国際特許分類[H01L29/22]の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00〜47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00 (54,759) | 半導体本体 (3,016) | 構成材料に特徴のあるもの (1,274) | ドーピング材料または他の不純物は別にして,A↓I↓IB↓V↓I化合物のみを含むもの (15)
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2つ以上の化合物を含むもの (9)
さらにドーピング材料にも特徴のあるもの (1)
国際特許分類[H01L29/22]に分類される特許
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ZnO系トランジスタ
【課題】高性能、高品質のチャ領域を構成することができるZnO系トランジスタを提供する。
【解決手段】MgZZnO基板1上に、MgXZnO層2、MgYZnO層3が積層されている。MgXZnO層2とMgYZnO層3の界面で2次元電子ガスが発生する。4はゲート絶縁膜又は有機物電極であり、MgYZnO層3に接して形成されている。ゲート絶縁膜又は有機物電極4上にはゲート電極5が、ドナードープ部3a上には各々ソース電極6、ドレイン電極7が形成されている。このように、トランジスタのチャネル領域をMgZnO層で形成する。
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亜鉛酸化物半導体およびこれを製造するための方法
【課題】亜鉛酸化物半導体を形成するための方法、およびこれによって製造される亜鉛酸化物半導体を提供する。
【解決手段】n型半導体の電気的特性を有する亜鉛酸化物薄膜上に金属触媒層を導入し、これを熱処理してp型半導体の電気的特性を有する亜鉛酸化物薄膜に改質する。熱処理過程により、亜鉛酸化物薄膜内に存在する水素原子は、金属触媒によって除去される。したがって、金属触媒および熱処理によって薄膜内の水素原子が除去され、キャリアである正孔の濃度は増加する。すなわち、n型の亜鉛酸化物薄膜は、高濃度のp型亜鉛酸化物半導体に改質されるのである。
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ドープされたナノ粒子系半導体接合
電子デバイスにおいて使用するためのドープされた半導体接合およびそのような接合を製造する方法が開示される。該接合は、第一のドープされた半導体層が第一の極性を有し、該第一の層が融合した半導体ナノ粒子を含むように、ドナーまたはアクセプターをドープされた、基材の上の第一の多結晶性半導体層;および、該半導体接合を形成するように、該第一の半導体層と接触する、基材の上の第二の層、を含む。 (もっと読む)
超音波エネルギーを利用したZnOナノワイヤの製造方法
【課題】超音波エネルギーを利用したZnOナノワイヤの製造方法を提供する。
【解決手段】基板の表面にZn層を形成する第1段階と、Zn層をパターニングする第2段階と、基板をZnを含む溶液とZnをイオン化する溶液との混合溶液に入れ、超音波発生器を使用し、Zn層上にZnOナノワイヤを形成する第3段階とを含むことを特徴とする超音波エネルギーを利用したZnOナノワイヤの製造方法である。これにより、常温で所定の領域にZnOナノワイヤを形成できる。
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鋳型合成半導体粒子および製造方法
架橋された、コア抜きされたデンドリマー内の金属カルコゲニドなどの半導体粒子の複合体粒子が記載されている。さらに、複合体粒子および、複合体粒子を含有する組成物の製造方法が記載されている。
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