クロマン環を有する液晶化合物、液晶組成物、およびこの液晶組成物を含有する液晶表示素子
【課題】化合物に必要な一般的物性、熱、光などに対する安定性、適切な光学異方性、誘電率異方性、そして他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する化合物の提供。
【解決手段】式（１）で表される化合物。Ｒａは水素又はアルキル、Ｒｂはハロゲンなど、Ａ１〜Ａ４は１，４−シクロヘキシレンなど、Ｚ１〜Ｚ４はアルキレンなど、Ｑは式（ｑ１）、式（ｑ２）および式（ｑ３）のいずれか１つで表される基である。
【解決手段】式（１）で表される化合物。Ｒａは水素又はアルキル、Ｒｂはハロゲンなど、Ａ１〜Ａ４は１，４−シクロヘキシレンなど、Ｚ１〜Ｚ４はアルキレンなど、Ｑは式（ｑ１）、式（ｑ２）および式（ｑ３）のいずれか１つで表される基である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子に関する。さらに詳しくは、クロマン環を有する化合物、これを含有し、そしてネマチック相を有する液晶組成物、およびこの組成物を含有する液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、液晶の動作モードに基づいて、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＢＴＮ（Bistable twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）などに分類される。素子の駆動方式に基づけば、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭ（passive matrix）はスタティック（static）とマルチプレックス（multiplex）などに分類される。そして、ＡＭはＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。
【０００３】
素子に用いる液晶組成物の物性は、これらのモードによって異なる。物性の例は、液晶相の温度範囲、粘度、光学異方性、しきい値電圧、比抵抗、弾性定数などである。組成物は多くの液晶性化合物を混合して調製される。化合物に必要な一般的物性は、水、空気、熱、光などに対する安定性、液晶相の広い温度範囲、小さな粘度、適切な光学異方性、適切な誘電率異方性、他の化合物との良好な相溶性などである。ネマチック相の高い上限温度を有する化合物は好ましい。ネマチック相、スメクチック相などの液晶相において低い下限温度を有する化合物は好ましい。小さな粘度を有する化合物は短い応答時間を有する素子に寄与する。光学異方性の適切な値は素子のモードによって異なる。低い電圧で素子を駆動するには、正に大きな誘電率異方性を有する化合物、または負に大きな誘電率異方性を有する化合物が好ましい。小さい誘電率異方性を有する化合物は粘度などを調整するのに好ましい。組成物を調製するには他の化合物との良好な相溶性を有する化合物が好ましい。素子を氷点下の温度で使うこともあるので、低い温度で良好な相溶性を有する化合物が好ましい。
【０００４】
従来、クロマン環を有する化合物を液晶表示素子として利用した例は殆んど見られない。強誘電性用の液晶表示素子としては、特開平６−２５６３３７および特開平６−２５６３３９に、例えば下記の化合物（１０ａ）および化合物（１０ｂ）などが報告されている。しかしながら、これらの化合物は、誘電率異方性が正に十分大きくなく、ＴＮ、ＳＴＮなどのモードに使用する液晶表示素子として好ましいものではなかった。
【０００５】
従来の技術は下記の文献に記載されている。さらに好ましい液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子が望まれている。
【０００６】
【特許文献１】特開平６−２５６３３７号公報
【特許文献２】特開平６−２５６３３９号公報
【特許文献３】特開２００１−３１６３４７号公報
【特許文献４】特開平５−２５１５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の第一の目的は、化合物に必要な一般的物性、熱、光などに対する安定性、適切な光学異方性、適切な誘電率異方性、そして他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する化合物を提供することである。第二の目的は、これらの化合物の少なくとも一つを含有し、そしてネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、低いしきい値電圧を有する液晶組成物を提供することである。第三の目的は、この組成物を含有し、そして使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きなコントラスト比、低い駆動電圧を有する液晶表示素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記の課題を解決するためにクロマン環を有する化合物が有効であり、特に正に十分に大きな誘電率異方性値を有する化合物を提供できることを知り、本発明を完成した。本発明の特定発明は次の［１］項で示される。
［１］ 式（１）で表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、または炭素数１〜２０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜２０のアルキル、少なくとも１つ水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜２０のアルケニル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、または１，４−フェニレンであり、これらの環において、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はハロゲン、メチルまたは−ＣＦ３で置き換えられてもよく；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４は独立して単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；ｈ、ｋ、ｍおよびｎは独立して０、１または２であり、そしてｈ、ｋ、ｍおよびｎの和は１、２または３であり；そして、Ｑは式（ｑ１）、式（ｑ２）および式（ｑ３）のいずれか１つで表される基である：
ここに、Ｘ１は水素、ハロゲン、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または−ＯＣＦＨ２であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである；但し、Ｑが式（ｑ１）で表される基であるとき、Ｘ１は水素、メチルまたはメトキシである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の化合物は、化合物に必要な一般的物性、熱、光などに対する安定性、適切な光学異方性、適切な誘電率異方性、他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する。本発明の液晶組成物は、これらの化合物の少なくとも一つを含有し、そしてネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、低いしきい値電圧を有する。本発明の液晶表示素子は、この組成物を含有し、そして使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きなコントラスト比、低い駆動電圧を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。液晶性化合物は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。液晶性化合物、液晶組成物、液晶表示素子をそれぞれ化合物、組成物、素子と略すことがある。液晶表示素子は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。ネマチック相の上限温度はネマチック相−等方相の相転移温度であり、そして単に上限温度と略すことがある。ネマチック相の下限温度を単に下限温度と略すことがある。式（１）で表わされる化合物を化合物（１）と称することがある。他の式で表される化合物についても同様に簡略化して称することがある。式（２）〜式（９）において、六角形で囲んだＢ、Ｄ、Ｅなどの記号はそれぞれ環Ｂ、環Ｄ、環Ｅなどを意味する。百分率で表した化合物の量は組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。本明細書で用いる用語「任意の」は、位置だけでなく個数についても任意であることを示す。そして、例えば、任意のＡがＢ、ＣまたはＤで置き換えられてもよいというような表現は、１つのＡがＢ、ＣおよびＤのどれかで置き換えられる場合および複数のＡのどれもがＢ、ＣおよびＤのどれかで置き換えられる場合に加えて、複数のＡがＢ、ＣおよびＤの２種以上で置き換えられる場合をも含むことを意味する。複数のＡがＢ、ＣおよびＤの２種以上で置き換えられる場合の例は、１つのＡがＢで置き換えられ、もう１つのＡがＣまたはＤで置き換えられる場合である。なお、本発明においては、連続する２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられて、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−Ｓ−または−Ｓ−Ｓ−になることは好ましくない。特に断らずにアルキルと記述するときは、直鎖アルキルと分岐アルキルの両方を含むアルキルを意味する。アルキレンについても同様である。例えば、ブチルはｎ−ブチル、２−メチルプロピルおよび１，１−ジメチルエチルのいずれであってもよい。
【００１１】
本発明は、上記の［１］項および次の［２］〜［２８］項で構成される。
［２］ Ｑが式（ｑ１）で表される基であり、Ｘ１が水素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、［１］項に記載の化合物。
【００１２】
［３］ Ｑが式（ｑ２）で表される基であり、Ｘ１が水素またはフッ素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、［１］項に記載の化合物。
【００１３】
［４］ Ｑが式（ｑ３）で表される基であり、Ｘ１が水素またはフッ素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、［１］項に記載の化合物。
【００１４】
［５］ 式（１−１）〜式（１−５）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはメチルであり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【００１５】
［６］ Ｘ１が水素である、［５］項に記載の化合物。
【００１６】
［７］ Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［５］項に記載の化合物。
【００１７】
［８］ Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、［５］項に記載の化合物。
【００１８】
［９］ Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［５］項に記載の化合物。
【００１９】
［１０］ Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、［５］項に記載の化合物。
【００２０】
［１１］ 式（１−６）〜式（１−１０）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つ水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはフッ素であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【００２１】
［１２］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［１１］項に記載の化合物。
【００２２】
［１３］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、［１１］項に記載の化合物。
【００２３】
［１４］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［１１］項に記載の化合物。
【００２４】
［１５］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、［１１］項に記載の化合物。
【００２５】
［１６］ 式（１−１１）〜式（１−１５）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはフッ素であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【００２６】
［１７］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置換されてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［１６］項に記載の化合物。
【００２７】
［１８］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、［１６］項に記載の化合物。
【００２８】
［１９］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［１６］項に記載の化合物。
【００２９】
［２０］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、［１６］項に記載の化合物。
【００３０】
［２１］ ［１］〜［２０］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物。
【００３１】
［２２］ ［１］〜［２０］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（２）、式（３）および式（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ２はフッ素、塩素、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３であり；環Ｂおよび環Ｄは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、環Ｅは１，４−シクロヘキシレンまたは少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ５およびＺ６は独立して−（ＣＨ２)２−、−（ＣＨ２)４−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合であり；そして、Ｌ１およびＬ２は独立して水素またはフッ素である。
【００３２】
［２３］ ［１］〜［２０］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ２およびＲ３は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイルまたは少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；Ｚ７は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合であり；Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は独立して水素またはフッ素であり；そしてｂ、ｃおよびｄは独立して０または１である。
【００３３】
［２４］ ［１］〜［２０］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（７）〜式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【００３４】
［２５］ 式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、［２２］項に記載の組成物：
ここに、Ｒ２およびＲ３は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイルまたは少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；Ｚ７は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合であり；Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は独立して水素またはフッ素であり；そしてｂ、ｃおよびｄは独立して０または１である。
【００３５】
［２６］ 式（７）、式（８）および式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、［２２］項に記載の組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【００３６】
［２７］ 式（７）、式（８）および式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、［２３］項に記載の組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【００３７】
［２８］ ［２１］〜［２７］のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【００３８】
本発明の化合物は式（１）で表される。
【００３９】
式（１）におけるＲａは水素、または炭素数１〜２０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。このようなＲａの例は、水素、アルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルケニル、アルケニルオキシおよびアルキニルである。これらの基の具体例は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、プロポキシメチル、ブトキシメチル、ペントキシメチル、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、２−プロペニルオキシ、２−ブテニルオキシ、２−ペンテニルオキシ、１−プロピニル、および１−ペンチニルである。
【００４０】
Ｒａの好ましい例は、水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、および炭素数２〜１０のアルケニルである。Ｒａのより好ましい例は、水素、炭素数１〜７のアルキル、および炭素数２〜７のアルケニルである。このようなＲａのより好ましい具体例は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、２−ヘキセニルおよび３−ヘキセニルである。アルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。１−プロペニル、１−ブテニル、１−ペンテニル、１−ヘキセニル、３−ペンテニル、３−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはトランス配置が好ましい。２−ブテニル、２−ペンテニル、および２−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはシス配置が好ましい。
【００４１】
式（１）中のＲｂは、ハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜２０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜２０のアルケニル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜２０のアルコキシである。このようなＲｂの例は、ハロゲン、アルコキシ、アルケニル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、ハロゲン化アルケニルである。Ｒｂの好ましい例は、ハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈおよび少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルである。ハロゲンの好ましい例はフッ素および塩素である。少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルの例は、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦ２、−ＣＦ２ＣＨ２Ｆ、−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＨ２ＣＨ２Ｆ、および−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｆである。
【００４２】
ＲａおよびＲｂとしては、上記の具体例の他、分岐の基であって光学活性である基も好ましい。
【００４３】
式（１）中のＡ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４は、独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレンまたは１，４−フェニレンである。これらの環において、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲン、−ＣＨ３または−ＣＦ３で置き換えられてもよい。Ａ１、Ａ２、Ａ３またはＡ４の好ましい例を次に示す。
【００４４】
【００４５】
【００４６】
Ａ１、Ａ２、Ａ３またはＡ４のより好ましい例は、上記の環のうちの（１５−１）、（１５−２）、（１５−７）、（１５−８）、（１５−１５）、（１５−１６）、および（１６−１）〜（１６−９）である。Ａ１、Ａ２、Ａ３またはＡ４の特に好ましい例は、（１５−１）、（１５−２）および（１６−１）〜（１６−６）である。１，４−シクロヘキシレンおよび１，３−ジオキサン−２，５−ジイルの立体配置はシスよりもトランスが好ましい。
【００４７】
式（１）中のＺ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４は、独立して単結合または炭素数１〜４のアルキレンである。このアルキレンにおいて、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３またはＺ４の好ましい例は、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−および−ＯＣＦ２−である。Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３またはＺ４のより好ましい例は、単結合および−ＣＨ２ＣＨ２−である。
【００４８】
式（１）中のＱは式（ｑ１）、式（ｑ２）および式（ｑ３）のいずれか１つで表される基である。
【００４９】
式（ｑ１）におけるＸ１は水素、メチルまたはメトキシであり、好ましくは水素またはメチルであり、特に好ましくは水素である。式（ｑ２）または式（ｑ３）におけるＸ１は水素、ハロゲン、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈまたは−ＯＣＦＨ２であり、好ましくは水素またはフッ素である。式（ｑ１）〜式（ｑ３）において、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５は、独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４の特に好ましい例は水素、フッ素およびメチルである。そして、Ｙ５の特に好ましい例は、水素、フッ素および塩素である。
【００５０】
式（ｑ１）の好ましい例は、次の式（１７−１）〜式（１７−１２）である。
【００５１】
これらのうちでさらに好ましい例は、式（１７−１）〜式（１７−４）、式（１７−６）および式（１７−８）である。
【００５２】
式（ｑ２）の好ましい例は、次の式（１８−１）〜式（１８−２４）である。
【００５３】
【００５４】
これらのうちでさらに好ましい例は、式（１８−１）〜式（１８−４）、式（１８−８）、式（１８−１０）、式（１８−１３）〜式（１８−１６）、式（１８−２０）および式（１８−２２）である。
【００５５】
式（ｑ３）の好ましい例は、次の式（１９−１）〜式（１９−２４）である。
【００５６】
【００５７】
これらのうちでさらに好ましい例は、式（１９−１）〜式（１９−４）、式（１９−８）、式（１９−１０）、式（１９−１３）〜式（１９−１６）、式（１９−２０）および式（１９−２２）である。
【００５８】
式（１）中のｈ、ｋ、ｍおよびｎは独立して０、１または２であり、そしてｈ、ｋ、ｍおよびｎの和は１、２または３である。この和が１である化合物はクロマン環Ｑを含めて２環を有する。この和が２である化合物はクロマン環Ｑを含めて３環を有する。この和が３である化合物はクロマン環Ｑを含めて４環を有する。いずれか１つの環が１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイルのようなヘテロ環であるとき、他の環はヘテロ環でない方が好ましい。化合物（１）は２Ｈ（重水素）、１３Ｃなどの同位体を天然存在比の量より多く含んでもよい。そのような場合でも、化合物の物性に大きな差異はない。
【００５９】
化合物（１）は、素子が通常使用される条件下において物理的および化学的に極めて安定であり、そして他の液晶性化合物との相溶性がよい。この化合物を含有する組成物は素子が通常使用される条件下で安定である。この組成物を低い温度で保管しても、この化合物が結晶（またはスメクチック相）として析出することがない。
【００６０】
化合物（１）の末端基、環および結合基を適切に選択することによって、光学異方性、誘電率異方性などの物性を任意に調整することが可能である。末端基ＲａおよびＲｂ、環Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４、結合基Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４の種類が、化合物（１）の物性に与える効果を以下に説明する。
【００６１】
Ｒａが水素、アルキル、アルケニルまたはアルコキシであり、そしてＲｂが−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、フッ素、塩素または−ＣＮであるとき、この化合物の誘電率異方性は正に非常に大きい。このような化合物（１）は組成物のしきい値電圧を下げるための成分として使用できる。Ｒａが水素、アルキルまたはアルケニルであり、そしてＲｂが−ＣＦ３、−ＣＨＦ２またはフッ素であるとき、この化合物の誘電率異方性は正に大きく、そして粘性が小さい。このような化合物（１）は組成物の粘度を調整するための成分として使用できる。Ｒａが水素、アルキルまたはアルケニルであり、そしてＲｂが−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２またはフッ素であるとき、この化合物の誘電率異方性は正に大きく、そして他の液晶化合物との相溶性がよい。このような化合物（１）は組成物の誘電率異方性、上限温度または粘度を調整するための成分として使用できる。その他、組成物の用途によって、適切な官能基を選択して適切な物性に調整する。
【００６２】
液晶化合物について一般的に説明されていることを当てはめれば、化合物（１）についても次のようなことが言える。ＲａまたはＲｂが直鎖であるときは液晶相の温度範囲が広くそして粘度が小さい。ＲａまたはＲｂが分岐鎖であるときは他の液晶性化合物との相溶性がよい。ＲａまたはＲｂが光学活性基である化合物は、キラルドーパントとして有用である。この化合物を組成物に添加することによって、素子に発生するリバース・ツイスト・ドメイン（Reverse twisted domain）を防止することができる。ＲａまたはＲｂが光学活性基でない化合物は組成物の成分として有用である。ＲａまたはＲｂがアルケニルであるとき、好ましい立体配置は二重結合の位置に依存する。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、高い上限温度または液晶相の広い温度範囲を有する。これらのことについては、Mol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 109およびMol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 327に詳細な説明がある。
【００６３】
Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が、ピリジン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであるとき、化合物（１）は正に大きな誘電率異方性を有する。これらの環が、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい１，４−フェニレンであるとき、化合物（１）は大きな光学異方性を有する。Ａ１またはＡ２が、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであるとき、化合物（１）は小さな光学異方性を有する。
【００６４】
少なくとも２つの環が１，４−シクロヘキシレンであるとき、化合物（１）は高い上限温度、小さな光学異方性、そして低い粘度を有する。少なくとも一つの環が１，４−フェニレンのとき、化合物（１）は比較的大きな光学異方性、そして大きな配向秩序パラメーター（orientational order parameter）を有する。少なくとも２つの環が１，４−フェニレンであるとき、化合物（１）は大きな光学異方性、液晶相の広い温度範囲、そして高い上限温度を有する。
【００６５】
結合基Ｚ１、Ｚ２またはＺ３が単結合、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−（ＣＨ2）４−であるとき、化合物（１）は低い粘度を有する。結合基が単結合、−（ＣＨ2）2−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、または−ＣＨ＝ＣＨ−であるとき、化合物（１）はより低い粘度を有する。結合基が−ＣＨ＝ＣＨ−であるとき、化合物（１）は液晶相の広い温度範囲、そして大きな弾性定数比Ｋ33／Ｋ11（Ｋ33：ベンド弾性定数、Ｋ11：スプレイ弾性定数）を有する。結合基が−Ｃ≡Ｃ−のとき、化合物（１）は大きな光学異方性を有する。
【００６６】
クロマン環を含めて２環または３環であるとき、化合物（１）は低い粘度を有する。クロマン環を含めて３環または４環であるとき、化合物（１）は高い上限温度を有する。以上のように、末端基、環および結合基の種類、環の数を適当に選択することにより目的の物性を有する化合物を得ることができる。したがって、化合物（１）はＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡなどの素子に用いられる組成物の成分として有用である。
【００６７】
化合物（１）の好ましい例は、式（１−ａ）〜式（１−ｏ）のいずれか１つで表される化合物である。
【００６８】
式（１−ａ）〜式（１−ｏ）において、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはフッ素であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【００６９】
化合物（１）のより具体的な例を次に示す。
【００７０】
【００７１】
【００７２】
【００７３】
【００７４】
上記の式（１−１−１）〜式（１−１５−８）において、Ｒａ、Ｒｂ、Ａ1〜Ａ４、Ｚ1〜Ｚ４、Ｘ１、およびＹ１〜Ｙ４は、式（１−ａ）〜式（１−ｏ）におけるこれらの記号と同じ意味を有する。上記の式における下記の環構造は１つまたは２つの水素がフッ素で置き換えられてもよいベンゼン環を意味する。
【００７５】
化合物（１）は有機合成化学における手法を適切に組み合わせることにより合成できる。出発物に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、Organic Syntheses（John Wiley & Sons, Inc）、Organic Reactions（John Wiley & Sons, Inc)、Comprehensive Organic Synthesis（Pergamon Press）、および新実験化学講座（丸善）などに記載されている。結合基Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３またはＺ４を合成する方法の一例をスキームを用いて説明する。このスキームにおいて、ＭＳＧ１またはＭＳＧ２は少なくとも一つの環を有する１価の有機基である。スキームで用いた複数のＭＳＧ１（またはＭＳＧ２）は、同一であってもよいし、または異なってもよい。化合物（１Ａ）から（１Ｋ）は化合物（１）に相当する。
【００７６】
（Ｉ）単結合の生成
アリールホウ酸（２１）と公知の方法で合成される化合物（２２）とを、炭酸塩水溶液とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で反応させて化合物（１Ａ）を合成する。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを反応させ、塩化亜鉛を反応させ、次いでジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で化合物（２２）を反応させることによっても合成される。
【００７７】
（II）−ＣＦ２Ｏ−と−ＯＣＦ２−の生成
化合物（１Ｂ）をローソン試薬のような硫黄化剤で処理して化合物（２６）を得る。化合物（２６）をフッ化水素ピリジン錯体とＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）でフッ素化し、−ＣＦ２Ｏ−を有する化合物（１Ｃ）を合成する（M. Kuroboshi et al., Chem. Lett., 1992，827.を参照）。化合物（１Ｃ）は化合物（２６）を（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化しても合成される（W. H. Bunnelle et al., J. Org. Chem. 1990, 55, 768.を参照）。この方法によって−ＯＣＦ２−を有する化合物も合成できる。Peer. Kirsch et al., Anbew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480.に記載の方法によってこれらの結合基を生成させることも可能である。
【００７８】
（III）−ＣＨ＝ＣＨ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのホルムアミドと反応させてアルデヒド（２８）を得る。公知の方法で合成されるホスホニウム塩（２７）をカリウムｔ−ブトキシドのような塩基で処理して発生させたリンイリドを、アルデヒド（２８）に反応させて化合物（１Ｄ）を合成する。反応条件によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。
【００７９】
（IV）−（ＣＨ２）２−の生成
化合物（１Ｄ）をパラジウム炭素のような触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｅ）を合成する。
【００８０】
（Ｖ）−（ＣＨ２）４−の生成
ホスホニウム塩（２７）の代わりにホスホニウム塩（２９）を用い、項（III）または項
（IV）の方法に従って−（ＣＨ２）２−および−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を得る。これを接触水素化して化合物（１Ｆ）を合成する。
【００８１】
（VI）−Ｃ≡Ｃ−の生成
ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下で、化合物（２３）に２−メチル−３−ブチン−２−オールを反応させたのち、塩基性条件下で脱保護して化合物（３０）を得る。ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下、化合物（３０）を化合物（２２）と反応させて、化合物（１Ｇ）を合成する。
【００８２】
（VII）−ＣＦ＝ＣＦ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（３１）を得る。化合物（２２）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、化合物（３１）と反応させて化合物（１Ｈ）を合成する。
【００８３】
（VIII）−ＣＨ２Ｏ−または−ＯＣＨ２−の生成
化合物（２８）を水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤で還元して化合物（３２）を得る。これを臭化水素酸などでハロゲン化して化合物（３３）を得る。炭酸カリウムなどの存在下で、化合物（３３）を化合物（２５）と反応させて化合物（１Ｊ）を合成する。
【００８４】
（IX）−（ＣＨ2）3Ｏ−または−Ｏ（ＣＨ2）3−の生成
化合物（３２）の代わりに化合物（３４）を用いて、項（VIII）の方法に従って化合物（１Ｋ）を合成する。
【００８５】
（X）−（ＣＦ2）2−の生成
J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 5414.に記載された方法に従い、ジケトン（−ＣＯＣＯ−）をフッ化水素触媒の存在下、四フッ化硫黄でフッ素化して−（ＣＦ2）2−を有する化合物を得る。
【００８６】
次に、Ａ１、Ａ２、Ａ３またはＡ４に関する合成法を説明する。
１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイルなどの環に関しては出発物が市販されているか、または合成法がよく知られている。そこで、下記の化合物（３７）および化合物（４１）について説明する。
２，３−ビストリフルオロメチルフェニレンの構造単位は、Org. Lett., 2000, 2 (21), 3345の文献に記載された方法で合成する。フラン（３５）と１，１，１，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブチンとを高温でディールズ・アルダー型の反応をさせることによってアニリン（３６）を合成する。この化合物から、Org. Synth. Coll., Vol. 2, 1943, 355に記載された方法に従い、サンド・マイヤー型反応によってヨウ化物（３７）を得る。この化合物は一般的な有機合成化学の手法によって化合物（１）に変換する。
【００８７】
２−ジフルオロメチル−３−フルオロフェニレンの構造単位は、次のような方法で合成する。化合物（３８）の水酸基を適切な保護基で保護して化合物（３９）を得る。Ｐは保護基を意味する。化合物（３９）にsec-ブチルリチウムを作用させ、続いてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を反応させてアルデヒド（４０）を得る。この化合物をジエチルアミノサルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化し、続いて脱保護してフェノール（４１）を得る。この化合物は一般的な有機合成化学の手法によって化合物（１）に変換する。なお、上記の式におけるＱ２は次の式で表される基である。
【００８８】
次にＱを生成する方法について説明する。最初に、ベンゾピラン環の誘導体を合成するために、下記に示すような化合物（ｑ１ａ）、化合物（ｑ２ａ）および化合物（ｑ３ａ）を合成し、これらのうちのいずれかを出発原料として化合物（１）を合成する。まず、化合物（ｑ１ａ）、化合物（ｑ２ａ）および化合物（ｑ３ａ）を合成する方法の一例を説明する。
これらの式におけるＱ１は下記の式で表される基である。
【００８９】
１）化合物（ｑ１ａ）の合成
出発原料となる化合物（５２）は、一般的な有機合成化学における手法、さらには上記の合成スキーム（Ｉ）〜（Ｘ）を用いることにより、容易に合成することができる。以下に、化合物（５２）に誘導するための一般的な合成例（Ａ）〜（Ｃ）を示す。
【００９０】
（Ａ） Ａ２がシクロヘキシレンであり、かつＺ２が単結合である場合、またはＺ２がアルキレンである場合の化合物（５２）の合成法
（これらの式において、Ｐは保護基を表し、Ｍｅはメチルを表し、ＴＩＰＳはトリイソプロピルシリルを表し、ＴＢＤＭＳはｔ−ブチルジメチルシリルを表し、Ｂｎはベンジルを表し、そしてｉは０〜３である。）
最初に有機合成化学の方法に従ってシクロヘキサノン誘導体（５０ａ）、またはカルボニル誘導体（５０ｂ）を準備し、適切なグリニャール試薬（５１）を用いたグリニャール反応、酸による脱水反応、およびＰｄ触媒を用いた水素還元を順次行い、その後は必要により塩化アルミニウムを用いた異性化反応を行うことにより、容易に化合物（５２）に誘導することができる。
【００９１】
（Ｂ） Ａ２がフェニレン、ピリミジンなどであり、かつＺ２が単結合である場合、またはＺ２がアルキレン、アルケニレン、アルキニレンまたは−ＣＨ２−である場合の化合物（５２）の合成法
（これらの式において、Ｘ４は臭素、ヨウ素またはトリフラート（ＯＴｆ）を表し、そしてＸ１は水素、ハロゲン、メチルまたは−ＣＦ３を表す。）
最初に有機合成化学の方法の方法に従って化合物（５３ａ）または化合物（５３ｂ）を準備し、例えばボロン酸誘導体（５４）などとカップリング反応を行う方法、またはフェノールの誘導体（５５）とWilliamsonエーテル化を行う方法などを用いることによって、容易に化合物（５２）に誘導することができる。
【００９２】
（Ｃ）Ｚ２が−ＣＦ２Ｏ−である場合の化合物（５２）の合成法
最初に有機合成化学の方法の方法に従って化合物（５３ｃ）を準備し、フェノール誘導体（５５）などとエステル化反応させ、その後に上記に記載した合成スキーム（II）を用いることによって、容易に化合物（５２）に誘導することができる。
【００９３】
次に、化合物（５２）から化合物（ｑ１ａ）を合成する方法について説明する。まず、化合物（５２）から化合物（５７）に誘導するスキームを下記に示す。
化合物（５２）を臭素化し、次いでブチルリチウムで処理した後にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などと作用させてアルデヒド体（５７）を得る。その後、ジエチルホスホノ酢酸エチルを水素化ナトリウムのような塩基で処理して発生させたリンイリドを、化合物（５７）と反応させて、化合物（５８）を得る。
【００９４】
次に、化合物（５８）から化合物（ｑ１ａ）を合成する方法について説明する。
（Ｉ−１） 化合物（６１）の合成
化合物（６１）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（５８）をパラジウム触媒下で水素還元を行い、ついでProtective Groups in Organic Synthesis（Greene, John Wiley & Sons, Inc）などに記載されている一般的な脱保護の条件により、フェノールの保護基を取り除く。得られた化合物（６０）をｐ−トルエンスルホン酸などを用いて脱水環化反応を行うことにより、化合物（６１）を得ることができる。
【００９５】
（Ｉ−２） 化合物（６５）の合成
化合物（６５）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（５８）をｍ−クロロ過安息香酸と作用させてエポキシド体（６２）に誘導し、さらに酢酸ナトリウムを加えることで化合物（６３）を得る。次いで、この化合物（６３）をジエチルアミノサルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）などのフッ素化剤を用いてフッ素化し、その後は（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いて、脱保護、脱水環化反応を行うことにより、化合物（６５）を得ることができる。
【００９６】
（Ｉ−３） 化合物（６７）の合成
化合物（６７）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（６３）から、Ｗｉｔｔｉｇ反応、次いで水素還元を行って化合物（６６）に誘導し、その後に（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（６７）を得ることができる。
【００９７】
（Ｉ−４） 化合物（７０）の合成
化合物（７０）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（６４）から、塩素との光反応を行って塩素化物（６８）とし、さらにフッ化アンチモンを作用させてフッ素化を行うことにより化合物（６９）に誘導する。その後は、（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（７０）を得ることができる。
【００９８】
（Ｉ−５） 化合物（７４）の合成
化合物（７４）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（５２）とシアノ酢酸クロリドの混合物に塩化アルミニウムを作用させて化合物（７１）とし、ついでエタノールと塩基により化合物（７２）に誘導する。そして、ＤＡＳＴを用いてフッ素化し、その後は（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（７４）を得ることができる。
【００９９】
（Ｉ−６） 化合物（７６）の合成
化合物（７６）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（７２）から、Wittig反応、次いで水素還元を行って化合物（７５）に誘導し、その後に（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（７６）を得ることができる。
【０１００】
（Ｉ−７） 化合物（７８）の合成
化合物（７８）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（６２）にフッ化水素ピリジンを作用させ、ついでＤＡＳＴを用いてフッ素化を行うことにより化合物（７７）が得られる。その後は（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（７８）を得ることができる。
【０１０１】
２）化合物（ｑ２ａ）の合成
（II−１） 化合物（８３）の合成
出発原料は、上段に記載した化合物（５６）とする。化合物（５６）から化合物（８３）に誘導するスキームの一例を下記に示す。
化合物（５６）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、ホルムアルデヒドを作用させると化合物（７９）が得られる。そして、（Ｉ−１）に記した方法と同様に 適切な条件で保護基を取り除いた後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ２Ｏ）とピリジンにより、トリフラート体（８１）を得る。その後に、化合物（８１）と有機スズ化合物の混合物をパラジウム触媒下でカップリング反応を行うことにより化合物（８２）に誘導した後、ｐ−トルエンスルホン酸などを用いて脱水環化反応を行うことにより、化合物（８３）を得ることができる。
【０１０２】
（II−２） 化合物（８５）の合成
化合物（８５）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（８３）から、過剰量の塩素との光反応を行って塩素化物（８４）に誘導し、さらにフッ化アンチモンを作用させてフッ素化を行うことにより化合物（８５）を得ることができる。
【０１０３】
（II−３） 化合物（８７）の合成
化合物（８７）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（８３）から、水酸化ナトリウムとクロロメトキシメチルを用いて化合物（８６）に誘導し、その後にパラジウム触媒下で水素還元を行うことにより化合物（８７）が得られる。
【０１０４】
（II−４） 化合物（９４）の合成
まず、化合物（５２）を合成したときと同様の方法により、化合物（５０ａ）、化合物（５０ｂ）、化合物（５３ａ）または化合物（５３ｂ）を出発原料として、化合物（８８）に容易に誘導することができる。
【０１０５】
化合物（８８）を出発原料として、例えば下記のような方法で、化合物（９４）を合成することができる。
【０１０６】
化合物（８８）の保護基を適切な方法で取り除いた後、臭素化を行い、化合物（８９）を得る。化合物（８９）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、ホルムアルデヒドを作用させ、次いで水酸基を適切な保護基で保護すると、化合物（９０）が得られる。さらに化合物（９０）をヨウ素化した後、ブロモジフルオロ酢酸エチルと活性化させた銅を加え、加熱還流させて化合物（９２）に誘導する。その後は、保護基を取り除いた後に、ｐ−トルエンスルホン酸などを用いて脱水環化反応を行うことにより、化合物（９４）を得ることができる。
【０１０７】
（II−５） 化合物（９９）の合成
化合物（９９）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（５６）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、アセトアルデヒドを作用させると化合物（９５）が得られる。そして、（Ｉ−１）に記した方法と同様に適切な方法で取り除いた後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物とピリジンにより、トリフラート体（９７）を得る。その後に、化合物（９７）と有機スズ化合物の混合物をパラジウム触媒下でカップリング反応を行うことにより化合物（９８）に誘導した後、ｐ−トルエンスルホン酸などを用いて脱水環化反応を行うことにより、化合物（９９）を得ることができる。
【０１０８】
３）化合物（ｑ３ａ）の合成
（III−１） 化合物（１０６）の合成
出発原料は、前記の化合物（８８）とする。化合物（８８）から化合物（１０６）に誘導するスキームの一例を下記に示す。
【０１０９】
化合物（９７）にｎ−ブチルリチウムを作用させた後に、臭素を作用させて化合物（１００）を得た後、パラジウム触媒と用いてアリールマグネシウムクロリドとカップリング反応を行うことにより、化合物（１０１）を得る。そして、得られた化合物（１０１）をＮ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド（ＮＭＯ）を共酸化剤として使用して四酸化オスミウムで酸化し、化合物（１０２）を得る。次に、化合物（１０２）にベンズアルデヒドを作用させ、さらに水酸化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）で還元することにより化合物（１０３）を得る。その後に、適当な方法で保護基を取り除き、トシルクロリドと水酸化カリウムを用いて環化反応、次いで水素還元を行ってベンジル基を水酸基に変換することにより化合物（１０５）に誘導する。そしてクロム酸を用いたJones酸化反応などによって酸化を行うことにより、化合物（１０６）を得ることができる。
【０１１０】
（III−２） 化合物（１０８）の合成
化合物（１０８）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（１０６）から、塩素との光反応を行って塩素化物（１０７）に誘導し、さらにフッ化アンチモンを作用させてフッ素化を行うことにより化合物（１０８）を得ることができる。
【０１１１】
（III−３） 化合物（１１０）の合成
化合物（１１０）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（１０６）から、過剰量の塩素との光反応を行って塩素化物（１０９）に誘導し、さらにフッ化アンチモンを作用させてフッ素化を行うことにより化合物（１１０）を得ることができる。
【０１１２】
（III−４） 化合物（１１２）の合成
化合物（１１２）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（１０６）を水酸化ナトリウムとクロロメトキシメチルを用いて化合物（１１１）に誘導し、その後にパラジウム触媒下で水素還元を行うと、化合物（１１２）が得られる。
【０１１３】
（III−５） 化合物（１１０）の合成
化合物（１１０）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
【０１１４】
化合物（１００）を、パラジウム触媒と用いて２−ブテニルマグネシウムクロリドとカップリング反応を行うことにより、化合物（１１３）を得る。その後は、（III−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（１１８）を得ることができる。
【０１１５】
続いて、化合物（Ｑａ（＝Ｏ））とＱ２の連結方法について述べる。ここで、化合物（Ｑａ（＝Ｏ））は、下記の化合物（ｑ１ａ）、化合物（ｑ２ａ）または化合物（ｑ３ａ）のいずれか１つを表す。Ｑａ（ＯＨ）、Ｑａ（Ｈ）、Ｑａ（Ｆ）、およびＱａ（Ｃｌ）も、同じように下記の意味を有する。
【０１１６】
【０１１７】
【０１１８】
（１）ｍおよびｎが０である化合物の合成
（IV−１） 化合物（１２１）、化合物（１２２）および化合物（１２３）の合成
化合物（１２１）、化合物（１２２）および化合物（１２３）の合成スキームの一例を下記に示す。
【０１１９】
化合物（Ｑａ（＝Ｏ））に、例えばトリフルオロメチルトリメチルシランとテトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）を作用させると化合物（１２０）が得られる。この化合物（１２０）に塩化チオニルを作用させると化合物（１２１）が得られ、さらに水素還元を行うと、化合物（１２２）が得られる。また、化合物（１２０）にフッ化水素ピリジンをさせると、化合物（１２３）を得ることができる。
【０１２０】
（IV−２） 化合物（１２６）の合成
化合物（１２６）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
ヨードパーフルオロエタンに金属リチウム作用させたものを、化合物（Ｑａ（＝Ｏ））と反応させて化合物（１２４）とする。その後は、（IV−１）に記した方法と同様の方法を用いることによって、化合物（１２６）を得ることができる。
【０１２１】
（IV−３） 化合物（１２８）、化合物（１２９）および化合物（１３０）の合成
化合物（１２８）、化合物（１２９）および化合物（１３０）の合成スキームの一例を下記に示す。
化合物（Ｑａ（＝Ｏ））に、ＤＩＢＡＬを用いて還元すると、化合物（１２７）が得られる。この化合物にフッ化水素ピリジンを作用させると、化合物（１２８）が得られる。この化合物（１２８）に塩化チオニルを作用させると化合物（１２９）、また化合物（１２８）にヨードトリフルオロメタンを作用させてエーテル化を行うと化合物（１３０）が得られる。
【０１２２】
（２）ｍまたはｎのどちらかが０でない化合物の合成
（IV−４） 化合物（１３１）、化合物（１３３）および化合物（１３４）の合成
化合物（１３１）、化合物（１３３）および化合物（１３４）の合成スキームの一例を下記に示す。
（これらの式において、Ｑ２は前記の通りの意味を有し、そしてＸ５はヨウ素、臭素または塩素である。）
【０１２３】
化合物（Ｑａ（＝Ｏ））に、ローソン試薬を使用してチオエステル化合物に誘導した後、フッ化水素ピリジンを作用させると化合物（１３１）を得ることができる。また、Ｑ２のハロゲン化物に金属リチウムを作用させたものを、化合物（Ｑａ（＝Ｏ））と反応させて化合物（１３２）とし、次いで塩化チオニルを用いた塩素化、さらには水素還元を行うと化合物（１３３）が得られる。また、化合物（１３２）にフッ化水素ピリジンを作用させると、化合物（１３４）を得ることができる。
【０１２４】
（IV−５） 化合物（１３７）および化合物（１３８）の合成
化合物（１３８）および化合物（１３９）の合成スキームの一例を下記に示す。
シクロヘキセン誘導体のハロゲン化物（１３５）に金属リチウムを作用させたものを、化合物（Ｑａ（＝Ｏ））と反応させると、化合物（１３６）が得られる。この化合物（１３６）を（IV−４）と同様の方法で塩素化、水素還元を行うと化合物（１３７）が得られる。また、フッ化水素ピリジンを作用させた後に水素還元を行うと、化合物（１３８）を得ることができる。
【０１２５】
化合物（１）は下記のようなスキームによる方法で製造することもできる。
（これらの式において、Ｑ１およびＱ２は前記の通りの意味を有し、Ｘ６は臭素または塩素、そしてＸ７は臭素、ヨウ素またはトリフラート（ＯＴｆ）である。）
【０１２６】
まず、上の（IV−１）〜（IV−５）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（１４０）から化合物（１４１）を合成することができる。この化合物（１４１）を、ホウ酸トリメチルなどを用いることによりボロン酸誘導体（１４３）に変換する。その後、この化合物（１４３）とＱ１のハロゲン化物（１４４）を、パラジウム触媒などを用いてカップリング反応を行うことにより、式（１）の化合物を得ることができる。
【０１２７】
官能基や環の化学的性質、または合成の簡便さなどの様々な要因を考慮した上で、式（１）の化合物の適切な合成方法を選択する。
【０１２８】
次に、本発明の組成物について説明する。本発明の液晶組成物は、化合物（１）の少なくとも１つを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。この組成物の成分は化合物（１）から選ばれた複数の化合物のみであってもよい。本発明の好ましい液晶組成物は、本発明の化合物に加えてその他の液晶性化合物をさらに含有する液晶組成物であり、このとき第一成分として化合物（１）から選択される少なくとも１つの化合物を１〜９９％の割合で含有する。
【０１２９】
このような組成物の最初の好ましい例は、化合物（１）の少なくとも１つと、式（２）〜式（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。
