インクジェット用洗浄液及び洗浄方法
【課題】複雑な構成からなるノズル詰まり防止機構を設けることなく、金属粒子含有インクジェットインクの連続的、間欠的吐出条件下での吐出安定性を実現することができるインクジェット用洗浄液及びそれを用いる洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属粒子を含有するインクジェットインクを吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いるインクジェット用洗浄液であって、該インクジェットインクに含まれる金属粒子を溶解可能な化合物Ａを含有することを特徴とするインクジェット用洗浄液。
【解決手段】金属粒子を含有するインクジェットインクを吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いるインクジェット用洗浄液であって、該インクジェットインクに含まれる金属粒子を溶解可能な化合物Ａを含有することを特徴とするインクジェット用洗浄液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複雑な構成からなるノズル詰まり防止機構を設けることなく、金属粒子含有インクジェットインクの連続的、間欠的吐出条件下での吐出安定性を実現することができるインクジェット用洗浄液及びそれを用いる洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、微細な導電性パターンを有する電子回路等を作製するには、導電層が形成された基材にレジスト層を積層し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して光照射し、次いで現像した後、不要なレジスト層を除去するフォトリソグラフによる方法が行われていた。しかしながら、このフォトリソグラフによる方法は、多数の工程が必要であるため煩雑である上、経済的にも問題があり、更には、除去したレジスト層の廃棄は環境に負荷を与えるという問題もあった。
【０００３】
このような問題を解決するために、インクジェット装置などの印字装置を用いて、導電性インクを基材面に直接射出して導電性パターンを形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載の方法は、導電性インクとして金属コロイドを含有するインクジェットインクを用いて基材面の所定部に導電回路形成用パターンを形成し、加熱乾燥し、溶融させて金属コロイド間の接触を向上させて導電率を向上させてようというものである。インクジェット記録装置には、その構造上、フィルター、カートリッジ内にインク吸収スポンジ、インクジェットヘッド中のマイクロ流路、吐出用の穴などがあり、狭い空間をインクジェットインクが通過する必要がある。
【０００４】
一方、金属微粒子インクは、数ｎｍ〜サブμｍ程度の金属微粒子、溶媒を含んでいで、このインクが前記狭い空間を通過した場合、溶媒と微粒子との速度差が生じて金属微粒子が凝集しやすい、金属微粒子は流路等の内壁に吸着しやすい、金属微粒自体が化学的に不安定で、溶解、オストワルト熟成等の粒子状態が変化やすい等から、インクジェットと吐出の安定性に懸念点があり、これは金属微粒子インクをインクジェットに用いた場合の特有の課題である。
【０００５】
その他に、金属微粒子のノズル詰まりを改良する技術が開示されている（例えば、特許文献２、３参照。）。しかしながら、いずれも装置機構の改良であり、洗浄液の化学組成に関する具体的な開示例はないのが現状である。
【特許文献１】特開２００４−２４７６６７号公報
【特許文献２】特開２００５−２３１２８３号公報
【特許文献３】特開２００６−１６８２４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、複雑な構成からなるノズル詰まり防止機構を設けることなく、金属粒子含有インクジェットインクの連続的、間欠的吐出条件下での吐出安定性を実現することができるインクジェット用洗浄液及びそれを用いる洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【０００８】
１．金属粒子を含有するインクジェットインクを吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いるインクジェット用洗浄液であって、該インクジェットインクに含まれる金属粒子を溶解可能な化合物Ａを含有することを特徴とするインクジェット用洗浄液。
【０００９】
２．前記化合物Ａが、前記金属粒子を構成する金属原子に配位して、洗浄液に該金属粒子を溶解することを特徴とする前記１に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１０】
３．前記化合物Ａが、下記一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物から選択される少なくとも１種から形成されていることを特徴とする前記１または２に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１１】
一般式（１）
Ｒ1−ＳＭ
〔式中、Ｒ1はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｍは水素原子、金属原子またはアンモニウムを表す。〕
一般式（２）
Ｒ2−Ｓ−Ｒ3
〔式中、Ｒ2、Ｒ3は各々置換または無置換の炭化水素基を表す。但し、Ｓ原子を含む環を形成する場合には、芳香族基をとることはない。〕
４．前記化合物Ａが、トリアゾール誘導体であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１２】
５．前記金属粒子が、銀またはパラジウムを含むことを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１３】
６．前記金属粒子の平均粒子径が、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることを特徴とする前記１〜５のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１４】
７．前記インクジェットインクが、無電解めっきに用いる触媒核形成用インクであることを特徴とする前記１〜６のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１５】
８．前記インクジェットインクを吐出する方法が、圧力印加手段と電界印加手段とを用いたインクジェット記録方法であることを特徴とする前記１〜７のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１６】
９．前記１〜８のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液を用いて、インクジェット記録装置の洗浄を行うことを特徴とするインクジェット記録装置の洗浄方法。
【発明の効果】
【００１７】
本発明により、複雑な構成からなるノズル詰まり防止機構を設けることなく、金属粒子含有インクジェットインクの連続的、間欠的吐出条件下での吐出安定性を実現することができるインクジェット用洗浄液及びそれを用いる洗浄方法を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
【００１９】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、金属粒子を含有するインクジェットインクを吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いるインクジェット用洗浄液であって、該インクジェットインクに含まれる金属粒子を溶解可能な化合物Ａを含有することを特徴とするインクジェット用洗浄液を用いることにより、複雑な構成からなるノズル詰まり防止機構を設けることなく、金属粒子含有インクジェットインクの連続的、間欠的吐出条件下での吐出安定性を実現することができるインクジェット用洗浄液を実現できることを見出し、本発明に至った次第である。
【００２０】
以下、本発明のインクジェット用洗浄液の詳細について説明する。
【００２１】
《金属粒子》
本発明のインクジェット用洗浄液（以下、単に洗浄液ともいう）は、金属粒子を含有するインクジェットインクを吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いることを特徴とする。
【００２２】
本発明に係るインクジェットインクが含有する金属粒子とは、粒子中に金属原子を含んだ粒子であればいかなる粒子であっても良い。金属原子種としては、例えば、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ等が挙げられ、１粒子中にこれら金属が複数種混在しても良い。また、このような金属粒子は、銀、銀パラジウム、金、銅等の導電性微粒子であってもよい。金属粒子の用途としては、金属粒子を導電性膜の基体に用いてもよいし、無電解めっきの触媒核として用いても良い。
【００２３】
本発明においては、金属粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の領域において、その効果が発揮されやすい。これは、平均粒子径が小さくなる程、インクジェット記録装置中の狭い空間を通過しやすくなるが、粒子の溶解や凝集のため、逆に吐出安定性は低下する。これに対して、本発明のインクジェット用洗浄液が含有する金属粒子を溶解可能な化合物Ａの作用は、金属粒子の粒子径が細かく、表面積が大きい程溶解速度が速く、この作用が勝るものと推定される。
【００２４】
本発明に係る金属粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡で粒子の投影像を取得し、この１粒子の投影像の円平均相当径を求め、少なくとも１００個以上の粒子の円平均相当径の平均値で定義される。
【００２５】
《金属粒子を溶解可能な化合物Ａ》
本発明に係る金属粒子を溶解可能な化合物Ａとは、上記金属粒子を溶解できる化合物であればいかなる化合物であってもよい。化合物Ａの例としては、強酸や強アルカリ等の酸塩基性化合物、三級脂肪酸銀等の金属をカルボン酸塩にしてこの塩を可溶化する溶媒、金属粒子の表面に作用させ、ミセル化して可溶化する界面活性剤、銀に対するチオウレアの様に金属と反応させて可溶性金属を形成しる化合物、金属と可溶性錯体を形成しる配位子化合物等が挙げられる。
【００２６】
これら化合物Ａ群の中で、本発明においては、金属と可溶性錯体を形成しうる化合物を好ましく用いることができ、中でも、下記一般式（１）、（２）で表される化合物を好ましく用いることができる。
【００２７】
はじめに、一般式（１）で表される化合物について説明する。
【００２８】
一般式（１）：Ｒ−ＳＭ
式中、Ｒはアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｍは水素原子、金属原子またはアンモニウムを表す。
【００２９】
ここで、アルキル基とは炭素数１〜３０の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を意味する。また、アリール基とはフェニル基やナフチル基のような、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環を意味する。また、ヘテロ環基とはヘテロ原子を少なくとも１つ含有する、芳香族もしくは非芳香族の、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置換のヘテロ環基を意味する。
【００３０】
