エンアミド誘導体の新規合成方法
【課題】エンアミド誘導体の新規合成方法の提供
【解決手段】エンアミド誘導体：
（式中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール、アリール、複素環、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、カルボキシル、カルバモイル、−ＣＯＮＲ５Ｒ６若しくは−ＣＯＯＲ５基である；
又は、Ｒ１及びＲ２は一緒に環を形成してもよい；
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基である；
Ｘは酸素原子若しくは脱離基であり、
ｍは１又は２の整数；
ｍが１の場合、Ｘは脱離基；ｍが２の場合、Ｘは酸素原子）
：の製造方法であって、
不均一系触媒の存在下でのアシル誘導体（Ｒ４ＣＯ）ｍＸによるオキシム誘導体：
：の水素化／異性化反応を含む方法。
【解決手段】エンアミド誘導体：
（式中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール、アリール、複素環、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、カルボキシル、カルバモイル、−ＣＯＮＲ５Ｒ６若しくは−ＣＯＯＲ５基である；
又は、Ｒ１及びＲ２は一緒に環を形成してもよい；
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基である；
Ｘは酸素原子若しくは脱離基であり、
ｍは１又は２の整数；
ｍが１の場合、Ｘは脱離基；ｍが２の場合、Ｘは酸素原子）
：の製造方法であって、
不均一系触媒の存在下でのアシル誘導体（Ｒ４ＣＯ）ｍＸによるオキシム誘導体：
：の水素化／異性化反応を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不斉の水素化反応に有益であるために、有効薬剤の重要中間体として知られる鏡像異性的に純粋なアミン誘導体の合成に有益な基質として有用なエンアミド誘導体の新規大量調製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば特許文献１等の従来技術にエンアミド前駆体の調製方法がいくつか記載されているが、これらの方法があまり一般的でなく大量製造には適さないことは明らかである。
【０００３】
非特許文献１及び２に、無水酢酸／酢酸又は無水酢酸単独の存在下における金属鉄によるオキシム誘導体の還元を含むエンアミド化合物の合成方法が記載されている。
【０００４】
特許文献２には、無水カルボン酸の存在下におけるルテニウム触媒によるオキシム誘導体の還元を含むエンアミド化合物の合成方法が記載されている。
【０００５】
しかし、これらの方法は、これらの条件下における生成物の分解、生成物の分離を促進する共溶媒の使用、エンアミドが不純で困難な精製を要すること、収率が低いか中程度であること等、いくらか制限がある。
【０００６】
従来技術の方法は、エンアミド誘導体の大量製造には好適でなく、従って、不斉の水素化によるキラル体のアミンの商業生産には適用不可能である。
【特許文献１】国際特許ＷＯ９９／１８０６５号
【特許文献２】アメリカ合衆国特許ＵＳ４１９４０５０号
【非特許文献１】Ｍ．Ｂｕｒｋら、ＪＯＣ，１９９８，６３，ｐ６０８４
【非特許文献２】Ｘ．Ｚｈａｎｇら、ＪＯＣ，１９９９，６４（６），ｐ１７７５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の方法は、エンアミドを高収率で取得可能であり、生成物の分離が非常に容易であり、生成物の化学純度が良好であり、かつ、再現性があるという点で有利である。
【０００８】
本発明の方法は、不斉か又はそうでない水素化反応によるアミン誘導体の大量工業生産に好適であることが明白である。不斉か又はそうでない上記アミン誘導体は、有効医薬調製物の中間体として使用される。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、スキーム（Ｉ）で示す不均一系触媒の存在下における式（ＩＩＩ）のアシル誘導体による式（ＩＩ）の化合物の水素化異性化反応を含むことを特徴とする、式（Ｉ）の化合物の新規調製方法に関する。
【００１０】
【化１】
【００１１】
式中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール、アリール、複素環、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、カルボキシル、カルバモイル、−ＣＯＮＲ５Ｒ６（Ｒ５及びＲ６は独立してアルキル、アリールアルキル、アリール基、又は、Ｒ５及びＲ６は一緒になって環を形成してもよい）、若しくは、−ＣＯＯＲ５基（式中、Ｒ５はアルキル、シクロアルキル、アルキルアリール又はアリール基）であり、上記アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール及びアリール基は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
又は、Ｒ１及びＲ２は一緒になって環（この用語はモノ−、ジ−及びそれ以上の多環構造を含む）を形成してもよく、上記環は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、上記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＦで置換されている若しくは置換されていない；
Ｘは酸素原子若しくは脱離基であり、かつ、
ｍは１又は２の整数である；
ｍが１である場合、Ｘは脱離基である；ｍが２である場合、Ｘは酸素原子である。
【００１２】
本明細書中において、要求がない場合には以下である：
【００１３】
好ましくは、用語「アルキル基」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子１〜２０個を有する直鎖又は分岐のアルキル基を意味する。
【００１４】
好ましくは、用語「シクロアルキル」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基（これらに限定されないが）等の炭素原子３〜２０個を有するシクロアルキル基を意味する。
【００１５】
好ましくは、用語「シクロアルキルアルキル」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたシクロプロピルメチル、シクロヘキシルメチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子３〜２０個を有するシクロアルキルアルキル基を意味する。
【００１６】
好ましくは、用語「アリール」は、官能基若しくはアルキル若しくは縮合アリール基で任意に置換されたフェニル、トリル、キシリル、クメニル、ナフチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有するアリール基を意味する、又は、「アリール」は、官能基若しくはＲ５若しくはアルキル若しくは縮合アリール基で任意に置換されたフリル、チエニル、ピロリル、イミダゾリル、ピリジル、ピラジル（ｐｙｒａｚｙｌ）、ピリミジニル、インドリル、カルバゾリル、イソキサゾリル（ｉｓｏｘａｚｏｌｙｌ）、イソチアゾリル（ｉｓｏｔｈｉａｚｏｌｙｌ）基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有し、一個以上のヘテロ原子Ｏ、Ｎ若しくはＳを含むヘテロアリール基を意味する。
【００１７】
好ましくは、用語「アルキルアリール」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたベンジル、フェネチル、ナフチルメチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有するアルキルアリール基を意味する。
【００１８】
好ましくは、用語「複素環」は、ピロリジニル、ピペラジニル、ピペリジル、イミダゾリジニル、ピペリジル、インドリニル（ｉｎｄｏｌｉｎｙｌ）基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有し、一個以上のヘテロ原子Ｏ、Ｎ又はＳを含む複素環を意味し、上記複素環は飽和又は不飽和であり、上記複素環は官能基又はＲ５又は縮合アリール基で任意に置換されている。
【００１９】
用語「官能基」は、ハロゲン原子、又は、−ＯＨ、−ＯＲ５、−ＣＮ、−ＣＯＯＲ５、−ＣＯＲ５、−ＣＯＮＲ５Ｒ６、−ＯＣＯＲ５、−ＮＨ２、−ＮＨＲ５、−ＮＲ５Ｒ６、−ＮＯ２、−ＳＨ、ＳＲ５を含み、Ｒ５及びＲ６が独立してアルキル、アルキルアリール若しくはアリール基であるか、又は、Ｒ５及びＲ６が一緒になって環を形成していてもよい基を意味する。
【００２０】
好ましくは、用語「脱離基」は、Ｒ５がアルキル、アルキルアリール又はアリール基である−ＣＯＲ５、−ＣＯ２Ｒ５、−ＳＯ２Ｒ５、−ＣＯＣＣｌ３、−ＳＯ２Ｆ、−ＳＯ２ＣＦ３、−ＳＯ２ＣＨ２ＣＦ３基の一つを意味する。
【００２１】
好ましくは、用語「環」は、下記式の化合物（これらに限定されないが）等の炭素原子４〜３０個を有する環構造を意味する：
【００２２】
【化２】
【００２３】
式中、−Ｒ１−Ｒ２−は、官能基又は縮合アリール基で任意に置換されたメチレン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン又はヘキサメチレン結合である。
【００２４】
また本発明は、下記式で表わす最も好ましい化合物にも関する：
【００２５】
【化３】
【００２６】
式中、ｎ１は０〜４の整数、ｍ１及びｍ２は各々０〜４の整数、Ｒ７及びＲ８は同一又は異なって水素原子、官能基、アルキル、アリール、シクロアルキル、アルキルアリール基である。
【００２７】
【化４】
【００２８】
式中、ｎ１及びｎ２は各々０〜４の整数、Ｑはアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル基であり、上記基は好ましくはα−又はβ−テトラロン−オキシム誘導体、α−又はβ−インダノン−オキシム誘導体等の少なくとも一つの官能基で置換されており又は置換されておらず、官能基で置換されている又は置換されていない。
【００２９】
【化５】
