ガスハイドレート洗浄塔
【課題】ハイドレートに同伴する未反応海水を必要最小限の洗浄水で洗浄すると共に、洗浄を妨げることなく円滑に払い出すことができるガスハイドレート洗浄塔を提供する。
【解決手段】ハイドレートスラリー導入部２２と、ハイドレートスラリー中の未反応海水を脱水する水切り部２３と、ハイドレートに付着している未反応海水を稀釈すると共に洗浄後のハイドレートを系外に掻き出す洗浄掻取部２４から成るガスハイドレート洗浄塔４である。洗浄掻取部２４に回転式又はワイパー式のガスハイドレート掻取装置を設けると共に洗浄水噴射ノズルを設け、飽和域Ｅにおけるハイドレートの空隙率をε、洗浄塔の断面積をＡ、ハイドレート堆積層の上昇速度をＵ、不飽和域Ｆにおけるハイドレートの飽和度をＳとした時に、洗浄水噴射ノズルから噴射する洗浄水の水量Ｑが次式（１）を満たすようする。Ｑ＝１．１ε・Ａ・Ｕ・Ｓ ・・・・ （１）
【解決手段】ハイドレートスラリー導入部２２と、ハイドレートスラリー中の未反応海水を脱水する水切り部２３と、ハイドレートに付着している未反応海水を稀釈すると共に洗浄後のハイドレートを系外に掻き出す洗浄掻取部２４から成るガスハイドレート洗浄塔４である。洗浄掻取部２４に回転式又はワイパー式のガスハイドレート掻取装置を設けると共に洗浄水噴射ノズルを設け、飽和域Ｅにおけるハイドレートの空隙率をε、洗浄塔の断面積をＡ、ハイドレート堆積層の上昇速度をＵ、不飽和域Ｆにおけるハイドレートの飽和度をＳとした時に、洗浄水噴射ノズルから噴射する洗浄水の水量Ｑが次式（１）を満たすようする。Ｑ＝１．１ε・Ａ・Ｕ・Ｓ ・・・・ （１）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスハイドレートスラリーを導入する導入部と、該導入部の上方にあってガスハイドレートスラリー中の未反応海水を重力を利用して脱水する水切り部と、該水切り部の上方にあってガスハイドレートに付着している未反応海水を稀釈すると共に、洗浄されたガスハイドレートを系外に掻き出す洗浄掻取部から成るガスハイドレート洗浄塔に関する。
【背景技術】
【０００２】
天然ガスは、他の化石燃料に比較して二酸化炭素（ＣＯ2 ）の発生量が少ないので、２１世紀の中心的なエネルギーとして需要の拡大が予想されている。現在、天然ガスの海上輸送システムは、液化天然ガス方式（ＬＮＧ方式）が主流である。しかし、ＬＮＧ方式を適用できる大規模な天然ガス田は、希少、かつ、偏在しており、今後予想される天然ガスの需要拡大及び安定供給への対応のため、ＬＮＧ方式を補完する実用的、かつ、経済的な天然ガスの新しい輸送システムの出現が期待されている。
【０００３】
天然ガスの新しい輸送方式として、天然ガスをハイドレート化して輸送する方式が注目されている。天然ガスハイドレート（ＮＧＨ）の輸送方式において想定されている産ガス地は、東南アジア、オセアニアの小規模ガス田であり、それらのほとんどが海上ガス田であるため、ＮＧＨ輸送システムにおいては、ガス田の真上の海面にＦＰＳＯ（浮体式生産貯蔵荷上設備）を設置し、天然ガスを洋上で、直接、ハイドレート化して積み出す方法が合理的である。
【０００４】
海水からガスハイドレートを製造する方法としては、逆浸透膜法等の海水淡水化装置を導入して原料水（海水）を淡水化してガスハイドレートを製造する方法と、海水淡水化装置を使用することなく、海水を直接原料水に用いてガスハイドレートを製造する方法の二通りの方法を挙げることができる。
【０００５】
前者の場合は、海水淡水化装置の設備費、設置スペース、製造エネルギー等が余分に必要になる。他方、後者のように、海水を直接原料水に用いてガスハイドレートを製造すると、図６の□印に示すように、製造後のガスハイドレートに残留する塩分の影響によってガスハイドレートの分解が速まることが知られている（図６のだ円部、メタンハイドレートペレットでの比較。保存条件：大気圧下、−２０℃。）。このため、製造直後のガスハイドレートから塩分を分離することが望まれている。
【０００６】
ところで、冷凍法による海水淡水化技術としては、過去に多くの研究が行われており、水道水基準を満たす洗浄効果が得られている（例えば、非特許文献１参照。）。
【０００７】
しかし、ガスハイドレートを製造する場合には、ガスハイドレートに同伴するブライン量（未反応海水量）以上の洗浄水を散布すれば、ガスハイドレートに付着する洗浄水量が増加するため、洗浄水の損失量が増加すると共に、ガスハイドレートの付着水を除去する第２生成器の負担が増加すると言う問題がある。これとは逆に、ガスハイドレートに同伴するブライン量よりも少ない洗浄水量を散布した場合は、ガスハイドレートに同伴するブライン量の一部のみが置換され、十分な洗浄効果が得られないため、ガスハイドレートの分解を抑制することが難いと言う問題がある。
【０００８】
また、非特許文献１では、洗浄塔上部に備えた結晶氷掻出装置について具体的に開示していないが、結晶氷掻出装置として、真水からガスハイドレートを製造する脱水塔に使用されているスクリュー軸を使用すると、スクリュー軸に阻害されて洗浄水を洗浄塔上面に均一に散布することが困難になる。
【非特許文献１】長島義悟、外２名、「冷凍法海水淡水化プロセスにおける氷分離洗浄塔試験」、三井造船技報、三井造船株式会社、昭和４５年１月１日、第６９号、ｐ．２２−２７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、このような問題を解消するためになされたものであり、その目的とするところは、海水から直接ガスハイドレートを製造する際に、ガスハイドレートに同伴する未反応海水を必要最小限の洗浄水で洗浄するとともに、ガスハイドレートの洗浄を妨げることなく、円滑に払い出すことができるガスハイドレート洗浄塔を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明に係るガスハイドレート洗浄塔は、ガスハイドレートスラリーを導入する導入部と、該導入部の上方にあってガスハイドレートスラリー中の未反応海水を重力を利用して脱水する水切り部と、該水切り部の上方にあってガスハイドレートに付着している未反応海水を稀釈すると共に、洗浄されたガスハイドレートを系外に掻き出す洗浄掻取部から成るガスハイドレート洗浄塔において、前記洗浄掻取部に回転式又はワイパー式のガスハイドレート掻取装置を設けると共に洗浄水噴射ノズルを設け、ガスハイドレートと未反応海水によって構成された飽和域Ｅにおけるガスハイドレートの空隙率をε、洗浄塔の断面積をＡ、ガスハイドレート堆積層の上昇速度をＵ、飽和域の上方に位置して未反応海水を稀釈する不飽和域Ｆにおけるガスハイドレートの飽和度をＳとした場合に、前記洗浄水噴射ノズルから噴射する洗浄水の水量Ｑが次式（１）を、