これらの式において、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。Ｘ２はフッ素、塩素、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３である。環Ｂおよび環Ｄは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。環Ｅは１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。Ｚ５およびＺ６は独立して−（ＣＨ２)２−、−（ＣＨ２)４−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。そして、Ｌ１およびＬ２は独立して水素またはフッ素である。
【０１３０】
化合物（２）〜化合物（４）は、誘電率異方性が正で大きいので、ＡＭ−ＴＮ素子用の組成物に主として用いられる。この組成物において、これらの化合物の量は１〜９９％である。好ましい量は１０〜９７％である。より好ましい量は４０〜９５％である。
【０１３１】
本発明の液晶組成物の２番目の例は、化合物（１）の少なくとも１つと、式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。
これらの式において、Ｒ２およびＲ３は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。Ｘ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮである。環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルである。環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイルまたは少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンである。Ｚ７は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合である。Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は独立して水素またはフッ素である。そしてｂ、ｃおよびｄは独立して０または１である。
【０１３２】
化合物（５）および化合物（６）は、誘電率異方性が正で非常に大きいので、ＳＴＮ素子用の組成物に主として用いられる。この組成物において、これらの化合物の量は１〜９９％である。好ましい量は１０〜９７％である。より好ましい量は４０〜９５％である。
【０１３３】
本発明の液晶組成物の３番目の例は、化合物（１）の少なくとも１つと、式（７）〜式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。
これらの式において、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。そして、Ｚ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合である。
【０１３４】
化合物（７）、化合物（８）および化合物（９）の誘電率異方性は小さい。化合物（７）は粘度または光学異方性を調整する目的で主に使用される。化合物（８）および化合物（９）は上限温度を上げて液晶相の温度範囲を広げる、または光学異方性を調整する目的で使用される。化合物（７）、化合物（８）および化合物（９）の量を加させると組成物のしきい値電圧が高くなり、粘度が小さくなる。したがって、組成物のしきい値電圧の要求値を満たすかぎり多量に使用してもよい。
【０１３５】
本発明の液晶組成物の４番目の例は、化合物（１）の少なくとも１つ、式（２）〜式（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物、並びに式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物を含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。
【０１３６】
本発明の液晶組成物の５番目の例は、化合物（１）の少なくとも１つ、式（２）〜式（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物、並びに式（７）〜式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物を含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。この組成物における化合物（２）〜化合物（４）の化合物の添加量は前記の通りであり、この組成物に化合物（７）〜化合物（９）をさらに添加する場合、この化合物の好ましい量は６０％以下である。より好ましい量は４０％以下である。
【０１３７】
本発明の液晶組成物の６番目の例は、化合物（１）の少なくとも１つ、式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物、並びに式（７）〜式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物を含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。この組成物における化合物（５）または化合物（６）の添加量は前記の通りであり、この組成物に化合物（７）〜化合物（９）をさらに添加する場合、この化合物の好ましい量は６０％以下である。より好ましい量は４０％以下である。
【０１３８】
化合物（２）〜化合物（９）の好ましい例は、化合物（２−１）〜化合物（２−９）、化合物（３−１）〜化合物（３−９７）、化合物（４−１）〜化合物（４−３３）、化合物（５−１）〜化合物（５−５６）、化合物（６−１）〜化合物（６−３）、化合物（７−１）〜化合物（７−１１）、化合物（８−１）〜化合物（８−２１）、および化合物（９−１）〜化合物（９−６）である。これらの化合物において、Ｒ1、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ4、Ｒ５、Ｘ1およびＸ２の記号の意味は、式（２）〜式（９）におけるこれらの記号の意味と同一である。
【０１３９】
【０１４０】
【０１４１】
【０１４２】
【０１４３】
【０１４４】
【０１４５】
【０１４６】
【０１４７】
【０１４８】
【０１４９】
【０１５０】
光学活性化合物の好ましい例を次に示す。
【０１５１】
本発明の組成物は公知の方法によって調製される。例えば、成分である化合物を混合し、加熱によって互いに溶解させる。組成物に適当な添加物を加えて組成物の物性を調整してもよい。このような添加物は当業者によく知られている。メロシアニン、スチリル、アゾ、アゾメチン、アゾキシ、キノフタロン、アントラキノン、テトラジンなどの化合物である二色性色素を添加してＧＨ素子用の組成物を調製してもよい。一方、液晶のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を与える目的でキラルドーパントが添加される。キラルドーパントの例は上記の光学活性化合物（Ｏｐ−１）〜（Ｏｐ−１２）である。
【０１５２】
キラルドーパントを組成物に添加してねじれのピッチを調整する。ＴＮ素子およびＴＮ−ＴＦＴ素子用の好ましいピッチは４０〜２００μｍの範囲である。ＳＴＮ素子用の好ましいピッチは６〜２０μｍの範囲である。ＢＴＮ素子用の好ましいピッチは１．５〜４μｍの範囲である。ＰＣ素子用の組成物にはキラルドーパントを比較的多量に添加する。ピッチの温度依存性を調整する目的で、少なくとも二つのキラルドーパントを添加してもよい。
【０１５３】
本発明の組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＢＴＮ，ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡなどの素子に使用できる。これらの素子は駆動方式がＰＭであってもよいし、またはＡＭであってもよい。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）素子、例えばＰＮ（polymer network）素子にも使用できる。
【実施例】
【０１５４】
実施例により本発明をさらに詳しく説明する。本発明はこれらの実施例によって制限されない。化合物の相転移温度において、Ｃ、ＮおよびＩは、それぞれ、結晶、ネマチック相および等方相である。かっこ内の相転移はそれがモノトロピックであることを示す。温度の単位は℃である。得られた化合物は核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルなどで同定した。核磁気共鳴スペクトルにおいて、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｍはマルチプレットである。化合物の量（百分率）は組成物の全重量に基づいた重量％である。
【０１５５】
物性値の測定は、日本電子機械工業規格（Standard of Electronic Industries Association of Japan）、ＥＩＡＪ・ＥＤ−２５２１Ａに記載された方法、またはこれを修飾した方法に従った。
＜ネマチック相の上限温度（ＮＩ；℃）＞
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。
【０１５６】
＜ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）＞
ネマチック相を有する試料を０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶（またはスメクチック相）に変化したとき、ＴＣを＜−２０℃と記載する。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。
【０１５７】
＜化合物の相溶性＞
類似の構造を有する幾つかの化合物を混合してネマチック相を有する母液晶を調製した。測定する化合物とこの母液晶とを混合した組成物を得た。混合する割合の一例は、１５％の化合物と８５％の母液晶である。この組成物を−２０℃、−３０℃のような低い温度で３０日間保管した。この組成物の一部が結晶（またはスメクチック相）に変化したか否かを観察した。必要に応じて混合する割合と保管温度とを変更した。このようにして測定した結果から、結晶（またはスメクチック相）が析出する条件および結晶（またはスメクチック相）が析出しない条件を求めた。これらの条件が相溶性の尺度である。
【０１５８】
＜光学異方性（屈折率異方性；Δｎ；２５℃で測定）＞
波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計を用いて測定した。主プリズムの表面を一方向にラビング（rubbing）したあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率ｎ‖は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率ｎ⊥は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。試料が組成物のときはこの方法によって光学異方性を測定した。試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあと光学異方性を測定した。化合物の光学異方性は外挿値である。
【０１５９】
＜誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）＞
試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあと誘電率異方性を測定した。化合物の誘電率異方性は外挿値である。２枚のガラス基板の間隔（ギャップ）が約９μｍ、ツイスト角が８０度の液晶セルに試料を入れた。このセルに２０ボルトを印加して、液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。０．５ボルトを印加して、液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。
【０１６０】
＜しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）＞
試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあとしきい値電圧を測定した。化合物のしきい値電圧は外挿値である。２枚のガラス基板の間隔（ギャップ）が（０．５／Δｎ）μｍであり、ツイスト角が８０度である、ノーマリーホワイトモード（normally white mode）の液晶表示素子に試料を入れた。Δｎは上記の方法で測定した光学異方性の値である。この素子に周波数が３２Ｈｚである矩形波を印加した。矩形波の電圧を上昇させ、素子を通過する光の透過率が９０％になったときの電圧の値を測定した。
【０１６１】
［実施例１］
＜化合物（Ｍ２−０１）の合成＞
下記のスキームに従って化合物（Ｍ２−０１）（２−トリフルオロメチル−６−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）クロマン）を合成した。
【０１６２】
（工程１）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０１ａ）（15.0g）と炭酸カリウム（13.8g）のＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（70mL）溶液を４５℃に加熱してベンジルクロリド（6.84g）を滴下し、９０℃で１時間攪拌した。反応物を水にあけてトルエン（100mL）で抽出し、常法により重曹水、水で順次洗浄して濃縮し、化合物（Ｍ２−０２ｂ）（19.1g）を得た。窒素雰囲気下で、得られた化合物（Ｍ２−０１ｂ）（19.1g）のジクロロメタン（100mL）溶液を０℃に冷却して、臭素（8.61g）を滴下し、そのまま３０分攪拌した。反応物を水にあけてジクロロメタン（100mL）を追加し、常法により、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄して濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物（Ｍ２−０１ｃ）（17.7g）を単離した。そして、窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０１ｃ）（17.7g）のＴＨＦ（100ｍL）溶液を−６５℃まで冷却し、ｓｅｃ−ブチルリチウム／シクロヘキサン溶液（37.7mL（1.00mol/L））を滴下した。そのままの温度で１時間攪拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（4.13g）のＴＨＦ（10mL）溶液を滴下し、さらに１時間攪拌した。反応物を１Ｎ−ＨＣｌ水溶液にあけてトルエン（300mL）で２回抽出し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０１ｄ）（10.9g）を単離した。
【０１６３】
（工程２）
窒素雰囲気下で、ジエチルホスホノ酢酸エチル（7.00g）のＴＨＦ（25mL）溶液を−４０℃に冷却し、ｔ−ブトキシカリウム（3.50g）をゆっくりと加えた。そのまま１時間攪拌した後に、化合物（Ｍ２−０１ｄ）（10.9g）のＴＨＦ（30mL）溶液を滴下し、さらに１時間攪拌した。反応物を水にあけてトルエン（200ｍL）で抽出し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０１ｅ）（12.5g）を単離した。化合物（Ｍ２−０１ｅ）（12.5g）のトルエン（15ｍL）／イソプロピルアルコール（30mL）混合溶液に触媒としてＰｄ／Ｃ（1.0g）を加え、反応器内に１．０ｋＰａの水素圧をかけて常温にて１日間攪拌した。反応液をろ過した後、常法にて濃縮し、化合物（Ｍ２−０１ｆ）（10.4g）を得た。そして、化合物（Ｍ２−０１ｆ）（10.4g）のトルエン（50mL）溶液にｐ−トルエンスルホン酸水和物（1.0g）を加え、ディーンスターク装置を用いて、生成したエタノールをトルエンとともに留去しながら１時間還流させながら加熱した。この後、さらにトルエン（30mL）を追加し、さらに1時間還流させながら加熱した。反応物を水にあけてトルエン（100mL）を追加し、常法にて、重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０１ｇ）（8.79g）を得た。
【０１６４】
（工程３）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０１ｇ）（3.00g）のＴＨＦ（10mL）溶液を０℃に冷却し、（トリフルオロメチル）トリメチルシラン（1.56g）のＴＨＦ（5mL）溶液を滴下し、その後にテトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）／ＴＨＦ溶液（0.1mL（1.0mol/L））を加えた。室温にて１時間攪拌した後、さらにＴＢＡＦ／ＴＨＦ溶液（11mL）を滴下し、そのまま３時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）で抽出し、常法にて水で洗浄、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０１ｈ）（3.38g）を得た。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０１ｈ）（3.38g）のトルエン（15mL）溶液に少量のピリジン（0.1mL）を加え、４５℃で塩化チオニル（1.04g）を滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（30mL）を追加し、常法にて水、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０２ｉ）（3.34g）を得た。そして、化合物（Ｍ２−０１ｉ）（2.00g）のトルエン（3ｍL）／イソプロピルアルコール(6mL)／トリエチルアミン（0.5mL）の混合溶液に触媒としてＰｄ／Ｃ（0.50g）を加え、反応器内に３ｋＰａの水素圧をかけて常温にて２日間攪拌した。反応液をろ過した後、トルエン（100mL）を加えて、常法にて１N−ＨＣｌ水溶液、水、重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して標題化合物（Ｍ２−０１）（1.42g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ0.90(t,3H), 1.07-1.36(m,15H), 1.52-1.87(m,8H), 1.89(dt,1H), 2.20(m,1H), 2.50(tt,1H), 2.95(m,2H), 4.40(m,1H), 6.96(d,1H), 7.01(d,1H), 7.07-7.08(dd,1H).
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-79.1(d,3F).
ＭＳ：408(M＋).
【０１６５】
［実施例２］
＜化合物Ｎｏ．Ｍ２−０３）の合成＞
下記のスキームに従って化合物（Ｍ２−０３）（２−トリフルオロメチル−６−［２−フルオロ−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニル）クロマン）を合成した。
【０１６６】
（工程１）
出発原料である化合物（Ｍ２−０３ａ）は、アルドリッチなどからの市販品である。この化合物（Ｍ２−０３ａ）（30.0g）から、実施例１の（工程３）と同様の方法にて化合物（Ｍ２−０３ｂ）（28.2g）を得た。窒素雰囲気下で、この化合物（Ｍ２−０３ｂ）（28.2g）のジクロロメタン（100mL）溶液を０℃まで冷却し、臭素（24.6g）を滴下した。反応液を水にあけてジクロロメタン（100mL）を追加し、常法にてチオ硫酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０３ｃ）（31.8g）を単離した。次いで、窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０３ｃ）（31.8g）のＴＨＦ（150mL）溶液を−６５℃まで冷却し、ｎ−ブチルリチウム／ｎ−ヘキサン溶液（87.0mL（1.56mol/L））を滴下した。そのままの温度で１時間攪拌した後、さらにホウ酸トリメチル（15.3g）を滴下して室温に戻し、さらに１時間攪拌した。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ溶液にゆっくりとあけてジエチルエーテル（300mL）にて２回抽出し、常法にて水で洗浄、次いで濃縮した後、残渣を再結晶ろ過にて精製して化合物（Ｍ２−０３ｄ）（18.1g）を得た。
【０１６７】
（工程２）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０３ｄ）（1.50g）、化合物（Ｍ２−０３ｅ）（1.93g）、炭酸カリウム（3.21g）、テトラブチルアンモニウムブロミド（0.56g）、トルエン（5mL）、エタノール（5mL）の混合液に触媒としてＰｄ／Ｃ（0.10g）を加え、７５℃で５時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）を加え、常法にて重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して標題化合物（Ｍ２−０３）（1.34g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ0.91(t,3H), 1.04-1.46(m,7H), 1.91(dt,4H), 2.07(m,1H), 2.24(m,1H),
2.49(tt,1H), 2.93(m,2H), 4.41(m,1H), 6.96-7.05(m,3H), 7.28-7.340(m,3H),
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-79.2(d,3F), -119.3(dd,1F)
ＭＳ：406(M＋)
【０１６８】
［実施例３］
＜化合物（Ｍ７−３２）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ７−３２）（３−トリフルオロメチル−４，４−ジフルオロ−５−フルオロ−７−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）イソクロマン）を合成することができる。
【０１６９】
（工程１）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ａ）のジクロロメタン溶液を０℃まで冷却し、臭素を滴下する。反応液を水にあけてジクロロメタンを追加し、常法にてチオ硫酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ７−３２ｂ）を単離する。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ｂ）のＴＨＦ溶液を−６５℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム／ｎ−ヘキサン溶液を滴下する。そのままの温度で１時間攪拌してから、さらにホルムアルデヒドを滴下して室温に戻し、１時間攪拌する。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ溶液にあけてトルエンで２回抽出し、常法にて水、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ７−３２ｃ）を単離する。次いで、窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ｃ）のジクロロメタン溶液を−２０℃まで冷却し、三臭化ホウ素を滴下して室温に戻した後、５時間攪拌した。反応液を氷水にあけてトルエンで２回抽出し、常法にて水、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮して、化合物（Ｍ７−３２ｄ）を得る。
【０１７０】
（工程２）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ｄ）、トリエチルアミン、ＤＭＡＰ（（４−ジメチルアミノ）ピリジン）、およびジクロロメタンの混合液に、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロリドを室温でゆっくり加え、そのまま２時間攪拌する。反応液を水にあけてジクロロメタンを追加し、常法にて水で洗浄し、次いで濃縮して、化合物（Ｍ７−３２ｅ）を得る。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ｅ）、イミダゾール、トルエンの混合液に、室温でトリフェニルホスフィンを加え、次いでヨウ素を滴下してそのまま１時間攪拌する。反応液を水にあけてトルエンを追加し、常法にてチオ硫酸ナトリウム水溶液、水にて順次洗浄し、次いで濃縮してから、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ７−３２ｆ）を単離する。その後、さらに再結晶ろ過を行い、不純物を除去する。
【０１７１】
（工程３）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ｆ）のＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）溶液に、ブロモジフルオロ酢酸エチル、および活性化した銅粉末を順次加え、８０℃にて６時間攪拌する。反応液を水にあけてトルエンで抽出し、銅などの沈殿物をろ過した後に、常法にて１Ｎ−ＨＣｌ水溶液および水で順次洗浄し、次いで濃縮する。その後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製し化合物（Ｍ７−３２ｇ）を単離する。化合物（Ｍ７−３２ｇ）のトルエン溶液にｐ−トルエンスルホン酸水和物を加え、生成したエタノールをディーンスターク装置を用いて除去しながら１時間還流させながら加熱する。この後、さらにトルエンを追加し、さらに1時間還流させながら加熱する。反応物を水にあけてトルエンを追加し、常法にて、重曹水および水で順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して化合物（Ｍ７−３２ｈ）を得る。
【０１７２】
（工程４）
化合物（Ｍ７−３２ｈ）から、実施例１の（工程３）と同様の方法にて、標題化合物（Ｍ７−３２）を得る。
【０１７３】
［実施例４］
＜化合物（Ｍ９−１４）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ９−１４）（３−（３，４，５−トリフルオロフェニル）−５−フルオロ−７−（４−エチルフェニル）イソクロマン）を合成した。
【０１７４】
（工程１）
化合物（Ｍ９−１４ａ）（30.0g）から、実施例３の（工程１）〜（工程３）と同様の方法にて化合物（Ｍ９−１４ｂ）（4.22g）を得た。
【０１７５】
（工程２）
アルゴン雰囲気下で、細かく切ったリチウム（0.20g）をゆっくりとＴＨＦ（20mL）中に加え、６０℃にて１−ブロモ−３，４，５−トリフルオロベンゼン（1.98g）を滴下し、そのままの温度で１時間攪拌した。その後、反応液を０℃まで冷却して化合物（Ｍ９−０２ａ）（2.11g）のＴＨＦ（10mL）溶液を滴下し、室温にてさらに１時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）にて２回抽出し、常法にて、水で洗浄し、次いで濃縮して化合物（Ｍ９−１４ｂ）（2.17g）を得た。
【０１７６】
（工程３）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ９−１４ｂ）（2.17g）のトルエン（30mL）溶液に少量のピリジン（0.10g）を加え、４５℃で塩化チオニル（0.71g）を滴下して、そのままの温度で１時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）を追加し、常法にて水、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ９−１４ｃ）（1.99g）を得た。化合物（Ｍ９−１４ｃ）（1.99g）のトルエン（3mL）／イソプロピルアルコール（6mL）／トリエチルアミン（0.50mL）の混合液に触媒としてＰｄ／Ｃ（0.20g）を加え、反応器内に３ｋＰａの水素圧をかけて常温にて２日間攪拌した。反応液をろ過した後、トルエン（100mL）を加えて、常法にて１N−ＨＣｌ水溶液、水、重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して標題化合物（Ｍ９−１４）（1.04g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ.96(t,3H), 2.65(m,2H), 2.94(m,2H), 4.58(d,2H), 4.66(m,1H), 6.82-6.85(m,2H), 6.97-7.07(m,4H), 7.31-7.38(m,2H).