【００３０】
式中、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ８は上記に定義する通りであり、Ｒ９、Ｒ１０は独立して水素原子、官能基、アルキル、アリール、シクロアルキル、アルキルアリール基である。
【００３１】
【化６】
【００３２】
式中、ｎ１、ｎ２、Ｒ３及びＱは上記に定義する通りであり、Ｒ１１は水素原子、アルキル、アリール基である。
【００３３】
【化７】
【００３４】
式中、ｎ１、ｎ２、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＱは、上記に定義する通りである。
【００３５】
【化８】
【００３６】
式中、
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、上記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ又はＦで置換されている又は置換されていない；
Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０は同一又は異なって水素原子、官能基、アルキル、アリール基であるが同時に水素原子であることはなく、好ましくは、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０は水素原子であり、Ｒ９はメトキシ基であり、Ｒ４はメチル基である。
【００３７】
また本発明は、医薬品として重要なアミン又はアミド誘導体を与える不斉か又はそうでない水素化反応において最も好ましい化合物の使用に関する。
【００３８】
不均一系触媒はＰｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｎｉ触媒、好ましくはＩｒ又はＲｈ等の金属に基づく。
【００３９】
不均一系触媒は、酸化物又は金属の状態で使用され、好適な担体（例えばＩｒ／炭素、Ｉｒ／アルミナ、Ｒｈ／炭素又はＲｈ／アルミナ）上に支持されていてもよい。
【００４０】
本発明の実施方法を以下に説明する。
【００４１】
式（ＩＩ）の化合物は、シン型、アンチ型、又は、両方の混合型で使用可能である。
【００４２】
式（ＩＩＩ）の化合物は、オキシム１モル等量に対して少なくとも２モル等量使用すべきであり、溶媒と共に反応薬剤として大量に使用してもよい。
【００４３】
使用する触媒の量は、オキシム誘導体１モルに対して０．００１〜３０モル％である。
【００４４】
本発明の方法は好適な溶媒中で実施する。
好適な溶媒は、（テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル等であるが、これらに制限されない）エーテル、又は、（ベンゼン、トルエン等であるが、これらに限定されない）芳香族炭化水素、又は、無水カルボン酸、又は、ハロゲン化炭化水素、又は、低分子量カルボン酸、又は、これらの混合物等の非プロトン性非塩基性溶媒である。
【００４５】
本発明の方法は−２０〜１５０℃、好ましくは２０℃〜１２０℃の温度範囲で実施する。
【００４６】
本発明の水素化は、水素圧力０．５〜２０バールで実施する。
【００４７】
本発明の方法は、０．５〜２４時間の範囲で実施する。
【００４８】
本発明の方法は、式（Ｉ）の化合物の有機溶液のワークアップ段階、すなわち、有機又は無機塩を含有し、ハロゲン原子、好ましくは塩化物イオンを含有しない水で洗浄する段階を含む。
【００４９】
上記有機又は無機塩は、リン酸塩、硫酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、ギ酸塩、ホウ酸塩、炭酸塩、アンモニウム、好ましくはリン酸塩から選択可能である。
【００５０】
上記洗浄段階により、ｐＨが中性の溶液を取得可能である。分離した生成物はハロゲンイオンを含有しない。上記ハロゲンイオンは、後の不斉の水素化反応中に触媒作用を妨害する可能性があるため、この反応の収率に影響を及ぼす可能性がある。従って、この洗浄段階により、次の不斉の水素化反応にとって良質の出発原料の取得が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
本発明は、以下の実験の詳細からより深く理解可能であろう。
【００５２】
実施例：
本発明を次の例により説明するが、これらは本発明の範囲を何ら制限するものではない。
【実施例１】
【００５３】
β−テトラロンからのエンアミド
【００５４】
【化９】
【００５５】
実施例１ａ：Ｒｈ／Ｃを使用するβ−テトラロンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（４３．５ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム（７．２ｇ、０．０４４７モル）を導入する。その後、無水酢酸（１３．７ｇ、０．１３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２９ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（２１ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（３０．４ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００５６】
ＴＨＦを減圧下で蒸留し、トルエンで置換し、真空下で濃縮して、油状で褐色の残渣Ｎ−（３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド（６．１４ｇ、７４％）を得る。
【００５７】
実施例１ｂ：Ｉｒ／Ｃを使用するβ−テトラロンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（４３．５ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム（７．２ｇ、０．０４７モル）を導入する。その後、無水酢酸（１３．５ｇ、０．１３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２９ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで８〜１０時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００５８】
ＴＨＦを減圧下で蒸留し、トルエンで置換し、真空下で濃縮して、油状で褐色の残渣Ｎ−（３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド（５．５ｇ、６６％）を得る。
【００５９】
実施例１ｃ：Ｉｒ／Ｃを使用するβ−テトラロンからのエンアミド
３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム５．５ｇ（０．０３４１モル）をＴＨＦ４２ｍｌ中に溶解した。その後、無水酢酸９．６６ｍｌを滴下した。この反応混合物を温度２０〜３０℃で２時間撹拌する。この反応混合物に５％Ｉｒ−炭素触媒０．４４ｇを添加する。その後、水素化を水素圧６バールで７５℃において３時間実施する。触媒をろ過した後、ろ液を減圧下で濃縮して乾燥させた。残渣をトルエン１２０ｍｌ中に溶解し、減圧下で濃縮して乾燥させた。この新しい残渣をＭＴＢＥ １０ｍｌ及びヘキサン９ｍｌの混合物中で再結晶させて生成物３．８２ｇ（化合物Ｎ−（３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド）を得た。
【００６０】
粗収率：計量可能／分離収率：５９．９−％
化学純度（ＧＣ）：９８．９５％
【００６１】
構造分析
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．７−２．８（ｔ，１Ｈ），２．８５−２．９５（ｔ，１Ｈ），３−３．１（ｍ，２Ｈ），３．７５（ｓ，１Ｈ），４．０５（ｓ，１Ｈ），７．２５−７．５（ｍ，４Ｈ），９．５（ｍ，ＯＨ）．
【００６２】
酢酸オキシム（ｏｘｉｍｅ ａｃｅｔａｔｅ）：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．２（ｓ，３Ｈ），２．６５−２．９（ｍ，４Ｈ），３．６５（ｓ，１Ｈ），３．８５（ｓ，１Ｈ），７．１−７．２５（ｍ，４Ｈ）．
【００６３】
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．３（ｓ，３Ｈ），２．６−２．７５（ｔ，２Ｈ），３−３．１５（ｔ，２Ｈ），７．１５−７．３５（ｍ，５Ｈ），７．７５（ｍ，ＮＨ）．
【００６４】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６８，１３４，１３３，１３２．５，１２７，１２６，１２５．５，１２５，２７．５，２７，２４．
【実施例２】
【００６５】
６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
【００６６】
【化１０】
【００６７】
実施例２ａ：Ｉｒ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
１−インダノン−オキシム、メトキシ−６−を出発原料として使用する以外は実施例１ｂと同様にして反応を実施する。収率は８３．８％である。
【００６８】
化学純度は９８．４％である。
【００６９】
実施例２ｂ：Ｉｒ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び６−メトキシ−１−インダノン（４．５ｇ、０．０２５４モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．７８ｇ、０．０７６２モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２２５ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０〜７５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１〜２時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１５ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１３ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００７０】