Ｑ＝１．１ε・Ａ・Ｕ・Ｓ ・・・・ （１）
満たすようにしたことを特徴としている。
【００１１】
請求項２に記載の発明に係るガスハイドレート洗浄塔は、請求項１において、洗浄掻取部を、塔体の頂部に設けた中空円筒状の掻取槽と、該掻取槽内に設けたガスハイドレート掻取装置と、前記掻取槽の天井に設けた洗浄水噴射ノズルにより形成することを特徴としている。
【００１２】
請求項３に記載の発明に係るガスハイドレート洗浄塔は、請求項２において、掻取槽の軸心に対して、その一方の側に塔体を有し、他の一方の側にハイドレート排出口を配したことを特徴としている。
【００１３】
請求項４に記載の発明に係るガスハイドレート洗浄塔は、請求項１において、回転式のガスハイドレート掻取装置を、掻取槽の軸心に設けた垂直な回転軸と、該回転軸の側面に設けた片持ち式の短冊状のスクレーパーにより形成し、かつ、前記スクレーパーの下辺によって掻取槽の底面を払拭するようにしたことを特徴としている。
【００１４】
請求項５に記載の発明に係るガスハイドレート洗浄塔は、請求項１において、ワイパー型のガスハイドレート掻取装置を、４点リンク式のスクレーパーの駆動装置により形成すると共に、前記スクレーパーの駆動装置を形成している２本の長尺のリンクの先端にピン止めした短尺のリンクにスクレーパーを設けたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１５】
上記のように、請求項１に係る発明は、ガスハイドレートスラリーを導入する導入部と、該導入部の上方にあってガスハイドレートスラリー中の未反応海水を重力を利用して脱水する水切り部と、該水切り部の上方にあってガスハイドレートに付着している未反応海水を稀釈すると共に、洗浄されたガスハイドレートを系外に掻き出す洗浄掻取部から成るガスハイドレート洗浄塔において、前記洗浄掻取部に回転式又はワイパー式のガスハイドレート掻取装置を設けたので、洗浄水噴射ノズルから噴射される洗浄水を阻害することがなくなった。このため、洗浄水噴射ノズルから未反応の海水が付着しているガスハイドレートに対して洗浄水をムラなく供給することが可能となった。
【００１６】
また、この発明は、ガスハイドレートと未反応海水によって構成された飽和域Ｅにおけるガスハイドレートの空隙率をε、洗浄塔の断面積をＡ、ガスハイドレート堆積層の上昇速度をＵ、飽和域の上方に位置して未反応海水を稀釈する不飽和域Ｆにおけるガスハイドレートの飽和度をＳとした場合に、前記洗浄水噴射ノズルから噴射する洗浄水の水量Ｑが次式（１）を、
Ｑ＝１．１ε・Ａ・Ｕ・Ｓ ・・・・ （１）
満たすようにしたので、洗浄水噴射ノズルから噴射される洗浄水の水量が必要最小限に制御することが可能となり、洗浄水の無駄を回避することが可能となった。
【００１７】
請求項２に記載の発明は、洗浄掻取部を、塔体の頂部に設けた中空円筒状の掻取槽と、該掻取槽内に設けたガスハイドレート掻取装置と、前記掻取槽の天井に設けた洗浄水噴射ノズルにより形成したので、塔体の頂部に設けた洗浄掻取部をコンパクトな構造にすることが可能となった。
【００１８】
請求項３に記載の発明は、掻取槽の軸心に対して、その一方の側に塔体を有し、他の一方の側にハイドレート排出口を配したので、塔体の頂部に設けた洗浄掻取部をコンパクトな構造にすることが可能となるほか、洗浄後のガスハイドレートを塔体からハイドレート排出口に円滑に移動させることが可能となった。
【００１９】
請求項４に記載の発明は、回転式のガスハイドレート掻取装置を、掻取槽の軸心に設けた垂直な回転軸と、該回転軸の側面に設けた片持ち式の短冊状のスクレーパーにより形成し、かつ、前記スクレーパーの下辺によって掻取槽の底面を払拭するようにしたので、洗浄水噴射ノズルから噴射される洗浄水を邪魔することなく、洗浄後のガスハイドレートを塔体からハイドレート排出口に円滑に移動させることが可能となった。
【００２０】
請求項５に記載の発明は、ワイパー型のガスハイドレート掻取装置を、４点リンク式のスクレーパーの駆動装置により形成すると共に、前記スクレーパーの駆動装置を形成している２本の長尺のリンクの先端にピン止めした短尺のリンクにスクレーパーを設けたので、洗浄水噴射ノズルから噴射される洗浄水を邪魔することなく、洗浄後のガスハイドレートを塔体からハイドレート排出口に円滑に移動させることが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。
【００２２】
図１に示すように、本発明に係るガスハイドレート洗浄塔（以下、洗浄塔と称する。）４を含むガスハイドレート製造装置１００は、海上ガス田の近傍に係留したバージ（図示せず）上に設置され、海上ガス田から採取した天然ガスａと、付近の海から汲み上げた海水ｂを原料にしてガスハイドレートを製造するようになっている。
【００２３】
このガスハイドレート製造装置１００は、揚水ポンプ１と、融解槽２と、第１生成器３と、洗浄塔４を備え、揚水ポンプ１によって汲み上げた海水ｂと、海上ガス田から採取した天然ガスａを第１生成器３に供給して天然ガスハイドレート（以下、ガスハイドレートと称する。）を生成するようになっている。この第１生成器３は、攪拌バブリング方式を採用しており、天然ガスを微細な気泡にして噴出するノズル（図示せず）と、海水を攪拌する攪拌機（図示せず）を備えている。