ここで置換基とは、例えば、メルカプト基、（アルキル、アリールまたはヘテロ環）チオ基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）ジチオ基、（アルキルまたはアリール）スルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基、Ｎ−スルホニルスルファモイル基またはその塩、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子）、アルキル基（直鎖、分岐、環状のアルキル基で、ビシクロアルキル基や活性メチン基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（置換する位置は問わない）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−ヒドロキシカルバモイル基、Ｎ−アシルカルバモイル基、Ｎ−スルホニルカルバモイル基、Ｎ−カルバモイルカルバモイル基、チオカルバモイル基、Ｎ−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基またはその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基（Ｃａｒｂｏｎｉｍｉｄｏｙｌ基）、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル、アリールまたはヘテロ環）アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、Ｎ−ヒドロキシウレイド基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、Ｎ−（アルキルもしくはアリール）スルホニルウレイド基、Ｎ−アシルウレイド基、Ｎ−アシルスルファモイルアミノ基、ヒドロキシアミノ基、ニトロ基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えば、ピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、イソシアノ基、イミノ基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、トリアルコキシシリル基等が挙げられる。
【００３１】
なお、ここで活性メチン基とは、２つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基（Ｃａｒｂｏｎｉｍｉｄｏｙｌ基）を意味する。ここで２つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。また、塩とはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などの陽イオンや、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどの有機の陽イオンを意味する。
【００３２】
これらの置換基は、これらの置換基で更に置換されていてもよい。
【００３３】
好ましく用いられるメルカプト化合物としては、以下の化合物が挙げられる。
【００３４】
【化１】
【００３５】
【化２】
【００３６】
【化３】
【００３７】
【化４】
【００３８】
【化５】
【００３９】
上記例示した各化合物の中でも、本発明の目的効果をいかんなく発揮できる観点から、特に、例示化合物１−１０９、１−１１４、１−１１５が好ましい。
【００４０】
次いで、一般式（２）で表される化合物について説明する。
【００４１】
一般式（２）：Ｒ2−Ｓ−Ｒ3
上記一般式（２）において、Ｒ2、Ｒ3は各々置換または無置換の炭化水素基を表し、これらには直鎖基または分岐基が含まれる。また、これらの炭化水素基では１個以上の窒素原子、酸素原子、リン原子、硫黄原子、ハロゲン原子を含んでもよい。但し、Ｓ原子を含む環を形成する場合には芳香族基をとることはない。また、Ｓ原子に隣接するそれぞれの元素は炭素原子であることが好ましい。
【００４２】
炭化水素基に置換可能な基としては、例えば、アミノ基、グアニジノ基、４級アンモニウム基、ヒドロキシル基、ハロゲン化合物、カルボン酸基、カルボキシレート基、アミド基、スルフィン酸基、スルホン酸基、スルフェート基、ホスホン酸基、ホスフェート基、ニトロ基、シアノ基等を挙げることができる。
【００４３】
一般に銀の溶解析出を生じさせるためには、電解質中で銀を可溶化することが必要である。例えば、銀と配位結合を生じさたり、銀と弱い共有結合を生じさせるような銀と相互作用を示す化学構造種を含む化合物等と共存させて、銀または銀を含む化合物を可溶化物に変換する手段を用いるのが一般的である。前記化学構造種として、ハロゲン原子、メルカプト基、カルボキシル基、イミノ基等が知られているが、本発明においては、チオエーテル基も銀溶剤として有用に作用し、共存化合物への影響が少なく、溶媒への溶解度が高い特徴がある。
【００４４】
以下、本発明に係る一般式（２）で表される化合物の具体例を示すが、本発明ではこれら例示する化合物にのみ限定されるものではない。
【００４５】
２−１：ＣＨ3ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−２：ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−３：ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−４：ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−５：ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−６：ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−７：Ｈ3ＣＳＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ
２−８：ＨＯＯＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＯＯＨ
２−９：ＨＯＯＣＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ
２−１０：ＨＯＯＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＯＯＨ
２−１１：ＨＯＯＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＯＯＨ
２−１２：ＨＯＯＣＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ
２−１３：ＨＯＯＣＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ
２−１４：Ｈ3ＣＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−１５：Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−１６：Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−１７：Ｈ3ＣＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ（ＮＨ2）ＣＯＯＨ
２−１８：Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−１９：Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−２０：Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−２１：ＨＯＯＣ（ＮＨ2）ＣＨＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ（ＮＨ2）ＣＯＯＨ
２−２２：ＨＯＯＣ（ＮＨ2）ＣＨＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ（ＮＨ2）ＣＯＯＨ
２−２３：ＨＯＯＣ（ＮＨ2）ＣＨＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ（ＮＨ2）ＣＯＯＨ
２−２４：Ｈ2Ｎ（Ｏ＝）ＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ2
２−２５：Ｈ2Ｎ（Ｏ＝）ＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ2
２−２６：Ｈ2ＮＨＮ（Ｏ＝）ＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＮＨ2
２−２７：Ｈ3Ｃ（Ｏ＝）ＣＮＨＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ3
２−２８：Ｈ2ＮＯ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2ＮＨ2
２−２９：ＮａＯ3ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｎａ
２−３０：Ｈ3ＣＳＯ2ＮＨＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨＯ2ＳＣＨ3
２−３１：Ｈ2Ｎ（ＮＨ）ＣＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣ（ＮＨ）ＮＨ2・２ＨＢｒ
２−３２：Ｈ2Ｎ（ＮＨ）ＣＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣ（ＮＨ）ＮＨ2・２ＨＣｌ
２−３３：Ｈ2Ｎ（ＮＨ）ＣＮＨＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣ（ＮＨ）ＮＨ2・２ＨＢｒ
２−３４：〔（ＣＨ3）3ＮＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2Ｎ（ＣＨ3）3〕2+・２Ｃｌ-
【００４６】
【化６】
【００４７】
【化７】
【００４８】
上記例示した各化合物の中でも、本発明の目的効果をいかんなく発揮できる観点から、特に、例示化合物２−２が好ましい。
【００４９】
《インクジェット記録》
本発明のインクジェット用洗浄液は、金属粒子を含有するインクジェットインク（以下、導電性インクともいう）を吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いることを特徴とする。
【００５０】
本発明に適用可能なインクジェット記録装置としては、インクジェットインクを吐出するインクジェットヘッドとしては、オンデマンド方式またはコンティニュアス方式の何れであってもよく、また吐出方式としては、電気−機械変換方式（例えば、シングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダー型、ピストン型、シェアーモード型、シェアードウォール型等）、電気−熱変換方式（例えば、サーマルインクジェット型、バブルジェット（登録商標）型等）、静電吸引方式（例えば、電界制御型、スリットジェット型等）及び放電方式（例えば、スパークジェット型等）などが具体的な吐出方式として挙げることができるが、本発明においては、吐出方式として、電気−熱変換方式（例えば、サーマルインクジェット型、バブルジェット（登録商標）型等）を用いた記録ヘッド（以下、電気−熱変換型記録ヘッドともいう）を備えたインクジェット記録装置に適用することが好ましい。
【００５１】
更には、更には電気回路等に使用される線幅が２０μｍ以下の細線を高精度に形成できる観点から、インクジェット記録装置によるインクの吐出方法が、圧力印加手段と電界印加手段とを用いた方法であることが好ましい。
【００５２】
以下、本発明に好ましく適用することができる圧力印加手段と電界印加手段とを用いたインクジェット記録方法について説明する。
【００５３】
一般に、電子回路等で要求されている微細な線幅のパターンを高精細に描画するには、インクジェット記録装置から射出するインク液滴をより微細化する必要がある。
【００５４】
しかしながら、電気−機械変換方式（例えば、シングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダー型、ピストン型、シェアーモード型、シェアードウォール型等）や電気−熱変換方式（例えば、サーマルインクジェット型、バブルジェット（登録商標）型等）のみの出力手段を用いて、極微小インク液滴を吐出した場合、ノズルから吐出したインク液滴に付与される運動エネルギーは、インク液滴の半径の３乗に比例して小さくなるため、微小液滴は空気抵抗に耐えるほどの十分な運動エネルギーを確保できず、空気対流などによる擾乱を受け、正確な着弾が困難となる。
【００５５】
更にインク液滴が微細になるほど表面張力の効果が増すために、液滴の蒸気圧が高くなり蒸発量が激しくなる。このため、微細液滴は飛翔中の著しい質量の消失を招き、着弾時に液滴の形態を保つことすら難しいという問題があった。このように着弾位置の高精度化は、インク液滴の微細化と相反する課題であり、これら２つを同時に実現することに対し、障害を抱えていた。
【００５６】
本発明においては、上記課題を解決する方法として、圧力印加手段と電界印加手段とを用いた射出方法を適用することが好ましい。
【００５７】
