ウエットブラスト処理装置
【課題】微細な砥粒を使用できて従来にない作用効果を発揮するウエットブラスト処理装置を提供する。
【解決手段】 ワークに液体と砥粒との混合物であるスラリを圧縮空気とともに噴射するスラリ噴射装置１９，２０のノズル１５、１７において、スラリ作出部２２に開口するそれぞれ複数の圧縮空気供給孔２４ａおよびスラリ供給孔２３ａを有する。
【解決手段】 ワークに液体と砥粒との混合物であるスラリを圧縮空気とともに噴射するスラリ噴射装置１９，２０のノズル１５、１７において、スラリ作出部２２に開口するそれぞれ複数の圧縮空気供給孔２４ａおよびスラリ供給孔２３ａを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエットブラスト処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ワーク１に液体２と砥粒３との混合物であるスラリ４を噴射して該ワーク１の表面処理を行なうウエットブラスト処理装置（以下、従来例）が提案されている。尚、本実施例と同一構成部分には同一符号を付した。
【０００３】
この従来例は、ワーク１に液体２と砥粒３との混合物であるスラリ４を圧縮空気とともに噴射するスラリ噴射部５を有する構造である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、スラリ４を構成する砥粒３が微細になればなるほど、1)ワーク１への衝撃が少なく緻密な処理が行なうことができる、2)スラリ噴射部５のノズルが詰まりにくい、3)装置全体をコンパクトにできる、などの理由からより微細な砥粒３を用いたウエットブラスト処理が望まれているが、従来例は、未だスラリ噴射部５において約２０μｍよりも小さな砥粒３を良好に噴射させることができず、よって、約２０μｍよりも小さな砥粒３を使用したウエットブラスト処理は行なえないのが現状である。
【０００５】
本発明者等は、上述した問題点に鑑み、種々の実験・研究を重ねた結果、従来にない作用効果を発揮する画期的なウエットブラスト処理装置を開発した。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【０００７】
ワーク１に液体２と砥粒３との混合物であるスラリ４を圧縮空気とともに噴射するスラリ噴射部５を有するウエットブラスト処理装置であって、前記スラリ噴射部５は、スラリ供給部23から供給されるスラリ４と、圧縮空気供給部24から供給される圧縮空気とを噴射スラリ作出部22で混合しノズル15，17から噴射させる構成であり、前記スラリ供給部23は噴射スラリ作出部22に開口するスラリ供給孔23ａを複数並設した構成であり、前記圧縮空気供給部24は圧縮空気供給孔24ａを複数並設した構成であり、このスラリ供給孔23ａのピッチと圧縮空気供給孔24ａのピッチとは同一に設定されていることを特徴とするウエットブラスト処理装置に係るものである。
【０００８】
また、請求項１記載のウエットブラスト処理装置において、スラリ供給孔23ａの径を３ｍｍ以下とするとともにスラリ供給孔23ａのピッチを１０ｍｍ以下とし、圧縮空気供給孔24ａの径を５ｍｍ以下とするともに圧縮空気供給孔24ａのピッチを１０ｍｍ以下としたことを特徴とするウエットブラスト処理装置に係るものである。
【０００９】
また、請求項１，２いずれか１項に記載のウエットブラスト処理装置において、前記ノズル15，17としてスリット状のノズル開口部15ａ，17ａを有する巾広ノズルが採用され、このノズル15，17のスラリ通過孔部15ｂ，17ｂはノズル開口部15ａ，17ａの厚さの１０倍以上の長さの直線部を有することを特徴とするウエットブラスト処理装置に係るものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は上述のように構成したから、前述した従来例で不可能とされてきた微細な砥粒を使用してのウエットブラスト処理が行なえることになるなど従来にない作用効果を発揮する画期的なウエットブラスト装置となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
好適と考える本発明の実施形態を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。
【００１２】
スラリ噴射部５にて液体２と砥粒３との混合物であるスラリ４を圧縮空気とともに噴射してワーク１のウエットブラスト処理が行なわれる。
【００１３】
ところで、本発明は、スラリ噴射部５は、スラリ供給部23から供給されるスラリ４と、圧縮空気供給部24から供給される圧縮空気とを噴射スラリ作出部22で混合しノズル15，17から噴射させる構成であり、前記スラリ供給部23は噴射スラリ作出部22に開口するスラリ供給孔23ａを複数並設した構成であり、前記圧縮空気供給部24は圧縮空気供給孔24ａを複数並設した構成であり、このスラリ供給孔23ａのピッチと圧縮空気供給孔24ａのピッチとは同一に設定されており、このスラリ供給孔23ａから供給されるスラリ４と圧縮空気供給孔24ａから供給される圧縮空気とを噴射スラリ作出部22で混合したものをノズル15，17から噴射させることになる。
【００１４】
その理由については不明であるが、前述した構成からスラリ４と圧縮空気との良好な混合が達成されることになり、約２０μｍ以下の微細な砥粒３を使用したスラリ４を均一に噴射できることが確認された。
【実施例】
【００１５】
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
【００１６】
本実施例は、ワーク１にウエットブラスト処理をするものである。
【００１７】
具体的には、ボックス状の基体12にワーク搬送機構とワーク処理機構とを設けて構成されている。
【００１８】
ワーク搬送機構は、図１に図示したように基体12の前後位置のワーク導入部12Ａ及びワーク導出部12Ｂと、基体12の内部（後述するフィルム処理機構を構成するスラリ噴射部５、ワーク洗浄部６、仕上げ乾燥部13）夫々に、複数の回動ローラー14を配置して構成されている。
【００１９】
この回動ローラー14には、所定間隔を介して対向位置に配されワーク１を挟持状態で搬送する挟持ローラー14ａと、搬送されるワーク１の下方に配され該ワーク１の下面を支持する支持ローラー14ｂとがある。
【００２０】
ワーク処理機構は、スラリ噴射部５と、ワーク洗浄部６と、仕上げ乾燥部13とで構成され、このスラリ噴射部５と、ワーク洗浄部６と、仕上げ乾燥部13は、基体12内を仕切り壁12ａで区切って形成された処理空間に夫々設けられている。
【００２１】