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（６−メトキシ−３Ｈ−インデン−１−イル）アセトアミドの褐色の結晶を得る（３．３４ｇ、７０％）。
【００７１】
実施例２ｃ：Ｒｈ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び６−メトキシ−１−インダノンオキシム（４．５ｇ、０．０２５４モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．７８ｇ、０．０７６２モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２２５ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０〜３５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで７〜８時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１５ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１３ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００７２】
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（６−メトキシ−３Ｈ−インデン−１−イル）アセトアミドの灰白色の結晶を得る（３．８２ｇ、８０％）。
【００７３】
実施例２ｄ：Ｒｈ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
２５０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）及び１−インダノン−オキシム、メトキシ−６−（１０ｇ、０．０５６モル）を導入する。その後、無水酢酸（１７．３ｇ、０．１７０モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌して５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４０ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加し、テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）で洗浄する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（２９ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２．２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、３０％ＮａＯＨでｐＨ６に調整したリン酸二水素ナトリウムバッファー（３７．８ｗ／ｗ）で有機層を洗浄する。
【００７４】
ＴＨＦを減圧下で蒸留し、トルエンで置換して真空下で濃縮し、油状で褐色の残渣Ｎ−（６−メトキシ−３Ｈ−インデン−１−イル）アセトアミドを得る（６．６ｇ、５７．５％）。
【００７５】
構造分析
オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ ２７０ＭＨｚ ＪＥＯＬ（ＤＭＳＯ）：２．７−２．９５（ｍ，４Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），６．９（ｍ，１Ｈ），７（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｄ，１Ｈ），１０．８（ｓ，ＯＨ）．
【００７６】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ １６５，１６２，１５０，１４７，１３７，１２７，１１２，６７，３４，３２．
【００７７】
酢酸オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．１５（ｓ，３Ｈ），２．９５（ｍ，４Ｈ），３．７（ｓ，３Ｈ），６．８５−６．９５（ｍ，１Ｈ），７，１−７．１５（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｍ，１Ｈ）．
【００７８】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１７１，１６８，１５８，１４３，１３５，１２６，１２２，１０５，５６，２９，２８，１９．
【００７９】
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：３（ｓ，３Ｈ），３．６（ｓ，３Ｈ），４．１（ｄ，２Ｈ），７．５−７．６（ｄｄ，１Ｈ），７．６５（ｍ，２Ｈ），８．０５−８．１５ （ｄ，１Ｈ），８．４５（ｓ，１Ｈ）．
【００８０】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６９，１５８，１４０，１３６，１３４，１２３，１１７，１１０，１０３，５５，３５，２３．
【実施例３】
【００８１】
α−テトラロンからのエンアミド
【００８２】
【化１１】
【００８３】
実施例３ａ：Ｒｈ／Ｃを使用するα−テトラロンからのエンアミド
１８０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オンオキシム（１０ｇ、０．０６２モル）を導入する。その後、無水酢酸（１９ｇ、０．１８６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５〜２０時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００８４】
ＴＨＦを減圧下で蒸留させ、トルエンで置き換える；懸濁液を５℃で１時間撹拌した後で沈殿をろ過により除去し、冷トルエン１０ｍｌで２回洗浄する。
【００８５】
結晶を真空下で５０℃において乾燥させ、Ｎ（３，４−ジヒドロ−１−ナフタレニル）アセトアミドを得る（９．７４ｇ、８４％）。
【００８６】
実施例３ｂ：Ｉｒ／Ｃを使用するα−テトラロンからのエンアミド
１８０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オンオキシム（１０ｇ、０．０６２モル）を導入する。その後、無水酢酸（１９ｇ、０．１８６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで４〜５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００８７】
ＴＨＦを減圧下で蒸留させ、トルエンで置き換える；懸濁液を５℃で１時間撹拌した後で沈殿をろ過により除去し、冷トルエン１０ｍｌで２回洗浄する。
【００８８】
結晶を真空下で５０℃において乾燥させ、Ｎ（３，４−ジヒドロ−１−ナフタレニル）アセトアミドを得る（９．１８ｇ、７９％）。
【００８９】
構造分析
オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ ２７０ＭＨｚ ＪＥＯＬ（ＤＭＳＯ）：１．６５−１．８（ｍ，２Ｈ），２．６−２．８（ｍ，４Ｈ），７．１−７．３（ｍ，３Ｈ），７．８−７．９５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），１１．１（ｓ，ＯＨ）．
【００９０】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ １５２．５，１３７，１３２，１２９，１２８，１２６，１２３，２９，２３，２１．
【００９１】
酢酸オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．７５−３．８５（ｍ，２Ｈ），３．２（ｓ，３Ｈ），３．６５−３．７５（ｍ，２Ｈ），３．７５−３．８５（ｍ，２Ｈ），８．０５−８．３（ｍ，３Ｈ），９．０５−９．１（ｄ，１Ｈ）．
【００９２】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６９，１６２，１４１，１３１，１２８，１２７．５，１２７，１２６，２９，２６，２２，２０．
【００９３】
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．１（ｓ，３Ｈ），２．２５−２．４５（ｍ，２Ｈ），２．６５−２．８５（ｍ，２Ｈ），６．３（ｔ，１Ｈ），７．０５−７．３５（ｍ，４Ｈ）．
【００９４】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６９，１３７，１３２，１２７．５，１２７，１２６，１２１，１２０，２８，２４，２２．５．
【実施例４】
【００９５】
２−フェニルシクロヘキサノンからのエンアミド
【００９６】
【化１２】
【００９７】
実施例４ａ：Ｉｒ／Ｃを使用する２−フェニルシクロヘキサノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−フェニルシクロヘキサノン（４ｇ、０．０２１１モル）を導入する。その後、無水酢酸（６．４７ｇ、０．０６３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１６ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで２．５〜３時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１２ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１０．８ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００９８】
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（２−フェニル−シクロヘキサ−１−エニル）アセトアミドの油状の白色の残渣を得る（３．５ｇ、７７％）。
【００９９】