この射出方法は、０．１〜１００μｍの内径の吐出口を有するノズルを用い、導電性インクに任意波形の電圧を印加して、この導電性インクを帯電させることにより、そのインク液滴を吐出口から、樹脂層を有する基材に吐出する方法である。即ち、この射出方法はノズルの吐出口の内径が０．１〜１００μｍであり、電界強度分布が狭くなっているため、ノズル内に供給された導電性インクに任意波形の電圧を印加することにより電界を集中させることができる。
【００５８】
その結果、形成されるインク液滴を微小で、且つ形状の安定化したものとすることができる。従って、従来よりも微細な、例えば、１ｐｌ（ピコリットル）未満の複数のインク液滴からなるインク液滴パターンを樹脂層表面に形成することができる。また、電界強度分布が狭くなっているため、ノズル内の導電性インクに印加する総印加電圧を低減することができる。また、インク液滴はノズルから吐出された直後、電界と電荷の間に働く静電力により加速されるが、ノズルから離れると電界は急激に低下するので、その後は空気抵抗により減速する。しかしながら、微小液滴で且つ電界が集中したインク液滴は、樹脂層に近づくにつれ鏡像力により加速される。この空気抵抗による減速と鏡像力による加速とのバランスをとることにより、微小液滴を安定に飛翔させ、着弾精度を向上させることが可能となる。
【００５９】
図１は、本発明に好ましく適用できる圧力印加手段と電界印加手段とを用い導電性インク吐出装置の一例を示した概略断面図である。
【００６０】
図１において、導電性インク吐出装置２０は、帯電可能な導電性インクの液滴を先端部から樹脂層を有する基材Ｋに向かって吐出する超微細径のノズル２１と、ノズル２１の先端部に対向する面側に配置され、その対向面で基材Ｋを支持する対向電極２３と、ノズル２１内の流路２２に導電性インクを供給する導電性インク供給手段と、ノズル２１内の導電性インクに任意波形の吐出電圧を印加する吐出電圧印加手段（電圧印加手段）２５とを備えている。なお、上記ノズル２１と導電性インク供給手段の一部の構成と吐出電圧印加手段２５の一部の構成とは、ノズルプレート２６と一体的に形成されている。
【００６１】
ノズル２１はノズルプレート２６の下面層２６ｃから垂設され、この下面層２６ｃと一体的に形成されている。ノズル２１の先端部は対向電極２３に指向している。ノズル２１の内部には、その先端部からその中心線に沿って貫通するノズル内流路２２が形成されている。
【００６２】
ノズル２１は、例えば、ガラスなどの電気絶縁体により、超微細径で形成されている。ノズル２１の各部の寸法の具体例を挙げると、ノズル内流路２２の内部直径は１μｍ、ノズル２１の先端部における外部直径は２μｍ、ノズル２１の根元、即ち、上端部の直径は５μｍ、ノズル２１の高さは１００μｍに設定されている。また、ノズル２１の形状は限りなく円錐形に近い円錐台形に形成されている。このようなノズル２１は、その全体がノズルプレート２６の下面層２６ｃと共に絶縁性の樹脂材により形成されている。
【００６３】
なお、ノズル２１の各寸法は上記一例に限定されるものではない。特に吐出口の内径については、電界集中の効果により液滴の吐出を可能とする吐出電圧が１０００Ｖ未満を実現する範囲であって、例えば、１００μｍ以下であり、より望ましくは２０μｍ以下であって、現行のノズル形成技術により溶液を通す貫通穴を形成することが実現可能な範囲である内径、例えば０．１μｍをその下限値とする。
【００６４】
導電性インク供給手段は、ノズルプレート２６の内部であってノズル２１の根元となる位置に設けられると共にノズル内流路２２に連通する溶液室２４と、図示しない外部の導電性インクタンクからインク室２４に導電性インクを導く供給路２７と、インク室２４への溶液の供給圧力を付与する図示しない供給ポンプとを備えている。
【００６５】
上記供給ポンプはノズル２１の先端部まで導電性インクを供給し、当該先端部からこぼれ出さない範囲の供給圧力を維持して導電性インクの供給を行う。
【００６６】
吐出電圧印加手段２５は、ノズル２１内の導電性インクに吐出電圧を印加してこの導電性インクを帯電させることにより、この導電性インクの液滴をノズル２１の吐出口から基材Ｋに向かって吐出させるものである。この吐出電圧印加手段２５は、ノズルプレート２６の内部であってインク室２４とノズル内流路２２との境界位置に設けられた吐出電圧印加用の吐出電極２８と、この吐出電極２８に常時、直流のバイアス電圧を印加するバイアス電源３０と、吐出電極２８にバイアス電圧に重畳して吐出に要する電位とするパルス電圧を印加する吐出電圧電源２９とを備えている。
【００６７】
吐出電極２８は、インク室２４内部において導電性インクに直接接触し、導電性インクを帯電させると共に吐出電圧を印加する。
【００６８】
バイアス電源３０によるバイアス電圧は、導電性インクの吐出が行われない範囲で常時電圧印加を行うことにより、吐出時に印加すべき電圧の幅を予め低減し、これによる吐出時の反応性の向上を図っている。一例を挙げると、バイアス電圧はＤＣ３００Ｖで印加され、パルス電圧は１００Ｖで印される。従って、吐出の際の重畳電圧は４００Ｖとなる。
【００６９】
ノズルプレート２６は、最も上層に位置する上面層２６ａと、その下に位置する導電性インクの供給路を形成する流路層２６ｂと、この流路層２６ｂの更に下に形成される下面層２６ｃとを備え、流路層２６ｂと下面層２６ｃとの間には、吐出電極２８が介挿されている。
【００７０】
対向電極２３はノズル２１に垂直な対向面を備えており、かかる対向面に沿うように基材Ｋの支持を行う。ノズル２１の先端部から対向電極２３の対向面までの距離は、例えば、１００μｍ等一定に保持されている。
【００７１】
また、対向電極２３は接地されているため、常時、接地電位を維持している。従って、パルス電圧の印加時にはノズル２１の先端部と対向面との間に生じる電界による静電力により吐出された液滴を対向電極２３側に誘導する。
【００７２】
なお、導電性インク吐出装置２０は、ノズル２１の超微細化による当該ノズル２１の先端部での電界集中により電界強度を高めることで液滴の吐出を行うことから、対向電極２３による誘導がなくとも液滴の吐出を行うことは可能ではあるが、ノズル２１と対向電極２３との間での静電力による誘導が行われた方が望ましい。この場合、ノズル２１から吐出され空気抵抗により減速する液滴を、鏡像力により加速することができる。従って、これら空気抵抗による減速と鏡像力による加速とのバランスをとることにより、微小液滴を安定に飛翔させ、着弾精度を向上させることができる。またなお、帯電した液滴の電荷を、対向電極２３の接地により逃がすことも可能である。
【００７３】
以上のような導電性インク吐出装置２０は、図示しない駆動機構により、基材Ｋの搬送方向に対して直交する方向に走査自在とされた走査型の導電性インク吐出装置としてもよい。この場合において、導電性インク吐出装置２０に複数のノズル２１を配列するようにしてもよい。また、導電性インク吐出装置２０は、基材Ｋの搬送方向に対して直交する方向に多数のノズル２１を配列してなるライン型の導電性インク吐出装置としてもよい。
【００７４】
《無電解めっき》
本発明に係る金属粒子を含むインクジェットインクは、基材上に付与してた金属核を形成した後、めっき処理を施して金属皮膜を形成して、導電性パターンを形成する。
【００７５】
導電性パターンの形成に用いるめっき方法としては、従来公知のめっき法を適用できるが、その中でも、低抵抗の導電性パターンを煩雑な工程なしに簡便、低コストでめっき処理することができる観点から、無電解めっき法を適用することが好ましい。
【００７６】
無電解めっき法によるめっき処理は、上述の方法に従ってめっき触媒として作用する金属微粒子を含有する導電性パターンにめっき剤を接触させる方法である。これにより、めっき触媒である金属微粒子とめっき剤とが接触し、導電性パターン部に無電解めっきが施されて、より優れた導電性を得ることができる。
【００７７】
本発明に係るめっき処理で使用できるめっき剤としては、例えば、めっき材料として析出させる金属イオンが均一溶解された溶液が用いられ、金属塩とともに還元剤が含有される。ここで、通常は溶液が用いられるが、無電解めっきを生じさせるものであればこれに限らず、ガス状や粉体のめっき剤を適用することも可能である。
【００７８】
具体的に、この金属塩としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅから選択される少なくとも１種の金属のハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、酢酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩などが適用可能である。また、還元剤としては、ヒドラジン、ヒドラジン塩、ボロハライド塩、次亜リン酸塩、次亜硫酸塩、アルコール、アルデヒド、カルボン酸、カルボン酸塩などが適用可能である。なお、これらの還元剤に含有されるボロン、燐、窒素などの元素が析出する電極に含有されていても構わない。あるいは、これらの金属塩の混合物を用いて合金が形成されていても構わない。
【００７９】
めっき剤は上記金属塩と還元剤とが混合されたものを適用するようにしてもよいし、あるいは金属塩と還元剤とを別個に適用するようにしてもよい。ここで、導電性パターンをより鮮明に形成するためには、金属塩と還元剤とが混合されたものを適用することが好ましい。また、金属塩と還元剤とを別個に適用する場合には、導電性パターン部にまず金属塩を配した後、還元剤を配することでより安定した電極パターンを形成することができる。
【００８０】
めっき剤には、必要があればｐＨ調整のための緩衝剤、界面活性剤などの添加物を含有させることができる。また、溶液に用いる溶媒としては、水以外にアルコール、ケトン、エステルなどの有機溶剤を添加するようにしても構わない。
【００８１】
めっき剤の組成は、析出させる金属の金属塩、還元剤、及び必要に応じて添加物、有機溶媒を添加した組成で構成されるが、析出速度に応じて濃度や組成を調整することができる。また、めっき剤の温度を調節して析出速度を調整することもできる。この温度調整の方法としては、めっき剤の温度を調整する方法、また、例えば、めっき剤中に浸漬する場合、浸漬前に基材を加熱、冷却して温度調節する方法などが挙げられる。更にめっき剤に浸漬する時間で析出する金属薄膜の膜厚を調整することもできる。
【００８２】
《インクジェットインクのその他の構成》
本発明に係るインクにおいては、水溶性有機溶媒を用いることができる。本発明で用いることのできる水溶性有機溶媒としては、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等）、多価アルコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等）、アミン類（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等）、アミド類（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、複素環類（例えば、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられる。
【００８３】
本発明に係るインクには、その他には、吐出安定性、プリントヘッドやインクカートリッジ適合性、保存安定性、画像保存性、その他の諸性能向上の目的に応じて、公知の各種添加剤、例えば、粘度調整剤、表面張力調整剤、比抵抗調整剤、皮膜形成剤、分散剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、退色防止剤、防ばい剤、防錆剤等を適宜選択して用いることができ、例えば、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル類、ポリメタクリル酸エステル類、ポリアクリルアミド類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、またはこれらの共重合体、尿素樹脂、またはメラミン樹脂等の有機ラテックス、流動パラフィン、ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート、シリコンオイル等の油滴微粒子、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭５７−７４１９３号、同５７−８７９８８号及び同６２−２６１４７６号の各公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号、同５７−８７９８９号、同６０−７２７８５号、同６１−１４６５９１号、特開平１−９５０９１号及び同３−１３３７６号の各公報等に記載されている退色防止剤、特開昭５９−４２９９３号、同５９−５２６８９号、同６２−２８００６９号、同６１−２４２８７１号及び特開平４−２１９２６６号の各公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤等を挙げることができる。