スラリ噴射部５は、図２，３，４に図示したように基体12内に形成された処理空間Ｓ１に配される第一処理部５Ａと該第一処理部５Ａの下流側位置に並設される第二処理部５Ｂとで構成され、第一処理部５Ａは、ワーク１の裏面１ｂの側に設けられる第一ノズル15と、ワーク１の表面１ａを支持する第一面材16とで構成され、第二処理部５Ｂは、ワーク１の表面１ａの側に設けられる第二ノズル17と、ワーク１の裏面１ｂを支持する第二面材18とで構成されている。尚、図２に図示したようにスラリ処理部５においてワーク１はワーク搬送機構により搬送される。
【００２２】
第一ノズル15及び第二ノズル17は、夫々図２，３，４に図示したようにスラリ噴出装置19，20から突設され、夫々搬送されるワーク１の巾とほぼ同じ巾のノズル開口部15ａ，17ａを有し、このノズル開口部15ａ，17ａからスラリ４を噴出する所謂巾広ガンタイプに構成されている。尚、この第一ノズル15及び第二ノズル17からは後述するスラリ循環部21から供給されるスラリ４が噴射される。この本実施例に係るスラリ４は、液体２としての水と砥粒３としてのアルミナとを混合してなるものである。
【００２３】
従って、第一ノズル15及び第二ノズル17夫々を巾広ガンタイプとすることでワーク１に対する均一なスラリ４の噴出が行われ処理ムラが生じることを防止することができる。
【００２４】
また、本実施例では、第一ノズル15及び第二ノズル17のみが基体12内に形成された処理空間Ｓ１に配され、この処理空間Ｓ１は図示省略の排気装置が接続されて常時負圧状態とされている。
【００２５】
この構成は、処理空間Ｓ１を小さくすることで装置自体を可及的にコンパクトにすることができ、しかも、処理空間Ｓ１は小さく内部にスラリ６（砥粒３）が残存しにくく装置内のスラリ濃度が安定することに貢献する。
【００２６】
第一面材16及び第二面材18は、夫々図２に図示したように２本の回転体25，26間に懸環される帯状体であり、この第一面材16及び第二面材18によりスラリ４が噴出されて処理されるワーク１の処理面と反対の面を面当接して支持するように構成されている。
【００２７】
従って、第一ノズル15及び第二ノズル17から噴出されるスラリ４の勢いからワーク１は安定的に支持されることになり、波打つことがなく均一な処理（処理ムラの生じない処理）が行われる。後述するように単にローラーを並設しただけの場合には、該ローラー間位置においてワーク１が入り込み波打つことになってムラが生じることが懸念されるが、この点、帯状体である第一面材16及び第二面材18が面当接して支持する構成の為、ワーク１の波立ちが防止されて均一な処理が行われることになる。
【００２８】
また、第一面材16と第二面材18とは、図２に図示したように側面方向から見て一部が重なり支持状態、即ち、第一面材16の先端側寄りと第二面材18の後端側寄りにおいてワーク１の所定位置の表裏面を同時に支持するように構成されている。この点においてもワーク１の波打ちを防止する安定的な支持状態が得られることになる。
【００２９】
また、本実施例は、第一ノズル15及び第二ノズル17ノズルと、スラリ噴射装置19，20を、微細な砥粒３（２０μｍ以下の砥粒）を混合したスラリ４でも均一に噴射し得る構造としている。
【００３０】
即ち、第一ノズル15及び第二ノズル17ノズルは、図５に図示したようにスラリ通過孔部15ｂ，17ｂはノズル開口部15ａ，17ａの厚さ（図５中Ｗ）の１０倍以上（本実施例では３０倍）の長さ（図５中Ｌ）の直線部を有するように構成されている。
【００３１】
この構成から、微細な砥粒３を採用した場合に不安定になり易い（周囲に広がり易い）スラリ４の安定的な直進性（まとまった状態）が得られることになる（直線部の長さが短いと、スラリ６内の砥粒３が加速されず必要とされる加工力が得られない。）。
【００３２】
スラリ噴射装置19，20は、互いに同構造であり、図５に図示したように第一ノズル15及び第二ノズル17夫々の基端部が連設され、スラリ４と圧縮空気を混合して噴射スラリを作出する噴射スラリ作出部22（ミキシングチャンバー）に接続されるものであって、後述するスラリ循環部21から搬送されるスラリ４を供給するスラリ供給部23と、別回路で設けられる圧縮空気搬送部27から搬送される圧縮空気を供給する圧縮空気供給部24とで構成されている。
【００３３】
スラリ供給部23は、図５，６に図示したように噴射スラリ作出部22に開口するスラリ供給孔23ａを複数並設して構成されており、このスラリ供給孔23ａの径を３ｍｍ以下（本実施例では１．２ｍｍ）、スラリ供給孔23ａのピッチを１０ｍｍ以下（本実施例では４ｍｍ）に設定している。
【００３４】
２０μｍ以下の砥粒３を採用したスラリ４の場合、スラリ４を噴射スラリ作出部22に入れる前に絞って抵抗を付けることでスラリ４の均一性を保つことができ、スラリ供給孔23ａを３ｍｍよりも大きくするとスラリ４の均一な制御が達成されなくなり、また、スラリ供給孔23ａのピッチを１０ｍｍよりも広げると処理ムラが発生する。
【００３５】
圧縮空気供給部24は、図５，７に図示したように噴射スラリ作出部22に開口する圧縮空気供給孔24ａを複数並設して構成されており、圧縮空気供給孔24ａの径を２．５ｍｍ以下（本実施例では２ｍｍ）、圧縮空気供給孔24ａのピッチを１０ｍｍ以下（本実施例では４ｍｍ）にして前記スラリ供給孔23ａのピッチと同一となるように設定している（図８参照）。圧縮空気供給孔24ａを５ｍｍよりも大きくするとスラリ４の均一な制御が達成されなくなってしまう。前述したスラリ４と同様、圧縮空気を噴射スラリ作出部22に入れる前に絞って抵抗を付けている。
【００３６】
また、本実施例では、スラリ供給孔23ａの総面積は圧縮空気供給孔24ａの総面積に対し２．５〜５倍の範囲となるように設定されている。
【００３７】
また、本実施例では圧縮空気の導入圧は０．１ＭＰａ〜０．２５ＭＰａ、スラリ４の導入圧は前記エアー圧と同一若しくは−０．０８ＭＰａ程度である。この圧縮空気とスラリ４との導入圧に差を設けるのは、圧縮空気供給部24内へのスラリ４の逆流を防ぐ為であり、圧縮空気の導入圧はスラリ４の導入圧より若干高めに設定される。
【００３８】
本発明者等は、前述したような第一ノズル15及び第二ノズル17ノズルと、スラリ供給部23と、圧縮空気供給部24との設定により微細な砥粒３（２０μｍ以下の砥粒）が採用されたスラリ４を均一に噴射させることができることを確認している。
【００３９】