実施例４ｂ：Ｒｈ／Ｃを使用する２−フェニルシクロヘキサノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−フェニルシクロヘキサノン（４ｇ、０．０２１１モル）を導入する。その後、無水酢酸（６．４７ｇ、０．０６３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１６ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を２５〜３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで５〜６時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１２ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１０．８ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【０１００】
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（２−フェニル−シクロヘキサ−１−エニル）アセトアミドの白色の結晶を得る（３．８６ｇ、８５％）。
【０１０１】
構造分析
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：１．４−１．６５（ｍ，２Ｈ），１．７−１．８（ｍ，２Ｈ），１．９−２．２（ｍ，３Ｈ），２．８−２．９５（ｍ，１Ｈ），４．１−４．５（ｍ，１Ｈ），７．１−７．４（ｍ，５Ｈ）．
【０１０２】
酢酸オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１．５５−１．７５（ｍ，４Ｈ），１．８５−２．１（ｍ，１Ｈ），２．１５（ｓ，３Ｈ），２．１７−２．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．７５−２．８７（ｍ，１Ｈ），３．８５−３．９１（ｔ，１Ｈ），７．１５−７．４（ｍ，５Ｈ）．
【０１０３】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１９５，１７０，１６９，１３８，１２８，１２７．５，１２６，４６，３１，２７，２５，２２．５，２０．
【０１０４】
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１．６５−１．８（ｍ，４Ｈ），２．３（ｓ， ２Ｈ），２．６（ｓ，２Ｈ），６．５５（ｓ，ＮＨ），７．１−７．４（ｍ，５Ｈ）．
【０１０５】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６７，１４１，１３１，１２８，１２７．５，１２６．５，１２６，３１，２７．５，２４，２２．５．
【実施例５】
【０１０６】
２−メトキシ−７−テトラロンからのエンアミド
【０１０７】
【化１３】
【０１０８】
Ｒｈ／Ｃを使用する２−メトキシ−７−テトラロンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−メトキシ−７−テトラロン（４．５ｇ、０．０２３５モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．２１ｇ、０．０７０６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１８ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０〜３５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで４〜５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１４ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１２ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【０１０９】
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（７−メトキシ−３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミドの灰色の結晶を得る（４．２１ｇ、８２．５％）。
【０１１０】
構造分析
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．７−２．８（ｔ，１Ｈ），２．８５−２．９５（ｔ，１Ｈ），３．４５（ｓ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），６．６５（ｍ，２Ｈ），７．１（ｍ，１Ｈ），１０．０５（ｓ，ＯＨ）
【０１１１】
酢酸オキシム：非分離
【０１１２】
エンアミド：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．１（ｓ，３Ｈ），２．３５−２．４５（ｔ，２Ｈ），２．７−２．８５（ｔ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），６．６（ｍ，２Ｈ），６．９５（ｍ，１Ｈ），７．１（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｍ，ＮＨ）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不斉の水素化反応に有益であるために、有効薬剤の重要中間体として知られる鏡像異性的に純粋なアミン誘導体の合成に有益な基質として有用なエンアミド誘導体の新規大量調製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば特許文献１等の従来技術にエンアミド前駆体の調製方法がいくつか記載されているが、これらの方法があまり一般的でなく大量製造には適さないことは明らかである。
【０００３】
非特許文献１及び２に、無水酢酸／酢酸又は無水酢酸単独の存在下における金属鉄によるオキシム誘導体の還元を含むエンアミド化合物の合成方法が記載されている。
【０００４】
特許文献２には、無水カルボン酸の存在下におけるルテニウム触媒によるオキシム誘導体の還元を含むエンアミド化合物の合成方法が記載されている。
【０００５】
しかし、これらの方法は、これらの条件下における生成物の分解、生成物の分離を促進する共溶媒の使用、エンアミドが不純で困難な精製を要すること、収率が低いか中程度であること等、いくらか制限がある。
【０００６】
従来技術の方法は、エンアミド誘導体の大量製造には好適でなく、従って、不斉の水素化によるキラル体のアミンの商業生産には適用不可能である。
【特許文献１】国際特許ＷＯ９９／１８０６５号
【特許文献２】アメリカ合衆国特許ＵＳ４１９４０５０号
【非特許文献１】Ｍ．Ｂｕｒｋら、ＪＯＣ，１９９８，６３，ｐ６０８４
【非特許文献２】Ｘ．Ｚｈａｎｇら、ＪＯＣ，１９９９，６４（６），ｐ１７７５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の方法は、エンアミドを高収率で取得可能であり、生成物の分離が非常に容易であり、生成物の化学純度が良好であり、かつ、再現性があるという点で有利である。
【０００８】
本発明の方法は、不斉か又はそうでない水素化反応によるアミン誘導体の大量工業生産に好適であることが明白である。不斉か又はそうでない上記アミン誘導体は、有効医薬調製物の中間体として使用される。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、スキーム（Ｉ）で示す不均一系触媒の存在下における式（ＩＩＩ）のアシル誘導体による式（ＩＩ）の化合物の水素化異性化反応を含むことを特徴とする、式（Ｉ）の化合物の新規調製方法に関する。
【００１０】
【化１】
【００１１】
式中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール、アリール、複素環、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、カルボキシル、カルバモイル、−ＣＯＮＲ５Ｒ６（Ｒ５及びＲ６は独立してアルキル、アリールアルキル、アリール基、又は、Ｒ５及びＲ６は一緒になって環を形成してもよい）、若しくは、−ＣＯＯＲ５基（式中、Ｒ５はアルキル、シクロアルキル、アルキルアリール又はアリール基）であり、上記アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール及びアリール基は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
又は、Ｒ１及びＲ２は一緒になって環（この用語はモノ−、ジ−及びそれ以上の多環構造を含む）を形成してもよく、上記環は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、上記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＦで置換されている若しくは置換されていない；
Ｘは酸素原子若しくは脱離基であり、かつ、
ｍは１又は２の整数である；
ｍが１である場合、Ｘは脱離基である；ｍが２である場合、Ｘは酸素原子である。
【００１２】
本明細書中において、要求がない場合には以下である：
【００１３】
好ましくは、用語「アルキル基」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子１〜２０個を有する直鎖又は分岐のアルキル基を意味する。
【００１４】
好ましくは、用語「シクロアルキル」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基（これらに限定されないが）等の炭素原子３〜２０個を有するシクロアルキル基を意味する。
【００１５】
好ましくは、用語「シクロアルキルアルキル」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたシクロプロピルメチル、シクロヘキシルメチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子３〜２０個を有するシクロアルキルアルキル基を意味する。