【００８４】
本発明に係るインクの調製については、特に制限はないが、各種添加剤を含むインクの調製を行う場合、調製過程での凝集、沈降が生じないようにインクを調製することが好ましい。必要に応じて、添加物の添加順序、添加速度を調節する等の調合方法を取ることができる。
【００８５】
本発明に係るインクの粘度は特に制限はないが、２５℃における粘度が２ｍＰａ・ｓ以上、１０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。また、本発明に係るインクジェットインクの粘度は、シェアレート依存性がない方が好ましい。
【００８６】
また、本発明に係るインクにおいては、表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２５〜３５ｍＮ／ｍである。本発明で言うインクの表面張力（ｍＮ／ｍ）は、２５℃で測定した表面張力で値であり、その測定法は一般的な界面化学、コロイド化学の参考書等において述べられているが、例えば、新実験化学講座第１８巻（界面とコロイド）、日本化学会編、丸善株式会社発行：Ｐ．６８〜１１７を参照することができる。
【００８７】
本発明に係るインクにおいては、インク保存安定性の観点から、電気伝導度が１ｍＳ／ｍ以上、５００ｍＳ／ｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１ｍＳ／ｍ以上、２００ｍＳ／ｍ以下であり、更に好ましくは１０ｍＳ／ｍ以上、１００ｍＳ／ｍ以下である。また、本発明に係るインクの調製においては、イオン濃度を適宜調整することが好ましい。
【００８８】
《洗浄方法》
本発明のインクジェット用洗浄液を用いたインクジェット記録装置の洗浄方法としては、その使用形態により、種々の方法を取ることができる。例えば、１）インクジェット記録装置のインクカートリッジに本発明のインクジェット用洗浄液を充填し、インクジェットインクと同様にして、インクジェット記録装置内部に本発明のインクジェット用洗浄液を導入、吐出して洗浄を行う方法、２）記録ヘッドの洗浄流路を設けて、記録ヘッドに本発明のインクジェット用洗浄液を接触させることにより洗浄する方法、３）インクジェット記録装置を構成する記録ヘッド、供給路、貯蔵タンク等を、本発明のインクジェット用洗浄液に浸漬して洗浄する方法、４）本発明のインクジェット用洗浄液を多孔質体に含示浸させて、この多孔質体で被洗浄物を機械的にワイプする方法等が挙げられる。
【００８９】
上記各洗浄方法の中で、１）に記載の方法に従って洗浄を行う場合には、切り替え時間短縮化の観点から、インクジェット用洗浄液の主溶媒とインクジェットインクの主溶媒との極性が近い程よく、さらに同一溶媒であることが好ましい。洗浄のタイミングは、シリアルヘッド方式の記録ヘッドの場合は、記録面両端のダミー打ち部で洗浄を行っても良く、またヘッドの停止に併せて洗浄を行っても良い。
【実施例】
【００９０】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【００９１】
《インクの調製》
〔インク１の調製〕
平均粒子径が２００ｎｍの銀微粒子を５質量％、平均粒子径が１９０ｎｍのパラジウム微粒子を１５質量％、プロピレングリコールモノメチルアセテートを２０質量％、水を６０質量％混合させて、インク１を調製した。
【００９２】
《試料の作製》
〔試料１の作製〕
表面に１２Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2のコロナ放電処理を２秒間施した市販のガラス−エポキシ基板上に、図１に記載の圧力印加手段と電圧印加手段とを備えたインクジェット記録装置の圧力印加手段のみを用いて、インク１を射出して、幅１ｍｍ×長さ１０ｃｍのインクパターンを形成し、このパターン形成を２４時間連続して繰り返した。
【００９３】
〔試料２の作製〕
上記試料１の作製において、２４時間の連続射出中に３０分に１回の割合で、下記洗浄インク１によるダミー打ちを行った以外は同様にして、試料２を作製した。
【００９４】
（洗浄液１の調製）
チオウレア５質量％、プロピレングリコールモノメチルアセテート２０質量％、水７５質量％を混合させて、洗浄液１を調製した。
【００９５】
〔試料３の作製〕
上記試料２の作製おいて、洗浄液１中のチオウレアを同質量の１モル／Ｌの硝酸に変更した以外は同様にして、試料３を作製した。
【００９６】
〔試料４の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の１モル／Ｌの硝酸に変更し、更にインク１中の銀粒子及びパラジウム粒子を、同質量（２０質量％）の平均粒子径が１７０ｎｍの銅粒子に変更した以外は同様にして、試料４を作製した。
【００９７】
〔試料５の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアと水を、同質量のプロピレングリコールモノブチルエーテルに変更し、更にインク１中の銀粒子及びパラジウム粒子を、同質量（２０質量％）の平均粒子径が１７０ｎｍのネオデカン酸銀粒子に変更した以外は同様にして、試料５を作製した。
【００９８】
〔試料６の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の２，２′−ビピリジル−４，４′−ジカルボン酸アンモニウムに変更した以外は同様にして、試料６を作製した。
【００９９】
〔試料７の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量のグリシンのアンモニウム塩に変更した以外は同様にして、試料７を作製した。
【０１００】
〔試料８の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の例示化合物（１−５１）に変更した以外は同様にして、試料８を作製した。
【０１０１】
〔試料９の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の例示化合物（１−９５）に変更した以外は同様にして、試料９を作製した。
【０１０２】
〔試料１０の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の例示化合物（２−２）に変更した以外は同様にして、試料１０を作製した。
【０１０３】
〔試料１１の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の例示化合物（２−３）に変更した以外は同様にして、試料１１を作製した。
【０１０４】
〔試料１２の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量のグリシンの例示化合物（１−１０９）に変更した以外は同様にして、試料１２を作製した。
【０１０５】
〔試料１３の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量のグリシンの例示化合物（１−１１５）に変更した以外は同様にして、試料１３を作製した。
【０１０６】
〔試料１４の作製〕
上記試料１２の作製において、インク１中の銀粒子及びパラジウム粒子を、同質量（２０質量％）の平均粒子径が７０ｎｍの銀粒子に変更した以外は同様にして、試料１４を作製した。
【０１０７】
〔試料１５の作製〕
上記試料１２の作製において、インク１中の銀粒子及びパラジウム粒子を、同質量（２０質量％）の平均粒子径が１０ｎｍの銀粒子に変更した以外は同様にして、試料１５を作製した。
【０１０８】
〔試料１６の作製〕
上記試料１５の作製において、インクジェット記録装置の射出方式を圧力印加手段と電界印加手段を両方用いたインクジェット射出方式に変更したを行った以外は同様にして、試料１６を作製した。
【０１０９】
〔試料１７の作製〕
上記作製した試料１６を、下記組成の無電解銀めっき液１を用いて無電解めっき処理を施した以外は同様にして、試料１７を作製した。
【０１１０】
（無電解銀めっき液１の調製）
ｐ−トルエンスルホン酸銀を１．００ｇ、リン酸カリウムを１５．０ｇ、ホウ酸カリウムを５．０ｇ、ヒダントインを１０．０ｇ、トリエタノールアミンを０．０５モル、ポリエチレングリコールを１００ｐｐｍ、それぞれ水に加えて全量を１Ｌとして、無電解銀めっき液１を調製した。
【０１１１】
〔試料１８の作製〕
上記作製した試料１６を、下記組成の無電解銅めっき液１を用いて無電解めっき処理を施した以外は同様にして、試料１８を作製した。
【０１１２】
（無電解銅めっき液１）
硫酸銅を０．０４モル、ホルムアルデヒド（３７質量％）を０．０８モル、水酸化ナトリウムを０．１０モル、トリエタノールアミンを０．０５モル、ポリエチレングリコールを１００ｐｐｍ、それぞれに水に加えて全量を１Ｌとして、無電解銅めっき液１を調製した。
【０１１３】
《試料の評価》
〔かすれ部の面積比率の測定〕
上記各試料の作製において、幅１ｍｍ×長さ１０ｃｍのインクパターンの１回目の射出により形成したパターン面積をＳ１とし、２４時間連続射出後のインクパターンでインクが抜けている部分の面積をＳ２とし、（Ｓ２／Ｓ１×１００）をかすれ部の面積比（％）として求め、これを射出安定性の評価値とした。この値が小さい程、安定性に優れていることを示している。
【０１１４】
以上により得られた結果を、表１に示す。
【０１１５】
【表１】
【０１１６】
表１に記載の結果より明らかな様に、本発明のインクジェット用洗浄液を用いて、インクパターンを形成した試料は、比較例に対し、射出安定性に優れていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】本発明に好ましく適用できる圧力印加手段と電界印加手段とを用い導電性インク吐出装置の一例を示した概略断面図である。
【符号の説明】
【０１１８】
２０ 導電性インク吐出装置
２１ ノズル
２２ ノズル内流路
２３ 対向電極
２４ インク室
２５ 吐出電圧印加手段
２６ ノズルプレート
２７ 供給路
２８ 吐出電極
３０ バイアス電源
Ｋ 基材
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複雑な構成からなるノズル詰まり防止機構を設けることなく、金属粒子含有インクジェットインクの連続的、間欠的吐出条件下での吐出安定性を実現することができるインクジェット用洗浄液及びそれを用いる洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、微細な導電性パターンを有する電子回路等を作製するには、導電層が形成された基材にレジスト層を積層し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して光照射し、次いで現像した後、不要なレジスト層を除去するフォトリソグラフによる方法が行われていた。しかしながら、このフォトリソグラフによる方法は、多数の工程が必要であるため煩雑である上、経済的にも問題があり、更には、除去したレジスト層の廃棄は環境に負荷を与えるという問題もあった。
【０００３】
このような問題を解決するために、インクジェット装置などの印字装置を用いて、導電性インクを基材面に直接射出して導電性パターンを形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載の方法は、導電性インクとして金属コロイドを含有するインクジェットインクを用いて基材面の所定部に導電回路形成用パターンを形成し、加熱乾燥し、溶融させて金属コロイド間の接触を向上させて導電率を向上させてようというものである。インクジェット記録装置には、その構造上、フィルター、カートリッジ内にインク吸収スポンジ、インクジェットヘッド中のマイクロ流路、吐出用の穴などがあり、狭い空間をインクジェットインクが通過する必要がある。
【０００４】
一方、金属微粒子インクは、数ｎｍ〜サブμｍ程度の金属微粒子、溶媒を含んでいで、このインクが前記狭い空間を通過した場合、溶媒と微粒子との速度差が生じて金属微粒子が凝集しやすい、金属微粒子は流路等の内壁に吸着しやすい、金属微粒自体が化学的に不安定で、溶解、オストワルト熟成等の粒子状態が変化やすい等から、インクジェットと吐出の安定性に懸念点があり、これは金属微粒子インクをインクジェットに用いた場合の特有の課題である。
【０００５】
その他に、金属微粒子のノズル詰まりを改良する技術が開示されている（例えば、特許文献２、３参照。）。しかしながら、いずれも装置機構の改良であり、洗浄液の化学組成に関する具体的な開示例はないのが現状である。