ワーク洗浄部６は、図１に図示したように基体12内に形成された処理空間Ｓ１の下流側に位置する処理空間Ｓ２に配される第一洗浄部６Ａと、処理空間Ｓ２の下流側に位置する処理空間Ｓ３に配される第二洗浄部６Ｂと、処理空間Ｓ３の下流側に位置する処理空間Ｓ４に配される第三洗浄部６Ｃと、処理空間Ｓ４の下流側に位置する処理空間Ｓ５に配される第四洗浄部６Ｄとで構成され、この各処理空間内に洗浄液（洗浄水）を噴出する洗浄ノズル６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを配設して構成されている。
【００４０】
第一洗浄部６Ａは、後述する濃度低減処理部７から供給される洗浄液を利用して洗浄が行なわれ、第二洗浄部６Ｂ及び第三洗浄部６Ｃは別途設けられる洗浄液循環部28の洗浄液を用いて洗浄が行なわれ、第四洗浄部６Ｄは水道水を利用して洗浄が行なわれる。
【００４１】
従って、このワーク洗浄部６によりスラリ噴射部５でワーク１に噴出されたスラリ４を落とす四段階洗浄処理が行われる。
【００４２】
仕上げ乾燥部13は、図１，２に図示したように基体12内に形成された処理空間Ｓ６にヒーター29を配設して構成されている。
【００４３】
従って、この仕上げ乾燥部13によりワーク洗浄部６での処理によってワーク１に付着している不要な水分を完全に取り除くことができることになる。
【００４４】
スラリ循環部21は、図９に図示したようにスラリ４を貯留するスラリ貯留部30を設け、このスラリ貯留部30から循環ポンプ装置31を介してスラリ噴射部５にスラリ４を搬送する第一スラリ搬送部32Ａを設け、スラリ噴射部５で噴射されたスラリ４及び第一洗浄部６Ａで使用されたスラリ４を回収して再びスラリ貯留部30へと第二スラリ搬送部32Ｂを設けた構造である。符号37はポンプ装置38により内部が負圧となり第二スラリ搬送部32Ｂからスラリ４を引き込むスラリ引き込み部である。
【００４５】
循環ポンプ装置31は、図10に図示したように駆動モータ31ａとインペラー31ｂと吸い込み口31ｃを上下位置に並設した所謂縦型ポンプが採用されており、これは微細な砥粒３を採用した場合、停止した循環ポンプ装置31を再指導する際に生じる問題を解消することになる。
【００４６】
即ち、循環ポンプ装置31の停止時にはスラリ４中の砥粒３が沈殿してスラリ貯留部30の底に沈殿して凝固した状態（パック状態）となってしまい、この沈殿した砥粒３は、砥粒３が微細になればなるほど硬いものとなってしまうが（砥粒３が大きければ大きいほど砥粒３同志の間に水分が入り込んで固まりにくいが、砥粒３が微細になればなるほど硬いものとなってしまう。）、この沈殿した砥粒３にインペラー31ｂが埋もれる構造の場合、再始動する際には沈殿した砥粒３が凝固しているとインペラー31ｂが回動しない場合がある。
【００４７】
そこで、本実施例では、循環ポンプ装置31として吸い込み口31ｃに対してインペラー31ｂが上方に位置する縦型ポンプを採用することで、沈殿した砥粒３にインペラー31ｂが埋もれてしまうことが防止し、再始動の際には常にインペラー31ｂは良好に回動するように構成している。
【００４８】
また、スラリ貯留部30には、該スラリ貯留部30の底部に沈殿した砥粒３を拡散する沈殿砥粒拡散部33が設けられている。
【００４９】
この沈殿砥粒拡散部33は、図９，10に図示したように第一スラリ搬送部32Ａの途中位置にして循環ポンプ装置31が設けられる位置よりも下流側位置から分岐してスラリ４の一部をスラリ貯留部30へ戻すスラリ戻し部33ａを設けて構成されており、このスラリ戻し部33ａの先端部に設けられるノズル33ｂはスラリ貯留部30内に配され、このノズル33ｂからスラリ貯留部30の底部へ向けてスラリ４を噴射するように構成されている。従って、スラリ４を噴射することでスラリ貯留部30の底部に沈殿した砥粒３を拡散することができる。
【００５０】
また、本実施例は、スラリ４の濃度を低減することで前記ワーク洗浄部６に供給する洗浄液を作出する濃度低減処理部７が設けられている。
【００５１】
この濃度低減処理部７は、図９に図示したように処理容体８Ａ，８Ｂを２つ並設して構成されている。第一処理容体８ａは第一スラリ循環部32Ａから分岐した分岐部34に接続されている。また、第二処理容体８ｂは第一処理容体８ａから導出された低濃度のスラリ４が導入されるスラリ貯留部35に接続される。
【００５２】
この２つの第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂは、図11に図示したように同構造であり、ウレタン樹脂を筒状に成形し、下端程径小となるように構成されている。符号36は前記ポンプ装置31と同構造のポンプ装置である。
【００５３】
また、第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂは、その上端部にはスラリ導入部８ａが設けられており、このスラリ導入部８ａから導入されたスラリ４は渦巻き流を発生しながら下方へ導かれるように構成されており（図13参照）、液体２と砥粒３とは遠心分離されて低濃度スラリ４と高濃度スラリ４が作出される。
【００５４】
この低濃度スラリ４（比重の軽いスラリ４）は、第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの上端部に設けられた第一スラリ導出部８ｂから導出され、高濃度スラリ４（比重の重いスラリ４）は第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの下端部に設けられた第二スラリ導出部８ｃから導出される。
【００５５】
また、スラリ導入部８ａは、第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂ内にして上面に該第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの下流側へ傾斜状となるスラリ誘導面10が形成されている。
【００５６】
このスラリ誘導面10は、スラリ４の渦巻き流の発生を円滑に行うものであり、渦巻き流の発生を円滑に行なうことでスラリ４を構成する液体２と砥粒３が良好に分離されることになる。
【００５７】
前述したように本実施例は２つの第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂを並設しており、第一処理容体８Ａで処理され導出された低濃度スラリ４を第二処理容体８Ｂで処理するように構成されている。
【００５８】
具体的には、第一処理容体８Ａで処理された低濃度スラリ４は第二処理容体８Ｂへ送られ、高濃度スラリ４はスラリ貯留部30へ戻される。本実施例では、第一処理容体８Ａにおいて、およそ２０％濃度のスラリ４からおよそ５％濃度の低濃度スラリ４が得られた。
【００５９】