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-119.2(dd,1F), -135.4(m,2F), -163.1(m,1F).
ＭＳ：386.1(M＋).
【０１７７】
［実施例５］
＜化合物（Ｍ１２−０２）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ１２−０２）（３−トリフルオロメチル−７−（（２−フルオロ−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニル）クロマン）を合成した。
【０１７８】
（工程１）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ａ）（20.0g）、イミダゾール（11.4g）、ジクロロメタン（200mL）の混合液を０℃に冷却し、トリイソプロピルシリルクロリド（15.5g）をゆっくりと加え、そのままの温度で１時間攪拌した。反応液を水にあけて、常法にて水で洗浄し、次いで濃縮して化合物（Ｍ１２−０２ｂ）（27.1g）を得た。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｂ）（27.1g）のＴＨＦ（270mL）溶液を−６５℃まで冷却し、ｓｅｃ−ブチルリチウム／シクロヘキサン溶液（59.6mL（1.00mol/L））を滴下して、そのままの温度で１時間攪拌した。その後、さらにヨウ素（18.2g）のＴＨＦ（50ｍL）溶液を滴下して、徐々に室温に戻して３０分間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（500mL）にて２回抽出し、常法にてチオ硫酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで処理して化合物（Ｍ１２−０２ｃ）（14.9g）を単離した。次いで、窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｃ）（14.9g）のＴＨＦ（100mL）溶液を０℃に冷却し、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（0.150g）を加えた後、アリールマグネシウムクロリド／ＴＨＦ溶液（16.0mL（2.0mol/L））を滴下し、室温にて５時間攪拌した。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ溶液にあけてトルエン（200ｍL）で２回抽出し、常法にて水、重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ１２−０２ｄ）（8.76g）を単離した。
【０１７９】
（工程２）
窒素雰囲気下で、四酸化オスミウム（0.45g）、Ｎ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド−水和物（1.97g）、水（10mL）、およびアセトニトリル（5mL）の混合液に、室温にて化合物（Ｍ１２−０２ｄ）（8.76g）をゆっくりと追加し、そのまま５時間攪拌した。反応液を氷水にあけてトルエン（100mL）を追加し、常法にて水、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水にて順次洗浄、次いで濃縮し化合物（Ｍ１２−０２ｅ）（6.80g）を得た。次いで、化合物（Ｍ１２−０２ｅ）（6.74g）、ベンズアルデヒド（1.62g）およびトルエン（100mL）の混合液にｐ−トルエンスルホン酸無水物（0.50g）を加え、ディーンスターク装置を用いて生成した水を除去しながら１時間加熱した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）を追加し、常法にて水、１重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ１２−０２ｆ）（7.47g）を得た。
【０１８０】
（工程３）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｆ）（7.47g）のＴＨＦ（70ｍL）溶液を−４０℃まで冷却し、水素化ジイソブチルアルミニウム／トルエン溶液（13.3mL（1.0mol/L））を滴下し、徐々に室温に戻しながら１時間撹拌した。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ溶液にあけてトルエン（200ｍL）にて２回抽出し、常法にて水で洗浄、次いで濃縮して化合物（Ｍ１２−０２ｇ）（6.23g）を得た。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｇ）（6.23g）のＴＨＦ（60mL）溶液を０℃まで冷却し、ＴＢＡＦ／ＴＨＦ溶液（15mL（1.0mol/L））を滴下して、そのままの温度で２時間撹拌した。反応液を水にあけてトルエン（200ｍL）で抽出し、常法にて水で洗浄、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ１２−０２ｈ）（4.42g）を得た。次いで、窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｈ）（4.42g）、水酸化カリウム（1.07g）、およびジオキサン（40mL）の混合液にトシルクロリド（1.91g）を加え、３時間還流させながら加熱した。反応液を水にあけてトルエン（200mL）で抽出し、常法にて水で洗浄し、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ１２−０２ｉ）（3.48g）を得た。
【０１８１】
（工程４）
化合物（Ｍ１２−０２ｉ）（3.48g）のトルエン（10mL）／エタノール（10mL）の混合液に触媒としてＰｄ／Ｃ（0.20g）を加え、反応器内に１ｋＰａの水素圧をかけて常温にて１日間撹拌した。反応液をろ過した後、そのまま濃縮して化合物（Ｍ１２−０２ｊ）（2.72g）を得た。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｊ）（2.72g）のアセトン（20mL）溶液を０℃に冷却し、Ｊｏｎｅｓ試薬（2.87mL（2.67mol/L））を滴下して、室温にて２時間撹拌した。反応液をジエチルエーテル（100mL）で２回抽出し、常法にてチオ硫酸ナトリウム水溶液、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して化合物（Ｍ１２−０２ｋ）（2.16g）を得た。
【０１８２】
（工程５）
化合物（Ｍ１２−０２ｋ）（1.50g）から、実施例１の（工程３）と同様の方法にて、標題化合物（Ｍ１２−０２）（1.37g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ0.92(t,3H), 1.04-1.46(m,8H), 2.24(m,1H), 2.49(t,1H), 2.93(m,2H), 4.49(dd,2H), 6.96-7.03(m,4H), 7.26-7.31(m,2H).
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-79.1(d,3F), -119.2(dd,1F).
ＭＳ：406(M＋).
【０１８３】
［実施例６］
＜化合物（Ｍ１２−０３）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ１２−０３）（３−パーフルオロエチル−７−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）クロマン）を合成することができる。
【０１８４】
（工程１）
化合物（Ｍ２−０３ａ）から、実施例５の（工程１）から（工程４）までと同様の方法にて化合物（Ｍ２−０３ｂ）を得る。
【０１８５】
（工程２）
窒素雰囲気下で、細かく切ったリチウムをゆっくりとＴＨＦ中に入れ、パーフルオロエチルヨージドを加えて、室温にて超音波発生装置を用いて超音波を１時間照射する。その後、超音波装置をはずし、室温にて化合物（Ｍ１２−０３ｂ）のＴＨＦ溶液を滴下し、そのまま２時間撹拌する。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ水にあけてトルエンで２回抽出し、常法にて、水、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ１２−０３ｃ）を得る。その後は、化合物（Ｍ１２−０３ｃ）から、実施例４の（工程２）と同様の方法にて、標題化合物（Ｍ１２−０３）を得ることができる。
【０１８６】
［実施例７］
＜化合物（Ｍ２−２７）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ２−２７）（２，２−ジフルオロ−６−（２，６−ジフルオロ−４−（４−プロピルフェニル）フェニル）−クロマン）を合成した。
【０１８７】
（工程１）
実施例１の（工程１）に記載した方法と同様の方法を用いることによって、化合物（Ｍ２−２７ａ）（10.0g）から化合物（Ｍ２−２７ｂ）（6.50g）を合成した。
次に、窒素雰囲気下で、メトキシメチルホスホニムクロライド（7.31g）のＴＨＦ（30mL）溶液を−３０℃まで冷却し、ｔ−ブトキシカリウム（1.99g）をゆっくりと加えた。そのままの温度で１時間攪拌した後に、化合物（Ｍ２−２７ｂ）（6.50g）のＴＨＦ（20mL）溶液を滴下した。徐々に室温に戻して１時間攪拌した後、反応液を水にあけてトルエン（100mL）にて２回抽出し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物を単離した。その後、この単離した化合物(6.30g)、３Ｎ−ＨＣｌ水溶液（20mL）、およびアセトン（50mL）の混合溶液を、６０℃で２時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）にて抽出し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行い、化合物（Ｍ２−２７ｃ）（4.70g）を得た。
【０１８８】
（工程２）
窒素雰囲気下で、ジブロモジフルオロメタン（3.90g）のＴＨＦ（12mL）溶液を０℃まで冷却し、トリス（ジエチルアミノ）ホスフィン（9.47g）のＴＨＦ（20mL）溶液をゆっくりと滴下した。常温にて１時間攪拌した後、さらに化合物（Ｍ２−２７ｃ）（4.70g）のＴＨＦ（10mL）溶液をゆっくりと滴下し、４０℃で４時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）にて２回抽出し、常法にて水、３Ｎ−ＨＣｌ水溶液、重曹水、水にて順次洗浄、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−２７ｄ）（4.10g）を得た。
次に、窒素雰囲気下で、この化合物（Ｍ２−２７ｄ）（2.70g）のジクロロメタン（30mL）溶液を−１０℃まで冷却し、臭素（1.15g）を滴下した。そのままの温度で３０分間攪拌した後、反応液を水にあけてジクロロメタン（50mL）を追加し、常法にて水、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水にて順次洗浄、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、化合物（Ｍ２−２７ｅ）（3.00g）を得た。
【０１８９】
（工程３）
化合物（Ｍ２−２７ｅ）（2.00g）のトルエン（10mL）／イソプロピルアルコール（10mL）／トリエチルアミン（1mL）の混合液に、触媒としてＰｄ／Ｃ（0.30g）を加え、反応器内に３ｋＰａの水素圧をかけて常温にて２日間攪拌した。反応液をろ過した後、トルエン（100mL）を加えて、常法にて１N−ＨＣｌ水溶液、水、重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して標題化合物（Ｍ９−１４）（1.00g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ0.980(3H, t), 1.64-1.73(2H, m), 2.36-2.43(2H, m), 2.65(2H, t), 3.04(2H, t), 7.06(1H, d), 7.20(1H, d), 7.28-7.31(3H, m), 7.36(1H, d), 7.50-7.52(2H, m).
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-69.9(2F, t), -115.3(2F, d).
ＭＳ： 400（Ｍ＋）
【０１９０】
［実施例８］
＜化合物（Ｍ３−０２）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ３−０２）（２−（３，４，５−トリフルオロフェニル）−６−ヘプチルクロマン）を合成した。
【０１９１】
（工程１） 実施例１の（工程１）に記載した方法と同様の方法を用いることによって、化合物（Ｍ３−０２ａ）（10.0g）から化合物（Ｍ３−０２ｂ）（9.99g）を合成した。
次に、窒素雰囲気下で、（１，３−ジオキサン−２−ジイルメチル）トリフェニルホスホニウムブロマイド（22.0g）とＴＨＦ（90mL）の混合溶液を−３０℃まで冷却し、ｔ−ブトキシカリウム（5.74g）をゆっくりと加えた。そのままの温度で１時間攪拌した後に、化合物（Ｍ３−０２ｂ）（9.99g）のＴＨＦ（30mL）溶液を滴下した。徐々に室温に戻して１時間攪拌した後、反応液を水にあけてトルエン（200mL）にて２回抽出し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物を単離した。その単離した化合物（12.0g）のトルエン（30mL）／イソプロパノール（30mL）の混合液に、触媒としてＰｄ／Ｃ（0.60g）を加え、反応器内に１ｋＰａの水素圧をかけて常温にて１日間撹拌した。反応液をろ過した後、そのまま濃縮して化合物（Ｍ３−０２ｃ）（11.9g）を得た。
【０１９２】
（工程２） 化合物（Ｍ３−０２ｃ）（11.9g）、ぎ酸（36mL）、およびトルエン（60mL）の混合溶液を、８０℃で２時間加熱還流した。反応液を水にあけてトルエン（200mL）を追加し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行い、化合物（Ｍ３−０２ｄ）（9.88g）を得た。次に、窒素雰囲気下で、マグネシウム（1.10g）とＴＨＦ（20mL）の混合液を−４０℃まで加熱し、その後、氷水浴などを用いて４０℃程度に保ちながら１−ブロモ−３，４，５−トリフルオロベンゼン（9.50g）をゆっくりと滴下してGrignard試薬を調整した。そのままの温度で１時間攪拌した後、さらに化合物（Ｍ３−０２ｄ）（9.88g）のＴＨＦ（30mL）溶液を滴下し、さらに１時間攪拌した。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ水溶液にあけてトルエン（100mL）にて２回抽出し、常法により水、重曹水、水にて順次洗浄、次いで濃縮を行うことにより化合物（Ｍ３−０２ｅ）（12.0g）を得た。
【０１９３】
（工程３） 窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ３−０２ｅ）（12.0g）のジクロロメタン（50mL）溶液を−２０℃まで冷却し、三臭化ホウ素（11.4g）を滴下して、その後除々に室温に戻して１時間攪拌した。反応液を水にあけてジクロロメタン（100mL）を追加し、常法より水で洗浄、次いで濃縮を行うことにより目的物を得た。次に、得られた化合物、水酸化カリウム（3.74g）、およびジオキサン（80mL）の混合液にトシルクロリド（3.82g）を加え、３時間加熱還流した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）にて２回抽出し、常法により水、重曹水、水にて順次洗浄、次いで濃縮を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して標題化合物（Ｍ３−０２）（4.61g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ0.980(3H, t), 1.43-1.75(10H, m), 2.03-2.10(2H, m), 2.25-2.32(2H, m), 2.63(2H, t), 2.84-2.90(1H, m), 3.00-3.08(1H, m), 5.08-5.10(1H, m), 6.82(1H, d), 6.90(1H, d), 6.96-6.99(1H, m), 7.08-7.10(2H, m).
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-134.0(2F, m), -161.7(1F, m).