【特許文献１】特開２００４−２４７６６７号公報
【特許文献２】特開２００５−２３１２８３号公報
【特許文献３】特開２００６−１６８２４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、複雑な構成からなるノズル詰まり防止機構を設けることなく、金属粒子含有インクジェットインクの連続的、間欠的吐出条件下での吐出安定性を実現することができるインクジェット用洗浄液及びそれを用いる洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【０００８】
１．金属粒子を含有するインクジェットインクを吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いるインクジェット用洗浄液であって、該インクジェットインクに含まれる金属粒子を溶解可能な化合物Ａを含有することを特徴とするインクジェット用洗浄液。
【０００９】
２．前記化合物Ａが、前記金属粒子を構成する金属原子に配位して、洗浄液に該金属粒子を溶解することを特徴とする前記１に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１０】
３．前記化合物Ａが、下記一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物から選択される少なくとも１種から形成されていることを特徴とする前記１または２に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１１】
一般式（１）
Ｒ1−ＳＭ
〔式中、Ｒ1はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｍは水素原子、金属原子またはアンモニウムを表す。〕
一般式（２）
Ｒ2−Ｓ−Ｒ3
〔式中、Ｒ2、Ｒ3は各々置換または無置換の炭化水素基を表す。但し、Ｓ原子を含む環を形成する場合には、芳香族基をとることはない。〕
４．前記化合物Ａが、トリアゾール誘導体であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１２】
５．前記金属粒子が、銀またはパラジウムを含むことを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１３】
６．前記金属粒子の平均粒子径が、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることを特徴とする前記１〜５のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１４】
７．前記インクジェットインクが、無電解めっきに用いる触媒核形成用インクであることを特徴とする前記１〜６のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１５】
８．前記インクジェットインクを吐出する方法が、圧力印加手段と電界印加手段とを用いたインクジェット記録方法であることを特徴とする前記１〜７のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【００１６】
９．前記１〜８のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液を用いて、インクジェット記録装置の洗浄を行うことを特徴とするインクジェット記録装置の洗浄方法。
【発明の効果】
【００１７】
本発明により、複雑な構成からなるノズル詰まり防止機構を設けることなく、金属粒子含有インクジェットインクの連続的、間欠的吐出条件下での吐出安定性を実現することができるインクジェット用洗浄液及びそれを用いる洗浄方法を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
【００１９】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、金属粒子を含有するインクジェットインクを吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いるインクジェット用洗浄液であって、該インクジェットインクに含まれる金属粒子を溶解可能な化合物Ａを含有することを特徴とするインクジェット用洗浄液を用いることにより、複雑な構成からなるノズル詰まり防止機構を設けることなく、金属粒子含有インクジェットインクの連続的、間欠的吐出条件下での吐出安定性を実現することができるインクジェット用洗浄液を実現できることを見出し、本発明に至った次第である。
【００２０】
以下、本発明のインクジェット用洗浄液の詳細について説明する。
【００２１】
《金属粒子》
本発明のインクジェット用洗浄液（以下、単に洗浄液ともいう）は、金属粒子を含有するインクジェットインクを吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いることを特徴とする。
【００２２】
本発明に係るインクジェットインクが含有する金属粒子とは、粒子中に金属原子を含んだ粒子であればいかなる粒子であっても良い。金属原子種としては、例えば、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ等が挙げられ、１粒子中にこれら金属が複数種混在しても良い。また、このような金属粒子は、銀、銀パラジウム、金、銅等の導電性微粒子であってもよい。金属粒子の用途としては、金属粒子を導電性膜の基体に用いてもよいし、無電解めっきの触媒核として用いても良い。
【００２３】
本発明においては、金属粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の領域において、その効果が発揮されやすい。これは、平均粒子径が小さくなる程、インクジェット記録装置中の狭い空間を通過しやすくなるが、粒子の溶解や凝集のため、逆に吐出安定性は低下する。これに対して、本発明のインクジェット用洗浄液が含有する金属粒子を溶解可能な化合物Ａの作用は、金属粒子の粒子径が細かく、表面積が大きい程溶解速度が速く、この作用が勝るものと推定される。
【００２４】
本発明に係る金属粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡で粒子の投影像を取得し、この１粒子の投影像の円平均相当径を求め、少なくとも１００個以上の粒子の円平均相当径の平均値で定義される。
【００２５】
《金属粒子を溶解可能な化合物Ａ》
本発明に係る金属粒子を溶解可能な化合物Ａとは、上記金属粒子を溶解できる化合物であればいかなる化合物であってもよい。化合物Ａの例としては、強酸や強アルカリ等の酸塩基性化合物、三級脂肪酸銀等の金属をカルボン酸塩にしてこの塩を可溶化する溶媒、金属粒子の表面に作用させ、ミセル化して可溶化する界面活性剤、銀に対するチオウレアの様に金属と反応させて可溶性金属を形成しる化合物、金属と可溶性錯体を形成しる配位子化合物等が挙げられる。
【００２６】
これら化合物Ａ群の中で、本発明においては、金属と可溶性錯体を形成しうる化合物を好ましく用いることができ、中でも、下記一般式（１）、（２）で表される化合物を好ましく用いることができる。
【００２７】
はじめに、一般式（１）で表される化合物について説明する。
【００２８】
一般式（１）：Ｒ−ＳＭ
式中、Ｒはアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｍは水素原子、金属原子またはアンモニウムを表す。
【００２９】
ここで、アルキル基とは炭素数１〜３０の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を意味する。また、アリール基とはフェニル基やナフチル基のような、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環を意味する。また、ヘテロ環基とはヘテロ原子を少なくとも１つ含有する、芳香族もしくは非芳香族の、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置換のヘテロ環基を意味する。
【００３０】
ここで置換基とは、例えば、メルカプト基、（アルキル、アリールまたはヘテロ環）チオ基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）ジチオ基、（アルキルまたはアリール）スルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基、Ｎ−スルホニルスルファモイル基またはその塩、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子）、アルキル基（直鎖、分岐、環状のアルキル基で、ビシクロアルキル基や活性メチン基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（置換する位置は問わない）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−ヒドロキシカルバモイル基、Ｎ−アシルカルバモイル基、Ｎ−スルホニルカルバモイル基、Ｎ−カルバモイルカルバモイル基、チオカルバモイル基、Ｎ−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基またはその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基（Ｃａｒｂｏｎｉｍｉｄｏｙｌ基）、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル、アリールまたはヘテロ環）アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、Ｎ−ヒドロキシウレイド基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、Ｎ−（アルキルもしくはアリール）スルホニルウレイド基、Ｎ−アシルウレイド基、Ｎ−アシルスルファモイルアミノ基、ヒドロキシアミノ基、ニトロ基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えば、ピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、イソシアノ基、イミノ基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、トリアルコキシシリル基等が挙げられる。
【００３１】
なお、ここで活性メチン基とは、２つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基（Ｃａｒｂｏｎｉｍｉｄｏｙｌ基）を意味する。ここで２つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。また、塩とはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などの陽イオンや、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどの有機の陽イオンを意味する。
【００３２】
これらの置換基は、これらの置換基で更に置換されていてもよい。
【００３３】
好ましく用いられるメルカプト化合物としては、以下の化合物が挙げられる。
【００３４】
【化１】
【００３５】
【化２】
【００３６】
【化３】
【００３７】
【化４】
【００３８】
【化５】
【００３９】
上記例示した各化合物の中でも、本発明の目的効果をいかんなく発揮できる観点から、特に、例示化合物１−１０９、１−１１４、１−１１５が好ましい。
【００４０】
次いで、一般式（２）で表される化合物について説明する。
【００４１】
一般式（２）：Ｒ2−Ｓ−Ｒ3
上記一般式（２）において、Ｒ2、Ｒ3は各々置換または無置換の炭化水素基を表し、これらには直鎖基または分岐基が含まれる。また、これらの炭化水素基では１個以上の窒素原子、酸素原子、リン原子、硫黄原子、ハロゲン原子を含んでもよい。但し、Ｓ原子を含む環を形成する場合には芳香族基をとることはない。また、Ｓ原子に隣接するそれぞれの元素は炭素原子であることが好ましい。
【００４２】
炭化水素基に置換可能な基としては、例えば、アミノ基、グアニジノ基、４級アンモニウム基、ヒドロキシル基、ハロゲン化合物、カルボン酸基、カルボキシレート基、アミド基、スルフィン酸基、スルホン酸基、スルフェート基、ホスホン酸基、ホスフェート基、ニトロ基、シアノ基等を挙げることができる。
【００４３】