第二処理容体８Ｂでは、第一処理容体８Ａから供給されたスラリ４の分離処理が行なわれ、該第二処理容体８Ｂで処理された低濃度スラリ４はワーク洗浄部６に係る第一洗浄部６Ａへ供給され、高濃度スラリ４はスラリ貯留部30へ戻される。本実施例では、第二処理容体８Ｂにおいておよそ５％濃度のスラリ４から０．５％濃度の低濃度スラリ４が得られた。
【００６０】
従って、２つの第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂを複数並設して構成することで、良好な低濃度処理が行なえることになる。
【００６１】
本実施例は上述のように構成したから、スラリ噴射部５にて液体２と砥粒３との混合物であるスラリ４が噴射されてワーク１のウエットブラスト処理が行なわれ、このスラリ噴射部５でウエットブラスト処理されたワーク１はワーク洗浄部６にて洗浄処理が行なわれる。
【００６２】
このワーク洗浄部６には濃度低減処理部７でスラリ４から作出された洗浄液が供給されており、このスラリ４から作出された洗浄液でワーク１を洗浄する。濃度低減処理部７では、スラリ４を渦巻き流を発生させながら第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂ内を通過させることで液体２と砥粒３とを遠心分離して該処理容体８から低濃度スラリ４と高濃度スラリ４が排出されており、この低濃度スラリ４がワーク洗浄部６に供給されて洗浄液として使用される。
【００６３】
本実施例は、第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂのスラリ導入部９には該第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの下流側へ傾斜状となるスラリ誘導面10が形成されており、スラリ導入部９からスラリ４を導入した際、このスラリ誘導面10によりスラリ４は第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの下流側へ誘導されることで円滑に渦巻き流が生じることになり、微細な砥粒（約２０μｍ以下の砥粒３）が良好に分離される。
【００６４】
よって、本実施例によれば、前述した従来例と異なり、微細な砥粒３でも使用することができることになる。
【００６５】
また、本実施例は、処理容体８を複数設けて第一処理容体８Ａで処理され導出された低濃度スラリ４を第二処理容体８Ｂで処理する構成としたから、スラリ４を構成する液体２と砥粒３との良好な分離が行なえることになる。
【００６６】
また、本実施例は、第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの内壁面をウレタン樹脂製としたから、砥粒３の磨耗が可及的に抑制されることになる。
【００６７】
また、本実施例は、スラリ噴射部５は、スラリ供給部23から供給されるスラリ４と、圧縮空気供給部24から供給される圧縮空気とを噴射スラリ作出部22で混合してノズル15，17から噴射させる構成であり、前記スラリ供給部23は噴射スラリ作出部22に開口するスラリ供給孔23ａを複数並設した構成であり、前記圧縮空気供給部24は圧縮空気供給孔24ａを複数並設した構成であり、このスラリ供給孔23ａのピッチと圧縮空気供給孔24ａのピッチを同一に設定したから、スラリ４と圧縮空気との良好な混合が達成されることになり、微細な砥粒３（約２０μｍ以下の砥粒）を使用したスラリ４を均一に噴射することができる。
【００６８】
また、本実施例は、スラリ供給孔23ａの径を１．５ｍｍ以下とするとともにスラリ供給孔23ａのピッチを３ｍｍ以下とし、圧縮空気供給孔24ａの径を２．５ｍｍ以下とするともに圧縮空気供給孔24ａのピッチを５ｍｍ以下としたから、より一層微細な砥粒３（約２０μｍ以下の砥粒）を使用したスラリ４を均一に噴射することができる。
【００６９】
また、本実施例は、ノズル15，17としてスリット状のノズル開口部15ａ，17ａを有する巾広ノズルが採用され、このノズル15，17のスラリ通過孔部15ｂ，17ｂはノズル開口部15ａ，17ａの厚さの１０倍以上の直線部を有する構成としたから、より一層微細な砥粒３（約２０μｍ以下の砥粒）を使用したスラリ４を均一に噴射することができる。
【００７０】
尚、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本実施例の説明図である。
【図２】本実施例に係る要部の説明図である。
【図３】本実施例に係る要部の説明図である。
【図４】本実施例に係る要部の説明図である。
【図５】本実施例に係る要部の説明断面図である。
【図６】本実施例に係る要部の説明図である。
【図７】本実施例に係る要部の説明図である。
【図８】本実施例に係る要部の説明図である。
【図９】本実施例の概略説明図である。
【図１０】本実施例に係る要部の説明図である。
【図１１】本実施例に係る要部の説明断面図である。
【図１２】本実施例に係る要部の説明図である。
【図１３】本実施例に係る要部の概略動作説明図である。
【符号の説明】
【００７２】
１ ワーク
２ 液体
３ 砥粒
４ スラリ
５ スラリ噴射部
15 ノズル
15ａ ノズル開口部
15ｂ スラリ通過孔部
17 ノズル
17ａ ノズル開口部
17ｂ スラリ通過孔部
22 噴射スラリ作出部
23 スラリ供給部
23ａ スラリ供給孔
24 圧縮空気供給部
24ａ 圧縮空気供給孔
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエットブラスト処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ワーク１に液体２と砥粒３との混合物であるスラリ４を噴射して該ワーク１の表面処理を行なうウエットブラスト処理装置（以下、従来例）が提案されている。尚、本実施例と同一構成部分には同一符号を付した。
【０００３】
この従来例は、ワーク１に液体２と砥粒３との混合物であるスラリ４を圧縮空気とともに噴射するスラリ噴射部５を有する構造である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、スラリ４を構成する砥粒３が微細になればなるほど、1)ワーク１への衝撃が少なく緻密な処理が行なうことができる、2)スラリ噴射部５のノズルが詰まりにくい、3)装置全体をコンパクトにできる、などの理由からより微細な砥粒３を用いたウエットブラスト処理が望まれているが、従来例は、未だスラリ噴射部５において約２０μｍよりも小さな砥粒３を良好に噴射させることができず、よって、約２０μｍよりも小さな砥粒３を使用したウエットブラスト処理は行なえないのが現状である。
【０００５】