【００２４】
第１生成器３内で製造されたガスハイドレートと未反応の海水が混合しているガスハイドレートスラリーｄは、スラリーポンプ５によって洗浄塔４の底部に供給されるが、その一部は、スラリー供給管６から分岐した分岐管７によって第１生成器３に戻される。その際、分岐管７に設けた冷却器８によってガスハイドレート生成熱を除去するようになっている。
【００２５】
洗浄塔４は、有底筒状の縦型の塔体２１と、塔体２１の底部に設けたガスハイドレートスラリー導入部２２と、塔体２１の側面に設けた水切り部２３と、塔体２１の頂部に設けた洗浄掻取部２４により形成され、洗浄掻取部２４から排出されたガスハイドレートｅ’は、第１ガスハイドレート排出管２５を経て図示しない第２生成器に供給される。その際、ガスハイドレートｅ’の一部を第２ガスハイドレート排出管２６を経て融解槽２に供給するようになっている。融解槽２に供給されたガスハイドレートｅ’は、揚水ポンプ１によって汲み上げられた海水ｂとの熱交換により天然ガスａと水ｃに分解される。この水ｃは、海水に比べ塩分濃度が低いため、洗浄水として洗浄掻取部２４に供給され、天然ガスａは、配管９を経て第１生成器３内のガス噴出ノズルに供給される。
【００２６】
上記洗浄塔４は、図２に示すように、有底筒状の縦型の塔体２１と、塔体２１の底部に設けたガスハイドレートスラリー導入部２２と、塔体２１の側面に設けた水切り部２３と、塔体２１の頂部に設けた洗浄掻取部２４により形成されている。
【００２７】
上記水切り部２３は、塔体３１の側面にスクリーン２７を有し、ガスハイドレートスラリー中の未反応海水のみを除去するようになっている。更に、塔体２１の外側にスクリーン２７を完全にカバーする中空状の排水ジャケット２８を設けている。
【００２８】
上記洗浄掻取部２４は、図３に示すように、塔体２１の頂部に設けられている。この洗浄掻取部２４は、中空円筒状の掻取槽３１と、掻取槽３１内に設けたガスハイドレート掻取装置３２と、掻取槽３１の天井３４に設けた洗浄水噴射ノズル３３により形成されている。この洗浄水噴射ノズル３３は、塔体２１の真上に位置するように掻取槽３１の天井３４に設けられている。掻取槽３１は、図４に示すように、塔体２１よりも大径であり、掻取槽３１の軸心Ｏに対して、その一方の側に塔体２１を有し、他の一方の側にハイドレート排出口３５を配している。
【００２９】
ガスハイドレート掻取装置３２は、掻取槽３１の軸心Ｏに設けた垂直な回転軸３６と、回転軸３６の側面に設けた片持ち式の短冊状のスクレーパー（ヘラ）３７により形成され、スクレーパー３７の下辺３８によって掻取槽３１の底面３９を払拭するようになっている。スクレーパー３７は、図４に示すように、途中でくの字形又はへの字形に曲げられ、遠心力によってガスハイドレートが外側に移動せず、全てのガスハイドレートをガスハイドレート排出口３５に供給できるようにする。この際、掻取槽３１の底面３９上にテフロン（登録商標）製の板４０を敷設することが望ましい。また、回転軸３６を回転させるモータ４１は、防爆仕様とする。
【００３０】
上記スクレーパー（ヘラ）３７は、破線で示すように、ガスハイドレートが掻き取り可能な量になるまでガスハイドレートの上昇の障害にならないように、ガスハイドレート排出口３５の近傍に位置させることが望ましい（図４参照。）。
【００３１】
ガスハイドレート掻取装置としては、図５に示すように、ワイパー型を適用することができる。ワイパー型のガスハイドレート掻取装置３２’は、スクレーパー３７によって塔体上端を扇面状に払拭するようになっている。スクレーパー３７の駆動装置５１は、４点リンク式になっており、２本の長尺のリンク５２，５３の先端にピン止めした短尺のリンク５４にスクレーパー３７が取り付けられている。長尺のリンク５２，５３の基部は、既に説明した外筒５５に枢支されている。そして、ラックピニオン式の駆動手段（図示せず）によって一方の長尺のリンク５２を左右に揺動させるようになっている。符号５６は、防爆型の駆動モーターである。
【００３２】
図３に示すように、ハイドレート排出口３５には、第１ガスハイドレート排出管２５を接続させているが、この第１ガスハイドレート排出管２５内に第１ガスハイドレート排出管２５よりも小径の第２ガスハイドレート排出管２６を挿入すると、ガスハイドレートを第１、第２のガスハイドレート排出管２５，２６に同時に供給することができる。更に、ワイパー型のガスハイドレート掻取装置３２’を想定して、予め、塔体２１に外側にガスハイドレート排出用の外筒５５を設けておいてもよい。
【００３３】
洗浄水噴射ノズル３３から噴射する洗浄水量Ｑは、次式（１）により調整するようになっている。
Ｑ＝１．１ε・Ａ・Ｕ・Ｓ ・・・・ （１）
ここで、
ε：洗浄部のガスハイドレートと未反応海水によって形成された飽和域Ｅにおける ガスハイドレートの空隙率
Ａ：塔体の断面積（ｍ2 ）
Ｕ：水切り部の直下に集合したガスハイドレート堆積層（ベッド）の上昇速度（ｍ ／分）
Ｓ：飽和域の上方に位置して未反応海水を稀釈する不飽和域Ｆにおけるガスハイド レートの飽和度
である。
【００３４】
上記洗浄水噴射ノズル３３に洗浄水ｃを供給する水管１０に流量制御弁１１を設け、制御装置１２によって制御するようになっている。この制御装置１２には、予め、塔体２１の断面積Ａのみが入力されており、塔体２１に設けた各種のセンサー（図示せず）から入力された計測値、即ち、飽和域におけるガスハイドレートの空隙率ε、ベッドの上昇速度Ｕ、不飽和域におけるガスハイドレートの飽和度Ｓによって上記制御弁１１を制御するようになっている。
【００３５】
なお、飽和域とは、ハイドレート粒子間の間隙に液が充満している部分を云う。
また、不飽和域とは、ハイドレート粒子間の間隙に液が充満していない部分を云う。
【００３６】
他方、飽和域のハイドレートの空隙率εは、サンプリングしたハイドレートの重量（Ｗｔ）とサンプリングした体積（Ｖｔ）とハイドレート密度（ρｈ）から求める。