一般に銀の溶解析出を生じさせるためには、電解質中で銀を可溶化することが必要である。例えば、銀と配位結合を生じさたり、銀と弱い共有結合を生じさせるような銀と相互作用を示す化学構造種を含む化合物等と共存させて、銀または銀を含む化合物を可溶化物に変換する手段を用いるのが一般的である。前記化学構造種として、ハロゲン原子、メルカプト基、カルボキシル基、イミノ基等が知られているが、本発明においては、チオエーテル基も銀溶剤として有用に作用し、共存化合物への影響が少なく、溶媒への溶解度が高い特徴がある。
【００４４】
以下、本発明に係る一般式（２）で表される化合物の具体例を示すが、本発明ではこれら例示する化合物にのみ限定されるものではない。
【００４５】
２−１：ＣＨ3ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−２：ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−３：ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−４：ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−５：ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−６：ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ
２−７：Ｈ3ＣＳＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ
２−８：ＨＯＯＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＯＯＨ
２−９：ＨＯＯＣＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ
２−１０：ＨＯＯＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＯＯＨ
２−１１：ＨＯＯＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＯＯＨ
２−１２：ＨＯＯＣＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ
２−１３：ＨＯＯＣＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ
２−１４：Ｈ3ＣＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−１５：Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−１６：Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−１７：Ｈ3ＣＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ（ＮＨ2）ＣＯＯＨ
２−１８：Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−１９：Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−２０：Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2
２−２１：ＨＯＯＣ（ＮＨ2）ＣＨＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ（ＮＨ2）ＣＯＯＨ
２−２２：ＨＯＯＣ（ＮＨ2）ＣＨＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ（ＮＨ2）ＣＯＯＨ
２−２３：ＨＯＯＣ（ＮＨ2）ＣＨＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ（ＮＨ2）ＣＯＯＨ
２−２４：Ｈ2Ｎ（Ｏ＝）ＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ2
２−２５：Ｈ2Ｎ（Ｏ＝）ＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ2
２−２６：Ｈ2ＮＨＮ（Ｏ＝）ＣＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＮＨ2
２−２７：Ｈ3Ｃ（Ｏ＝）ＣＮＨＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ3
２−２８：Ｈ2ＮＯ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2ＮＨ2
２−２９：ＮａＯ3ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｎａ
２−３０：Ｈ3ＣＳＯ2ＮＨＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨＯ2ＳＣＨ3
２−３１：Ｈ2Ｎ（ＮＨ）ＣＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣ（ＮＨ）ＮＨ2・２ＨＢｒ
２−３２：Ｈ2Ｎ（ＮＨ）ＣＳＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＣ（ＮＨ）ＮＨ2・２ＨＣｌ
２−３３：Ｈ2Ｎ（ＮＨ）ＣＮＨＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣ（ＮＨ）ＮＨ2・２ＨＢｒ
２−３４：〔（ＣＨ3）3ＮＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2Ｎ（ＣＨ3）3〕2+・２Ｃｌ-
【００４６】
【化６】
【００４７】
【化７】
【００４８】
上記例示した各化合物の中でも、本発明の目的効果をいかんなく発揮できる観点から、特に、例示化合物２−２が好ましい。
【００４９】
《インクジェット記録》
本発明のインクジェット用洗浄液は、金属粒子を含有するインクジェットインク（以下、導電性インクともいう）を吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いることを特徴とする。
【００５０】
本発明に適用可能なインクジェット記録装置としては、インクジェットインクを吐出するインクジェットヘッドとしては、オンデマンド方式またはコンティニュアス方式の何れであってもよく、また吐出方式としては、電気−機械変換方式（例えば、シングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダー型、ピストン型、シェアーモード型、シェアードウォール型等）、電気−熱変換方式（例えば、サーマルインクジェット型、バブルジェット（登録商標）型等）、静電吸引方式（例えば、電界制御型、スリットジェット型等）及び放電方式（例えば、スパークジェット型等）などが具体的な吐出方式として挙げることができるが、本発明においては、吐出方式として、電気−熱変換方式（例えば、サーマルインクジェット型、バブルジェット（登録商標）型等）を用いた記録ヘッド（以下、電気−熱変換型記録ヘッドともいう）を備えたインクジェット記録装置に適用することが好ましい。
【００５１】
更には、更には電気回路等に使用される線幅が２０μｍ以下の細線を高精度に形成できる観点から、インクジェット記録装置によるインクの吐出方法が、圧力印加手段と電界印加手段とを用いた方法であることが好ましい。
【００５２】
以下、本発明に好ましく適用することができる圧力印加手段と電界印加手段とを用いたインクジェット記録方法について説明する。
【００５３】
一般に、電子回路等で要求されている微細な線幅のパターンを高精細に描画するには、インクジェット記録装置から射出するインク液滴をより微細化する必要がある。
【００５４】
しかしながら、電気−機械変換方式（例えば、シングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダー型、ピストン型、シェアーモード型、シェアードウォール型等）や電気−熱変換方式（例えば、サーマルインクジェット型、バブルジェット（登録商標）型等）のみの出力手段を用いて、極微小インク液滴を吐出した場合、ノズルから吐出したインク液滴に付与される運動エネルギーは、インク液滴の半径の３乗に比例して小さくなるため、微小液滴は空気抵抗に耐えるほどの十分な運動エネルギーを確保できず、空気対流などによる擾乱を受け、正確な着弾が困難となる。
【００５５】
更にインク液滴が微細になるほど表面張力の効果が増すために、液滴の蒸気圧が高くなり蒸発量が激しくなる。このため、微細液滴は飛翔中の著しい質量の消失を招き、着弾時に液滴の形態を保つことすら難しいという問題があった。このように着弾位置の高精度化は、インク液滴の微細化と相反する課題であり、これら２つを同時に実現することに対し、障害を抱えていた。
【００５６】
本発明においては、上記課題を解決する方法として、圧力印加手段と電界印加手段とを用いた射出方法を適用することが好ましい。
【００５７】
この射出方法は、０．１〜１００μｍの内径の吐出口を有するノズルを用い、導電性インクに任意波形の電圧を印加して、この導電性インクを帯電させることにより、そのインク液滴を吐出口から、樹脂層を有する基材に吐出する方法である。即ち、この射出方法はノズルの吐出口の内径が０．１〜１００μｍであり、電界強度分布が狭くなっているため、ノズル内に供給された導電性インクに任意波形の電圧を印加することにより電界を集中させることができる。
【００５８】
その結果、形成されるインク液滴を微小で、且つ形状の安定化したものとすることができる。従って、従来よりも微細な、例えば、１ｐｌ（ピコリットル）未満の複数のインク液滴からなるインク液滴パターンを樹脂層表面に形成することができる。また、電界強度分布が狭くなっているため、ノズル内の導電性インクに印加する総印加電圧を低減することができる。また、インク液滴はノズルから吐出された直後、電界と電荷の間に働く静電力により加速されるが、ノズルから離れると電界は急激に低下するので、その後は空気抵抗により減速する。しかしながら、微小液滴で且つ電界が集中したインク液滴は、樹脂層に近づくにつれ鏡像力により加速される。この空気抵抗による減速と鏡像力による加速とのバランスをとることにより、微小液滴を安定に飛翔させ、着弾精度を向上させることが可能となる。
【００５９】
図１は、本発明に好ましく適用できる圧力印加手段と電界印加手段とを用い導電性インク吐出装置の一例を示した概略断面図である。
【００６０】
図１において、導電性インク吐出装置２０は、帯電可能な導電性インクの液滴を先端部から樹脂層を有する基材Ｋに向かって吐出する超微細径のノズル２１と、ノズル２１の先端部に対向する面側に配置され、その対向面で基材Ｋを支持する対向電極２３と、ノズル２１内の流路２２に導電性インクを供給する導電性インク供給手段と、ノズル２１内の導電性インクに任意波形の吐出電圧を印加する吐出電圧印加手段（電圧印加手段）２５とを備えている。なお、上記ノズル２１と導電性インク供給手段の一部の構成と吐出電圧印加手段２５の一部の構成とは、ノズルプレート２６と一体的に形成されている。
【００６１】
ノズル２１はノズルプレート２６の下面層２６ｃから垂設され、この下面層２６ｃと一体的に形成されている。ノズル２１の先端部は対向電極２３に指向している。ノズル２１の内部には、その先端部からその中心線に沿って貫通するノズル内流路２２が形成されている。
【００６２】
ノズル２１は、例えば、ガラスなどの電気絶縁体により、超微細径で形成されている。ノズル２１の各部の寸法の具体例を挙げると、ノズル内流路２２の内部直径は１μｍ、ノズル２１の先端部における外部直径は２μｍ、ノズル２１の根元、即ち、上端部の直径は５μｍ、ノズル２１の高さは１００μｍに設定されている。また、ノズル２１の形状は限りなく円錐形に近い円錐台形に形成されている。このようなノズル２１は、その全体がノズルプレート２６の下面層２６ｃと共に絶縁性の樹脂材により形成されている。
【００６３】
なお、ノズル２１の各寸法は上記一例に限定されるものではない。特に吐出口の内径については、電界集中の効果により液滴の吐出を可能とする吐出電圧が１０００Ｖ未満を実現する範囲であって、例えば、１００μｍ以下であり、より望ましくは２０μｍ以下であって、現行のノズル形成技術により溶液を通す貫通穴を形成することが実現可能な範囲である内径、例えば０．１μｍをその下限値とする。
【００６４】