ＭＳ： 362（Ｍ＋）
【０１９４】
［実施例９］
実施例１〜８および前記の合成法を参照することによって合成できる化合物（１）の例を次に示す。
【０１９５】
【０１９６】
【０１９７】
【０１９８】
【０１９９】
【０２００】
【０２０１】
【０２０２】
【０２０３】
【０２０４】
【０２０５】
【０２０６】
【０２０７】
【０２０８】
【０２０９】
【０２１０】
【０２１１】
【０２１２】
【０２１３】
［実施例１０］
下記の化合物を混合して、ネマチック相を有する組成物Ａ（母液晶）を調整した。
４−（４−プロピルシクロヘキシル）ベンゾニトリル（２４％）
４−（４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル（３６％）
４−（４−ヘプチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル（２５％）
４−（４−ペンチルシクロヘキシル）−４’−シアノベンゾニトリル（１５％）
この組成物Ａの物性は次のとおりであった。
上限温度（ＮＩ）＝７１．７℃
光学異方性（Δｎ）＝０．１３７
誘電率異方性（Δε）＝１１．０
【０２１４】
この組成物Ａの９０重量％と実施例２で得られた化合物（Ｍ２−０３）の１０％とからなる組成物Ｂを調製した。組成物Ｂの物性値を外挿して化合物（Ｍ２−０３）の物性値を算出した。
光学異方性（Δｎ）：０．１２７
誘電率異方性（Δε）：９．６
【０２１５】
［実施例１１］
実施例１０に記載した組成物Ａの９０重量％と実施例４で得られた化合物（Ｍ９−１４）の１０％とからなる組成物Ｃを調製した。組成物Ｃの物性値を外挿して化合物（Ｍ９−１４）の物性値を算出した。
光学異方性（Δｎ）：０．１５４
誘電率異方性（Δε）：１８．８
【０２１６】
［実施例１２］
実施例１０に記載した組成物Ａの９０重量％と実施例５で得られた化合物（Ｍ１２−０２）の１０％とからなる組成物Ｄを調製した。組成物Ｄの物性値を外挿して化合物（Ｍ１２−０２）の物性値を算出した。
光学異方性（Δｎ）：０．１２８
誘電率異方性（Δε）：８.５
【０２１７】
［実施例１３］
実施例１０に記載した組成物Ａの９５重量％と実施例７で得られた化合物（Ｍ２−２７）の５％とからなる組成物Ｅを調製した。組成物Ｅの物性値を外挿して化合物（Ｍ２−２７）の物性値を算出した。
光学異方性（Δｎ）：０．１９７
誘電率異方性（Δε）：２１．７
【０２１８】
［実施例１４］
実施例１０に記載した組成物Ａの８５重量％と実施例８で得られた化合物（Ｍ３−０２）の１５％とからなる組成物Ｆを調製した。組成物Ｆの物性値を外挿して化合物（Ｍ３−０２）の物性値を算出した。
光学異方性（Δｎ）：０．０７０６
誘電率異方性（Δε）：８．１４
【０２１９】
本発明の代表的な組成物を使用例１〜１３にまとめた。最初に、組成物の成分である化合物とその量（重量％）を示した。化合物は下記の表１の定義に従い、左末端基、結合基、環構造、および右末端基の記号によって表示した。１，４−シクロヘキシレンおよび１，３−ジオキサン−２，５−ジイルの立体配置はトランスである。末端基の記号がない場合は、末端基が水素であることを意味する。そして次に、組成物の物性値を示した。
＜表１＞ 記号を用いた化合物の表記方法
【０２２０】
［使用例１］
３−ＨＢＣｒｏ１−ＣＦ３ ４％
２−ＨＢ（Ｆ）Ｃｒｏ１−ＣＦ３ ４％
２−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ５％
３−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ４％
４−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ １２％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ １６％
３−ＨＢ−Ｏ２ １０％
３−ＨＨ−４ ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ ３％
３−ＨＨＢ−１ ８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ３％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ ３％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ４％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ４％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２ ５％
ＮＩ：８４．４℃
Δｎ：０．１４７
Δε：２８．２
Ｖｔｈ：１．０６Ｖ．
【０２２１】
［使用例２］
３−ＨＨＣｒｏ１−ＣＦ３ ５％
３−ＨＨＣｒｏ１（８Ｆ）−ＣＦ３ ４％
２−ＨＢ−Ｃ ５％
３−ＨＢ−Ｃ １２％
３−ＨＢ−Ｏ２ １５％
２−ＢＴＢ−１ ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ ４％
３−ＨＨＢ−１ ８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ５％
３−ＨＨＢ−３ １０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ４％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ ４％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
【０２２２】
［使用例３］
３−ＨＢＣｒｏ１（８Ｆ）−ＣＦ３ ４％
３−ＢＢＣｒｏ１−ＣＦ３ ３％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｃｒｏ１（８Ｆ）−ＣＦ３ ３％
３−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ８％
３−ＨＢ−Ｃ ８％
Ｖ−ＨＢ−Ｃ ８％
１Ｖ−ＨＢ−Ｃ ８％
３−ＨＢ−Ｏ２ ３％
３−ＨＨ−２Ｖ １４％
３−ＨＨ−２Ｖ１ ７％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ ５％
３−ＨＨＢ−１ ５％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ７％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ６％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ６％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ５％
【０２２３】
［使用例４］
３−ＨＢＣｒｏ１−ＣＬ ３％
３−ＨＨＣｒｏ１（Ｆ２） ３％
５−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ５％
Ｖ−ＨＢ−Ｃ １１％
５−ＰｙＢ−Ｃ ６％
４−ＢＢ−３ １１％
３−ＨＨ−２Ｖ １０％
５−ＨＨ−Ｖ １１％
Ｖ−ＨＨＢ−１ ７％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ １１％
３−ＨＨＢ−１ ７％
１Ｖ２−ＨＢＢ−２ １０％
３−ＨＨＥＢＨ−３ ５％
【０２２４】
［使用例５］
３−ＨＨＣｒｏ２−ＣＦ３ ５％
３−ＨＢＣｒｏ２（５Ｆ）−ＣＦ３ ４％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ ６％
３−ＨＢ−Ｃ １８％
２−ＢＴＢ−１ １０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ ３０％
３−ＨＨＢ−１ ３％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１ ５％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１ ６％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ５％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ４％
【０２２５】
［使用例６］
３−ＨＢＣｒｏ１−ＣＦ３ ５％
２−ＨＢ（Ｆ）Ｃｒｏ１−ＣＦ３ ５％
５−ＨＢ−ＣＬ １６％
３−ＨＨ−４ １２％
３−ＨＨ−５ ４％
３−ＨＨＢ−Ｆ ４％
３−ＨＨＢ−ＣＬ ３％
４−ＨＨＢ−ＣＬ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ２％
４−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
４−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
ＮＩ：１１３．６℃
Δｎ：０．０９９
Δε：３．７
Ｖｔｈ：２．７３Ｖ
この組成物１００重量部にＯｐ−５を０．２５重量部添加したときのピッチは６１．０μｍであった
【０２２６】
［使用例７］
３−ＢＢ（Ｆ）Ｃｒｏ２−ＣＦ３ ３％
３−ＨＣｒｏ２（５Ｆ）−Ｃ ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １８％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ２％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４ ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ ４％
【０２２７】
［使用例８］
３−ＨＢＣｒｏ２−ＣＬ ３％
３−ＨＨＣｒｏ２−１ＣＦ２Ｈ ２％
５−ＨＢ−Ｆ １２％
６−ＨＢ−Ｆ ９％
７−ＨＢ−Ｆ ７％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ７％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ７％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ７％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ５％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３ ４％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ２Ｈ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３ ５％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
５−ＨＢＢＨ−３ ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ ３％
【０２２８】
［使用例９］
３−ＨＨＣｒｏ２（Ｆ２） ３％
２−ＢＣｒｏ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
３−ＨＨＣｒｏ３−ＣＦ３ ３％
５−ＨＢ−ＣＬ １１％
３−ＨＨ−４ ８％
３−ＨＨＢ−１ ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６％
【０２２９】
［使用例１０］
３−ＨＨＣｒｏ３（５Ｆ）−ＣＦ３ ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｃｒｏ３−ＣＦ３ ４％
３−ＨＢ−ＣＬ ６％
５−ＨＢ−ＣＬ ４％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ５％
３−Ｈ２ＨＢ−ＯＣＦ３ ５％
５−Ｈ４ＨＢ−ＯＣＦ３ １５％
Ｖ−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ４％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ４％
３−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３ ８％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３ １０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ３％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
【０２３０】
［使用例１１］
３−ＨＣｒｏ３（５Ｆ）−Ｃ ４％
３−ＨＢＣｒｏ３−ＣＬ ４％
５−ＨＢ−ＣＬ １４％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨ−４ １０％
３−ＨＨ−５ ５％
３−ＨＢ−Ｏ２ １０％
３−ＨＨＢ−１ ８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ５％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
【０２３１】
［使用例１２］
３−ＨＨＣｒｏ３−１ＣＦ２Ｈ ７％
３−ＨＨＣｒｏ３（Ｆ２） ３％
５−ＨＢ−ＣＬ ３％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
３−ＨＨ−４ ９％
３−ＨＨ−ＥＭｅ １５％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ７％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ ７％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
４−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６％
２−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
３−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７％
【０２３２】
［使用例１３］
２−ＢＣｒｏ３（５Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
３−ＨＨ−４ ８％
３−ＨＨＢ−１ ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ９％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ ７％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子に関する。さらに詳しくは、クロマン環を有する化合物、これを含有し、そしてネマチック相を有する液晶組成物、およびこの組成物を含有する液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、液晶の動作モードに基づいて、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＢＴＮ（Bistable twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）などに分類される。素子の駆動方式に基づけば、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭ（passive matrix）はスタティック（static）とマルチプレックス（multiplex）などに分類される。そして、ＡＭはＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。
【０００３】
素子に用いる液晶組成物の物性は、これらのモードによって異なる。物性の例は、液晶相の温度範囲、粘度、光学異方性、しきい値電圧、比抵抗、弾性定数などである。組成物は多くの液晶性化合物を混合して調製される。化合物に必要な一般的物性は、水、空気、熱、光などに対する安定性、液晶相の広い温度範囲、小さな粘度、適切な光学異方性、適切な誘電率異方性、他の化合物との良好な相溶性などである。ネマチック相の高い上限温度を有する化合物は好ましい。ネマチック相、スメクチック相などの液晶相において低い下限温度を有する化合物は好ましい。小さな粘度を有する化合物は短い応答時間を有する素子に寄与する。光学異方性の適切な値は素子のモードによって異なる。低い電圧で素子を駆動するには、正に大きな誘電率異方性を有する化合物、または負に大きな誘電率異方性を有する化合物が好ましい。小さい誘電率異方性を有する化合物は粘度などを調整するのに好ましい。組成物を調製するには他の化合物との良好な相溶性を有する化合物が好ましい。素子を氷点下の温度で使うこともあるので、低い温度で良好な相溶性を有する化合物が好ましい。
【０００４】
従来、クロマン環を有する化合物を液晶表示素子として利用した例は殆んど見られない。強誘電性用の液晶表示素子としては、特開平６−２５６３３７および特開平６−２５６３３９に、例えば下記の化合物（１０ａ）および化合物（１０ｂ）などが報告されている。しかしながら、これらの化合物は、誘電率異方性が正に十分大きくなく、ＴＮ、ＳＴＮなどのモードに使用する液晶表示素子として好ましいものではなかった。
【０００５】
従来の技術は下記の文献に記載されている。さらに好ましい液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子が望まれている。
【０００６】
【特許文献１】特開平６−２５６３３７号公報
【特許文献２】特開平６−２５６３３９号公報
【特許文献３】特開２００１−３１６３４７号公報
【特許文献４】特開平５−２５１５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の第一の目的は、化合物に必要な一般的物性、熱、光などに対する安定性、適切な光学異方性、適切な誘電率異方性、そして他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する化合物を提供することである。第二の目的は、これらの化合物の少なくとも一つを含有し、そしてネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、低いしきい値電圧を有する液晶組成物を提供することである。第三の目的は、この組成物を含有し、そして使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きなコントラスト比、低い駆動電圧を有する液晶表示素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記の課題を解決するためにクロマン環を有する化合物が有効であり、特に正に十分に大きな誘電率異方性値を有する化合物を提供できることを知り、本発明を完成した。本発明の特定発明は次の［１］項で示される。
［１］ 式（１）で表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、または炭素数１〜２０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜２０のアルキル、少なくとも１つ水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜２０のアルケニル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、または１，４−フェニレンであり、これらの環において、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はハロゲン、メチルまたは−ＣＦ３で置き換えられてもよく；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４は独立して単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；ｈ、ｋ、ｍおよびｎは独立して０、１または２であり、そしてｈ、ｋ、ｍおよびｎの和は１、２または３であり；そして、Ｑは式（ｑ１）、式（ｑ２）および式（ｑ３）のいずれか１つで表される基である：
ここに、Ｘ１は水素、ハロゲン、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または−ＯＣＦＨ２であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである；但し、Ｑが式（ｑ１）で表される基であるとき、Ｘ１は水素、メチルまたはメトキシである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の化合物は、化合物に必要な一般的物性、熱、光などに対する安定性、適切な光学異方性、適切な誘電率異方性、他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する。本発明の液晶組成物は、これらの化合物の少なくとも一つを含有し、そしてネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、低いしきい値電圧を有する。本発明の液晶表示素子は、この組成物を含有し、そして使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きなコントラスト比、低い駆動電圧を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。液晶性化合物は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。液晶性化合物、液晶組成物、液晶表示素子をそれぞれ化合物、組成物、素子と略すことがある。液晶表示素子は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。ネマチック相の上限温度はネマチック相−等方相の相転移温度であり、そして単に上限温度と略すことがある。ネマチック相の下限温度を単に下限温度と略すことがある。式（１）で表わされる化合物を化合物（１）と称することがある。他の式で表される化合物についても同様に簡略化して称することがある。式（２）〜式（９）において、六角形で囲んだＢ、Ｄ、Ｅなどの記号はそれぞれ環Ｂ、環Ｄ、環Ｅなどを意味する。百分率で表した化合物の量は組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。本明細書で用いる用語「任意の」は、位置だけでなく個数についても任意であることを示す。そして、例えば、任意のＡがＢ、ＣまたはＤで置き換えられてもよいというような表現は、１つのＡがＢ、ＣおよびＤのどれかで置き換えられる場合および複数のＡのどれもがＢ、ＣおよびＤのどれかで置き換えられる場合に加えて、複数のＡがＢ、ＣおよびＤの２種以上で置き換えられる場合をも含むことを意味する。複数のＡがＢ、ＣおよびＤの２種以上で置き換えられる場合の例は、１つのＡがＢで置き換えられ、もう１つのＡがＣまたはＤで置き換えられる場合である。なお、本発明においては、連続する２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられて、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−Ｓ−または−Ｓ−Ｓ−になることは好ましくない。特に断らずにアルキルと記述するときは、直鎖アルキルと分岐アルキルの両方を含むアルキルを意味する。アルキレンについても同様である。例えば、ブチルはｎ−ブチル、２−メチルプロピルおよび１，１−ジメチルエチルのいずれであってもよい。
【００１１】
本発明は、上記の［１］項および次の［２］〜［２８］項で構成される。
［２］ Ｑが式（ｑ１）で表される基であり、Ｘ１が水素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、［１］項に記載の化合物。
【００１２】
［３］ Ｑが式（ｑ２）で表される基であり、Ｘ１が水素またはフッ素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、［１］項に記載の化合物。
【００１３】
［４］ Ｑが式（ｑ３）で表される基であり、Ｘ１が水素またはフッ素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、［１］項に記載の化合物。
【００１４】
［５］ 式（１−１）〜式（１−５）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはメチルであり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【００１５】
［６］ Ｘ１が水素である、［５］項に記載の化合物。
【００１６】
［７］ Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［５］項に記載の化合物。
【００１７】
［８］ Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、［５］項に記載の化合物。
【００１８】
［９］ Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［５］項に記載の化合物。
【００１９】
［１０］ Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、［５］項に記載の化合物。
【００２０】
［１１］ 式（１−６）〜式（１−１０）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つ水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはフッ素であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【００２１】
［１２］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［１１］項に記載の化合物。
【００２２】
［１３］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、［１１］項に記載の化合物。
【００２３】
［１４］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［１１］項に記載の化合物。
【００２４】
［１５］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、［１１］項に記載の化合物。
【００２５】
［１６］ 式（１−１１）〜式（１−１５）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはフッ素であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【００２６】
［１７］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置換されてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［１６］項に記載の化合物。
【００２７】
［１８］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、［１６］項に記載の化合物。
【００２８】
［１９］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、［１６］項に記載の化合物。
【００２９】
［２０］ Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、［１６］項に記載の化合物。
【００３０】
［２１］ ［１］〜［２０］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物。
【００３１】
［２２］ ［１］〜［２０］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（２）、式（３）および式（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ２はフッ素、塩素、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３であり；環Ｂおよび環Ｄは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、環Ｅは１，４−シクロヘキシレンまたは少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ５およびＺ６は独立して−（ＣＨ２)２−、−（ＣＨ２)４−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合であり；そして、Ｌ１およびＬ２は独立して水素またはフッ素である。
【００３２】
［２３］ ［１］〜［２０］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ２およびＲ３は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイルまたは少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；Ｚ７は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合であり；Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は独立して水素またはフッ素であり；そしてｂ、ｃおよびｄは独立して０または１である。
【００３３】
［２４］ ［１］〜［２０］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（７）〜式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【００３４】
［２５］ 式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、［２２］項に記載の組成物：