ε＝１−Ｗｔ／（Ｖｔ・ρｈ） ・・・・・ （２）
【００３７】
また、ベッドの上昇速度Ｕは、上部からハイドレートベッドが一定高さ上昇するのに要する時間を計測して求める。
【００３８】
更に、不飽和域における飽和度Ｓは、空隙率（ε）とサンプリングしたハイドレートの重量（Ｗｔ）とサンプリングした体積（Ｖｔ）とハイドレート密度（ρｈ）と液密度（ρＢ）から求める。
Ｓ＝Ｗｔ／（Ｖｔ・ρＢ・ε）−ρｈ／ρＢ・（（１−ε）／ε） ・・・ （３）
【００３９】
続いて、海水からガスハイドレートを、直接、製造する方法について説明する。
【００４０】
図１に示すように、揚水ポンプ１によって汲み上げた海水ｂと、海上ガス田から採取した天然ガスａを第１生成器３に供給すると共に、第１生成器３内を所定の温度及び圧力に維持しなから攪拌機（図示せず）によって攪拌すると、第１生成器３内でガスハイドレートが生成する。
【００４１】
第１生成器３内で製造されたガスハイドレートは、未反応の海水と混合してスラリー状になっているので、スラリーポンプ５によって洗浄塔４の底部のガスハイドレート導入部２２に強制的に供給する。その際、ガスハイドレートスラリーｄの一部は、スラリー供給管６から分岐した分岐管７によって第１生成器３に戻される。その際、分岐管７に設けた冷却器８によってガスハイドレート生成熱が除去される。
【００４２】
洗浄塔４の底部に供給されたガスハイドレートスラリーｄは、塔体２１に沿って上昇する。そして、図２に示すように、水切り部２３のスクリーン２７から未反応の海水ｂのみが排水ジャケット２８内に流出し、ガスハイドレートｅが塔体２１の上部に残る。ガスハイドレートｅは、スクリーン２７の下方にも蓄積され、多孔質体のベッドｇを形成する。このベッドｇは、ガスハイドレートスラリーｄの連続供給のもと、ガスハイドレートｅの浮力により上昇し続け、塔頂部から連続的に取り出せるようになる。
【００４３】
塔頂部では、洗浄水噴射ノズル３３から洗浄水ｃが散布され、上昇するガスハイドレートｅに付着している未反応の海水と置換される。その際、洗浄水噴射ノズル３３から散布する洗浄水ｃの洗浄水量Ｑは、上記（１）式によって制御される。つまり、制御装置１２によって流量制御弁１１を制御して必要最小限の洗浄水ｃが洗浄水噴射ノズル３３から塔頂部のガスハイドレートｅに対して噴射される。
【００４４】
洗浄水ｃによって洗浄されたガスハイドレートｅ’は、図３及び図４に示す回転式のガスハイドレート掻取装置３２のスクレーパー３７によって掻き取られ、ガスハイドレート排出口２５に供給される。ガスハイドレート排出口２５に供給された清浄なガスハイドレートｅ’は、第１ガスハイドレート排出管２５を通って図示しない第２生成器に供給される。ガスハイドレート排出口２５に供給されたガスハイドレートｅ’の一部は、第２ガスハイドレート排出管２６を通って融解槽２に供給される。融解槽２内のガスハイドレートｅ’は、海水ｂによって水ｃと天然ガスａに分解する。この水ｃは、海水と比べて塩分濃度が低いため、ポンプ１３によって前記洗浄水噴射ノズル３３に供給され、洗浄水として使用される。他方。天然ガスａは、配管１４を経て第１生成器３に戻される。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明に係るガスハイドレート洗浄塔を含むガスハイドレート製造装置の概略構成図である。
【図２】ガスハイドレート洗浄塔の概略構成図である。
【図３】洗浄掻取部の断面図である。
【図４】図３のＸ−Ｘ断面図である。
【図５】ガスハイドレート掻取装置の第２の実施形態を示す平面図である。
【図６】ガスハイドレートの分解状況を示す図である。
【符号の説明】
【００４６】
４ ガスハイドレート洗浄塔
２２ ハイドレートスラリー導入部
２３ 水切り部
２４ 洗浄掻取部
３２ ガスハイドレート掻取装置
３３ 洗浄水噴射ノズル
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスハイドレートスラリーを導入する導入部と、該導入部の上方にあってガスハイドレートスラリー中の未反応海水を重力を利用して脱水する水切り部と、該水切り部の上方にあってガスハイドレートに付着している未反応海水を稀釈すると共に、洗浄されたガスハイドレートを系外に掻き出す洗浄掻取部から成るガスハイドレート洗浄塔に関する。
【背景技術】
【０００２】
天然ガスは、他の化石燃料に比較して二酸化炭素（ＣＯ2 ）の発生量が少ないので、２１世紀の中心的なエネルギーとして需要の拡大が予想されている。現在、天然ガスの海上輸送システムは、液化天然ガス方式（ＬＮＧ方式）が主流である。しかし、ＬＮＧ方式を適用できる大規模な天然ガス田は、希少、かつ、偏在しており、今後予想される天然ガスの需要拡大及び安定供給への対応のため、ＬＮＧ方式を補完する実用的、かつ、経済的な天然ガスの新しい輸送システムの出現が期待されている。
【０００３】
天然ガスの新しい輸送方式として、天然ガスをハイドレート化して輸送する方式が注目されている。天然ガスハイドレート（ＮＧＨ）の輸送方式において想定されている産ガス地は、東南アジア、オセアニアの小規模ガス田であり、それらのほとんどが海上ガス田であるため、ＮＧＨ輸送システムにおいては、ガス田の真上の海面にＦＰＳＯ（浮体式生産貯蔵荷上設備）を設置し、天然ガスを洋上で、直接、ハイドレート化して積み出す方法が合理的である。
【０００４】
海水からガスハイドレートを製造する方法としては、逆浸透膜法等の海水淡水化装置を導入して原料水（海水）を淡水化してガスハイドレートを製造する方法と、海水淡水化装置を使用することなく、海水を直接原料水に用いてガスハイドレートを製造する方法の二通りの方法を挙げることができる。
【０００５】