【００１６】
好ましくは、用語「アリール」は、官能基若しくはアルキル若しくは縮合アリール基で任意に置換されたフェニル、トリル、キシリル、クメニル、ナフチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有するアリール基を意味する、又は、「アリール」は、官能基若しくはＲ５若しくはアルキル若しくは縮合アリール基で任意に置換されたフリル、チエニル、ピロリル、イミダゾリル、ピリジル、ピラジル（ｐｙｒａｚｙｌ）、ピリミジニル、インドリル、カルバゾリル、イソキサゾリル（ｉｓｏｘａｚｏｌｙｌ）、イソチアゾリル（ｉｓｏｔｈｉａｚｏｌｙｌ）基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有し、一個以上のヘテロ原子Ｏ、Ｎ若しくはＳを含むヘテロアリール基を意味する。
【００１７】
好ましくは、用語「アルキルアリール」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたベンジル、フェネチル、ナフチルメチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有するアルキルアリール基を意味する。
【００１８】
好ましくは、用語「複素環」は、ピロリジニル、ピペラジニル、ピペリジル、イミダゾリジニル、ピペリジル、インドリニル（ｉｎｄｏｌｉｎｙｌ）基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有し、一個以上のヘテロ原子Ｏ、Ｎ又はＳを含む複素環を意味し、上記複素環は飽和又は不飽和であり、上記複素環は官能基又はＲ５又は縮合アリール基で任意に置換されている。
【００１９】
用語「官能基」は、ハロゲン原子、又は、−ＯＨ、−ＯＲ５、−ＣＮ、−ＣＯＯＲ５、−ＣＯＲ５、−ＣＯＮＲ５Ｒ６、−ＯＣＯＲ５、−ＮＨ２、−ＮＨＲ５、−ＮＲ５Ｒ６、−ＮＯ２、−ＳＨ、ＳＲ５を含み、Ｒ５及びＲ６が独立してアルキル、アルキルアリール若しくはアリール基であるか、又は、Ｒ５及びＲ６が一緒になって環を形成していてもよい基を意味する。
【００２０】
好ましくは、用語「脱離基」は、Ｒ５がアルキル、アルキルアリール又はアリール基である−ＣＯＲ５、−ＣＯ２Ｒ５、−ＳＯ２Ｒ５、−ＣＯＣＣｌ３、−ＳＯ２Ｆ、−ＳＯ２ＣＦ３、−ＳＯ２ＣＨ２ＣＦ３基の一つを意味する。
【００２１】
好ましくは、用語「環」は、下記式の化合物（これらに限定されないが）等の炭素原子４〜３０個を有する環構造を意味する：
【００２２】
【化２】
【００２３】
式中、−Ｒ１−Ｒ２−は、官能基又は縮合アリール基で任意に置換されたメチレン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン又はヘキサメチレン結合である。
【００２４】
また本発明は、下記式で表わす最も好ましい化合物にも関する：
【００２５】
【化３】
【００２６】
式中、ｎ１は０〜４の整数、ｍ１及びｍ２は各々０〜４の整数、Ｒ７及びＲ８は同一又は異なって水素原子、官能基、アルキル、アリール、シクロアルキル、アルキルアリール基である。
【００２７】
【化４】
【００２８】
式中、ｎ１及びｎ２は各々０〜４の整数、Ｑはアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル基であり、上記基は好ましくはα−又はβ−テトラロン−オキシム誘導体、α−又はβ−インダノン−オキシム誘導体等の少なくとも一つの官能基で置換されており又は置換されておらず、官能基で置換されている又は置換されていない。
【００２９】
【化５】
【００３０】
式中、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ８は上記に定義する通りであり、Ｒ９、Ｒ１０は独立して水素原子、官能基、アルキル、アリール、シクロアルキル、アルキルアリール基である。
【００３１】
【化６】
【００３２】
式中、ｎ１、ｎ２、Ｒ３及びＱは上記に定義する通りであり、Ｒ１１は水素原子、アルキル、アリール基である。
【００３３】
【化７】
【００３４】
式中、ｎ１、ｎ２、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＱは、上記に定義する通りである。
【００３５】
【化８】
【００３６】
式中、
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、上記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ又はＦで置換されている又は置換されていない；
Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０は同一又は異なって水素原子、官能基、アルキル、アリール基であるが同時に水素原子であることはなく、好ましくは、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０は水素原子であり、Ｒ９はメトキシ基であり、Ｒ４はメチル基である。
【００３７】
また本発明は、医薬品として重要なアミン又はアミド誘導体を与える不斉か又はそうでない水素化反応において最も好ましい化合物の使用に関する。
【００３８】
不均一系触媒はＰｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｎｉ触媒、好ましくはＩｒ又はＲｈ等の金属に基づく。
【００３９】
不均一系触媒は、酸化物又は金属の状態で使用され、好適な担体（例えばＩｒ／炭素、Ｉｒ／アルミナ、Ｒｈ／炭素又はＲｈ／アルミナ）上に支持されていてもよい。
【００４０】
本発明の実施方法を以下に説明する。
【００４１】
式（ＩＩ）の化合物は、シン型、アンチ型、又は、両方の混合型で使用可能である。
【００４２】
式（ＩＩＩ）の化合物は、オキシム１モル等量に対して少なくとも２モル等量使用すべきであり、溶媒と共に反応薬剤として大量に使用してもよい。
【００４３】
使用する触媒の量は、オキシム誘導体１モルに対して０．００１〜３０モル％である。
【００４４】
本発明の方法は好適な溶媒中で実施する。
好適な溶媒は、（テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル等であるが、これらに制限されない）エーテル、又は、（ベンゼン、トルエン等であるが、これらに限定されない）芳香族炭化水素、又は、無水カルボン酸、又は、ハロゲン化炭化水素、又は、低分子量カルボン酸、又は、これらの混合物等の非プロトン性非塩基性溶媒である。
【００４５】
本発明の方法は−２０〜１５０℃、好ましくは２０℃〜１２０℃の温度範囲で実施する。
【００４６】
本発明の水素化は、水素圧力０．５〜２０バールで実施する。
【００４７】
本発明の方法は、０．５〜２４時間の範囲で実施する。
【００４８】
本発明の方法は、式（Ｉ）の化合物の有機溶液のワークアップ段階、すなわち、有機又は無機塩を含有し、ハロゲン原子、好ましくは塩化物イオンを含有しない水で洗浄する段階を含む。
【００４９】
上記有機又は無機塩は、リン酸塩、硫酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、ギ酸塩、ホウ酸塩、炭酸塩、アンモニウム、好ましくはリン酸塩から選択可能である。
【００５０】
上記洗浄段階により、ｐＨが中性の溶液を取得可能である。分離した生成物はハロゲンイオンを含有しない。上記ハロゲンイオンは、後の不斉の水素化反応中に触媒作用を妨害する可能性があるため、この反応の収率に影響を及ぼす可能性がある。従って、この洗浄段階により、次の不斉の水素化反応にとって良質の出発原料の取得が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
本発明は、以下の実験の詳細からより深く理解可能であろう。
【００５２】
実施例：
本発明を次の例により説明するが、これらは本発明の範囲を何ら制限するものではない。
【実施例１】
【００５３】
β−テトラロンからのエンアミド
【００５４】
【化９】
【００５５】
実施例１ａ：Ｒｈ／Ｃを使用するβ−テトラロンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（４３．５ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム（７．２ｇ、０．０４４７モル）を導入する。その後、無水酢酸（１３．７ｇ、０．１３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２９ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（２１ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（３０．４ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００５６】
ＴＨＦを減圧下で蒸留し、トルエンで置換し、真空下で濃縮して、油状で褐色の残渣Ｎ−（３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド（６．１４ｇ、７４％）を得る。
【００５７】
実施例１ｂ：Ｉｒ／Ｃを使用するβ−テトラロンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（４３．５ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム（７．２ｇ、０．０４７モル）を導入する。その後、無水酢酸（１３．５ｇ、０．１３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２９ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで８〜１０時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００５８】
ＴＨＦを減圧下で蒸留し、トルエンで置換し、真空下で濃縮して、油状で褐色の残渣Ｎ−（３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド（５．５ｇ、６６％）を得る。
【００５９】