ここに、Ｒ２およびＲ３は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイルまたは少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；Ｚ７は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合であり；Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は独立して水素またはフッ素であり；そしてｂ、ｃおよびｄは独立して０または１である。
【００３５】
［２６］ 式（７）、式（８）および式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、［２２］項に記載の組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【００３６】
［２７］ 式（７）、式（８）および式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、［２３］項に記載の組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【００３７】
［２８］ ［２１］〜［２７］のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【００３８】
本発明の化合物は式（１）で表される。
【００３９】
式（１）におけるＲａは水素、または炭素数１〜２０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。このようなＲａの例は、水素、アルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルケニル、アルケニルオキシおよびアルキニルである。これらの基の具体例は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、プロポキシメチル、ブトキシメチル、ペントキシメチル、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、２−プロペニルオキシ、２−ブテニルオキシ、２−ペンテニルオキシ、１−プロピニル、および１−ペンチニルである。
【００４０】
Ｒａの好ましい例は、水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、および炭素数２〜１０のアルケニルである。Ｒａのより好ましい例は、水素、炭素数１〜７のアルキル、および炭素数２〜７のアルケニルである。このようなＲａのより好ましい具体例は、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、２−ヘキセニルおよび３−ヘキセニルである。アルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。１−プロペニル、１−ブテニル、１−ペンテニル、１−ヘキセニル、３−ペンテニル、３−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはトランス配置が好ましい。２−ブテニル、２−ペンテニル、および２−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはシス配置が好ましい。
【００４１】
式（１）中のＲｂは、ハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜２０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜２０のアルケニル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜２０のアルコキシである。このようなＲｂの例は、ハロゲン、アルコキシ、アルケニル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、ハロゲン化アルケニルである。Ｒｂの好ましい例は、ハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈおよび少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルである。ハロゲンの好ましい例はフッ素および塩素である。少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルの例は、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦ２、−ＣＦ２ＣＨ２Ｆ、−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＨ２ＣＨ２Ｆ、および−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｆである。
【００４２】
ＲａおよびＲｂとしては、上記の具体例の他、分岐の基であって光学活性である基も好ましい。
【００４３】
式（１）中のＡ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４は、独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレンまたは１，４−フェニレンである。これらの環において、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲン、−ＣＨ３または−ＣＦ３で置き換えられてもよい。Ａ１、Ａ２、Ａ３またはＡ４の好ましい例を次に示す。
【００４４】
【００４５】
【００４６】
Ａ１、Ａ２、Ａ３またはＡ４のより好ましい例は、上記の環のうちの（１５−１）、（１５−２）、（１５−７）、（１５−８）、（１５−１５）、（１５−１６）、および（１６−１）〜（１６−９）である。Ａ１、Ａ２、Ａ３またはＡ４の特に好ましい例は、（１５−１）、（１５−２）および（１６−１）〜（１６−６）である。１，４−シクロヘキシレンおよび１，３−ジオキサン−２，５−ジイルの立体配置はシスよりもトランスが好ましい。
【００４７】
式（１）中のＺ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４は、独立して単結合または炭素数１〜４のアルキレンである。このアルキレンにおいて、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３またはＺ４の好ましい例は、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−および−ＯＣＦ２−である。Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３またはＺ４のより好ましい例は、単結合および−ＣＨ２ＣＨ２−である。
【００４８】
式（１）中のＱは式（ｑ１）、式（ｑ２）および式（ｑ３）のいずれか１つで表される基である。
【００４９】
式（ｑ１）におけるＸ１は水素、メチルまたはメトキシであり、好ましくは水素またはメチルであり、特に好ましくは水素である。式（ｑ２）または式（ｑ３）におけるＸ１は水素、ハロゲン、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈまたは−ＯＣＦＨ２であり、好ましくは水素またはフッ素である。式（ｑ１）〜式（ｑ３）において、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５は、独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４の特に好ましい例は水素、フッ素およびメチルである。そして、Ｙ５の特に好ましい例は、水素、フッ素および塩素である。
【００５０】
式（ｑ１）の好ましい例は、次の式（１７−１）〜式（１７−１２）である。
【００５１】
これらのうちでさらに好ましい例は、式（１７−１）〜式（１７−４）、式（１７−６）および式（１７−８）である。
【００５２】
式（ｑ２）の好ましい例は、次の式（１８−１）〜式（１８−２４）である。
【００５３】
【００５４】
これらのうちでさらに好ましい例は、式（１８−１）〜式（１８−４）、式（１８−８）、式（１８−１０）、式（１８−１３）〜式（１８−１６）、式（１８−２０）および式（１８−２２）である。
【００５５】
式（ｑ３）の好ましい例は、次の式（１９−１）〜式（１９−２４）である。
【００５６】
【００５７】
これらのうちでさらに好ましい例は、式（１９−１）〜式（１９−４）、式（１９−８）、式（１９−１０）、式（１９−１３）〜式（１９−１６）、式（１９−２０）および式（１９−２２）である。
【００５８】
式（１）中のｈ、ｋ、ｍおよびｎは独立して０、１または２であり、そしてｈ、ｋ、ｍおよびｎの和は１、２または３である。この和が１である化合物はクロマン環Ｑを含めて２環を有する。この和が２である化合物はクロマン環Ｑを含めて３環を有する。この和が３である化合物はクロマン環Ｑを含めて４環を有する。いずれか１つの環が１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイルのようなヘテロ環であるとき、他の環はヘテロ環でない方が好ましい。化合物（１）は２Ｈ（重水素）、１３Ｃなどの同位体を天然存在比の量より多く含んでもよい。そのような場合でも、化合物の物性に大きな差異はない。
【００５９】
化合物（１）は、素子が通常使用される条件下において物理的および化学的に極めて安定であり、そして他の液晶性化合物との相溶性がよい。この化合物を含有する組成物は素子が通常使用される条件下で安定である。この組成物を低い温度で保管しても、この化合物が結晶（またはスメクチック相）として析出することがない。
【００６０】
化合物（１）の末端基、環および結合基を適切に選択することによって、光学異方性、誘電率異方性などの物性を任意に調整することが可能である。末端基ＲａおよびＲｂ、環Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４、結合基Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４の種類が、化合物（１）の物性に与える効果を以下に説明する。
【００６１】
Ｒａが水素、アルキル、アルケニルまたはアルコキシであり、そしてＲｂが−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、フッ素、塩素または−ＣＮであるとき、この化合物の誘電率異方性は正に非常に大きい。このような化合物（１）は組成物のしきい値電圧を下げるための成分として使用できる。Ｒａが水素、アルキルまたはアルケニルであり、そしてＲｂが−ＣＦ３、−ＣＨＦ２またはフッ素であるとき、この化合物の誘電率異方性は正に大きく、そして粘性が小さい。このような化合物（１）は組成物の粘度を調整するための成分として使用できる。Ｒａが水素、アルキルまたはアルケニルであり、そしてＲｂが−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２またはフッ素であるとき、この化合物の誘電率異方性は正に大きく、そして他の液晶化合物との相溶性がよい。このような化合物（１）は組成物の誘電率異方性、上限温度または粘度を調整するための成分として使用できる。その他、組成物の用途によって、適切な官能基を選択して適切な物性に調整する。
【００６２】
液晶化合物について一般的に説明されていることを当てはめれば、化合物（１）についても次のようなことが言える。ＲａまたはＲｂが直鎖であるときは液晶相の温度範囲が広くそして粘度が小さい。ＲａまたはＲｂが分岐鎖であるときは他の液晶性化合物との相溶性がよい。ＲａまたはＲｂが光学活性基である化合物は、キラルドーパントとして有用である。この化合物を組成物に添加することによって、素子に発生するリバース・ツイスト・ドメイン（Reverse twisted domain）を防止することができる。ＲａまたはＲｂが光学活性基でない化合物は組成物の成分として有用である。ＲａまたはＲｂがアルケニルであるとき、好ましい立体配置は二重結合の位置に依存する。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、高い上限温度または液晶相の広い温度範囲を有する。これらのことについては、Mol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 109およびMol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 327に詳細な説明がある。
【００６３】
Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が、ピリジン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであるとき、化合物（１）は正に大きな誘電率異方性を有する。これらの環が、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい１，４−フェニレンであるとき、化合物（１）は大きな光学異方性を有する。Ａ１またはＡ２が、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであるとき、化合物（１）は小さな光学異方性を有する。
【００６４】
少なくとも２つの環が１，４−シクロヘキシレンであるとき、化合物（１）は高い上限温度、小さな光学異方性、そして低い粘度を有する。少なくとも一つの環が１，４−フェニレンのとき、化合物（１）は比較的大きな光学異方性、そして大きな配向秩序パラメーター（orientational order parameter）を有する。少なくとも２つの環が１，４−フェニレンであるとき、化合物（１）は大きな光学異方性、液晶相の広い温度範囲、そして高い上限温度を有する。
【００６５】
結合基Ｚ１、Ｚ２またはＺ３が単結合、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−（ＣＨ2）４−であるとき、化合物（１）は低い粘度を有する。結合基が単結合、−（ＣＨ2）2−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、または−ＣＨ＝ＣＨ−であるとき、化合物（１）はより低い粘度を有する。結合基が−ＣＨ＝ＣＨ−であるとき、化合物（１）は液晶相の広い温度範囲、そして大きな弾性定数比Ｋ33／Ｋ11（Ｋ33：ベンド弾性定数、Ｋ11：スプレイ弾性定数）を有する。結合基が−Ｃ≡Ｃ−のとき、化合物（１）は大きな光学異方性を有する。
【００６６】
クロマン環を含めて２環または３環であるとき、化合物（１）は低い粘度を有する。クロマン環を含めて３環または４環であるとき、化合物（１）は高い上限温度を有する。以上のように、末端基、環および結合基の種類、環の数を適当に選択することにより目的の物性を有する化合物を得ることができる。したがって、化合物（１）はＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡなどの素子に用いられる組成物の成分として有用である。
【００６７】
化合物（１）の好ましい例は、式（１−ａ）〜式（１−ｏ）のいずれか１つで表される化合物である。
【００６８】
式（１−ａ）〜式（１−ｏ）において、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはフッ素であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【００６９】
化合物（１）のより具体的な例を次に示す。
【００７０】
【００７１】
【００７２】
【００７３】
【００７４】
上記の式（１−１−１）〜式（１−１５−８）において、Ｒａ、Ｒｂ、Ａ1〜Ａ４、Ｚ1〜Ｚ４、Ｘ１、およびＹ１〜Ｙ４は、式（１−ａ）〜式（１−ｏ）におけるこれらの記号と同じ意味を有する。上記の式における下記の環構造は１つまたは２つの水素がフッ素で置き換えられてもよいベンゼン環を意味する。
【００７５】
化合物（１）は有機合成化学における手法を適切に組み合わせることにより合成できる。出発物に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、Organic Syntheses（John Wiley & Sons, Inc）、Organic Reactions（John Wiley & Sons, Inc)、Comprehensive Organic Synthesis（Pergamon Press）、および新実験化学講座（丸善）などに記載されている。結合基Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３またはＺ４を合成する方法の一例をスキームを用いて説明する。このスキームにおいて、ＭＳＧ１またはＭＳＧ２は少なくとも一つの環を有する１価の有機基である。スキームで用いた複数のＭＳＧ１（またはＭＳＧ２）は、同一であってもよいし、または異なってもよい。化合物（１Ａ）から（１Ｋ）は化合物（１）に相当する。
【００７６】
（Ｉ）単結合の生成
アリールホウ酸（２１）と公知の方法で合成される化合物（２２）とを、炭酸塩水溶液とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で反応させて化合物（１Ａ）を合成する。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを反応させ、塩化亜鉛を反応させ、次いでジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で化合物（２２）を反応させることによっても合成される。
【００７７】
（II）−ＣＦ２Ｏ−と−ＯＣＦ２−の生成
化合物（１Ｂ）をローソン試薬のような硫黄化剤で処理して化合物（２６）を得る。化合物（２６）をフッ化水素ピリジン錯体とＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）でフッ素化し、−ＣＦ２Ｏ−を有する化合物（１Ｃ）を合成する（M. Kuroboshi et al., Chem. Lett., 1992，827.を参照）。化合物（１Ｃ）は化合物（２６）を（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化しても合成される（W. H. Bunnelle et al., J. Org. Chem. 1990, 55, 768.を参照）。この方法によって−ＯＣＦ２−を有する化合物も合成できる。Peer. Kirsch et al., Anbew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480.に記載の方法によってこれらの結合基を生成させることも可能である。
【００７８】
（III）−ＣＨ＝ＣＨ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのホルムアミドと反応させてアルデヒド（２８）を得る。公知の方法で合成されるホスホニウム塩（２７）をカリウムｔ−ブトキシドのような塩基で処理して発生させたリンイリドを、アルデヒド（２８）に反応させて化合物（１Ｄ）を合成する。反応条件によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。
【００７９】
（IV）−（ＣＨ２）２−の生成
化合物（１Ｄ）をパラジウム炭素のような触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｅ）を合成する。
【００８０】
（Ｖ）−（ＣＨ２）４−の生成
ホスホニウム塩（２７）の代わりにホスホニウム塩（２９）を用い、項（III）または項
（IV）の方法に従って−（ＣＨ２）２−および−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を得る。これを接触水素化して化合物（１Ｆ）を合成する。
【００８１】
（VI）−Ｃ≡Ｃ−の生成
ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下で、化合物（２３）に２−メチル−３−ブチン−２−オールを反応させたのち、塩基性条件下で脱保護して化合物（３０）を得る。ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下、化合物（３０）を化合物（２２）と反応させて、化合物（１Ｇ）を合成する。
【００８２】
（VII）−ＣＦ＝ＣＦ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（３１）を得る。化合物（２２）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、化合物（３１）と反応させて化合物（１Ｈ）を合成する。
【００８３】
（VIII）−ＣＨ２Ｏ−または−ＯＣＨ２−の生成
化合物（２８）を水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤で還元して化合物（３２）を得る。これを臭化水素酸などでハロゲン化して化合物（３３）を得る。炭酸カリウムなどの存在下で、化合物（３３）を化合物（２５）と反応させて化合物（１Ｊ）を合成する。
【００８４】
（IX）−（ＣＨ2）3Ｏ−または−Ｏ（ＣＨ2）3−の生成
化合物（３２）の代わりに化合物（３４）を用いて、項（VIII）の方法に従って化合物（１Ｋ）を合成する。
【００８５】
（X）−（ＣＦ2）2−の生成
J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 5414.に記載された方法に従い、ジケトン（−ＣＯＣＯ−）をフッ化水素触媒の存在下、四フッ化硫黄でフッ素化して−（ＣＦ2）2−を有する化合物を得る。
【００８６】
次に、Ａ１、Ａ２、Ａ３またはＡ４に関する合成法を説明する。
１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイルなどの環に関しては出発物が市販されているか、または合成法がよく知られている。そこで、下記の化合物（３７）および化合物（４１）について説明する。
２，３−ビストリフルオロメチルフェニレンの構造単位は、Org. Lett., 2000, 2 (21), 3345の文献に記載された方法で合成する。フラン（３５）と１，１，１，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブチンとを高温でディールズ・アルダー型の反応をさせることによってアニリン（３６）を合成する。この化合物から、Org. Synth. Coll., Vol. 2, 1943, 355に記載された方法に従い、サンド・マイヤー型反応によってヨウ化物（３７）を得る。この化合物は一般的な有機合成化学の手法によって化合物（１）に変換する。
【００８７】
２−ジフルオロメチル−３−フルオロフェニレンの構造単位は、次のような方法で合成する。化合物（３８）の水酸基を適切な保護基で保護して化合物（３９）を得る。Ｐは保護基を意味する。化合物（３９）にsec-ブチルリチウムを作用させ、続いてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を反応させてアルデヒド（４０）を得る。この化合物をジエチルアミノサルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化し、続いて脱保護してフェノール（４１）を得る。この化合物は一般的な有機合成化学の手法によって化合物（１）に変換する。なお、上記の式におけるＱ２は次の式で表される基である。
【００８８】
次にＱを生成する方法について説明する。最初に、ベンゾピラン環の誘導体を合成するために、下記に示すような化合物（ｑ１ａ）、化合物（ｑ２ａ）および化合物（ｑ３ａ）を合成し、これらのうちのいずれかを出発原料として化合物（１）を合成する。まず、化合物（ｑ１ａ）、化合物（ｑ２ａ）および化合物（ｑ３ａ）を合成する方法の一例を説明する。
これらの式におけるＱ１は下記の式で表される基である。
【００８９】
１）化合物（ｑ１ａ）の合成
出発原料となる化合物（５２）は、一般的な有機合成化学における手法、さらには上記の合成スキーム（Ｉ）〜（Ｘ）を用いることにより、容易に合成することができる。以下に、化合物（５２）に誘導するための一般的な合成例（Ａ）〜（Ｃ）を示す。
【００９０】
（Ａ） Ａ２がシクロヘキシレンであり、かつＺ２が単結合である場合、またはＺ２がアルキレンである場合の化合物（５２）の合成法
（これらの式において、Ｐは保護基を表し、Ｍｅはメチルを表し、ＴＩＰＳはトリイソプロピルシリルを表し、ＴＢＤＭＳはｔ−ブチルジメチルシリルを表し、Ｂｎはベンジルを表し、そしてｉは０〜３である。）
最初に有機合成化学の方法に従ってシクロヘキサノン誘導体（５０ａ）、またはカルボニル誘導体（５０ｂ）を準備し、適切なグリニャール試薬（５１）を用いたグリニャール反応、酸による脱水反応、およびＰｄ触媒を用いた水素還元を順次行い、その後は必要により塩化アルミニウムを用いた異性化反応を行うことにより、容易に化合物（５２）に誘導することができる。
【００９１】
（Ｂ） Ａ２がフェニレン、ピリミジンなどであり、かつＺ２が単結合である場合、またはＺ２がアルキレン、アルケニレン、アルキニレンまたは−ＣＨ２−である場合の化合物（５２）の合成法
（これらの式において、Ｘ４は臭素、ヨウ素またはトリフラート（ＯＴｆ）を表し、そしてＸ１は水素、ハロゲン、メチルまたは−ＣＦ３を表す。）
最初に有機合成化学の方法の方法に従って化合物（５３ａ）または化合物（５３ｂ）を準備し、例えばボロン酸誘導体（５４）などとカップリング反応を行う方法、またはフェノールの誘導体（５５）とWilliamsonエーテル化を行う方法などを用いることによって、容易に化合物（５２）に誘導することができる。
【００９２】
（Ｃ）Ｚ２が−ＣＦ２Ｏ−である場合の化合物（５２）の合成法
最初に有機合成化学の方法の方法に従って化合物（５３ｃ）を準備し、フェノール誘導体（５５）などとエステル化反応させ、その後に上記に記載した合成スキーム（II）を用いることによって、容易に化合物（５２）に誘導することができる。
【００９３】
次に、化合物（５２）から化合物（ｑ１ａ）を合成する方法について説明する。まず、化合物（５２）から化合物（５７）に誘導するスキームを下記に示す。
化合物（５２）を臭素化し、次いでブチルリチウムで処理した後にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などと作用させてアルデヒド体（５７）を得る。その後、ジエチルホスホノ酢酸エチルを水素化ナトリウムのような塩基で処理して発生させたリンイリドを、化合物（５７）と反応させて、化合物（５８）を得る。
【００９４】
次に、化合物（５８）から化合物（ｑ１ａ）を合成する方法について説明する。
（Ｉ−１） 化合物（６１）の合成
化合物（６１）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（５８）をパラジウム触媒下で水素還元を行い、ついでProtective Groups in Organic Synthesis（Greene, John Wiley & Sons, Inc）などに記載されている一般的な脱保護の条件により、フェノールの保護基を取り除く。得られた化合物（６０）をｐ−トルエンスルホン酸などを用いて脱水環化反応を行うことにより、化合物（６１）を得ることができる。
【００９５】
（Ｉ−２） 化合物（６５）の合成
化合物（６５）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（５８）をｍ−クロロ過安息香酸と作用させてエポキシド体（６２）に誘導し、さらに酢酸ナトリウムを加えることで化合物（６３）を得る。次いで、この化合物（６３）をジエチルアミノサルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）などのフッ素化剤を用いてフッ素化し、その後は（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いて、脱保護、脱水環化反応を行うことにより、化合物（６５）を得ることができる。
【００９６】
（Ｉ−３） 化合物（６７）の合成
化合物（６７）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（６３）から、Ｗｉｔｔｉｇ反応、次いで水素還元を行って化合物（６６）に誘導し、その後に（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（６７）を得ることができる。
【００９７】
（Ｉ−４） 化合物（７０）の合成
化合物（７０）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（６４）から、塩素との光反応を行って塩素化物（６８）とし、さらにフッ化アンチモンを作用させてフッ素化を行うことにより化合物（６９）に誘導する。その後は、（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（７０）を得ることができる。
【００９８】
（Ｉ−５） 化合物（７４）の合成
化合物（７４）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（５２）とシアノ酢酸クロリドの混合物に塩化アルミニウムを作用させて化合物（７１）とし、ついでエタノールと塩基により化合物（７２）に誘導する。そして、ＤＡＳＴを用いてフッ素化し、その後は（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（７４）を得ることができる。
【００９９】
（Ｉ−６） 化合物（７６）の合成
化合物（７６）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（７２）から、Wittig反応、次いで水素還元を行って化合物（７５）に誘導し、その後に（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（７６）を得ることができる。
【０１００】
（Ｉ−７） 化合物（７８）の合成
化合物（７８）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（６２）にフッ化水素ピリジンを作用させ、ついでＤＡＳＴを用いてフッ素化を行うことにより化合物（７７）が得られる。その後は（Ｉ−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（７８）を得ることができる。
【０１０１】
２）化合物（ｑ２ａ）の合成
（II−１） 化合物（８３）の合成
出発原料は、上段に記載した化合物（５６）とする。化合物（５６）から化合物（８３）に誘導するスキームの一例を下記に示す。