前者の場合は、海水淡水化装置の設備費、設置スペース、製造エネルギー等が余分に必要になる。他方、後者のように、海水を直接原料水に用いてガスハイドレートを製造すると、図６の□印に示すように、製造後のガスハイドレートに残留する塩分の影響によってガスハイドレートの分解が速まることが知られている（図６のだ円部、メタンハイドレートペレットでの比較。保存条件：大気圧下、−２０℃。）。このため、製造直後のガスハイドレートから塩分を分離することが望まれている。
【０００６】
ところで、冷凍法による海水淡水化技術としては、過去に多くの研究が行われており、水道水基準を満たす洗浄効果が得られている（例えば、非特許文献１参照。）。
【０００７】
しかし、ガスハイドレートを製造する場合には、ガスハイドレートに同伴するブライン量（未反応海水量）以上の洗浄水を散布すれば、ガスハイドレートに付着する洗浄水量が増加するため、洗浄水の損失量が増加すると共に、ガスハイドレートの付着水を除去する第２生成器の負担が増加すると言う問題がある。これとは逆に、ガスハイドレートに同伴するブライン量よりも少ない洗浄水量を散布した場合は、ガスハイドレートに同伴するブライン量の一部のみが置換され、十分な洗浄効果が得られないため、ガスハイドレートの分解を抑制することが難いと言う問題がある。
【０００８】
また、非特許文献１では、洗浄塔上部に備えた結晶氷掻出装置について具体的に開示していないが、結晶氷掻出装置として、真水からガスハイドレートを製造する脱水塔に使用されているスクリュー軸を使用すると、スクリュー軸に阻害されて洗浄水を洗浄塔上面に均一に散布することが困難になる。
【非特許文献１】長島義悟、外２名、「冷凍法海水淡水化プロセスにおける氷分離洗浄塔試験」、三井造船技報、三井造船株式会社、昭和４５年１月１日、第６９号、ｐ．２２−２７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、このような問題を解消するためになされたものであり、その目的とするところは、海水から直接ガスハイドレートを製造する際に、ガスハイドレートに同伴する未反応海水を必要最小限の洗浄水で洗浄するとともに、ガスハイドレートの洗浄を妨げることなく、円滑に払い出すことができるガスハイドレート洗浄塔を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明に係るガスハイドレート洗浄塔は、ガスハイドレートスラリーを導入する導入部と、該導入部の上方にあってガスハイドレートスラリー中の未反応海水を重力を利用して脱水する水切り部と、該水切り部の上方にあってガスハイドレートに付着している未反応海水を稀釈すると共に、洗浄されたガスハイドレートを系外に掻き出す洗浄掻取部から成るガスハイドレート洗浄塔において、前記洗浄掻取部に回転式又はワイパー式のガスハイドレート掻取装置を設けると共に洗浄水噴射ノズルを設け、ガスハイドレートと未反応海水によって構成された飽和域Ｅにおけるガスハイドレートの空隙率をε、洗浄塔の断面積をＡ、ガスハイドレート堆積層の上昇速度をＵ、飽和域の上方に位置して未反応海水を稀釈する不飽和域Ｆにおけるガスハイドレートの飽和度をＳとした場合に、前記洗浄水噴射ノズルから噴射する洗浄水の水量Ｑが次式（１）を、
Ｑ＝１．１ε・Ａ・Ｕ・Ｓ ・・・・ （１）
満たすようにしたことを特徴としている。
【００１１】
請求項２に記載の発明に係るガスハイドレート洗浄塔は、請求項１において、洗浄掻取部を、塔体の頂部に設けた中空円筒状の掻取槽と、該掻取槽内に設けたガスハイドレート掻取装置と、前記掻取槽の天井に設けた洗浄水噴射ノズルにより形成することを特徴としている。
【００１２】
請求項３に記載の発明に係るガスハイドレート洗浄塔は、請求項２において、掻取槽の軸心に対して、その一方の側に塔体を有し、他の一方の側にハイドレート排出口を配したことを特徴としている。
【００１３】
請求項４に記載の発明に係るガスハイドレート洗浄塔は、請求項１において、回転式のガスハイドレート掻取装置を、掻取槽の軸心に設けた垂直な回転軸と、該回転軸の側面に設けた片持ち式の短冊状のスクレーパーにより形成し、かつ、前記スクレーパーの下辺によって掻取槽の底面を払拭するようにしたことを特徴としている。
【００１４】
請求項５に記載の発明に係るガスハイドレート洗浄塔は、請求項１において、ワイパー型のガスハイドレート掻取装置を、４点リンク式のスクレーパーの駆動装置により形成すると共に、前記スクレーパーの駆動装置を形成している２本の長尺のリンクの先端にピン止めした短尺のリンクにスクレーパーを設けたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１５】
上記のように、請求項１に係る発明は、ガスハイドレートスラリーを導入する導入部と、該導入部の上方にあってガスハイドレートスラリー中の未反応海水を重力を利用して脱水する水切り部と、該水切り部の上方にあってガスハイドレートに付着している未反応海水を稀釈すると共に、洗浄されたガスハイドレートを系外に掻き出す洗浄掻取部から成るガスハイドレート洗浄塔において、前記洗浄掻取部に回転式又はワイパー式のガスハイドレート掻取装置を設けたので、洗浄水噴射ノズルから噴射される洗浄水を阻害することがなくなった。このため、洗浄水噴射ノズルから未反応の海水が付着しているガスハイドレートに対して洗浄水をムラなく供給することが可能となった。
【００１６】
また、この発明は、ガスハイドレートと未反応海水によって構成された飽和域Ｅにおけるガスハイドレートの空隙率をε、洗浄塔の断面積をＡ、ガスハイドレート堆積層の上昇速度をＵ、飽和域の上方に位置して未反応海水を稀釈する不飽和域Ｆにおけるガスハイドレートの飽和度をＳとした場合に、前記洗浄水噴射ノズルから噴射する洗浄水の水量Ｑが次式（１）を、
Ｑ＝１．１ε・Ａ・Ｕ・Ｓ ・・・・ （１）
満たすようにしたので、洗浄水噴射ノズルから噴射される洗浄水の水量が必要最小限に制御することが可能となり、洗浄水の無駄を回避することが可能となった。
【００１７】
請求項２に記載の発明は、洗浄掻取部を、塔体の頂部に設けた中空円筒状の掻取槽と、該掻取槽内に設けたガスハイドレート掻取装置と、前記掻取槽の天井に設けた洗浄水噴射ノズルにより形成したので、塔体の頂部に設けた洗浄掻取部をコンパクトな構造にすることが可能となった。
