【課題】パルスエネルギーで動作するマグネトロン装置を用いる基板被膜において、技術的に低コストで、成長層に高エネルギー粒子が衝突する際の衝撃の強さを調整できる手段を実現し、基板の種類に依らずに、基板に衝突する粒子の粒子流密度を変化できるようにする。
【解決手段】マグネトロン装置は、少なくとも１つの付加的な電極１５が一時的にアノードになるように該付加的な電極１５を繰り返し切り替えるためのスイッチ１６を有し、該付加的な電極１５が前記スイッチ１６によってアノードに切り替えられたとき、前記ターゲット１２，１３のうちカソードとして機能するように切り替えられたターゲット１３と該付加的な電極１５との間にマグネトロン放電が発生するように構成されている。 （もっと読む）

インダクティブ出力管（ＩＯＴ）は１０００ＭＨｚを超える周波数で動作する。出力窓を設けることでＩＯＴの真空部をＩＯＴの大気圧部から分離し、この出力窓は冷却用空気マニホールドに囲まれており、該マニホールドは、吸気ポートと、冷却用空気が該吸気ポートからマニホールドを通ってＩＯＴの前記大気圧部へと移動するように複数の開口部とを含む。出力空洞は、冷却液入力ポートと、冷却液入力ポートから冷却液を受け入れるように接続した下部冷却液用円形通路と、下部冷却液用円形通路から冷却液を受け入れるように接続した垂直方向の冷却液用通路と、垂直方向の冷却液用通路から冷却液を受け入れるように接続した上部冷却液用円形通路と、上部冷却液用円形通路から冷却液を受け入れるように接続した冷却液排出ポートを含む。 （もっと読む）