【課題】 加熱して温度を上げたときのフィラメントの腐食および自重による撓みを抑制する。
【解決手段】 このフィラメント４は、通電加熱されて熱電子を放出するフィラメント部６と、フィラメント部６が貫通していてそれからの熱によって加熱されて熱電子を放出する筒状の熱電子放出部８とを備えている。熱電子放出部８を構成する材料の方がフィラメント部６を構成する材料よりも熱電子放射電流密度が大きく、剛性率はフィラメント部６を構成する材料の方が大きい。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ生成容器内のＹ方向におけるプラズマ密度分布の制御が容易であり、しかもプラズマ生成容器内に発生させる磁界によってイオンビームの軌道が曲げられるのを防止することができるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源１０は、Ｙ方向に長いリボン状イオンビーム２をＺ方向に引き出すものであり、プラズマ生成容器１２と、プラズマ生成容器１２のＺ方向端付近に設けられていてＹ方向に伸びたイオン引出し口２６を有するプラズマ電極２４と、プラズマ生成容器１２内へ電子を放出してプラズマ２２を生成するためのものであってＹ方向に沿って複数段に配置された複数の陰極４０と、プラズマ生成容器１２内に、しかも複数の陰極４０を含む領域に、Ｚ方向に沿う磁界５６を発生させる磁気コイル５０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】組み立ての際、及び運転時におけるフィラメント１０１及びカソード１０２のギャップの調節を容易にすることである。
【解決手段】フィラメント１０１によってカソード１０２を加熱し、当該カソード１０２から熱電子を放出して、原料ガスをプラズマ化することによりイオンを発生するイオン源１００であって、前記カソード１０２が固定されるイオン源本体２と、前記フィラメント１０１を保持するとともに、前記イオン源本体２に設けられるフィラメント保持体３と、前記フィラメント保持体３及び前記イオン源本体２の間に介在して設けられ、前記カソード１０２及び前記フィラメント１０１の距離を組み立て後に調節可能にする調節する調節機構４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】フィラメントの切断により運用寿命が決まるイオン源において、従来比、運用寿命が長いイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源１０は、チャンバ１２と、チャンバ１２の内壁面から突出し、通電することにより内部空間３４に熱電子を放出するフィラメント１４ａ，１４ｂと、フィラメント１４ａ、１４ｂのそれぞれに熱電子を供給するフィラメント電源３０ａ，３０ｂと、フィラメント１４ａ，１４ｂのＯＮ／ＯＦＦの制御を行う制御ユニット４０と、を有する。制御ユニット４０は、プラズマ立ち上げ時、フィラメント１４ａから熱電子を放出させ、プラズマ立ち上げ後、熱電子の放出を行うフィラメントをフィラメント１４ｂに切り替えて、プラズマの生成を維持するように、フィラメント電源３０ａ，３０ｂのＯＮ／ＯＦＦを制御する。 （もっと読む）

【課題】 幅が広く、ビーム電流が大きく、かつ幅方向におけるビーム電流分布の均一性の良いイオンビームを発生させることができ、しかもカソードの寿命を長くすることができるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源２ａは、Ｘ方向に伸びたイオン引出し口８を有するプラズマ生成容器６と、当該容器６内にＸ方向に沿う磁界１６を発生させる磁石１４と、プラズマ生成容器６のＸ方向の両側に配置されていて、当該容器６内におけるプラズマ１０の生成およびプラズマ１０全体の密度の増減に用いられる傍熱型カソード２０と、プラズマ生成容器６内にＸ方向に沿って並設されていて、当該容器６内におけるプラズマ１０の生成およびプラズマ１０の密度分布の制御に用いられる複数のフィラメントカソード３２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、イオン注入機（Ｉｏｎ Ｉｍｐｌａｎｔｅｒ）のイオン発生装置に関し、より詳細には、イオン発生装置のアークチャンバ（Ａｒｃ Ｃｈａｍｂｅｒ）内部に電場を印加して前記アークチャンバ内部のイオンの抽出率を高めるイオン注入機のイオン発生装置に関する。
【解決手段】本発明のイオン注入機のイオン発生装置によると、スリットと対向するアークチャンバ内面に所定の電極（ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）を設置し、前記電極を介して前記スリット方向に電場（ｅｌｅｃｔｒｉｃ ｆｉｅｌｄ）を印加することによって前記アークチャンバ内に存在するイオンが前記スリットを介してより効率的に抽出されるようにし、前記アークチャンバ内の残留イオンを減少させると同時に、イオン注入に用いられるイオン量を増加させる効果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 長時間にわたって大電流のイオンビームをイオン源から放出させることができるガス流量設定方法およびイオンビーム加工装置を提供する。
【解決手段】 ガス源からイオン源に供給されるガスの流量をスイープさせ、そのときにイオン源から放出されるイオンビームの電流値を検出すると、図３のグラフが得られる。このグラフは表示手段上に表示され、まずオペレータは、最大のイオンビーム電流値Ｉ_ｍａｘが得られるガス流量Ｆはｆ_ａであることをそのグラフから確認する。そしてオペレータは、その確認したガス流量ｆ_ａよりも多いガス流量Ｆであり、かつ、Ｉ_ｍａｘ×８０％程度のイオンビーム電流値が得られるガス流量Ｆを図３のグラフ上で確認する。この場合、ガス流量ｆ_ａ＋ｄがそのガス流量Ｆに相当する。そこでオペレータは、ガス流量ｆ_ａ＋ｄを被加工試料Ｓのイオンビーム加工時におけるガス流量Ｆとして設定する。 （もっと読む）

【課題】 イオン化室で異常放電が発生することなく、長時間にわたって正常に動作させることができるイオン源を提供する。
【解決手段】 イオン化室３で発生した陽イオンａの一部は、カソード２に向けて加速されて非磁性体２ｂに衝突する。このイオン衝突によりスパッタされた非磁性体２ｂの粒子ｂの殆どは、アノード７の内面Ｉ上に堆積する。その際、スパッタ粒子ｂは磁性を有していないので、スパッタ粒子ｂはイオン化室３に形成された磁場Ｅの影響を受けることなくアノード７上に一様に堆積する。このため、従来のようにアノード７上に針状部分が形成されることはなく、従来発生していたイオン化室での異常放電を防止することができる。したがって本発明のイオン源においては、長時間にわたって正常にイオン放出を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 傍熱陰極型イオン源において、プラズマ生成効率の向上、ガスの利用効率の向上およびイオン源の長寿命化を可能にする。
【解決手段】 プラズマ生成容器４のカソード用開口２０内に筒状のカソードホルダー２２を、その先端がプラズマ生成容器４の内壁面５よりも外側に位置するように挿入し、カソードホルダー２２内にカソード２６を、その前面２８が内壁面５よりも外側に位置するように保持している。カソードホルダー２２内に、カソード２６との間に空間をあけてその側面を取り囲む筒状の第１熱シールド３６を設けており、その先端は内壁面５よりも外側に位置している。カソード２６の後方にフィラメント３８が設けられており、カソードホルダー２２とプラズマ生成容器４との間は電気絶縁物４０で塞がれている。 （もっと読む）