ライン間に、電源平滑用などのコンデンサを設けてなる電子装置において、コンデンサを2個直列とすることなくコンデンサの短絡によるFHを適切に防止する。
【解決手段】外部と接続される第1の端子11および第2の端子12と、第1の端子11および第2の端子12に電気的に接続された回路基板20と、回路基板20に搭載され、第1の端子11および第2の端子12に電気的に接続された集積回路40を有する半導体素子30と、を備え、第1の端子11に電気的に接続された第1の導電ライン80と第2の端子12に電気的に接続された第2の導電ライン81との間に、コンデンサ90とヒューズ33aとが直列に接続されており、ヒューズ33aは半導体素子30内に形成された配線により構成され、ヒューズ33aの周りに、ヒューズ33aをヒューズ33a以外の部位と非接触とする空間部33bを設けている。 (もっと読む)


【課題】 作動特性を向上させることが可能なセラミックヒューズおよびセラミックヒューズ用基体を提供することを目的とする。
【解決手段】 セラミックヒューズ1であって、複数のセラミック基板を積層して成る基体6と、基体6の最上層4aに設けられた温度ヒューズエレメント3と、基体6内に設けられた電流ヒューズエレメント7と、基体6内に設けられ、温度ヒューズエレメント3と電流ヒューズエレメント7の両方を電気的に接続した導体接続部5と、を備え、導体接続部5の上下方向の電気抵抗は、導体接続部5の平面方向の電気抵抗よりも小さいことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】銅(Cu)からなる配線状の金属層上に、スズ(Sn)からなる低融点金属層が積層された構成の例えばチップ型薄膜であるヒューズにおいては、定格使用状態においても、銅(Cu)のスズ(Sn)中へのエレクトマイグレーション(EM)に起因する金属層の細線化、断線の障害が発生する。このEMの進行を抑制し同ヒューズの長寿命を図る。
【解決手段】低融点金属層(スズ)の融点より低い再結晶化温度レベルで、製作されたヒューズに対する熱処理を行うことなどにより、低融点金属層(スズ)中の平均結晶粒径の大きさを、その低融点金属層の厚さの二分の一以上にする。これにより大幅にEMの進行レベルが低下し、金属層厚の増加などの行うことなく、ヒューズ溶断特性を変えることなく、このチップ型薄膜ヒューズの長寿命化が可能となる。 (もっと読む)


【課題】ヒューズ部の焼損時に確実に電路を遮断することのできるプリント配線板、電子デバイス、及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板10が、孔11a(開口部)を有する絶縁性の樹脂基板11と、樹脂基板11上に形成された、導体からなる第1端子部12a及び第2端子部12bと、第1端子部12a及び第2端子部12bを相互に電気的に接続するヒューズ部12cと、を有する。ヒューズ部12cの少なくとも一部は、孔11a上に配置され、且つ、絶縁性を有する多孔質の無機被覆材13で覆われている。 (もっと読む)


【課題】過電流状態における電流ヒューズ素子の溶断特性を向上させること。
【解決手段】電流ヒューズ装置は、セラミック構造体1と、第1の電流ヒューズ素子用導体パターン21と、第2の電流ヒューズ素子用導体パターン22と、電流ヒューズ素子用めっきパターン23とを含んでいる。第1の電流ヒューズ素子用導体パターン21は、焼成によって基体部11の上面に形成された第1の導体層211を含んでいる。第2の電流ヒューズ素子用導体パターン22は、焼成によって基体部11の上面に形成された第2の導体層221を含んでいる。電流ヒューズ素子用めっきパターン23は、第1の電流ヒューズ素子用導体パターン21の上面から第2の電流ヒューズ素子用導体パターン22の上面にかけて設けられて、第1の電流ヒューズ素子用導体パターン21および第2の電流ヒューズ素子用導体パターン22を電気的に接続している。 (もっと読む)


【課題】電流ヒューズ素子用導体パターンの溶断箇所におけるジュール熱の損失を低減させて、過電流状態における電流ヒューズ素子用導体パターンの溶断特性を向上させること。
【解決手段】電流ヒューズ装置は、セラミック構造体1と、電流ヒューズ素子用導体パターン2とを含んでいる。セラミック構造体1は、凹部112の開口部を含む上面111を有する基体部11と、基体部11の上に設けられているとともに開口部を囲んでいる枠体部12と、枠体部12の上に設けられた蓋体部13とを含んでいる。電流ヒューズ素子用導体パターン2は、焼成によって基体部11の上面111に形成されているとともに、開口部を跨ぐように設けられている。 (もっと読む)


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