【００１８】
請求項３に記載の発明は、掻取槽の軸心に対して、その一方の側に塔体を有し、他の一方の側にハイドレート排出口を配したので、塔体の頂部に設けた洗浄掻取部をコンパクトな構造にすることが可能となるほか、洗浄後のガスハイドレートを塔体からハイドレート排出口に円滑に移動させることが可能となった。
【００１９】
請求項４に記載の発明は、回転式のガスハイドレート掻取装置を、掻取槽の軸心に設けた垂直な回転軸と、該回転軸の側面に設けた片持ち式の短冊状のスクレーパーにより形成し、かつ、前記スクレーパーの下辺によって掻取槽の底面を払拭するようにしたので、洗浄水噴射ノズルから噴射される洗浄水を邪魔することなく、洗浄後のガスハイドレートを塔体からハイドレート排出口に円滑に移動させることが可能となった。
【００２０】
請求項５に記載の発明は、ワイパー型のガスハイドレート掻取装置を、４点リンク式のスクレーパーの駆動装置により形成すると共に、前記スクレーパーの駆動装置を形成している２本の長尺のリンクの先端にピン止めした短尺のリンクにスクレーパーを設けたので、洗浄水噴射ノズルから噴射される洗浄水を邪魔することなく、洗浄後のガスハイドレートを塔体からハイドレート排出口に円滑に移動させることが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。
【００２２】
図１に示すように、本発明に係るガスハイドレート洗浄塔（以下、洗浄塔と称する。）４を含むガスハイドレート製造装置１００は、海上ガス田の近傍に係留したバージ（図示せず）上に設置され、海上ガス田から採取した天然ガスａと、付近の海から汲み上げた海水ｂを原料にしてガスハイドレートを製造するようになっている。
【００２３】
このガスハイドレート製造装置１００は、揚水ポンプ１と、融解槽２と、第１生成器３と、洗浄塔４を備え、揚水ポンプ１によって汲み上げた海水ｂと、海上ガス田から採取した天然ガスａを第１生成器３に供給して天然ガスハイドレート（以下、ガスハイドレートと称する。）を生成するようになっている。この第１生成器３は、攪拌バブリング方式を採用しており、天然ガスを微細な気泡にして噴出するノズル（図示せず）と、海水を攪拌する攪拌機（図示せず）を備えている。
【００２４】
第１生成器３内で製造されたガスハイドレートと未反応の海水が混合しているガスハイドレートスラリーｄは、スラリーポンプ５によって洗浄塔４の底部に供給されるが、その一部は、スラリー供給管６から分岐した分岐管７によって第１生成器３に戻される。その際、分岐管７に設けた冷却器８によってガスハイドレート生成熱を除去するようになっている。
【００２５】
洗浄塔４は、有底筒状の縦型の塔体２１と、塔体２１の底部に設けたガスハイドレートスラリー導入部２２と、塔体２１の側面に設けた水切り部２３と、塔体２１の頂部に設けた洗浄掻取部２４により形成され、洗浄掻取部２４から排出されたガスハイドレートｅ’は、第１ガスハイドレート排出管２５を経て図示しない第２生成器に供給される。その際、ガスハイドレートｅ’の一部を第２ガスハイドレート排出管２６を経て融解槽２に供給するようになっている。融解槽２に供給されたガスハイドレートｅ’は、揚水ポンプ１によって汲み上げられた海水ｂとの熱交換により天然ガスａと水ｃに分解される。この水ｃは、海水に比べ塩分濃度が低いため、洗浄水として洗浄掻取部２４に供給され、天然ガスａは、配管９を経て第１生成器３内のガス噴出ノズルに供給される。
【００２６】
上記洗浄塔４は、図２に示すように、有底筒状の縦型の塔体２１と、塔体２１の底部に設けたガスハイドレートスラリー導入部２２と、塔体２１の側面に設けた水切り部２３と、塔体２１の頂部に設けた洗浄掻取部２４により形成されている。
【００２７】
上記水切り部２３は、塔体３１の側面にスクリーン２７を有し、ガスハイドレートスラリー中の未反応海水のみを除去するようになっている。更に、塔体２１の外側にスクリーン２７を完全にカバーする中空状の排水ジャケット２８を設けている。
【００２８】
上記洗浄掻取部２４は、図３に示すように、塔体２１の頂部に設けられている。この洗浄掻取部２４は、中空円筒状の掻取槽３１と、掻取槽３１内に設けたガスハイドレート掻取装置３２と、掻取槽３１の天井３４に設けた洗浄水噴射ノズル３３により形成されている。この洗浄水噴射ノズル３３は、塔体２１の真上に位置するように掻取槽３１の天井３４に設けられている。掻取槽３１は、図４に示すように、塔体２１よりも大径であり、掻取槽３１の軸心Ｏに対して、その一方の側に塔体２１を有し、他の一方の側にハイドレート排出口３５を配している。
【００２９】
ガスハイドレート掻取装置３２は、掻取槽３１の軸心Ｏに設けた垂直な回転軸３６と、回転軸３６の側面に設けた片持ち式の短冊状のスクレーパー（ヘラ）３７により形成され、スクレーパー３７の下辺３８によって掻取槽３１の底面３９を払拭するようになっている。スクレーパー３７は、図４に示すように、途中でくの字形又はへの字形に曲げられ、遠心力によってガスハイドレートが外側に移動せず、全てのガスハイドレートをガスハイドレート排出口３５に供給できるようにする。この際、掻取槽３１の底面３９上にテフロン（登録商標）製の板４０を敷設することが望ましい。また、回転軸３６を回転させるモータ４１は、防爆仕様とする。
【００３０】
上記スクレーパー（ヘラ）３７は、破線で示すように、ガスハイドレートが掻き取り可能な量になるまでガスハイドレートの上昇の障害にならないように、ガスハイドレート排出口３５の近傍に位置させることが望ましい（図４参照。）。
【００３１】