実施例１ｃ：Ｉｒ／Ｃを使用するβ−テトラロンからのエンアミド
３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム５．５ｇ（０．０３４１モル）をＴＨＦ４２ｍｌ中に溶解した。その後、無水酢酸９．６６ｍｌを滴下した。この反応混合物を温度２０〜３０℃で２時間撹拌する。この反応混合物に５％Ｉｒ−炭素触媒０．４４ｇを添加する。その後、水素化を水素圧６バールで７５℃において３時間実施する。触媒をろ過した後、ろ液を減圧下で濃縮して乾燥させた。残渣をトルエン１２０ｍｌ中に溶解し、減圧下で濃縮して乾燥させた。この新しい残渣をＭＴＢＥ １０ｍｌ及びヘキサン９ｍｌの混合物中で再結晶させて生成物３．８２ｇ（化合物Ｎ−（３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド）を得た。
【００６０】
粗収率：計量可能／分離収率：５９．９−％
化学純度（ＧＣ）：９８．９５％
【００６１】
構造分析
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．７−２．８（ｔ，１Ｈ），２．８５−２．９５（ｔ，１Ｈ），３−３．１（ｍ，２Ｈ），３．７５（ｓ，１Ｈ），４．０５（ｓ，１Ｈ），７．２５−７．５（ｍ，４Ｈ），９．５（ｍ，ＯＨ）．
【００６２】
酢酸オキシム（ｏｘｉｍｅ ａｃｅｔａｔｅ）：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．２（ｓ，３Ｈ），２．６５−２．９（ｍ，４Ｈ），３．６５（ｓ，１Ｈ），３．８５（ｓ，１Ｈ），７．１−７．２５（ｍ，４Ｈ）．
【００６３】
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．３（ｓ，３Ｈ），２．６−２．７５（ｔ，２Ｈ），３−３．１５（ｔ，２Ｈ），７．１５−７．３５（ｍ，５Ｈ），７．７５（ｍ，ＮＨ）．
【００６４】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６８，１３４，１３３，１３２．５，１２７，１２６，１２５．５，１２５，２７．５，２７，２４．
【実施例２】
【００６５】
６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
【００６６】
【化１０】
【００６７】
実施例２ａ：Ｉｒ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
１−インダノン−オキシム、メトキシ−６−を出発原料として使用する以外は実施例１ｂと同様にして反応を実施する。収率は８３．８％である。
【００６８】
化学純度は９８．４％である。
【００６９】
実施例２ｂ：Ｉｒ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び６−メトキシ−１−インダノン（４．５ｇ、０．０２５４モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．７８ｇ、０．０７６２モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２２５ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０〜７５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１〜２時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１５ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１３ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００７０】
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（６−メトキシ−３Ｈ−インデン−１−イル）アセトアミドの褐色の結晶を得る（３．３４ｇ、７０％）。
【００７１】
実施例２ｃ：Ｒｈ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び６−メトキシ−１−インダノンオキシム（４．５ｇ、０．０２５４モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．７８ｇ、０．０７６２モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２２５ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０〜３５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで７〜８時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１５ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１３ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００７２】
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（６−メトキシ−３Ｈ−インデン−１−イル）アセトアミドの灰白色の結晶を得る（３．８２ｇ、８０％）。
【００７３】
実施例２ｄ：Ｒｈ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
２５０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）及び１−インダノン−オキシム、メトキシ−６−（１０ｇ、０．０５６モル）を導入する。その後、無水酢酸（１７．３ｇ、０．１７０モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌して５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４０ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加し、テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）で洗浄する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（２９ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２．２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、３０％ＮａＯＨでｐＨ６に調整したリン酸二水素ナトリウムバッファー（３７．８ｗ／ｗ）で有機層を洗浄する。
【００７４】
ＴＨＦを減圧下で蒸留し、トルエンで置換して真空下で濃縮し、油状で褐色の残渣Ｎ−（６−メトキシ−３Ｈ−インデン−１−イル）アセトアミドを得る（６．６ｇ、５７．５％）。
【００７５】
構造分析
オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ ２７０ＭＨｚ ＪＥＯＬ（ＤＭＳＯ）：２．７−２．９５（ｍ，４Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），６．９（ｍ，１Ｈ），７（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｄ，１Ｈ），１０．８（ｓ，ＯＨ）．
【００７６】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ １６５，１６２，１５０，１４７，１３７，１２７，１１２，６７，３４，３２．
【００７７】
酢酸オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．１５（ｓ，３Ｈ），２．９５（ｍ，４Ｈ），３．７（ｓ，３Ｈ），６．８５−６．９５（ｍ，１Ｈ），７，１−７．１５（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｍ，１Ｈ）．
【００７８】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１７１，１６８，１５８，１４３，１３５，１２６，１２２，１０５，５６，２９，２８，１９．
【００７９】
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：３（ｓ，３Ｈ），３．６（ｓ，３Ｈ），４．１（ｄ，２Ｈ），７．５−７．６（ｄｄ，１Ｈ），７．６５（ｍ，２Ｈ），８．０５−８．１５ （ｄ，１Ｈ），８．４５（ｓ，１Ｈ）．
【００８０】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６９，１５８，１４０，１３６，１３４，１２３，１１７，１１０，１０３，５５，３５，２３．
【実施例３】
【００８１】
α−テトラロンからのエンアミド
【００８２】
【化１１】
【００８３】
実施例３ａ：Ｒｈ／Ｃを使用するα−テトラロンからのエンアミド
１８０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オンオキシム（１０ｇ、０．０６２モル）を導入する。その後、無水酢酸（１９ｇ、０．１８６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５〜２０時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００８４】
ＴＨＦを減圧下で蒸留させ、トルエンで置き換える；懸濁液を５℃で１時間撹拌した後で沈殿をろ過により除去し、冷トルエン１０ｍｌで２回洗浄する。
【００８５】
結晶を真空下で５０℃において乾燥させ、Ｎ（３，４−ジヒドロ−１−ナフタレニル）アセトアミドを得る（９．７４ｇ、８４％）。
【００８６】
実施例３ｂ：Ｉｒ／Ｃを使用するα−テトラロンからのエンアミド
１８０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オンオキシム（１０ｇ、０．０６２モル）を導入する。その後、無水酢酸（１９ｇ、０．１８６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで４〜５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００８７】