化合物（５６）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、ホルムアルデヒドを作用させると化合物（７９）が得られる。そして、（Ｉ−１）に記した方法と同様に 適切な条件で保護基を取り除いた後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ２Ｏ）とピリジンにより、トリフラート体（８１）を得る。その後に、化合物（８１）と有機スズ化合物の混合物をパラジウム触媒下でカップリング反応を行うことにより化合物（８２）に誘導した後、ｐ−トルエンスルホン酸などを用いて脱水環化反応を行うことにより、化合物（８３）を得ることができる。
【０１０２】
（II−２） 化合物（８５）の合成
化合物（８５）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（８３）から、過剰量の塩素との光反応を行って塩素化物（８４）に誘導し、さらにフッ化アンチモンを作用させてフッ素化を行うことにより化合物（８５）を得ることができる。
【０１０３】
（II−３） 化合物（８７）の合成
化合物（８７）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（８３）から、水酸化ナトリウムとクロロメトキシメチルを用いて化合物（８６）に誘導し、その後にパラジウム触媒下で水素還元を行うことにより化合物（８７）が得られる。
【０１０４】
（II−４） 化合物（９４）の合成
まず、化合物（５２）を合成したときと同様の方法により、化合物（５０ａ）、化合物（５０ｂ）、化合物（５３ａ）または化合物（５３ｂ）を出発原料として、化合物（８８）に容易に誘導することができる。
【０１０５】
化合物（８８）を出発原料として、例えば下記のような方法で、化合物（９４）を合成することができる。
【０１０６】
化合物（８８）の保護基を適切な方法で取り除いた後、臭素化を行い、化合物（８９）を得る。化合物（８９）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、ホルムアルデヒドを作用させ、次いで水酸基を適切な保護基で保護すると、化合物（９０）が得られる。さらに化合物（９０）をヨウ素化した後、ブロモジフルオロ酢酸エチルと活性化させた銅を加え、加熱還流させて化合物（９２）に誘導する。その後は、保護基を取り除いた後に、ｐ−トルエンスルホン酸などを用いて脱水環化反応を行うことにより、化合物（９４）を得ることができる。
【０１０７】
（II−５） 化合物（９９）の合成
化合物（９９）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（５６）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、アセトアルデヒドを作用させると化合物（９５）が得られる。そして、（Ｉ−１）に記した方法と同様に適切な方法で取り除いた後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物とピリジンにより、トリフラート体（９７）を得る。その後に、化合物（９７）と有機スズ化合物の混合物をパラジウム触媒下でカップリング反応を行うことにより化合物（９８）に誘導した後、ｐ−トルエンスルホン酸などを用いて脱水環化反応を行うことにより、化合物（９９）を得ることができる。
【０１０８】
３）化合物（ｑ３ａ）の合成
（III−１） 化合物（１０６）の合成
出発原料は、前記の化合物（８８）とする。化合物（８８）から化合物（１０６）に誘導するスキームの一例を下記に示す。
【０１０９】
化合物（９７）にｎ−ブチルリチウムを作用させた後に、臭素を作用させて化合物（１００）を得た後、パラジウム触媒と用いてアリールマグネシウムクロリドとカップリング反応を行うことにより、化合物（１０１）を得る。そして、得られた化合物（１０１）をＮ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド（ＮＭＯ）を共酸化剤として使用して四酸化オスミウムで酸化し、化合物（１０２）を得る。次に、化合物（１０２）にベンズアルデヒドを作用させ、さらに水酸化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ）で還元することにより化合物（１０３）を得る。その後に、適当な方法で保護基を取り除き、トシルクロリドと水酸化カリウムを用いて環化反応、次いで水素還元を行ってベンジル基を水酸基に変換することにより化合物（１０５）に誘導する。そしてクロム酸を用いたJones酸化反応などによって酸化を行うことにより、化合物（１０６）を得ることができる。
【０１１０】
（III−２） 化合物（１０８）の合成
化合物（１０８）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（１０６）から、塩素との光反応を行って塩素化物（１０７）に誘導し、さらにフッ化アンチモンを作用させてフッ素化を行うことにより化合物（１０８）を得ることができる。
【０１１１】
（III−３） 化合物（１１０）の合成
化合物（１１０）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（１０６）から、過剰量の塩素との光反応を行って塩素化物（１０９）に誘導し、さらにフッ化アンチモンを作用させてフッ素化を行うことにより化合物（１１０）を得ることができる。
【０１１２】
（III−４） 化合物（１１２）の合成
化合物（１１２）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
化合物（１０６）を水酸化ナトリウムとクロロメトキシメチルを用いて化合物（１１１）に誘導し、その後にパラジウム触媒下で水素還元を行うと、化合物（１１２）が得られる。
【０１１３】
（III−５） 化合物（１１０）の合成
化合物（１１０）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
【０１１４】
化合物（１００）を、パラジウム触媒と用いて２−ブテニルマグネシウムクロリドとカップリング反応を行うことにより、化合物（１１３）を得る。その後は、（III−１）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（１１８）を得ることができる。
【０１１５】
続いて、化合物（Ｑａ（＝Ｏ））とＱ２の連結方法について述べる。ここで、化合物（Ｑａ（＝Ｏ））は、下記の化合物（ｑ１ａ）、化合物（ｑ２ａ）または化合物（ｑ３ａ）のいずれか１つを表す。Ｑａ（ＯＨ）、Ｑａ（Ｈ）、Ｑａ（Ｆ）、およびＱａ（Ｃｌ）も、同じように下記の意味を有する。
【０１１６】
【０１１７】
【０１１８】
（１）ｍおよびｎが０である化合物の合成
（IV−１） 化合物（１２１）、化合物（１２２）および化合物（１２３）の合成
化合物（１２１）、化合物（１２２）および化合物（１２３）の合成スキームの一例を下記に示す。
【０１１９】
化合物（Ｑａ（＝Ｏ））に、例えばトリフルオロメチルトリメチルシランとテトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）を作用させると化合物（１２０）が得られる。この化合物（１２０）に塩化チオニルを作用させると化合物（１２１）が得られ、さらに水素還元を行うと、化合物（１２２）が得られる。また、化合物（１２０）にフッ化水素ピリジンをさせると、化合物（１２３）を得ることができる。
【０１２０】
（IV−２） 化合物（１２６）の合成
化合物（１２６）は、例えば下記のような方法で合成することができる。
ヨードパーフルオロエタンに金属リチウム作用させたものを、化合物（Ｑａ（＝Ｏ））と反応させて化合物（１２４）とする。その後は、（IV−１）に記した方法と同様の方法を用いることによって、化合物（１２６）を得ることができる。
【０１２１】
（IV−３） 化合物（１２８）、化合物（１２９）および化合物（１３０）の合成
化合物（１２８）、化合物（１２９）および化合物（１３０）の合成スキームの一例を下記に示す。
化合物（Ｑａ（＝Ｏ））に、ＤＩＢＡＬを用いて還元すると、化合物（１２７）が得られる。この化合物にフッ化水素ピリジンを作用させると、化合物（１２８）が得られる。この化合物（１２８）に塩化チオニルを作用させると化合物（１２９）、また化合物（１２８）にヨードトリフルオロメタンを作用させてエーテル化を行うと化合物（１３０）が得られる。
【０１２２】
（２）ｍまたはｎのどちらかが０でない化合物の合成
（IV−４） 化合物（１３１）、化合物（１３３）および化合物（１３４）の合成
化合物（１３１）、化合物（１３３）および化合物（１３４）の合成スキームの一例を下記に示す。
（これらの式において、Ｑ２は前記の通りの意味を有し、そしてＸ５はヨウ素、臭素または塩素である。）
【０１２３】
化合物（Ｑａ（＝Ｏ））に、ローソン試薬を使用してチオエステル化合物に誘導した後、フッ化水素ピリジンを作用させると化合物（１３１）を得ることができる。また、Ｑ２のハロゲン化物に金属リチウムを作用させたものを、化合物（Ｑａ（＝Ｏ））と反応させて化合物（１３２）とし、次いで塩化チオニルを用いた塩素化、さらには水素還元を行うと化合物（１３３）が得られる。また、化合物（１３２）にフッ化水素ピリジンを作用させると、化合物（１３４）を得ることができる。
【０１２４】
（IV−５） 化合物（１３７）および化合物（１３８）の合成
化合物（１３８）および化合物（１３９）の合成スキームの一例を下記に示す。
シクロヘキセン誘導体のハロゲン化物（１３５）に金属リチウムを作用させたものを、化合物（Ｑａ（＝Ｏ））と反応させると、化合物（１３６）が得られる。この化合物（１３６）を（IV−４）と同様の方法で塩素化、水素還元を行うと化合物（１３７）が得られる。また、フッ化水素ピリジンを作用させた後に水素還元を行うと、化合物（１３８）を得ることができる。
【０１２５】
化合物（１）は下記のようなスキームによる方法で製造することもできる。
（これらの式において、Ｑ１およびＱ２は前記の通りの意味を有し、Ｘ６は臭素または塩素、そしてＸ７は臭素、ヨウ素またはトリフラート（ＯＴｆ）である。）
【０１２６】
まず、上の（IV−１）〜（IV−５）に記した方法と同様の方法を用いることにより、化合物（１４０）から化合物（１４１）を合成することができる。この化合物（１４１）を、ホウ酸トリメチルなどを用いることによりボロン酸誘導体（１４３）に変換する。その後、この化合物（１４３）とＱ１のハロゲン化物（１４４）を、パラジウム触媒などを用いてカップリング反応を行うことにより、式（１）の化合物を得ることができる。
【０１２７】
官能基や環の化学的性質、または合成の簡便さなどの様々な要因を考慮した上で、式（１）の化合物の適切な合成方法を選択する。
【０１２８】
次に、本発明の組成物について説明する。本発明の液晶組成物は、化合物（１）の少なくとも１つを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。この組成物の成分は化合物（１）から選ばれた複数の化合物のみであってもよい。本発明の好ましい液晶組成物は、本発明の化合物に加えてその他の液晶性化合物をさらに含有する液晶組成物であり、このとき第一成分として化合物（１）から選択される少なくとも１つの化合物を１〜９９％の割合で含有する。
【０１２９】
このような組成物の最初の好ましい例は、化合物（１）の少なくとも１つと、式（２）〜式（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。
これらの式において、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。Ｘ２はフッ素、塩素、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３である。環Ｂおよび環Ｄは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。環Ｅは１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。Ｚ５およびＺ６は独立して−（ＣＨ２)２−、−（ＣＨ２)４−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。そして、Ｌ１およびＬ２は独立して水素またはフッ素である。
【０１３０】
化合物（２）〜化合物（４）は、誘電率異方性が正で大きいので、ＡＭ−ＴＮ素子用の組成物に主として用いられる。この組成物において、これらの化合物の量は１〜９９％である。好ましい量は１０〜９７％である。より好ましい量は４０〜９５％である。
【０１３１】
本発明の液晶組成物の２番目の例は、化合物（１）の少なくとも１つと、式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。
これらの式において、Ｒ２およびＲ３は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。Ｘ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮである。環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルである。環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイルまたは少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンである。Ｚ７は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合である。Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は独立して水素またはフッ素である。そしてｂ、ｃおよびｄは独立して０または１である。
【０１３２】
化合物（５）および化合物（６）は、誘電率異方性が正で非常に大きいので、ＳＴＮ素子用の組成物に主として用いられる。この組成物において、これらの化合物の量は１〜９９％である。好ましい量は１０〜９７％である。より好ましい量は４０〜９５％である。
【０１３３】
本発明の液晶組成物の３番目の例は、化合物（１）の少なくとも１つと、式（７）〜式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。
これらの式において、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。そして、Ｚ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合である。
【０１３４】
化合物（７）、化合物（８）および化合物（９）の誘電率異方性は小さい。化合物（７）は粘度または光学異方性を調整する目的で主に使用される。化合物（８）および化合物（９）は上限温度を上げて液晶相の温度範囲を広げる、または光学異方性を調整する目的で使用される。化合物（７）、化合物（８）および化合物（９）の量を加させると組成物のしきい値電圧が高くなり、粘度が小さくなる。したがって、組成物のしきい値電圧の要求値を満たすかぎり多量に使用してもよい。
【０１３５】
本発明の液晶組成物の４番目の例は、化合物（１）の少なくとも１つ、式（２）〜式（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物、並びに式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物を含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。
【０１３６】
本発明の液晶組成物の５番目の例は、化合物（１）の少なくとも１つ、式（２）〜式（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物、並びに式（７）〜式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物を含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。この組成物における化合物（２）〜化合物（４）の化合物の添加量は前記の通りであり、この組成物に化合物（７）〜化合物（９）をさらに添加する場合、この化合物の好ましい量は６０％以下である。より好ましい量は４０％以下である。
【０１３７】
本発明の液晶組成物の６番目の例は、化合物（１）の少なくとも１つ、式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物、並びに式（７）〜式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物を含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物である。この組成物における化合物（５）または化合物（６）の添加量は前記の通りであり、この組成物に化合物（７）〜化合物（９）をさらに添加する場合、この化合物の好ましい量は６０％以下である。より好ましい量は４０％以下である。
【０１３８】
化合物（２）〜化合物（９）の好ましい例は、化合物（２−１）〜化合物（２−９）、化合物（３−１）〜化合物（３−９７）、化合物（４−１）〜化合物（４−３３）、化合物（５−１）〜化合物（５−５６）、化合物（６−１）〜化合物（６−３）、化合物（７−１）〜化合物（７−１１）、化合物（８−１）〜化合物（８−２１）、および化合物（９−１）〜化合物（９−６）である。これらの化合物において、Ｒ1、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ4、Ｒ５、Ｘ1およびＸ２の記号の意味は、式（２）〜式（９）におけるこれらの記号の意味と同一である。
【０１３９】
【０１４０】
【０１４１】
【０１４２】
【０１４３】
【０１４４】
【０１４５】
【０１４６】
【０１４７】
【０１４８】
【０１４９】
【０１５０】
光学活性化合物の好ましい例を次に示す。
【０１５１】
本発明の組成物は公知の方法によって調製される。例えば、成分である化合物を混合し、加熱によって互いに溶解させる。組成物に適当な添加物を加えて組成物の物性を調整してもよい。このような添加物は当業者によく知られている。メロシアニン、スチリル、アゾ、アゾメチン、アゾキシ、キノフタロン、アントラキノン、テトラジンなどの化合物である二色性色素を添加してＧＨ素子用の組成物を調製してもよい。一方、液晶のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を与える目的でキラルドーパントが添加される。キラルドーパントの例は上記の光学活性化合物（Ｏｐ−１）〜（Ｏｐ−１２）である。
【０１５２】
キラルドーパントを組成物に添加してねじれのピッチを調整する。ＴＮ素子およびＴＮ−ＴＦＴ素子用の好ましいピッチは４０〜２００μｍの範囲である。ＳＴＮ素子用の好ましいピッチは６〜２０μｍの範囲である。ＢＴＮ素子用の好ましいピッチは１．５〜４μｍの範囲である。ＰＣ素子用の組成物にはキラルドーパントを比較的多量に添加する。ピッチの温度依存性を調整する目的で、少なくとも二つのキラルドーパントを添加してもよい。
【０１５３】
本発明の組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＢＴＮ，ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡなどの素子に使用できる。これらの素子は駆動方式がＰＭであってもよいし、またはＡＭであってもよい。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）素子、例えばＰＮ（polymer network）素子にも使用できる。
【実施例】
【０１５４】
実施例により本発明をさらに詳しく説明する。本発明はこれらの実施例によって制限されない。化合物の相転移温度において、Ｃ、ＮおよびＩは、それぞれ、結晶、ネマチック相および等方相である。かっこ内の相転移はそれがモノトロピックであることを示す。温度の単位は℃である。得られた化合物は核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルなどで同定した。核磁気共鳴スペクトルにおいて、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｍはマルチプレットである。化合物の量（百分率）は組成物の全重量に基づいた重量％である。
【０１５５】
物性値の測定は、日本電子機械工業規格（Standard of Electronic Industries Association of Japan）、ＥＩＡＪ・ＥＤ−２５２１Ａに記載された方法、またはこれを修飾した方法に従った。
＜ネマチック相の上限温度（ＮＩ；℃）＞
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。
【０１５６】
＜ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）＞
ネマチック相を有する試料を０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶（またはスメクチック相）に変化したとき、ＴＣを＜−２０℃と記載する。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。
【０１５７】
＜化合物の相溶性＞
類似の構造を有する幾つかの化合物を混合してネマチック相を有する母液晶を調製した。測定する化合物とこの母液晶とを混合した組成物を得た。混合する割合の一例は、１５％の化合物と８５％の母液晶である。この組成物を−２０℃、−３０℃のような低い温度で３０日間保管した。この組成物の一部が結晶（またはスメクチック相）に変化したか否かを観察した。必要に応じて混合する割合と保管温度とを変更した。このようにして測定した結果から、結晶（またはスメクチック相）が析出する条件および結晶（またはスメクチック相）が析出しない条件を求めた。これらの条件が相溶性の尺度である。
【０１５８】
＜光学異方性（屈折率異方性；Δｎ；２５℃で測定）＞
波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計を用いて測定した。主プリズムの表面を一方向にラビング（rubbing）したあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率ｎ‖は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率ｎ⊥は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。試料が組成物のときはこの方法によって光学異方性を測定した。試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあと光学異方性を測定した。化合物の光学異方性は外挿値である。
【０１５９】
＜誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）＞
試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあと誘電率異方性を測定した。化合物の誘電率異方性は外挿値である。２枚のガラス基板の間隔（ギャップ）が約９μｍ、ツイスト角が８０度の液晶セルに試料を入れた。このセルに２０ボルトを印加して、液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。０．５ボルトを印加して、液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。
【０１６０】
＜しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）＞
試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあとしきい値電圧を測定した。化合物のしきい値電圧は外挿値である。２枚のガラス基板の間隔（ギャップ）が（０．５／Δｎ）μｍであり、ツイスト角が８０度である、ノーマリーホワイトモード（normally white mode）の液晶表示素子に試料を入れた。Δｎは上記の方法で測定した光学異方性の値である。この素子に周波数が３２Ｈｚである矩形波を印加した。矩形波の電圧を上昇させ、素子を通過する光の透過率が９０％になったときの電圧の値を測定した。
【０１６１】
［実施例１］
＜化合物（Ｍ２−０１）の合成＞
下記のスキームに従って化合物（Ｍ２−０１）（２−トリフルオロメチル−６−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）クロマン）を合成した。
【０１６２】
（工程１）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０１ａ）（15.0g）と炭酸カリウム（13.8g）のＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（70mL）溶液を４５℃に加熱してベンジルクロリド（6.84g）を滴下し、９０℃で１時間攪拌した。反応物を水にあけてトルエン（100mL）で抽出し、常法により重曹水、水で順次洗浄して濃縮し、化合物（Ｍ２−０２ｂ）（19.1g）を得た。窒素雰囲気下で、得られた化合物（Ｍ２−０１ｂ）（19.1g）のジクロロメタン（100mL）溶液を０℃に冷却して、臭素（8.61g）を滴下し、そのまま３０分攪拌した。反応物を水にあけてジクロロメタン（100mL）を追加し、常法により、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄して濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物（Ｍ２−０１ｃ）（17.7g）を単離した。そして、窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０１ｃ）（17.7g）のＴＨＦ（100ｍL）溶液を−６５℃まで冷却し、ｓｅｃ−ブチルリチウム／シクロヘキサン溶液（37.7mL（1.00mol/L））を滴下した。そのままの温度で１時間攪拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（4.13g）のＴＨＦ（10mL）溶液を滴下し、さらに１時間攪拌した。反応物を１Ｎ−ＨＣｌ水溶液にあけてトルエン（300mL）で２回抽出し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０１ｄ）（10.9g）を単離した。
【０１６３】
（工程２）
窒素雰囲気下で、ジエチルホスホノ酢酸エチル（7.00g）のＴＨＦ（25mL）溶液を−４０℃に冷却し、ｔ−ブトキシカリウム（3.50g）をゆっくりと加えた。そのまま１時間攪拌した後に、化合物（Ｍ２−０１ｄ）（10.9g）のＴＨＦ（30mL）溶液を滴下し、さらに１時間攪拌した。反応物を水にあけてトルエン（200ｍL）で抽出し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０１ｅ）（12.5g）を単離した。化合物（Ｍ２−０１ｅ）（12.5g）のトルエン（15ｍL）／イソプロピルアルコール（30mL）混合溶液に触媒としてＰｄ／Ｃ（1.0g）を加え、反応器内に１．０ｋＰａの水素圧をかけて常温にて１日間攪拌した。反応液をろ過した後、常法にて濃縮し、化合物（Ｍ２−０１ｆ）（10.4g）を得た。そして、化合物（Ｍ２−０１ｆ）（10.4g）のトルエン（50mL）溶液にｐ−トルエンスルホン酸水和物（1.0g）を加え、ディーンスターク装置を用いて、生成したエタノールをトルエンとともに留去しながら１時間還流させながら加熱した。この後、さらにトルエン（30mL）を追加し、さらに1時間還流させながら加熱した。反応物を水にあけてトルエン（100mL）を追加し、常法にて、重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０１ｇ）（8.79g）を得た。
【０１６４】
（工程３）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０１ｇ）（3.00g）のＴＨＦ（10mL）溶液を０℃に冷却し、（トリフルオロメチル）トリメチルシラン（1.56g）のＴＨＦ（5mL）溶液を滴下し、その後にテトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）／ＴＨＦ溶液（0.1mL（1.0mol/L））を加えた。室温にて１時間攪拌した後、さらにＴＢＡＦ／ＴＨＦ溶液（11mL）を滴下し、そのまま３時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）で抽出し、常法にて水で洗浄、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０１ｈ）（3.38g）を得た。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０１ｈ）（3.38g）のトルエン（15mL）溶液に少量のピリジン（0.1mL）を加え、４５℃で塩化チオニル（1.04g）を滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（30mL）を追加し、常法にて水、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０２ｉ）（3.34g）を得た。そして、化合物（Ｍ２−０１ｉ）（2.00g）のトルエン（3ｍL）／イソプロピルアルコール(6mL)／トリエチルアミン（0.5mL）の混合溶液に触媒としてＰｄ／Ｃ（0.50g）を加え、反応器内に３ｋＰａの水素圧をかけて常温にて２日間攪拌した。反応液をろ過した後、トルエン（100mL）を加えて、常法にて１N−ＨＣｌ水溶液、水、重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して標題化合物（Ｍ２−０１）（1.42g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ0.90(t,3H), 1.07-1.36(m,15H), 1.52-1.87(m,8H), 1.89(dt,1H), 2.20(m,1H), 2.50(tt,1H), 2.95(m,2H), 4.40(m,1H), 6.96(d,1H), 7.01(d,1H), 7.07-7.08(dd,1H).
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-79.1(d,3F).
ＭＳ：408(M＋).