導電性インク供給手段は、ノズルプレート２６の内部であってノズル２１の根元となる位置に設けられると共にノズル内流路２２に連通する溶液室２４と、図示しない外部の導電性インクタンクからインク室２４に導電性インクを導く供給路２７と、インク室２４への溶液の供給圧力を付与する図示しない供給ポンプとを備えている。
【００６５】
上記供給ポンプはノズル２１の先端部まで導電性インクを供給し、当該先端部からこぼれ出さない範囲の供給圧力を維持して導電性インクの供給を行う。
【００６６】
吐出電圧印加手段２５は、ノズル２１内の導電性インクに吐出電圧を印加してこの導電性インクを帯電させることにより、この導電性インクの液滴をノズル２１の吐出口から基材Ｋに向かって吐出させるものである。この吐出電圧印加手段２５は、ノズルプレート２６の内部であってインク室２４とノズル内流路２２との境界位置に設けられた吐出電圧印加用の吐出電極２８と、この吐出電極２８に常時、直流のバイアス電圧を印加するバイアス電源３０と、吐出電極２８にバイアス電圧に重畳して吐出に要する電位とするパルス電圧を印加する吐出電圧電源２９とを備えている。
【００６７】
吐出電極２８は、インク室２４内部において導電性インクに直接接触し、導電性インクを帯電させると共に吐出電圧を印加する。
【００６８】
バイアス電源３０によるバイアス電圧は、導電性インクの吐出が行われない範囲で常時電圧印加を行うことにより、吐出時に印加すべき電圧の幅を予め低減し、これによる吐出時の反応性の向上を図っている。一例を挙げると、バイアス電圧はＤＣ３００Ｖで印加され、パルス電圧は１００Ｖで印される。従って、吐出の際の重畳電圧は４００Ｖとなる。
【００６９】
ノズルプレート２６は、最も上層に位置する上面層２６ａと、その下に位置する導電性インクの供給路を形成する流路層２６ｂと、この流路層２６ｂの更に下に形成される下面層２６ｃとを備え、流路層２６ｂと下面層２６ｃとの間には、吐出電極２８が介挿されている。
【００７０】
対向電極２３はノズル２１に垂直な対向面を備えており、かかる対向面に沿うように基材Ｋの支持を行う。ノズル２１の先端部から対向電極２３の対向面までの距離は、例えば、１００μｍ等一定に保持されている。
【００７１】
また、対向電極２３は接地されているため、常時、接地電位を維持している。従って、パルス電圧の印加時にはノズル２１の先端部と対向面との間に生じる電界による静電力により吐出された液滴を対向電極２３側に誘導する。
【００７２】
なお、導電性インク吐出装置２０は、ノズル２１の超微細化による当該ノズル２１の先端部での電界集中により電界強度を高めることで液滴の吐出を行うことから、対向電極２３による誘導がなくとも液滴の吐出を行うことは可能ではあるが、ノズル２１と対向電極２３との間での静電力による誘導が行われた方が望ましい。この場合、ノズル２１から吐出され空気抵抗により減速する液滴を、鏡像力により加速することができる。従って、これら空気抵抗による減速と鏡像力による加速とのバランスをとることにより、微小液滴を安定に飛翔させ、着弾精度を向上させることができる。またなお、帯電した液滴の電荷を、対向電極２３の接地により逃がすことも可能である。
【００７３】
以上のような導電性インク吐出装置２０は、図示しない駆動機構により、基材Ｋの搬送方向に対して直交する方向に走査自在とされた走査型の導電性インク吐出装置としてもよい。この場合において、導電性インク吐出装置２０に複数のノズル２１を配列するようにしてもよい。また、導電性インク吐出装置２０は、基材Ｋの搬送方向に対して直交する方向に多数のノズル２１を配列してなるライン型の導電性インク吐出装置としてもよい。
【００７４】
《無電解めっき》
本発明に係る金属粒子を含むインクジェットインクは、基材上に付与してた金属核を形成した後、めっき処理を施して金属皮膜を形成して、導電性パターンを形成する。
【００７５】
導電性パターンの形成に用いるめっき方法としては、従来公知のめっき法を適用できるが、その中でも、低抵抗の導電性パターンを煩雑な工程なしに簡便、低コストでめっき処理することができる観点から、無電解めっき法を適用することが好ましい。
【００７６】
無電解めっき法によるめっき処理は、上述の方法に従ってめっき触媒として作用する金属微粒子を含有する導電性パターンにめっき剤を接触させる方法である。これにより、めっき触媒である金属微粒子とめっき剤とが接触し、導電性パターン部に無電解めっきが施されて、より優れた導電性を得ることができる。
【００７７】
本発明に係るめっき処理で使用できるめっき剤としては、例えば、めっき材料として析出させる金属イオンが均一溶解された溶液が用いられ、金属塩とともに還元剤が含有される。ここで、通常は溶液が用いられるが、無電解めっきを生じさせるものであればこれに限らず、ガス状や粉体のめっき剤を適用することも可能である。
【００７８】
具体的に、この金属塩としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅから選択される少なくとも１種の金属のハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、酢酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩などが適用可能である。また、還元剤としては、ヒドラジン、ヒドラジン塩、ボロハライド塩、次亜リン酸塩、次亜硫酸塩、アルコール、アルデヒド、カルボン酸、カルボン酸塩などが適用可能である。なお、これらの還元剤に含有されるボロン、燐、窒素などの元素が析出する電極に含有されていても構わない。あるいは、これらの金属塩の混合物を用いて合金が形成されていても構わない。
【００７９】
めっき剤は上記金属塩と還元剤とが混合されたものを適用するようにしてもよいし、あるいは金属塩と還元剤とを別個に適用するようにしてもよい。ここで、導電性パターンをより鮮明に形成するためには、金属塩と還元剤とが混合されたものを適用することが好ましい。また、金属塩と還元剤とを別個に適用する場合には、導電性パターン部にまず金属塩を配した後、還元剤を配することでより安定した電極パターンを形成することができる。
【００８０】
めっき剤には、必要があればｐＨ調整のための緩衝剤、界面活性剤などの添加物を含有させることができる。また、溶液に用いる溶媒としては、水以外にアルコール、ケトン、エステルなどの有機溶剤を添加するようにしても構わない。
【００８１】
めっき剤の組成は、析出させる金属の金属塩、還元剤、及び必要に応じて添加物、有機溶媒を添加した組成で構成されるが、析出速度に応じて濃度や組成を調整することができる。また、めっき剤の温度を調節して析出速度を調整することもできる。この温度調整の方法としては、めっき剤の温度を調整する方法、また、例えば、めっき剤中に浸漬する場合、浸漬前に基材を加熱、冷却して温度調節する方法などが挙げられる。更にめっき剤に浸漬する時間で析出する金属薄膜の膜厚を調整することもできる。
【００８２】
《インクジェットインクのその他の構成》
本発明に係るインクにおいては、水溶性有機溶媒を用いることができる。本発明で用いることのできる水溶性有機溶媒としては、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等）、多価アルコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等）、アミン類（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等）、アミド類（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、複素環類（例えば、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられる。
【００８３】
本発明に係るインクには、その他には、吐出安定性、プリントヘッドやインクカートリッジ適合性、保存安定性、画像保存性、その他の諸性能向上の目的に応じて、公知の各種添加剤、例えば、粘度調整剤、表面張力調整剤、比抵抗調整剤、皮膜形成剤、分散剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、退色防止剤、防ばい剤、防錆剤等を適宜選択して用いることができ、例えば、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル類、ポリメタクリル酸エステル類、ポリアクリルアミド類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、またはこれらの共重合体、尿素樹脂、またはメラミン樹脂等の有機ラテックス、流動パラフィン、ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート、シリコンオイル等の油滴微粒子、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭５７−７４１９３号、同５７−８７９８８号及び同６２−２６１４７６号の各公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号、同５７−８７９８９号、同６０−７２７８５号、同６１−１４６５９１号、特開平１−９５０９１号及び同３−１３３７６号の各公報等に記載されている退色防止剤、特開昭５９−４２９９３号、同５９−５２６８９号、同６２−２８００６９号、同６１−２４２８７１号及び特開平４−２１９２６６号の各公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤等を挙げることができる。
【００８４】
本発明に係るインクの調製については、特に制限はないが、各種添加剤を含むインクの調製を行う場合、調製過程での凝集、沈降が生じないようにインクを調製することが好ましい。必要に応じて、添加物の添加順序、添加速度を調節する等の調合方法を取ることができる。
【００８５】
本発明に係るインクの粘度は特に制限はないが、２５℃における粘度が２ｍＰａ・ｓ以上、１０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。また、本発明に係るインクジェットインクの粘度は、シェアレート依存性がない方が好ましい。
【００８６】
また、本発明に係るインクにおいては、表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２５〜３５ｍＮ／ｍである。本発明で言うインクの表面張力（ｍＮ／ｍ）は、２５℃で測定した表面張力で値であり、その測定法は一般的な界面化学、コロイド化学の参考書等において述べられているが、例えば、新実験化学講座第１８巻（界面とコロイド）、日本化学会編、丸善株式会社発行：Ｐ．６８〜１１７を参照することができる。
【００８７】
本発明に係るインクにおいては、インク保存安定性の観点から、電気伝導度が１ｍＳ／ｍ以上、５００ｍＳ／ｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１ｍＳ／ｍ以上、２００ｍＳ／ｍ以下であり、更に好ましくは１０ｍＳ／ｍ以上、１００ｍＳ／ｍ以下である。また、本発明に係るインクの調製においては、イオン濃度を適宜調整することが好ましい。
【００８８】
《洗浄方法》
本発明のインクジェット用洗浄液を用いたインクジェット記録装置の洗浄方法としては、その使用形態により、種々の方法を取ることができる。例えば、１）インクジェット記録装置のインクカートリッジに本発明のインクジェット用洗浄液を充填し、インクジェットインクと同様にして、インクジェット記録装置内部に本発明のインクジェット用洗浄液を導入、吐出して洗浄を行う方法、２）記録ヘッドの洗浄流路を設けて、記録ヘッドに本発明のインクジェット用洗浄液を接触させることにより洗浄する方法、３）インクジェット記録装置を構成する記録ヘッド、供給路、貯蔵タンク等を、本発明のインクジェット用洗浄液に浸漬して洗浄する方法、４）本発明のインクジェット用洗浄液を多孔質体に含示浸させて、この多孔質体で被洗浄物を機械的にワイプする方法等が挙げられる。
【００８９】
上記各洗浄方法の中で、１）に記載の方法に従って洗浄を行う場合には、切り替え時間短縮化の観点から、インクジェット用洗浄液の主溶媒とインクジェットインクの主溶媒との極性が近い程よく、さらに同一溶媒であることが好ましい。洗浄のタイミングは、シリアルヘッド方式の記録ヘッドの場合は、記録面両端のダミー打ち部で洗浄を行っても良く、またヘッドの停止に併せて洗浄を行っても良い。
【実施例】
【００９０】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【００９１】
《インクの調製》
〔インク１の調製〕
平均粒子径が２００ｎｍの銀微粒子を５質量％、平均粒子径が１９０ｎｍのパラジウム微粒子を１５質量％、プロピレングリコールモノメチルアセテートを２０質量％、水を６０質量％混合させて、インク１を調製した。