ガスハイドレート掻取装置としては、図５に示すように、ワイパー型を適用することができる。ワイパー型のガスハイドレート掻取装置３２’は、スクレーパー３７によって塔体上端を扇面状に払拭するようになっている。スクレーパー３７の駆動装置５１は、４点リンク式になっており、２本の長尺のリンク５２，５３の先端にピン止めした短尺のリンク５４にスクレーパー３７が取り付けられている。長尺のリンク５２，５３の基部は、既に説明した外筒５５に枢支されている。そして、ラックピニオン式の駆動手段（図示せず）によって一方の長尺のリンク５２を左右に揺動させるようになっている。符号５６は、防爆型の駆動モーターである。
【００３２】
図３に示すように、ハイドレート排出口３５には、第１ガスハイドレート排出管２５を接続させているが、この第１ガスハイドレート排出管２５内に第１ガスハイドレート排出管２５よりも小径の第２ガスハイドレート排出管２６を挿入すると、ガスハイドレートを第１、第２のガスハイドレート排出管２５，２６に同時に供給することができる。更に、ワイパー型のガスハイドレート掻取装置３２’を想定して、予め、塔体２１に外側にガスハイドレート排出用の外筒５５を設けておいてもよい。
【００３３】
洗浄水噴射ノズル３３から噴射する洗浄水量Ｑは、次式（１）により調整するようになっている。
Ｑ＝１．１ε・Ａ・Ｕ・Ｓ ・・・・ （１）
ここで、
ε：洗浄部のガスハイドレートと未反応海水によって形成された飽和域Ｅにおける ガスハイドレートの空隙率
Ａ：塔体の断面積（ｍ2 ）
Ｕ：水切り部の直下に集合したガスハイドレート堆積層（ベッド）の上昇速度（ｍ ／分）
Ｓ：飽和域の上方に位置して未反応海水を稀釈する不飽和域Ｆにおけるガスハイド レートの飽和度
である。
【００３４】
上記洗浄水噴射ノズル３３に洗浄水ｃを供給する水管１０に流量制御弁１１を設け、制御装置１２によって制御するようになっている。この制御装置１２には、予め、塔体２１の断面積Ａのみが入力されており、塔体２１に設けた各種のセンサー（図示せず）から入力された計測値、即ち、飽和域におけるガスハイドレートの空隙率ε、ベッドの上昇速度Ｕ、不飽和域におけるガスハイドレートの飽和度Ｓによって上記制御弁１１を制御するようになっている。
【００３５】
なお、飽和域とは、ハイドレート粒子間の間隙に液が充満している部分を云う。
また、不飽和域とは、ハイドレート粒子間の間隙に液が充満していない部分を云う。
【００３６】
他方、飽和域のハイドレートの空隙率εは、サンプリングしたハイドレートの重量（Ｗｔ）とサンプリングした体積（Ｖｔ）とハイドレート密度（ρｈ）から求める。
ε＝１−Ｗｔ／（Ｖｔ・ρｈ） ・・・・・ （２）
【００３７】
また、ベッドの上昇速度Ｕは、上部からハイドレートベッドが一定高さ上昇するのに要する時間を計測して求める。
【００３８】
更に、不飽和域における飽和度Ｓは、空隙率（ε）とサンプリングしたハイドレートの重量（Ｗｔ）とサンプリングした体積（Ｖｔ）とハイドレート密度（ρｈ）と液密度（ρＢ）から求める。
Ｓ＝Ｗｔ／（Ｖｔ・ρＢ・ε）−ρｈ／ρＢ・（（１−ε）／ε） ・・・ （３）
【００３９】
続いて、海水からガスハイドレートを、直接、製造する方法について説明する。
【００４０】
図１に示すように、揚水ポンプ１によって汲み上げた海水ｂと、海上ガス田から採取した天然ガスａを第１生成器３に供給すると共に、第１生成器３内を所定の温度及び圧力に維持しなから攪拌機（図示せず）によって攪拌すると、第１生成器３内でガスハイドレートが生成する。
【００４１】
第１生成器３内で製造されたガスハイドレートは、未反応の海水と混合してスラリー状になっているので、スラリーポンプ５によって洗浄塔４の底部のガスハイドレート導入部２２に強制的に供給する。その際、ガスハイドレートスラリーｄの一部は、スラリー供給管６から分岐した分岐管７によって第１生成器３に戻される。その際、分岐管７に設けた冷却器８によってガスハイドレート生成熱が除去される。
【００４２】
洗浄塔４の底部に供給されたガスハイドレートスラリーｄは、塔体２１に沿って上昇する。そして、図２に示すように、水切り部２３のスクリーン２７から未反応の海水ｂのみが排水ジャケット２８内に流出し、ガスハイドレートｅが塔体２１の上部に残る。ガスハイドレートｅは、スクリーン２７の下方にも蓄積され、多孔質体のベッドｇを形成する。このベッドｇは、ガスハイドレートスラリーｄの連続供給のもと、ガスハイドレートｅの浮力により上昇し続け、塔頂部から連続的に取り出せるようになる。
【００４３】
塔頂部では、洗浄水噴射ノズル３３から洗浄水ｃが散布され、上昇するガスハイドレートｅに付着している未反応の海水と置換される。その際、洗浄水噴射ノズル３３から散布する洗浄水ｃの洗浄水量Ｑは、上記（１）式によって制御される。つまり、制御装置１２によって流量制御弁１１を制御して必要最小限の洗浄水ｃが洗浄水噴射ノズル３３から塔頂部のガスハイドレートｅに対して噴射される。
【００４４】
洗浄水ｃによって洗浄されたガスハイドレートｅ’は、図３及び図４に示す回転式のガスハイドレート掻取装置３２のスクレーパー３７によって掻き取られ、ガスハイドレート排出口２５に供給される。ガスハイドレート排出口２５に供給された清浄なガスハイドレートｅ’は、第１ガスハイドレート排出管２５を通って図示しない第２生成器に供給される。ガスハイドレート排出口２５に供給されたガスハイドレートｅ’の一部は、第２ガスハイドレート排出管２６を通って融解槽２に供給される。融解槽２内のガスハイドレートｅ’は、海水ｂによって水ｃと天然ガスａに分解する。この水ｃは、海水と比べて塩分濃度が低いため、ポンプ１３によって前記洗浄水噴射ノズル３３に供給され、洗浄水として使用される。他方。天然ガスａは、配管１４を経て第１生成器３に戻される。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明に係るガスハイドレート洗浄塔を含むガスハイドレート製造装置の概略構成図である。
【図２】ガスハイドレート洗浄塔の概略構成図である。
【図３】洗浄掻取部の断面図である。
【図４】図３のＸ−Ｘ断面図である。
【図５】ガスハイドレート掻取装置の第２の実施形態を示す平面図である。
【図６】ガスハイドレートの分解状況を示す図である。
【符号の説明】
【００４６】
