【課題】起泡性と泡消え性の両方に優れた硫酸エステル塩を高濃度で含有し、且つ流動性に優れたアニオン界面活性剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）エチレンオキシ基・プロピレンオキシ基のブロック付加構造を有する特定の硫酸エステル塩及びプロピレンオキシ基・エチレンオキシ基のブロック付加構造を有する特定の硫酸エステル塩から選ばれる硫酸エステル塩、（ｂ）特定のプロピレングリコール硫酸エステル塩、及び（ｃ）水を含有するアニオン界面活性剤組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス用基板、特に表面にＣｕ配線を有する半導体デバイス用基板におけるＣＭＰ工程後の洗浄工程に用いられ、Ｃｕ配線に対する十分な防食性を有し、残渣の発生及び基板表面への残渣の付着を抑制することができる洗浄液を提供する。
【解決手段】以下の成分（Ａ）〜（Ｅ）を含有してなり、かつｐＨが１０以上である半導体デバイス用基板洗浄液。
（Ａ）一般式（１）で表される有機第４級アンモニウム水酸化物
（Ｒ¹）₄Ｎ⁺ＯＨ^- （１）
（但し、Ｒ¹は水酸基、アルコキシ基、又はハロゲンにて置換されていてもよいアルキル基を示し、４個のＲ¹は全て同一でもよく、互いに異なっていてもよい。）
（Ｂ）界面活性剤
（Ｃ）キレート剤
（Ｄ）硫黄原子を有するアミノ酸
（Ｅ）水 （もっと読む）

【課題】ガラス基板、電極または配線上に存在する有無機汚染物またはパーティクルを除去することが可能な平板表示装置用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の平板表示装置用洗浄剤組成物は、組成物の総重量に対して、第４級アンモニウム塩化合物０．０１〜１０重量％、グリコールエーテル化合物０．０１〜１０重量％、リン酸エステル化合物０．０１〜１０重量％、グリセリン化合物０．０１〜５重量％及び接触角低下剤０．０１〜１重量％を含有し、残部が水からなる。 （もっと読む）

【課題】本発明の解決すべき課題は、脂肪酸石鹸系透明石鹸において、透明性を維持しつつ泡質の改善を図ることにある。
【解決手段】
主剤となる脂肪酸石鹸部と、透明化剤となる糖・ポリオール部と、を含む透明石鹸において、
構成モノマーとしてアクリル酸、塩化メタクリルアミドプロピル４級アンモニウム塩、アクリル酸メチルを含む両性ポリマーを配合することを特徴とする透明石鹸。
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【課題】半導体基板や金属配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面の微細粒子や金属不純物を除去し得、金属腐食防止剤-Cu皮膜の除去せずに基板表面のカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る処理方法。
【解決手段】ベンゾトリアゾール又はその誘導体含有スラリーで処理された半導体基板を、〔I〕カルボキシル基を少なくとも１個有する有機酸０．０５〜５０重量％、〔II〕ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の錯化剤０．０１〜３０重量％、〔III〕炭素数１〜５の飽和脂肪族１価アルコール、炭素数３〜１０のアルコキシアルコール、炭素数２〜１６のグリコール、炭素数３〜２０のグリコールエーテル、炭素数３〜１０のケトン及び炭素数２〜４のニトリルからなる群より選ばれる少なくとも１種の有機溶媒０．０５〜５０重量％を含んでなる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】硫酸又は硫酸主体の酸を用いる鋼材の酸洗において、短時間での脱スケールを可能にし、管理幅を広く、酸洗液寿命の長い酸洗剤及びこれを用いた脱スケール方法を提供する。
【解決手段】脱スケール促進剤としてチオ尿素と、チオ尿素ならびにチオ尿素誘導体以外の有機硫黄化合物及び／又はノニオン系界面活性剤を含有する硫酸又は硫酸主体の酸からなる鋼材の脱スケール酸洗剤。 （もっと読む）

【課題】多様化する付香製品の要望を満足することのできる、香気・香味付け用として有用な含硫カルボン酸エステル類の製造方法、該製法で製造されたエステル類を含有する香料組成物、及び付香製品を提供する。
【解決手段】酸触媒存在下、α，β−不飽和カルボン酸エステルとチオカルボン酸とを反応させることを特徴とする下記式（３）


（式中、Ｒ^１は炭素数１〜１０のアルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基（該置換基は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数２〜１０のアルケニル基を表すか、又はＲ^２とＲ^３とでアルキレン基を形成してもよい。波線はシス又はトランス配置のいずれかを表し、Ｒ^４は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）で表される含硫カルボン酸エステル類の製造方法。 （もっと読む）

【課題】塩素臭や腐食の問題もなく、安全性や取扱い性に優れ、適度な溶解性を保持した、台所流し台や風呂場の排水口等のように雑菌やカビ等の代謝物によりヌメリが発生する箇所に設けられる、ヌメリ防除剤を提供すること。
【解決手段】５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン等の非さらし粉系抗菌剤又は非さらし粉系抗菌剤とテトラキスフェノ−ル類等の多分子系ホスト化合物とからなる包接化合物と、硫酸カルシウム０．５水和物を含有する基材とを加圧成形して非さらし粉系ヌメリ防除剤を作製する。 （もっと読む）

【課題】長期保存後も高い洗浄力を保有できる部分洗い用液体洗剤組成物の提供。
【解決手段】下記式で表される化合物及びその塩からなる化合物、酵素、界面活性剤、水混和性有機溶剤、及び水を含有する部分洗い用液体洗剤組成物。


［式中、Ｘはイミノ基、酸素原子又は硫黄原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】セルラーゼの酵素活性の持続性が良く、長期保存後も高い褪色防止効果を持つ液体洗剤組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物及びその塩から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ａ）、セルラーゼ（ａ）、界面活性剤（ｂ）及び水を含有する液体洗剤組成物。