本発明者等は、上述した問題点に鑑み、種々の実験・研究を重ねた結果、従来にない作用効果を発揮する画期的なウエットブラスト処理装置を開発した。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【０００７】
ワーク１に液体２と砥粒３との混合物であるスラリ４を圧縮空気とともに噴射するスラリ噴射部５を有するウエットブラスト処理装置であって、前記スラリ噴射部５は、スラリ供給部23から供給されるスラリ４と、圧縮空気供給部24から供給される圧縮空気とを噴射スラリ作出部22で混合しノズル15，17から噴射させる構成であり、前記スラリ供給部23は噴射スラリ作出部22に開口するスラリ供給孔23ａを複数並設した構成であり、前記圧縮空気供給部24は圧縮空気供給孔24ａを複数並設した構成であり、このスラリ供給孔23ａのピッチと圧縮空気供給孔24ａのピッチとは同一に設定されていることを特徴とするウエットブラスト処理装置に係るものである。
【０００８】
また、請求項１記載のウエットブラスト処理装置において、スラリ供給孔23ａの径を３ｍｍ以下とするとともにスラリ供給孔23ａのピッチを１０ｍｍ以下とし、圧縮空気供給孔24ａの径を５ｍｍ以下とするともに圧縮空気供給孔24ａのピッチを１０ｍｍ以下としたことを特徴とするウエットブラスト処理装置に係るものである。
【０００９】
また、請求項１，２いずれか１項に記載のウエットブラスト処理装置において、前記ノズル15，17としてスリット状のノズル開口部15ａ，17ａを有する巾広ノズルが採用され、このノズル15，17のスラリ通過孔部15ｂ，17ｂはノズル開口部15ａ，17ａの厚さの１０倍以上の長さの直線部を有することを特徴とするウエットブラスト処理装置に係るものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は上述のように構成したから、前述した従来例で不可能とされてきた微細な砥粒を使用してのウエットブラスト処理が行なえることになるなど従来にない作用効果を発揮する画期的なウエットブラスト装置となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
好適と考える本発明の実施形態を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。
【００１２】
スラリ噴射部５にて液体２と砥粒３との混合物であるスラリ４を圧縮空気とともに噴射してワーク１のウエットブラスト処理が行なわれる。
【００１３】
ところで、本発明は、スラリ噴射部５は、スラリ供給部23から供給されるスラリ４と、圧縮空気供給部24から供給される圧縮空気とを噴射スラリ作出部22で混合しノズル15，17から噴射させる構成であり、前記スラリ供給部23は噴射スラリ作出部22に開口するスラリ供給孔23ａを複数並設した構成であり、前記圧縮空気供給部24は圧縮空気供給孔24ａを複数並設した構成であり、このスラリ供給孔23ａのピッチと圧縮空気供給孔24ａのピッチとは同一に設定されており、このスラリ供給孔23ａから供給されるスラリ４と圧縮空気供給孔24ａから供給される圧縮空気とを噴射スラリ作出部22で混合したものをノズル15，17から噴射させることになる。
【００１４】
その理由については不明であるが、前述した構成からスラリ４と圧縮空気との良好な混合が達成されることになり、約２０μｍ以下の微細な砥粒３を使用したスラリ４を均一に噴射できることが確認された。
【実施例】
【００１５】
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
【００１６】
本実施例は、ワーク１にウエットブラスト処理をするものである。
【００１７】
具体的には、ボックス状の基体12にワーク搬送機構とワーク処理機構とを設けて構成されている。
【００１８】
ワーク搬送機構は、図１に図示したように基体12の前後位置のワーク導入部12Ａ及びワーク導出部12Ｂと、基体12の内部（後述するフィルム処理機構を構成するスラリ噴射部５、ワーク洗浄部６、仕上げ乾燥部13）夫々に、複数の回動ローラー14を配置して構成されている。
【００１９】
この回動ローラー14には、所定間隔を介して対向位置に配されワーク１を挟持状態で搬送する挟持ローラー14ａと、搬送されるワーク１の下方に配され該ワーク１の下面を支持する支持ローラー14ｂとがある。
【００２０】
ワーク処理機構は、スラリ噴射部５と、ワーク洗浄部６と、仕上げ乾燥部13とで構成され、このスラリ噴射部５と、ワーク洗浄部６と、仕上げ乾燥部13は、基体12内を仕切り壁12ａで区切って形成された処理空間に夫々設けられている。
【００２１】
スラリ噴射部５は、図２，３，４に図示したように基体12内に形成された処理空間Ｓ１に配される第一処理部５Ａと該第一処理部５Ａの下流側位置に並設される第二処理部５Ｂとで構成され、第一処理部５Ａは、ワーク１の裏面１ｂの側に設けられる第一ノズル15と、ワーク１の表面１ａを支持する第一面材16とで構成され、第二処理部５Ｂは、ワーク１の表面１ａの側に設けられる第二ノズル17と、ワーク１の裏面１ｂを支持する第二面材18とで構成されている。尚、図２に図示したようにスラリ処理部５においてワーク１はワーク搬送機構により搬送される。
【００２２】
第一ノズル15及び第二ノズル17は、夫々図２，３，４に図示したようにスラリ噴出装置19，20から突設され、夫々搬送されるワーク１の巾とほぼ同じ巾のノズル開口部15ａ，17ａを有し、このノズル開口部15ａ，17ａからスラリ４を噴出する所謂巾広ガンタイプに構成されている。尚、この第一ノズル15及び第二ノズル17からは後述するスラリ循環部21から供給されるスラリ４が噴射される。この本実施例に係るスラリ４は、液体２としての水と砥粒３としてのアルミナとを混合してなるものである。
【００２３】
従って、第一ノズル15及び第二ノズル17夫々を巾広ガンタイプとすることでワーク１に対する均一なスラリ４の噴出が行われ処理ムラが生じることを防止することができる。
【００２４】
また、本実施例では、第一ノズル15及び第二ノズル17のみが基体12内に形成された処理空間Ｓ１に配され、この処理空間Ｓ１は図示省略の排気装置が接続されて常時負圧状態とされている。
【００２５】
この構成は、処理空間Ｓ１を小さくすることで装置自体を可及的にコンパクトにすることができ、しかも、処理空間Ｓ１は小さく内部にスラリ６（砥粒３）が残存しにくく装置内のスラリ濃度が安定することに貢献する。
【００２６】
第一面材16及び第二面材18は、夫々図２に図示したように２本の回転体25，26間に懸環される帯状体であり、この第一面材16及び第二面材18によりスラリ４が噴出されて処理されるワーク１の処理面と反対の面を面当接して支持するように構成されている。