４ ガスハイドレート洗浄塔
２２ ハイドレートスラリー導入部
２３ 水切り部
２４ 洗浄掻取部
３２ ガスハイドレート掻取装置
３３ 洗浄水噴射ノズル
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスハイドレートスラリーを導入する導入部と、該導入部の上方にあってガスハイドレートスラリー中の未反応海水を重力を利用して脱水する水切り部と、該水切り部の上方にあってガスハイドレートに付着している未反応海水を稀釈すると共に、洗浄されたガスハイドレートを系外に掻き出す洗浄掻取部から成るガスハイドレート洗浄塔において、前記洗浄掻取部に回転式又はワイパー式のガスハイドレート掻取装置を設けると共に洗浄水噴射ノズルを設け、ガスハイドレートと未反応海水によって構成された飽和域Ｅにおけるガスハイドレートの空隙率をε、洗浄塔の断面積をＡ、ガスハイドレート堆積層の上昇速度をＵ、飽和域の上方に位置して未反応海水を稀釈する不飽和域Ｆにおけるガスハイドレートの飽和度をＳとした場合に、前記洗浄水噴射ノズルから噴射する洗浄水の水量Ｑが次式（１）を、
Ｑ＝１．１ε・Ａ・Ｕ・Ｓ ・・・・ （１）
満たすようにしたことを特徴とするガスハイドレート洗浄塔。
【請求項２】
洗浄掻取部を、塔体の頂部に設けた中空円筒状の掻取槽と、該掻取槽内に設けたガスハイドレート掻取装置と、前記掻取槽の天井に設けた洗浄水噴射ノズルにより形成することを特徴とする請求項１記載のガスハイドレート洗浄塔。
【請求項３】
掻取槽の軸心に対して、その一方の側に塔体を有し、他の一方の側にハイドレート排出口を配したことを特徴とする請求項２記載のガスハイドレート洗浄塔。
【請求項４】
回転式のガスハイドレート掻取装置を、掻取槽の軸心に設けた垂直な回転軸と、該回転軸の側面に設けた片持ち式の短冊状のスクレーパーにより形成し、かつ、前記スクレーパーの下辺によって掻取槽の底面を払拭するようにしたことを特徴とする請求項１記載のガスハイドレート洗浄塔。
【請求項５】
ワイパー型のガスハイドレート掻取装置を、４点リンク式のスクレーパーの駆動装置により形成すると共に、前記スクレーパーの駆動装置を形成している２本の長尺のリンクの先端にピン止めした短尺のリンクにスクレーパーを設けたことを特徴とする請求項１記載のガスハイドレート洗浄塔。
【請求項１】
ガスハイドレートスラリーを導入する導入部と、該導入部の上方にあってガスハイドレートスラリー中の未反応海水を重力を利用して脱水する水切り部と、該水切り部の上方にあってガスハイドレートに付着している未反応海水を稀釈すると共に、洗浄されたガスハイドレートを系外に掻き出す洗浄掻取部から成るガスハイドレート洗浄塔において、前記洗浄掻取部に回転式又はワイパー式のガスハイドレート掻取装置を設けると共に洗浄水噴射ノズルを設け、ガスハイドレートと未反応海水によって構成された飽和域Ｅにおけるガスハイドレートの空隙率をε、洗浄塔の断面積をＡ、ガスハイドレート堆積層の上昇速度をＵ、飽和域の上方に位置して未反応海水を稀釈する不飽和域Ｆにおけるガスハイドレートの飽和度をＳとした場合に、前記洗浄水噴射ノズルから噴射する洗浄水の水量Ｑが次式（１）を、
Ｑ＝１．１ε・Ａ・Ｕ・Ｓ ・・・・ （１）
満たすようにしたことを特徴とするガスハイドレート洗浄塔。
【請求項２】
洗浄掻取部を、塔体の頂部に設けた中空円筒状の掻取槽と、該掻取槽内に設けたガスハイドレート掻取装置と、前記掻取槽の天井に設けた洗浄水噴射ノズルにより形成することを特徴とする請求項１記載のガスハイドレート洗浄塔。
【請求項３】
掻取槽の軸心に対して、その一方の側に塔体を有し、他の一方の側にハイドレート排出口を配したことを特徴とする請求項２記載のガスハイドレート洗浄塔。
【請求項４】
回転式のガスハイドレート掻取装置を、掻取槽の軸心に設けた垂直な回転軸と、該回転軸の側面に設けた片持ち式の短冊状のスクレーパーにより形成し、かつ、前記スクレーパーの下辺によって掻取槽の底面を払拭するようにしたことを特徴とする請求項１記載のガスハイドレート洗浄塔。
【請求項５】
ワイパー型のガスハイドレート掻取装置を、４点リンク式のスクレーパーの駆動装置により形成すると共に、前記スクレーパーの駆動装置を形成している２本の長尺のリンクの先端にピン止めした短尺のリンクにスクレーパーを設けたことを特徴とする請求項１記載のガスハイドレート洗浄塔。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００８−２７４１２９（Ｐ２００８−２７４１２９Ａ）
【公開日】平成２０年１１月１３日（２００８．１１．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１１９８５９（Ｐ２００７−１１９８５９）
【出願日】平成１９年４月２７日（２００７．４．２７）
【国等の委託研究の成果に係る記載事項】（出願人による申告）平成１７年〜平成１８年度、独立行政法人石油天然ガス・金属鉱物資源機構、海水を用いた天然ガスハイドレート（ＮＧＨ）製造の委託研究、産業活力再生特別措置法第３０条の適用を受ける特許出願
【出願人】（０００１４４０４９）株式会社三井造船昭島研究所 (27)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１１月１３日（２００８．１１．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年４月２７日（２００７．４．２７）
【国等の委託研究の成果に係る記載事項】（出願人による申告）平成１７年〜平成１８年度、独立行政法人石油天然ガス・金属鉱物資源機構、海水を用いた天然ガスハイドレート（ＮＧＨ）製造の委託研究、産業活力再生特別措置法第３０条の適用を受ける特許出願
【出願人】（０００１４４０４９）株式会社三井造船昭島研究所 (27)
【Ｆターム（参考）】
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