［式中、Ｘはイミノ基、酸素原子又は硫黄原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】１０〜７０℃の低〜中温で毛髪除去が可能であるため洗濯対象物を傷めずに、洗濯対象物に付着した毛髪を効果的に除去する毛髪処理剤を提供する。
【解決手段】チオグリコール酸、ジチオグリコール酸、システイン、アセチルシステイン、システアミン、チオ乳酸、及びそれらの塩からなる群から選択された１種又は２種以上を含有してなるものとする毛髪処理剤を用いる。 （もっと読む）

少なくとも１種の揮発性アルデヒドと酸触媒とを有する悪臭制御成分を含む、洗剤洗濯構成成分、及び洗濯洗剤の方法が、提供される。
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マイクロエマルジョンを構成する複数の成分の相の挙動の識別に基づく方法を使用するマイクロエマルジョンの調製法が開示される。さらに開示されるのは、第一成分、カップリング剤および表面活性剤を含んでなるマイクロエマルジョン組成物である。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出装置の導体パターン形成用インクの流路における汚れ、液滴吐出ヘッドの目詰まりを好適に解消できる洗浄液、このような洗浄液を用いた液滴吐出装置を提供すること。
【解決手段】本発明の洗浄液は、液滴吐出方式による導体パターンの形成に用いられ、金属粒子が水系分散媒に分散した導体パターン形成用インクを吐出する液滴吐出装置を洗浄するための洗浄液であって、セラミックス粒子と、前記セラミックス粒子が分散する水系分散媒とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、研磨工程由来の有機残渣除去性能、銅配線の腐食抑制効果（銅腐食抑制効果）に優れ、かつ腐食防止剤が残留しない銅配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 有機アミン、４級アンモニウム化合物、ウレア基またはチオウレア基を含有する化合物、および水を必須成分とし、ｐＨが７〜１２であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】アルミナ等の研磨材に由来する微粒子汚れに対する洗浄性に優れるハードディスク基板用洗浄剤組成物、およびハードディスク基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：アルカリ金属の水酸化物を０．０１〜５．００質量％、（Ｂ）成分：１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸および／またはその塩を０．１０〜２０．００質量％、（Ｃ）成分：下記一般式（１）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を０．０５〜１０．００質量％含有し、界面活性剤の含有量が１．００質量％未満であることを特徴するハードディスク基板用洗浄剤組成物。
Ｃ_ｍＨ_２ｍ＋１Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎＳＯ_３Ｍ ・・・（１） （もっと読む）

【課題】平板表示装置に用いられる基板上に存在する有機物または無機物などのパーティクルを除去するとともに平板表示装置に用いられる銅を含む配線、アルミニウムを含む配線を腐食させない洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】組成物の総重量に対し、（ａ）アミン化合物０．０５〜５重量％；（ｂ）アゾール系化合物、アルカノールアミン塩及び還元剤よりなる群から選ばれる１種または２種以上を含む添加剤０．０１〜１０重量％；及び（ｃ）残量の水を含む。 （もっと読む）

Ｎ−アルキルピロリドン及びヒドロキシルアミン、及びヒドロキシルアミン誘導体を含まず、回転式粘度計で測定して、５０℃で、動的せん断粘度が１〜１０ｍＰａｓである液体組成物であって、該液体組成物の全質量に対して、
（Ａ）溶解したテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｂ）の存在下に、遠ＵＶ吸収発色団を含む、厚さが３０ｎｍのポリマー性バリア反射防止層について、５０℃で一定の除去速度を示す、４０〜９９．９５質量％の、少なくとも１種の極性有機溶媒、
（Ｂ）０．０５〜＜０．５質量％の、水酸化第4級アンモニウム、及び
（Ｃ）＜５質量％の水、
を含む液体組成物；その製造方法、電気装置を製造する方法、及びパターン化Ｔｈｒｏｕｇｈ Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｖｉａｓによる、及び／又はメッキ及びバンピングによる３Ｄ Ｓｔａｃｋｅｄ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔｓ及び３Ｄ Ｗａｆｅｒ Ｌｅｖｅｌ Ｐａｃｋｉｎｇｓの製造で、ネガティブトーン及びポジティブトーンフォトレジスト、及びエッチング後の残留物を除去するために、この液体組成物を使用する方法。 （もっと読む）

【課題】液晶性ポリエステル製造装置において、縮重合槽の内壁等にある残存液晶性ポリエステルのみならず、分縮器等に付着・残存している液晶性ポリエステル飛沫又は原料モノマーをも、有効に洗浄し得る洗浄用組成物及びこれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】グリコール類と、アミン類と、環状エステル類、アミド類及びスルホキシド類からなる群より選ばれる化合物とを混合して、洗浄用組成物とする。この洗浄用組成物中、アミン類の含有量は、５〜４０質量％とし、環状エステル類、アミド類及びスルホキシド類からなる群より選ばれる化合物の含有量は、５〜３０質量％とする。 （もっと読む）

マイクロエレクトロニクスデバイスまたはナノエレクトロニクスデバイスを洗浄するための洗浄組成物であって、組成物中の唯一の酸および唯一のフッ化物化合物としてのＨＦと、スルホンおよびセレノンからなる群から選択された少なくとも１種の第一の溶媒と、金属イオン錯化または結合部位を有する、ポリヒドロキシルアルキルアルコールまたはポリヒドロキシルアリールアルコールの少なくとも１種の共溶媒と、水と、任意選択で少なくとも１種のホスホン酸腐食防止剤化合物とを含み、アミン、塩基、およびその他の塩を含まない洗浄組成物。 （もっと読む）