【００２７】
従って、第一ノズル15及び第二ノズル17から噴出されるスラリ４の勢いからワーク１は安定的に支持されることになり、波打つことがなく均一な処理（処理ムラの生じない処理）が行われる。後述するように単にローラーを並設しただけの場合には、該ローラー間位置においてワーク１が入り込み波打つことになってムラが生じることが懸念されるが、この点、帯状体である第一面材16及び第二面材18が面当接して支持する構成の為、ワーク１の波立ちが防止されて均一な処理が行われることになる。
【００２８】
また、第一面材16と第二面材18とは、図２に図示したように側面方向から見て一部が重なり支持状態、即ち、第一面材16の先端側寄りと第二面材18の後端側寄りにおいてワーク１の所定位置の表裏面を同時に支持するように構成されている。この点においてもワーク１の波打ちを防止する安定的な支持状態が得られることになる。
【００２９】
また、本実施例は、第一ノズル15及び第二ノズル17ノズルと、スラリ噴射装置19，20を、微細な砥粒３（２０μｍ以下の砥粒）を混合したスラリ４でも均一に噴射し得る構造としている。
【００３０】
即ち、第一ノズル15及び第二ノズル17ノズルは、図５に図示したようにスラリ通過孔部15ｂ，17ｂはノズル開口部15ａ，17ａの厚さ（図５中Ｗ）の１０倍以上（本実施例では３０倍）の長さ（図５中Ｌ）の直線部を有するように構成されている。
【００３１】
この構成から、微細な砥粒３を採用した場合に不安定になり易い（周囲に広がり易い）スラリ４の安定的な直進性（まとまった状態）が得られることになる（直線部の長さが短いと、スラリ６内の砥粒３が加速されず必要とされる加工力が得られない。）。
【００３２】
スラリ噴射装置19，20は、互いに同構造であり、図５に図示したように第一ノズル15及び第二ノズル17夫々の基端部が連設され、スラリ４と圧縮空気を混合して噴射スラリを作出する噴射スラリ作出部22（ミキシングチャンバー）に接続されるものであって、後述するスラリ循環部21から搬送されるスラリ４を供給するスラリ供給部23と、別回路で設けられる圧縮空気搬送部27から搬送される圧縮空気を供給する圧縮空気供給部24とで構成されている。
【００３３】
スラリ供給部23は、図５，６に図示したように噴射スラリ作出部22に開口するスラリ供給孔23ａを複数並設して構成されており、このスラリ供給孔23ａの径を３ｍｍ以下（本実施例では１．２ｍｍ）、スラリ供給孔23ａのピッチを１０ｍｍ以下（本実施例では４ｍｍ）に設定している。
【００３４】
２０μｍ以下の砥粒３を採用したスラリ４の場合、スラリ４を噴射スラリ作出部22に入れる前に絞って抵抗を付けることでスラリ４の均一性を保つことができ、スラリ供給孔23ａを３ｍｍよりも大きくするとスラリ４の均一な制御が達成されなくなり、また、スラリ供給孔23ａのピッチを１０ｍｍよりも広げると処理ムラが発生する。
【００３５】
圧縮空気供給部24は、図５，７に図示したように噴射スラリ作出部22に開口する圧縮空気供給孔24ａを複数並設して構成されており、圧縮空気供給孔24ａの径を２．５ｍｍ以下（本実施例では２ｍｍ）、圧縮空気供給孔24ａのピッチを１０ｍｍ以下（本実施例では４ｍｍ）にして前記スラリ供給孔23ａのピッチと同一となるように設定している（図８参照）。圧縮空気供給孔24ａを５ｍｍよりも大きくするとスラリ４の均一な制御が達成されなくなってしまう。前述したスラリ４と同様、圧縮空気を噴射スラリ作出部22に入れる前に絞って抵抗を付けている。
【００３６】
また、本実施例では、スラリ供給孔23ａの総面積は圧縮空気供給孔24ａの総面積に対し２．５〜５倍の範囲となるように設定されている。
【００３７】
また、本実施例では圧縮空気の導入圧は０．１ＭＰａ〜０．２５ＭＰａ、スラリ４の導入圧は前記エアー圧と同一若しくは−０．０８ＭＰａ程度である。この圧縮空気とスラリ４との導入圧に差を設けるのは、圧縮空気供給部24内へのスラリ４の逆流を防ぐ為であり、圧縮空気の導入圧はスラリ４の導入圧より若干高めに設定される。
【００３８】
本発明者等は、前述したような第一ノズル15及び第二ノズル17ノズルと、スラリ供給部23と、圧縮空気供給部24との設定により微細な砥粒３（２０μｍ以下の砥粒）が採用されたスラリ４を均一に噴射させることができることを確認している。
【００３９】
ワーク洗浄部６は、図１に図示したように基体12内に形成された処理空間Ｓ１の下流側に位置する処理空間Ｓ２に配される第一洗浄部６Ａと、処理空間Ｓ２の下流側に位置する処理空間Ｓ３に配される第二洗浄部６Ｂと、処理空間Ｓ３の下流側に位置する処理空間Ｓ４に配される第三洗浄部６Ｃと、処理空間Ｓ４の下流側に位置する処理空間Ｓ５に配される第四洗浄部６Ｄとで構成され、この各処理空間内に洗浄液（洗浄水）を噴出する洗浄ノズル６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを配設して構成されている。
【００４０】
第一洗浄部６Ａは、後述する濃度低減処理部７から供給される洗浄液を利用して洗浄が行なわれ、第二洗浄部６Ｂ及び第三洗浄部６Ｃは別途設けられる洗浄液循環部28の洗浄液を用いて洗浄が行なわれ、第四洗浄部６Ｄは水道水を利用して洗浄が行なわれる。
【００４１】
従って、このワーク洗浄部６によりスラリ噴射部５でワーク１に噴出されたスラリ４を落とす四段階洗浄処理が行われる。
【００４２】
仕上げ乾燥部13は、図１，２に図示したように基体12内に形成された処理空間Ｓ６にヒーター29を配設して構成されている。
【００４３】
従って、この仕上げ乾燥部13によりワーク洗浄部６での処理によってワーク１に付着している不要な水分を完全に取り除くことができることになる。
【００４４】
スラリ循環部21は、図９に図示したようにスラリ４を貯留するスラリ貯留部30を設け、このスラリ貯留部30から循環ポンプ装置31を介してスラリ噴射部５にスラリ４を搬送する第一スラリ搬送部32Ａを設け、スラリ噴射部５で噴射されたスラリ４及び第一洗浄部６Ａで使用されたスラリ４を回収して再びスラリ貯留部30へと第二スラリ搬送部32Ｂを設けた構造である。符号37はポンプ装置38により内部が負圧となり第二スラリ搬送部32Ｂからスラリ４を引き込むスラリ引き込み部である。
【００４５】
循環ポンプ装置31は、図10に図示したように駆動モータ31ａとインペラー31ｂと吸い込み口31ｃを上下位置に並設した所謂縦型ポンプが採用されており、これは微細な砥粒３を採用した場合、停止した循環ポンプ装置31を再指導する際に生じる問題を解消することになる。
【００４６】