ＴＨＦを減圧下で蒸留させ、トルエンで置き換える；懸濁液を５℃で１時間撹拌した後で沈殿をろ過により除去し、冷トルエン１０ｍｌで２回洗浄する。
【００８８】
結晶を真空下で５０℃において乾燥させ、Ｎ（３，４−ジヒドロ−１−ナフタレニル）アセトアミドを得る（９．１８ｇ、７９％）。
【００８９】
構造分析
オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ ２７０ＭＨｚ ＪＥＯＬ（ＤＭＳＯ）：１．６５−１．８（ｍ，２Ｈ），２．６−２．８（ｍ，４Ｈ），７．１−７．３（ｍ，３Ｈ），７．８−７．９５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），１１．１（ｓ，ＯＨ）．
【００９０】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ １５２．５，１３７，１３２，１２９，１２８，１２６，１２３，２９，２３，２１．
【００９１】
酢酸オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．７５−３．８５（ｍ，２Ｈ），３．２（ｓ，３Ｈ），３．６５−３．７５（ｍ，２Ｈ），３．７５−３．８５（ｍ，２Ｈ），８．０５−８．３（ｍ，３Ｈ），９．０５−９．１（ｄ，１Ｈ）．
【００９２】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６９，１６２，１４１，１３１，１２８，１２７．５，１２７，１２６，２９，２６，２２，２０．
【００９３】
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．１（ｓ，３Ｈ），２．２５−２．４５（ｍ，２Ｈ），２．６５−２．８５（ｍ，２Ｈ），６．３（ｔ，１Ｈ），７．０５−７．３５（ｍ，４Ｈ）．
【００９４】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６９，１３７，１３２，１２７．５，１２７，１２６，１２１，１２０，２８，２４，２２．５．
【実施例４】
【００９５】
２−フェニルシクロヘキサノンからのエンアミド
【００９６】
【化１２】
【００９７】
実施例４ａ：Ｉｒ／Ｃを使用する２−フェニルシクロヘキサノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−フェニルシクロヘキサノン（４ｇ、０．０２１１モル）を導入する。その後、無水酢酸（６．４７ｇ、０．０６３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１６ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで２．５〜３時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１２ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１０．８ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【００９８】
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（２−フェニル−シクロヘキサ−１−エニル）アセトアミドの油状の白色の残渣を得る（３．５ｇ、７７％）。
【００９９】
実施例４ｂ：Ｒｈ／Ｃを使用する２−フェニルシクロヘキサノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−フェニルシクロヘキサノン（４ｇ、０．０２１１モル）を導入する。その後、無水酢酸（６．４７ｇ、０．０６３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１６ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を２５〜３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで５〜６時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１２ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１０．８ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【０１００】
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（２−フェニル−シクロヘキサ−１−エニル）アセトアミドの白色の結晶を得る（３．８６ｇ、８５％）。
【０１０１】
構造分析
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：１．４−１．６５（ｍ，２Ｈ），１．７−１．８（ｍ，２Ｈ），１．９−２．２（ｍ，３Ｈ），２．８−２．９５（ｍ，１Ｈ），４．１−４．５（ｍ，１Ｈ），７．１−７．４（ｍ，５Ｈ）．
【０１０２】
酢酸オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１．５５−１．７５（ｍ，４Ｈ），１．８５−２．１（ｍ，１Ｈ），２．１５（ｓ，３Ｈ），２．１７−２．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．７５−２．８７（ｍ，１Ｈ），３．８５−３．９１（ｔ，１Ｈ），７．１５−７．４（ｍ，５Ｈ）．
【０１０３】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１９５，１７０，１６９，１３８，１２８，１２７．５，１２６，４６，３１，２７，２５，２２．５，２０．
【０１０４】
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１．６５−１．８（ｍ，４Ｈ），２．３（ｓ， ２Ｈ），２．６（ｓ，２Ｈ），６．５５（ｓ，ＮＨ），７．１−７．４（ｍ，５Ｈ）．
【０１０５】
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６７，１４１，１３１，１２８，１２７．５，１２６．５，１２６，３１，２７．５，２４，２２．５．
【実施例５】
【０１０６】
２−メトキシ−７−テトラロンからのエンアミド
【０１０７】
【化１３】
【０１０８】
Ｒｈ／Ｃを使用する２−メトキシ−７−テトラロンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−メトキシ−７−テトラロン（４．５ｇ、０．０２３５モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．２１ｇ、０．０７０６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１８ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０〜３５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで４〜５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１４ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１２ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
【０１０９】
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（７−メトキシ−３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミドの灰色の結晶を得る（４．２１ｇ、８２．５％）。
【０１１０】
構造分析
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．７−２．８（ｔ，１Ｈ），２．８５−２．９５（ｔ，１Ｈ），３．４５（ｓ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），６．６５（ｍ，２Ｈ），７．１（ｍ，１Ｈ），１０．０５（ｓ，ＯＨ）
【０１１１】
酢酸オキシム：非分離
【０１１２】
エンアミド：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．１（ｓ，３Ｈ），２．３５−２．４５（ｔ，２Ｈ），２．７−２．８５（ｔ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），６．６（ｍ，２Ｈ），６．９５（ｍ，１Ｈ），７．１（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｍ，ＮＨ）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）で表されるエンアミド誘導体：
【化１】
（式中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール、アリール、複素環、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、カルボキシル、カルバモイル、−ＣＯＮＲ５Ｒ６（式中、Ｒ５及びＲ６は独立してアルキル、アリールアルキル若しくはアリール基、又は、Ｒ５及びＲ６は一緒になって環を形成してもよい）、若しくは、−ＣＯＯＲ５基（式中、Ｒ５はアルキル、アルキルアリール、シクロアルキル又はアリール基）であり、
前記アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール及びアリール基は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