【００９２】
《試料の作製》
〔試料１の作製〕
表面に１２Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2のコロナ放電処理を２秒間施した市販のガラス−エポキシ基板上に、図１に記載の圧力印加手段と電圧印加手段とを備えたインクジェット記録装置の圧力印加手段のみを用いて、インク１を射出して、幅１ｍｍ×長さ１０ｃｍのインクパターンを形成し、このパターン形成を２４時間連続して繰り返した。
【００９３】
〔試料２の作製〕
上記試料１の作製において、２４時間の連続射出中に３０分に１回の割合で、下記洗浄インク１によるダミー打ちを行った以外は同様にして、試料２を作製した。
【００９４】
（洗浄液１の調製）
チオウレア５質量％、プロピレングリコールモノメチルアセテート２０質量％、水７５質量％を混合させて、洗浄液１を調製した。
【００９５】
〔試料３の作製〕
上記試料２の作製おいて、洗浄液１中のチオウレアを同質量の１モル／Ｌの硝酸に変更した以外は同様にして、試料３を作製した。
【００９６】
〔試料４の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の１モル／Ｌの硝酸に変更し、更にインク１中の銀粒子及びパラジウム粒子を、同質量（２０質量％）の平均粒子径が１７０ｎｍの銅粒子に変更した以外は同様にして、試料４を作製した。
【００９７】
〔試料５の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアと水を、同質量のプロピレングリコールモノブチルエーテルに変更し、更にインク１中の銀粒子及びパラジウム粒子を、同質量（２０質量％）の平均粒子径が１７０ｎｍのネオデカン酸銀粒子に変更した以外は同様にして、試料５を作製した。
【００９８】
〔試料６の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の２，２′−ビピリジル−４，４′−ジカルボン酸アンモニウムに変更した以外は同様にして、試料６を作製した。
【００９９】
〔試料７の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量のグリシンのアンモニウム塩に変更した以外は同様にして、試料７を作製した。
【０１００】
〔試料８の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の例示化合物（１−５１）に変更した以外は同様にして、試料８を作製した。
【０１０１】
〔試料９の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の例示化合物（１−９５）に変更した以外は同様にして、試料９を作製した。
【０１０２】
〔試料１０の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の例示化合物（２−２）に変更した以外は同様にして、試料１０を作製した。
【０１０３】
〔試料１１の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量の例示化合物（２−３）に変更した以外は同様にして、試料１１を作製した。
【０１０４】
〔試料１２の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量のグリシンの例示化合物（１−１０９）に変更した以外は同様にして、試料１２を作製した。
【０１０５】
〔試料１３の作製〕
上記試料２の作製において、洗浄液１中のチオウレアを同質量のグリシンの例示化合物（１−１１５）に変更した以外は同様にして、試料１３を作製した。
【０１０６】
〔試料１４の作製〕
上記試料１２の作製において、インク１中の銀粒子及びパラジウム粒子を、同質量（２０質量％）の平均粒子径が７０ｎｍの銀粒子に変更した以外は同様にして、試料１４を作製した。
【０１０７】
〔試料１５の作製〕
上記試料１２の作製において、インク１中の銀粒子及びパラジウム粒子を、同質量（２０質量％）の平均粒子径が１０ｎｍの銀粒子に変更した以外は同様にして、試料１５を作製した。
【０１０８】
〔試料１６の作製〕
上記試料１５の作製において、インクジェット記録装置の射出方式を圧力印加手段と電界印加手段を両方用いたインクジェット射出方式に変更したを行った以外は同様にして、試料１６を作製した。
【０１０９】
〔試料１７の作製〕
上記作製した試料１６を、下記組成の無電解銀めっき液１を用いて無電解めっき処理を施した以外は同様にして、試料１７を作製した。
【０１１０】
（無電解銀めっき液１の調製）
ｐ−トルエンスルホン酸銀を１．００ｇ、リン酸カリウムを１５．０ｇ、ホウ酸カリウムを５．０ｇ、ヒダントインを１０．０ｇ、トリエタノールアミンを０．０５モル、ポリエチレングリコールを１００ｐｐｍ、それぞれ水に加えて全量を１Ｌとして、無電解銀めっき液１を調製した。
【０１１１】
〔試料１８の作製〕
上記作製した試料１６を、下記組成の無電解銅めっき液１を用いて無電解めっき処理を施した以外は同様にして、試料１８を作製した。
【０１１２】
（無電解銅めっき液１）
硫酸銅を０．０４モル、ホルムアルデヒド（３７質量％）を０．０８モル、水酸化ナトリウムを０．１０モル、トリエタノールアミンを０．０５モル、ポリエチレングリコールを１００ｐｐｍ、それぞれに水に加えて全量を１Ｌとして、無電解銅めっき液１を調製した。
【０１１３】
《試料の評価》
〔かすれ部の面積比率の測定〕
上記各試料の作製において、幅１ｍｍ×長さ１０ｃｍのインクパターンの１回目の射出により形成したパターン面積をＳ１とし、２４時間連続射出後のインクパターンでインクが抜けている部分の面積をＳ２とし、（Ｓ２／Ｓ１×１００）をかすれ部の面積比（％）として求め、これを射出安定性の評価値とした。この値が小さい程、安定性に優れていることを示している。
【０１１４】
以上により得られた結果を、表１に示す。
【０１１５】
【表１】
【０１１６】
表１に記載の結果より明らかな様に、本発明のインクジェット用洗浄液を用いて、インクパターンを形成した試料は、比較例に対し、射出安定性に優れていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】本発明に好ましく適用できる圧力印加手段と電界印加手段とを用い導電性インク吐出装置の一例を示した概略断面図である。
【符号の説明】
【０１１８】
２０ 導電性インク吐出装置
２１ ノズル
２２ ノズル内流路
２３ 対向電極
２４ インク室
２５ 吐出電圧印加手段
２６ ノズルプレート
２７ 供給路
２８ 吐出電極
３０ バイアス電源
Ｋ 基材
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属粒子を含有するインクジェットインクを吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いるインクジェット用洗浄液であって、該インクジェットインクに含まれる金属粒子を溶解可能な化合物Ａを含有することを特徴とするインクジェット用洗浄液。
【請求項２】
前記化合物Ａが、前記金属粒子を構成する金属原子に配位して、洗浄液に該金属粒子を溶解することを特徴とする請求項１に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項３】
前記化合物Ａが、下記一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物から選択される少なくとも１種から形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のインクジェット用洗浄液。
一般式（１）
Ｒ1−ＳＭ
〔式中、Ｒ1はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｍは水素原子、金属原子またはアンモニウムを表す。〕
一般式（２）
Ｒ2−Ｓ−Ｒ3
〔式中、Ｒ2、Ｒ3は各々置換または無置換の炭化水素基を表す。但し、Ｓ原子を含む環を形成する場合には、芳香族基をとることはない。〕
【請求項４】
前記化合物Ａが、トリアゾール誘導体であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項５】
前記金属粒子が、銀またはパラジウムを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項６】
前記金属粒子の平均粒子径が、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項７】
前記インクジェットインクが、無電解めっきに用いる触媒核形成用インクであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項８】
前記インクジェットインクを吐出する方法が、圧力印加手段と電界印加手段とを用いたインクジェット記録方法であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液を用いて、インクジェット記録装置の洗浄を行うことを特徴とするインクジェット記録装置の洗浄方法。
【請求項１】
金属粒子を含有するインクジェットインクを吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いるインクジェット用洗浄液であって、該インクジェットインクに含まれる金属粒子を溶解可能な化合物Ａを含有することを特徴とするインクジェット用洗浄液。
【請求項２】
前記化合物Ａが、前記金属粒子を構成する金属原子に配位して、洗浄液に該金属粒子を溶解することを特徴とする請求項１に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項３】
前記化合物Ａが、下記一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物から選択される少なくとも１種から形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のインクジェット用洗浄液。
一般式（１）
Ｒ1−ＳＭ
〔式中、Ｒ1はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｍは水素原子、金属原子またはアンモニウムを表す。〕
一般式（２）
Ｒ2−Ｓ−Ｒ3
〔式中、Ｒ2、Ｒ3は各々置換または無置換の炭化水素基を表す。但し、Ｓ原子を含む環を形成する場合には、芳香族基をとることはない。〕
【請求項４】
前記化合物Ａが、トリアゾール誘導体であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項５】
前記金属粒子が、銀またはパラジウムを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項６】
前記金属粒子の平均粒子径が、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項７】
前記インクジェットインクが、無電解めっきに用いる触媒核形成用インクであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項８】
前記インクジェットインクを吐出する方法が、圧力印加手段と電界印加手段とを用いたインクジェット記録方法であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のインクジェット用洗浄液を用いて、インクジェット記録装置の洗浄を行うことを特徴とするインクジェット記録装置の洗浄方法。
【図１】
【公開番号】特開２００９−１０２４７５（Ｐ２００９−１０２４７５Ａ）
【公開日】平成２１年５月１４日（２００９．５．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２７３４８９（Ｐ２００７−２７３４８９）
【出願日】平成１９年１０月２２日（２００７．１０．２２）
【出願人】（０００００１２７０）コニカミノルタホールディングス株式会社 (4,463)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年５月１４日（２００９．５．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１０月２２日（２００７．１０．２２）
【出願人】（０００００１２７０）コニカミノルタホールディングス株式会社 (4,463)
【Ｆターム（参考）】
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