即ち、循環ポンプ装置31の停止時にはスラリ４中の砥粒３が沈殿してスラリ貯留部30の底に沈殿して凝固した状態（パック状態）となってしまい、この沈殿した砥粒３は、砥粒３が微細になればなるほど硬いものとなってしまうが（砥粒３が大きければ大きいほど砥粒３同志の間に水分が入り込んで固まりにくいが、砥粒３が微細になればなるほど硬いものとなってしまう。）、この沈殿した砥粒３にインペラー31ｂが埋もれる構造の場合、再始動する際には沈殿した砥粒３が凝固しているとインペラー31ｂが回動しない場合がある。
【００４７】
そこで、本実施例では、循環ポンプ装置31として吸い込み口31ｃに対してインペラー31ｂが上方に位置する縦型ポンプを採用することで、沈殿した砥粒３にインペラー31ｂが埋もれてしまうことが防止し、再始動の際には常にインペラー31ｂは良好に回動するように構成している。
【００４８】
また、スラリ貯留部30には、該スラリ貯留部30の底部に沈殿した砥粒３を拡散する沈殿砥粒拡散部33が設けられている。
【００４９】
この沈殿砥粒拡散部33は、図９，10に図示したように第一スラリ搬送部32Ａの途中位置にして循環ポンプ装置31が設けられる位置よりも下流側位置から分岐してスラリ４の一部をスラリ貯留部30へ戻すスラリ戻し部33ａを設けて構成されており、このスラリ戻し部33ａの先端部に設けられるノズル33ｂはスラリ貯留部30内に配され、このノズル33ｂからスラリ貯留部30の底部へ向けてスラリ４を噴射するように構成されている。従って、スラリ４を噴射することでスラリ貯留部30の底部に沈殿した砥粒３を拡散することができる。
【００５０】
また、本実施例は、スラリ４の濃度を低減することで前記ワーク洗浄部６に供給する洗浄液を作出する濃度低減処理部７が設けられている。
【００５１】
この濃度低減処理部７は、図９に図示したように処理容体８Ａ，８Ｂを２つ並設して構成されている。第一処理容体８ａは第一スラリ循環部32Ａから分岐した分岐部34に接続されている。また、第二処理容体８ｂは第一処理容体８ａから導出された低濃度のスラリ４が導入されるスラリ貯留部35に接続される。
【００５２】
この２つの第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂは、図11に図示したように同構造であり、ウレタン樹脂を筒状に成形し、下端程径小となるように構成されている。符号36は前記ポンプ装置31と同構造のポンプ装置である。
【００５３】
また、第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂは、その上端部にはスラリ導入部８ａが設けられており、このスラリ導入部８ａから導入されたスラリ４は渦巻き流を発生しながら下方へ導かれるように構成されており（図13参照）、液体２と砥粒３とは遠心分離されて低濃度スラリ４と高濃度スラリ４が作出される。
【００５４】
この低濃度スラリ４（比重の軽いスラリ４）は、第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの上端部に設けられた第一スラリ導出部８ｂから導出され、高濃度スラリ４（比重の重いスラリ４）は第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの下端部に設けられた第二スラリ導出部８ｃから導出される。
【００５５】
また、スラリ導入部８ａは、第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂ内にして上面に該第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの下流側へ傾斜状となるスラリ誘導面10が形成されている。
【００５６】
このスラリ誘導面10は、スラリ４の渦巻き流の発生を円滑に行うものであり、渦巻き流の発生を円滑に行なうことでスラリ４を構成する液体２と砥粒３が良好に分離されることになる。
【００５７】
前述したように本実施例は２つの第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂを並設しており、第一処理容体８Ａで処理され導出された低濃度スラリ４を第二処理容体８Ｂで処理するように構成されている。
【００５８】
具体的には、第一処理容体８Ａで処理された低濃度スラリ４は第二処理容体８Ｂへ送られ、高濃度スラリ４はスラリ貯留部30へ戻される。本実施例では、第一処理容体８Ａにおいて、およそ２０％濃度のスラリ４からおよそ５％濃度の低濃度スラリ４が得られた。
【００５９】
第二処理容体８Ｂでは、第一処理容体８Ａから供給されたスラリ４の分離処理が行なわれ、該第二処理容体８Ｂで処理された低濃度スラリ４はワーク洗浄部６に係る第一洗浄部６Ａへ供給され、高濃度スラリ４はスラリ貯留部30へ戻される。本実施例では、第二処理容体８Ｂにおいておよそ５％濃度のスラリ４から０．５％濃度の低濃度スラリ４が得られた。
【００６０】
従って、２つの第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂを複数並設して構成することで、良好な低濃度処理が行なえることになる。
【００６１】
本実施例は上述のように構成したから、スラリ噴射部５にて液体２と砥粒３との混合物であるスラリ４が噴射されてワーク１のウエットブラスト処理が行なわれ、このスラリ噴射部５でウエットブラスト処理されたワーク１はワーク洗浄部６にて洗浄処理が行なわれる。
【００６２】
このワーク洗浄部６には濃度低減処理部７でスラリ４から作出された洗浄液が供給されており、このスラリ４から作出された洗浄液でワーク１を洗浄する。濃度低減処理部７では、スラリ４を渦巻き流を発生させながら第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂ内を通過させることで液体２と砥粒３とを遠心分離して該処理容体８から低濃度スラリ４と高濃度スラリ４が排出されており、この低濃度スラリ４がワーク洗浄部６に供給されて洗浄液として使用される。
【００６３】
本実施例は、第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂのスラリ導入部９には該第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの下流側へ傾斜状となるスラリ誘導面10が形成されており、スラリ導入部９からスラリ４を導入した際、このスラリ誘導面10によりスラリ４は第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの下流側へ誘導されることで円滑に渦巻き流が生じることになり、微細な砥粒（約２０μｍ以下の砥粒３）が良好に分離される。