又は、Ｒ１及びＲ２は一緒になって環（この用語はモノ−、ジ−及びそれ以上の多環構造を含む）を形成してもよく、前記環は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、前記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＦで置換されている若しくは置換されていない；
Ｘは酸素原子若しくは脱離基であり、かつ、
ｍは１又は２の整数である；
ｍが１である場合、Ｘは脱離基である；ｍが２である場合、Ｘは酸素原子である）
：の製造方法であって、
不均一系触媒の存在下における式（ＩＩＩ）（Ｒ４ＣＯ）ｍＸ（式中、Ｒ４、ｍ及びＸは上記に定義する通りである）のアシル誘導体による式（ＩＩ）のオキシム誘導体：
【化２】
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記に定義する通りである）：の水素化／異性化反応を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
式（ＩＩＩ）の誘導体を、オキシム１モルに対して少なくとも２倍量使用し、溶媒と共に反応薬剤として大量に使用してもよい
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項３】
不均一系触媒はＰｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｎｉ触媒、好ましくはＩｒ又はＲｈ等の金属に基づく
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
不均一系触媒は、酸化物又は金属の状態で使用し、好適な担体上に支持されていてもよく、かつ、オキシム誘導体に対して０．００１〜３０モル％使用する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
好適な溶媒中で実施する
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
水素圧力０．５〜２０バール℃で実施する
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
−２０〜１５０℃、好ましくは２０℃〜１２０℃の温度範囲で実施する
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
式（Ｉ）の化合物の有機溶液のワークアップ段階、すなわち、有機又は無機塩を含有し、ハロゲン原子、好ましくは塩化物イオンを含有しない水で洗浄する段階を更に含む
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
有機又は無機塩は、リン酸塩、硫酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、ギ酸塩、ホウ酸塩、炭酸塩、アンモニウム、好ましくはリン酸塩から選択される
ことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
式（ＩＩＥ）のエンアミド誘導体：
【化３】
：（式中、
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、前記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ又はＦで置換されている又は置換されていない；
Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０は同一又は異なって水素原子、官能基、アルキル、アリール基であるが同時に水素原子であることはなく、好ましくは、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０は水素原子であり、Ｒ９はメトキシ基であり、Ｒ４はメチル基である）。
【請求項１１】
請求項１０に記載の式（ＩＩＥ）の化合物の、医薬品として重要なアミン又はアミド誘導体を与える不斉か又はそうでない水素化反応における使用。
【請求項１】
式（Ｉ）で表されるエンアミド誘導体：
【化１】
（式中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール、アリール、複素環、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、カルボキシル、カルバモイル、−ＣＯＮＲ５Ｒ６（式中、Ｒ５及びＲ６は独立してアルキル、アリールアルキル若しくはアリール基、又は、Ｒ５及びＲ６は一緒になって環を形成してもよい）、若しくは、−ＣＯＯＲ５基（式中、Ｒ５はアルキル、アルキルアリール、シクロアルキル又はアリール基）であり、
前記アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール及びアリール基は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
又は、Ｒ１及びＲ２は一緒になって環（この用語はモノ−、ジ−及びそれ以上の多環構造を含む）を形成してもよく、前記環は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、前記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＦで置換されている若しくは置換されていない；
Ｘは酸素原子若しくは脱離基であり、かつ、
ｍは１又は２の整数である；
ｍが１である場合、Ｘは脱離基である；ｍが２である場合、Ｘは酸素原子である）
：の製造方法であって、
不均一系触媒の存在下における式（ＩＩＩ）（Ｒ４ＣＯ）ｍＸ（式中、Ｒ４、ｍ及びＸは上記に定義する通りである）のアシル誘導体による式（ＩＩ）のオキシム誘導体：
【化２】
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記に定義する通りである）：の水素化／異性化反応を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
式（ＩＩＩ）の誘導体を、オキシム１モルに対して少なくとも２倍量使用し、溶媒と共に反応薬剤として大量に使用してもよい
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項３】
不均一系触媒はＰｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｎｉ触媒、好ましくはＩｒ又はＲｈ等の金属に基づく
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
不均一系触媒は、酸化物又は金属の状態で使用し、好適な担体上に支持されていてもよく、かつ、オキシム誘導体に対して０．００１〜３０モル％使用する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
好適な溶媒中で実施する
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
水素圧力０．５〜２０バール℃で実施する
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
−２０〜１５０℃、好ましくは２０℃〜１２０℃の温度範囲で実施する
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
式（Ｉ）の化合物の有機溶液のワークアップ段階、すなわち、有機又は無機塩を含有し、ハロゲン原子、好ましくは塩化物イオンを含有しない水で洗浄する段階を更に含む
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
有機又は無機塩は、リン酸塩、硫酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、ギ酸塩、ホウ酸塩、炭酸塩、アンモニウム、好ましくはリン酸塩から選択される
ことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
式（ＩＩＥ）のエンアミド誘導体：
【化３】
：（式中、
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、前記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ又はＦで置換されている又は置換されていない；
Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０は同一又は異なって水素原子、官能基、アルキル、アリール基であるが同時に水素原子であることはなく、好ましくは、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０は水素原子であり、Ｒ９はメトキシ基であり、Ｒ４はメチル基である）。
【請求項１１】
請求項１０に記載の式（ＩＩＥ）の化合物の、医薬品として重要なアミン又はアミド誘導体を与える不斉か又はそうでない水素化反応における使用。
【公表番号】特表２００７−５１７０１７（Ｐ２００７−５１７０１７Ａ）
【公表日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５４６４０７（Ｐ２００６−５４６４０７）
【出願日】平成１６年１２月２２日（２００４．１２．２２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００４／００４３６３
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０６３６８７
【国際公開日】平成１７年７月１４日（２００５．７．１４）
【出願人】（５０６１２０２１９）
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年１２月２２日（２００４．１２．２２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００４／００４３６３
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０６３６８７
【国際公開日】平成１７年７月１４日（２００５．７．１４）
【出願人】（５０６１２０２１９）
【Ｆターム（参考）】
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