【００６４】
よって、本実施例によれば、前述した従来例と異なり、微細な砥粒３でも使用することができることになる。
【００６５】
また、本実施例は、処理容体８を複数設けて第一処理容体８Ａで処理され導出された低濃度スラリ４を第二処理容体８Ｂで処理する構成としたから、スラリ４を構成する液体２と砥粒３との良好な分離が行なえることになる。
【００６６】
また、本実施例は、第一処理容体８Ａ及び第二処理容体８Ｂの内壁面をウレタン樹脂製としたから、砥粒３の磨耗が可及的に抑制されることになる。
【００６７】
また、本実施例は、スラリ噴射部５は、スラリ供給部23から供給されるスラリ４と、圧縮空気供給部24から供給される圧縮空気とを噴射スラリ作出部22で混合してノズル15，17から噴射させる構成であり、前記スラリ供給部23は噴射スラリ作出部22に開口するスラリ供給孔23ａを複数並設した構成であり、前記圧縮空気供給部24は圧縮空気供給孔24ａを複数並設した構成であり、このスラリ供給孔23ａのピッチと圧縮空気供給孔24ａのピッチを同一に設定したから、スラリ４と圧縮空気との良好な混合が達成されることになり、微細な砥粒３（約２０μｍ以下の砥粒）を使用したスラリ４を均一に噴射することができる。
【００６８】
また、本実施例は、スラリ供給孔23ａの径を１．５ｍｍ以下とするとともにスラリ供給孔23ａのピッチを３ｍｍ以下とし、圧縮空気供給孔24ａの径を２．５ｍｍ以下とするともに圧縮空気供給孔24ａのピッチを５ｍｍ以下としたから、より一層微細な砥粒３（約２０μｍ以下の砥粒）を使用したスラリ４を均一に噴射することができる。
【００６９】
また、本実施例は、ノズル15，17としてスリット状のノズル開口部15ａ，17ａを有する巾広ノズルが採用され、このノズル15，17のスラリ通過孔部15ｂ，17ｂはノズル開口部15ａ，17ａの厚さの１０倍以上の直線部を有する構成としたから、より一層微細な砥粒３（約２０μｍ以下の砥粒）を使用したスラリ４を均一に噴射することができる。
【００７０】
尚、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本実施例の説明図である。
【図２】本実施例に係る要部の説明図である。
【図３】本実施例に係る要部の説明図である。
【図４】本実施例に係る要部の説明図である。
【図５】本実施例に係る要部の説明断面図である。
【図６】本実施例に係る要部の説明図である。
【図７】本実施例に係る要部の説明図である。
【図８】本実施例に係る要部の説明図である。
【図９】本実施例の概略説明図である。
【図１０】本実施例に係る要部の説明図である。
【図１１】本実施例に係る要部の説明断面図である。
【図１２】本実施例に係る要部の説明図である。
【図１３】本実施例に係る要部の概略動作説明図である。
【符号の説明】
【００７２】
１ ワーク
２ 液体
３ 砥粒
４ スラリ
５ スラリ噴射部
15 ノズル
15ａ ノズル開口部
15ｂ スラリ通過孔部
17 ノズル
17ａ ノズル開口部
17ｂ スラリ通過孔部
22 噴射スラリ作出部
23 スラリ供給部
23ａ スラリ供給孔
24 圧縮空気供給部
24ａ 圧縮空気供給孔
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに液体と砥粒との混合物であるスラリを圧縮空気とともに噴射するスラリ噴射部を有するウエットブラスト処理装置であって、前記スラリ噴射部は、スラリ供給部から供給されるスラリと、圧縮空気供給部から供給される圧縮空気とを噴射スラリ作出部で混合しノズルから噴射させる構成であり、前記スラリ供給部は噴射スラリ作出部に開口するスラリ供給孔を複数並設した構成であり、前記圧縮空気供給部は圧縮空気供給孔を複数並設した構成であり、このスラリ供給孔のピッチと圧縮空気供給孔のピッチとは同一に設定されていることを特徴とするウエットブラスト処理装置。
【請求項２】
請求項１記載のウエットブラスト処理装置において、スラリ供給孔の径を３ｍｍ以下とするとともにスラリ供給孔のピッチを１０ｍｍ以下とし、圧縮空気供給孔の径を５ｍｍ以下とするともに圧縮空気供給孔のピッチを１０ｍｍ以下としたことを特徴とするウエットブラスト処理装置。
【請求項３】
請求項１，２いずれか１項に記載のウエットブラスト処理装置において、前記ノズルとしてスリット状のノズル開口部を有する巾広ノズルが採用され、このノズルのスラリ通過孔部はノズル開口部の厚さの１０倍以上の長さの直線部を有することを特徴とするウエットブラスト処理装置。
【請求項１】
ワークに液体と砥粒との混合物であるスラリを圧縮空気とともに噴射するスラリ噴射部を有するウエットブラスト処理装置であって、前記スラリ噴射部は、スラリ供給部から供給されるスラリと、圧縮空気供給部から供給される圧縮空気とを噴射スラリ作出部で混合しノズルから噴射させる構成であり、前記スラリ供給部は噴射スラリ作出部に開口するスラリ供給孔を複数並設した構成であり、前記圧縮空気供給部は圧縮空気供給孔を複数並設した構成であり、このスラリ供給孔のピッチと圧縮空気供給孔のピッチとは同一に設定されていることを特徴とするウエットブラスト処理装置。
【請求項２】
請求項１記載のウエットブラスト処理装置において、スラリ供給孔の径を３ｍｍ以下とするとともにスラリ供給孔のピッチを１０ｍｍ以下とし、圧縮空気供給孔の径を５ｍｍ以下とするともに圧縮空気供給孔のピッチを１０ｍｍ以下としたことを特徴とするウエットブラスト処理装置。
【請求項３】
請求項１，２いずれか１項に記載のウエットブラスト処理装置において、前記ノズルとしてスリット状のノズル開口部を有する巾広ノズルが採用され、このノズルのスラリ通過孔部はノズル開口部の厚さの１０倍以上の長さの直線部を有することを特徴とするウエットブラスト処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【公開番号】特開２００７−１５２４４１（Ｐ２００７−１５２４４１Ａ）
【公開日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３４７２３８（Ｐ２００５−３４７２３８）
【出願日】平成１７年１１月３０日（２００５．１１．３０）
【出願人】（５９１２０５７３２）マコー株式会社 (12)
【公開日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１１月３０日（２００５．１１．３０）
【出願人】（５９１２０５７３２）マコー株式会社 (12)
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