【０１６５】
［実施例２］
＜化合物Ｎｏ．Ｍ２−０３）の合成＞
下記のスキームに従って化合物（Ｍ２−０３）（２−トリフルオロメチル−６−［２−フルオロ−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニル）クロマン）を合成した。
【０１６６】
（工程１）
出発原料である化合物（Ｍ２−０３ａ）は、アルドリッチなどからの市販品である。この化合物（Ｍ２−０３ａ）（30.0g）から、実施例１の（工程３）と同様の方法にて化合物（Ｍ２−０３ｂ）（28.2g）を得た。窒素雰囲気下で、この化合物（Ｍ２−０３ｂ）（28.2g）のジクロロメタン（100mL）溶液を０℃まで冷却し、臭素（24.6g）を滴下した。反応液を水にあけてジクロロメタン（100mL）を追加し、常法にてチオ硫酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−０３ｃ）（31.8g）を単離した。次いで、窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０３ｃ）（31.8g）のＴＨＦ（150mL）溶液を−６５℃まで冷却し、ｎ−ブチルリチウム／ｎ−ヘキサン溶液（87.0mL（1.56mol/L））を滴下した。そのままの温度で１時間攪拌した後、さらにホウ酸トリメチル（15.3g）を滴下して室温に戻し、さらに１時間攪拌した。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ溶液にゆっくりとあけてジエチルエーテル（300mL）にて２回抽出し、常法にて水で洗浄、次いで濃縮した後、残渣を再結晶ろ過にて精製して化合物（Ｍ２−０３ｄ）（18.1g）を得た。
【０１６７】
（工程２）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ２−０３ｄ）（1.50g）、化合物（Ｍ２−０３ｅ）（1.93g）、炭酸カリウム（3.21g）、テトラブチルアンモニウムブロミド（0.56g）、トルエン（5mL）、エタノール（5mL）の混合液に触媒としてＰｄ／Ｃ（0.10g）を加え、７５℃で５時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）を加え、常法にて重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して標題化合物（Ｍ２−０３）（1.34g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ0.91(t,3H), 1.04-1.46(m,7H), 1.91(dt,4H), 2.07(m,1H), 2.24(m,1H),
2.49(tt,1H), 2.93(m,2H), 4.41(m,1H), 6.96-7.05(m,3H), 7.28-7.340(m,3H),
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-79.2(d,3F), -119.3(dd,1F)
ＭＳ：406(M＋)
【０１６８】
［実施例３］
＜化合物（Ｍ７−３２）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ７−３２）（３−トリフルオロメチル−４，４−ジフルオロ−５−フルオロ−７−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）イソクロマン）を合成することができる。
【０１６９】
（工程１）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ａ）のジクロロメタン溶液を０℃まで冷却し、臭素を滴下する。反応液を水にあけてジクロロメタンを追加し、常法にてチオ硫酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ７−３２ｂ）を単離する。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ｂ）のＴＨＦ溶液を−６５℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム／ｎ−ヘキサン溶液を滴下する。そのままの温度で１時間攪拌してから、さらにホルムアルデヒドを滴下して室温に戻し、１時間攪拌する。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ溶液にあけてトルエンで２回抽出し、常法にて水、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ７−３２ｃ）を単離する。次いで、窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ｃ）のジクロロメタン溶液を−２０℃まで冷却し、三臭化ホウ素を滴下して室温に戻した後、５時間攪拌した。反応液を氷水にあけてトルエンで２回抽出し、常法にて水、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮して、化合物（Ｍ７−３２ｄ）を得る。
【０１７０】
（工程２）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ｄ）、トリエチルアミン、ＤＭＡＰ（（４−ジメチルアミノ）ピリジン）、およびジクロロメタンの混合液に、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロリドを室温でゆっくり加え、そのまま２時間攪拌する。反応液を水にあけてジクロロメタンを追加し、常法にて水で洗浄し、次いで濃縮して、化合物（Ｍ７−３２ｅ）を得る。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ｅ）、イミダゾール、トルエンの混合液に、室温でトリフェニルホスフィンを加え、次いでヨウ素を滴下してそのまま１時間攪拌する。反応液を水にあけてトルエンを追加し、常法にてチオ硫酸ナトリウム水溶液、水にて順次洗浄し、次いで濃縮してから、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ７−３２ｆ）を単離する。その後、さらに再結晶ろ過を行い、不純物を除去する。
【０１７１】
（工程３）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ７−３２ｆ）のＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）溶液に、ブロモジフルオロ酢酸エチル、および活性化した銅粉末を順次加え、８０℃にて６時間攪拌する。反応液を水にあけてトルエンで抽出し、銅などの沈殿物をろ過した後に、常法にて１Ｎ−ＨＣｌ水溶液および水で順次洗浄し、次いで濃縮する。その後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製し化合物（Ｍ７−３２ｇ）を単離する。化合物（Ｍ７−３２ｇ）のトルエン溶液にｐ−トルエンスルホン酸水和物を加え、生成したエタノールをディーンスターク装置を用いて除去しながら１時間還流させながら加熱する。この後、さらにトルエンを追加し、さらに1時間還流させながら加熱する。反応物を水にあけてトルエンを追加し、常法にて、重曹水および水で順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して化合物（Ｍ７−３２ｈ）を得る。
【０１７２】
（工程４）
化合物（Ｍ７−３２ｈ）から、実施例１の（工程３）と同様の方法にて、標題化合物（Ｍ７−３２）を得る。
【０１７３】
［実施例４］
＜化合物（Ｍ９−１４）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ９−１４）（３−（３，４，５−トリフルオロフェニル）−５−フルオロ−７−（４−エチルフェニル）イソクロマン）を合成した。
【０１７４】
（工程１）
化合物（Ｍ９−１４ａ）（30.0g）から、実施例３の（工程１）〜（工程３）と同様の方法にて化合物（Ｍ９−１４ｂ）（4.22g）を得た。
【０１７５】
（工程２）
アルゴン雰囲気下で、細かく切ったリチウム（0.20g）をゆっくりとＴＨＦ（20mL）中に加え、６０℃にて１−ブロモ−３，４，５−トリフルオロベンゼン（1.98g）を滴下し、そのままの温度で１時間攪拌した。その後、反応液を０℃まで冷却して化合物（Ｍ９−０２ａ）（2.11g）のＴＨＦ（10mL）溶液を滴下し、室温にてさらに１時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）にて２回抽出し、常法にて、水で洗浄し、次いで濃縮して化合物（Ｍ９−１４ｂ）（2.17g）を得た。
【０１７６】
（工程３）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ９−１４ｂ）（2.17g）のトルエン（30mL）溶液に少量のピリジン（0.10g）を加え、４５℃で塩化チオニル（0.71g）を滴下して、そのままの温度で１時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）を追加し、常法にて水、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ９−１４ｃ）（1.99g）を得た。化合物（Ｍ９−１４ｃ）（1.99g）のトルエン（3mL）／イソプロピルアルコール（6mL）／トリエチルアミン（0.50mL）の混合液に触媒としてＰｄ／Ｃ（0.20g）を加え、反応器内に３ｋＰａの水素圧をかけて常温にて２日間攪拌した。反応液をろ過した後、トルエン（100mL）を加えて、常法にて１N−ＨＣｌ水溶液、水、重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して標題化合物（Ｍ９−１４）（1.04g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ.96(t,3H), 2.65(m,2H), 2.94(m,2H), 4.58(d,2H), 4.66(m,1H), 6.82-6.85(m,2H), 6.97-7.07(m,4H), 7.31-7.38(m,2H).
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-119.2(dd,1F), -135.4(m,2F), -163.1(m,1F).
ＭＳ：386.1(M＋).
【０１７７】
［実施例５］
＜化合物（Ｍ１２−０２）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ１２−０２）（３−トリフルオロメチル−７−（（２−フルオロ−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニル）クロマン）を合成した。
【０１７８】
（工程１）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ａ）（20.0g）、イミダゾール（11.4g）、ジクロロメタン（200mL）の混合液を０℃に冷却し、トリイソプロピルシリルクロリド（15.5g）をゆっくりと加え、そのままの温度で１時間攪拌した。反応液を水にあけて、常法にて水で洗浄し、次いで濃縮して化合物（Ｍ１２−０２ｂ）（27.1g）を得た。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｂ）（27.1g）のＴＨＦ（270mL）溶液を−６５℃まで冷却し、ｓｅｃ−ブチルリチウム／シクロヘキサン溶液（59.6mL（1.00mol/L））を滴下して、そのままの温度で１時間攪拌した。その後、さらにヨウ素（18.2g）のＴＨＦ（50ｍL）溶液を滴下して、徐々に室温に戻して３０分間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（500mL）にて２回抽出し、常法にてチオ硫酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで処理して化合物（Ｍ１２−０２ｃ）（14.9g）を単離した。次いで、窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｃ）（14.9g）のＴＨＦ（100mL）溶液を０℃に冷却し、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（0.150g）を加えた後、アリールマグネシウムクロリド／ＴＨＦ溶液（16.0mL（2.0mol/L））を滴下し、室温にて５時間攪拌した。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ溶液にあけてトルエン（200ｍL）で２回抽出し、常法にて水、重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ１２−０２ｄ）（8.76g）を単離した。
【０１７９】
（工程２）
窒素雰囲気下で、四酸化オスミウム（0.45g）、Ｎ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド−水和物（1.97g）、水（10mL）、およびアセトニトリル（5mL）の混合液に、室温にて化合物（Ｍ１２−０２ｄ）（8.76g）をゆっくりと追加し、そのまま５時間攪拌した。反応液を氷水にあけてトルエン（100mL）を追加し、常法にて水、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水にて順次洗浄、次いで濃縮し化合物（Ｍ１２−０２ｅ）（6.80g）を得た。次いで、化合物（Ｍ１２−０２ｅ）（6.74g）、ベンズアルデヒド（1.62g）およびトルエン（100mL）の混合液にｐ−トルエンスルホン酸無水物（0.50g）を加え、ディーンスターク装置を用いて生成した水を除去しながら１時間加熱した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）を追加し、常法にて水、１重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ１２−０２ｆ）（7.47g）を得た。
【０１８０】
（工程３）
窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｆ）（7.47g）のＴＨＦ（70ｍL）溶液を−４０℃まで冷却し、水素化ジイソブチルアルミニウム／トルエン溶液（13.3mL（1.0mol/L））を滴下し、徐々に室温に戻しながら１時間撹拌した。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ溶液にあけてトルエン（200ｍL）にて２回抽出し、常法にて水で洗浄、次いで濃縮して化合物（Ｍ１２−０２ｇ）（6.23g）を得た。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｇ）（6.23g）のＴＨＦ（60mL）溶液を０℃まで冷却し、ＴＢＡＦ／ＴＨＦ溶液（15mL（1.0mol/L））を滴下して、そのままの温度で２時間撹拌した。反応液を水にあけてトルエン（200ｍL）で抽出し、常法にて水で洗浄、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ１２−０２ｈ）（4.42g）を得た。次いで、窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｈ）（4.42g）、水酸化カリウム（1.07g）、およびジオキサン（40mL）の混合液にトシルクロリド（1.91g）を加え、３時間還流させながら加熱した。反応液を水にあけてトルエン（200mL）で抽出し、常法にて水で洗浄し、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ１２−０２ｉ）（3.48g）を得た。
【０１８１】
（工程４）
化合物（Ｍ１２−０２ｉ）（3.48g）のトルエン（10mL）／エタノール（10mL）の混合液に触媒としてＰｄ／Ｃ（0.20g）を加え、反応器内に１ｋＰａの水素圧をかけて常温にて１日間撹拌した。反応液をろ過した後、そのまま濃縮して化合物（Ｍ１２−０２ｊ）（2.72g）を得た。窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ１２−０２ｊ）（2.72g）のアセトン（20mL）溶液を０℃に冷却し、Ｊｏｎｅｓ試薬（2.87mL（2.67mol/L））を滴下して、室温にて２時間撹拌した。反応液をジエチルエーテル（100mL）で２回抽出し、常法にてチオ硫酸ナトリウム水溶液、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して化合物（Ｍ１２−０２ｋ）（2.16g）を得た。
【０１８２】
（工程５）
化合物（Ｍ１２−０２ｋ）（1.50g）から、実施例１の（工程３）と同様の方法にて、標題化合物（Ｍ１２−０２）（1.37g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ0.92(t,3H), 1.04-1.46(m,8H), 2.24(m,1H), 2.49(t,1H), 2.93(m,2H), 4.49(dd,2H), 6.96-7.03(m,4H), 7.26-7.31(m,2H).
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-79.1(d,3F), -119.2(dd,1F).
ＭＳ：406(M＋).
【０１８３】
［実施例６］
＜化合物（Ｍ１２−０３）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ１２−０３）（３−パーフルオロエチル−７−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）クロマン）を合成することができる。
【０１８４】
（工程１）
化合物（Ｍ２−０３ａ）から、実施例５の（工程１）から（工程４）までと同様の方法にて化合物（Ｍ２−０３ｂ）を得る。
【０１８５】
（工程２）
窒素雰囲気下で、細かく切ったリチウムをゆっくりとＴＨＦ中に入れ、パーフルオロエチルヨージドを加えて、室温にて超音波発生装置を用いて超音波を１時間照射する。その後、超音波装置をはずし、室温にて化合物（Ｍ１２−０３ｂ）のＴＨＦ溶液を滴下し、そのまま２時間撹拌する。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ水にあけてトルエンで２回抽出し、常法にて、水、重曹水、水にて順次洗浄し、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ１２−０３ｃ）を得る。その後は、化合物（Ｍ１２−０３ｃ）から、実施例４の（工程２）と同様の方法にて、標題化合物（Ｍ１２−０３）を得ることができる。
【０１８６】
［実施例７］
＜化合物（Ｍ２−２７）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ２−２７）（２，２−ジフルオロ−６−（２，６−ジフルオロ−４−（４−プロピルフェニル）フェニル）−クロマン）を合成した。
【０１８７】
（工程１）
実施例１の（工程１）に記載した方法と同様の方法を用いることによって、化合物（Ｍ２−２７ａ）（10.0g）から化合物（Ｍ２−２７ｂ）（6.50g）を合成した。
次に、窒素雰囲気下で、メトキシメチルホスホニムクロライド（7.31g）のＴＨＦ（30mL）溶液を−３０℃まで冷却し、ｔ−ブトキシカリウム（1.99g）をゆっくりと加えた。そのままの温度で１時間攪拌した後に、化合物（Ｍ２−２７ｂ）（6.50g）のＴＨＦ（20mL）溶液を滴下した。徐々に室温に戻して１時間攪拌した後、反応液を水にあけてトルエン（100mL）にて２回抽出し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物を単離した。その後、この単離した化合物(6.30g)、３Ｎ−ＨＣｌ水溶液（20mL）、およびアセトン（50mL）の混合溶液を、６０℃で２時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）にて抽出し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行い、化合物（Ｍ２−２７ｃ）（4.70g）を得た。
【０１８８】
（工程２）
窒素雰囲気下で、ジブロモジフルオロメタン（3.90g）のＴＨＦ（12mL）溶液を０℃まで冷却し、トリス（ジエチルアミノ）ホスフィン（9.47g）のＴＨＦ（20mL）溶液をゆっくりと滴下した。常温にて１時間攪拌した後、さらに化合物（Ｍ２−２７ｃ）（4.70g）のＴＨＦ（10mL）溶液をゆっくりと滴下し、４０℃で４時間攪拌した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）にて２回抽出し、常法にて水、３Ｎ−ＨＣｌ水溶液、重曹水、水にて順次洗浄、次いで濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物（Ｍ２−２７ｄ）（4.10g）を得た。
次に、窒素雰囲気下で、この化合物（Ｍ２−２７ｄ）（2.70g）のジクロロメタン（30mL）溶液を−１０℃まで冷却し、臭素（1.15g）を滴下した。そのままの温度で３０分間攪拌した後、反応液を水にあけてジクロロメタン（50mL）を追加し、常法にて水、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水にて順次洗浄、次いで濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、化合物（Ｍ２−２７ｅ）（3.00g）を得た。
【０１８９】
（工程３）
化合物（Ｍ２−２７ｅ）（2.00g）のトルエン（10mL）／イソプロピルアルコール（10mL）／トリエチルアミン（1mL）の混合液に、触媒としてＰｄ／Ｃ（0.30g）を加え、反応器内に３ｋＰａの水素圧をかけて常温にて２日間攪拌した。反応液をろ過した後、トルエン（100mL）を加えて、常法にて１N−ＨＣｌ水溶液、水、重曹水、水で順次洗浄し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して標題化合物（Ｍ９−１４）（1.00g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ0.980(3H, t), 1.64-1.73(2H, m), 2.36-2.43(2H, m), 2.65(2H, t), 3.04(2H, t), 7.06(1H, d), 7.20(1H, d), 7.28-7.31(3H, m), 7.36(1H, d), 7.50-7.52(2H, m).
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-69.9(2F, t), -115.3(2F, d).
ＭＳ： 400（Ｍ＋）
【０１９０】
［実施例８］
＜化合物（Ｍ３−０２）の合成＞
下記のスキームに従って、化合物（Ｍ３−０２）（２−（３，４，５−トリフルオロフェニル）−６−ヘプチルクロマン）を合成した。
【０１９１】
（工程１） 実施例１の（工程１）に記載した方法と同様の方法を用いることによって、化合物（Ｍ３−０２ａ）（10.0g）から化合物（Ｍ３−０２ｂ）（9.99g）を合成した。
次に、窒素雰囲気下で、（１，３−ジオキサン−２−ジイルメチル）トリフェニルホスホニウムブロマイド（22.0g）とＴＨＦ（90mL）の混合溶液を−３０℃まで冷却し、ｔ−ブトキシカリウム（5.74g）をゆっくりと加えた。そのままの温度で１時間攪拌した後に、化合物（Ｍ３−０２ｂ）（9.99g）のＴＨＦ（30mL）溶液を滴下した。徐々に室温に戻して１時間攪拌した後、反応液を水にあけてトルエン（200mL）にて２回抽出し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物を単離した。その単離した化合物（12.0g）のトルエン（30mL）／イソプロパノール（30mL）の混合液に、触媒としてＰｄ／Ｃ（0.60g）を加え、反応器内に１ｋＰａの水素圧をかけて常温にて１日間撹拌した。反応液をろ過した後、そのまま濃縮して化合物（Ｍ３−０２ｃ）（11.9g）を得た。
【０１９２】
（工程２） 化合物（Ｍ３−０２ｃ）（11.9g）、ぎ酸（36mL）、およびトルエン（60mL）の混合溶液を、８０℃で２時間加熱還流した。反応液を水にあけてトルエン（200mL）を追加し、常法により水で洗浄、次いで濃縮を行い、化合物（Ｍ３−０２ｄ）（9.88g）を得た。次に、窒素雰囲気下で、マグネシウム（1.10g）とＴＨＦ（20mL）の混合液を−４０℃まで加熱し、その後、氷水浴などを用いて４０℃程度に保ちながら１−ブロモ−３，４，５−トリフルオロベンゼン（9.50g）をゆっくりと滴下してGrignard試薬を調整した。そのままの温度で１時間攪拌した後、さらに化合物（Ｍ３−０２ｄ）（9.88g）のＴＨＦ（30mL）溶液を滴下し、さらに１時間攪拌した。反応液を１Ｎ−ＨＣｌ水溶液にあけてトルエン（100mL）にて２回抽出し、常法により水、重曹水、水にて順次洗浄、次いで濃縮を行うことにより化合物（Ｍ３−０２ｅ）（12.0g）を得た。
【０１９３】
（工程３） 窒素雰囲気下で、化合物（Ｍ３−０２ｅ）（12.0g）のジクロロメタン（50mL）溶液を−２０℃まで冷却し、三臭化ホウ素（11.4g）を滴下して、その後除々に室温に戻して１時間攪拌した。反応液を水にあけてジクロロメタン（100mL）を追加し、常法より水で洗浄、次いで濃縮を行うことにより目的物を得た。次に、得られた化合物、水酸化カリウム（3.74g）、およびジオキサン（80mL）の混合液にトシルクロリド（3.82g）を加え、３時間加熱還流した。反応液を水にあけてトルエン（100mL）にて２回抽出し、常法により水、重曹水、水にて順次洗浄、次いで濃縮を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、さらに再結晶ろ過にて精製して標題化合物（Ｍ３−０２）（4.61g）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ0.980(3H, t), 1.43-1.75(10H, m), 2.03-2.10(2H, m), 2.25-2.32(2H, m), 2.63(2H, t), 2.84-2.90(1H, m), 3.00-3.08(1H, m), 5.08-5.10(1H, m), 6.82(1H, d), 6.90(1H, d), 6.96-6.99(1H, m), 7.08-7.10(2H, m).
１９Ｆ（ＣＤＣｌ３、ｐｐｍ）： δ-134.0(2F, m), -161.7(1F, m).
ＭＳ： 362（Ｍ＋）
【０１９４】
［実施例９］
実施例１〜８および前記の合成法を参照することによって合成できる化合物（１）の例を次に示す。
【０１９５】
【０１９６】
【０１９７】
【０１９８】
【０１９９】
【０２００】
【０２０１】
【０２０２】
【０２０３】
【０２０４】
【０２０５】
【０２０６】
【０２０７】
【０２０８】
【０２０９】
【０２１０】
【０２１１】
【０２１２】
【０２１３】
［実施例１０］
下記の化合物を混合して、ネマチック相を有する組成物Ａ（母液晶）を調整した。
４−（４−プロピルシクロヘキシル）ベンゾニトリル（２４％）
４−（４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル（３６％）
４−（４−ヘプチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル（２５％）
４−（４−ペンチルシクロヘキシル）−４’−シアノベンゾニトリル（１５％）
この組成物Ａの物性は次のとおりであった。
上限温度（ＮＩ）＝７１．７℃
光学異方性（Δｎ）＝０．１３７
誘電率異方性（Δε）＝１１．０
【０２１４】
この組成物Ａの９０重量％と実施例２で得られた化合物（Ｍ２−０３）の１０％とからなる組成物Ｂを調製した。組成物Ｂの物性値を外挿して化合物（Ｍ２−０３）の物性値を算出した。
光学異方性（Δｎ）：０．１２７
誘電率異方性（Δε）：９．６
【０２１５】
［実施例１１］
実施例１０に記載した組成物Ａの９０重量％と実施例４で得られた化合物（Ｍ９−１４）の１０％とからなる組成物Ｃを調製した。組成物Ｃの物性値を外挿して化合物（Ｍ９−１４）の物性値を算出した。
光学異方性（Δｎ）：０．１５４
誘電率異方性（Δε）：１８．８
【０２１６】
［実施例１２］
実施例１０に記載した組成物Ａの９０重量％と実施例５で得られた化合物（Ｍ１２−０２）の１０％とからなる組成物Ｄを調製した。組成物Ｄの物性値を外挿して化合物（Ｍ１２−０２）の物性値を算出した。
光学異方性（Δｎ）：０．１２８
誘電率異方性（Δε）：８.５
【０２１７】
［実施例１３］
実施例１０に記載した組成物Ａの９５重量％と実施例７で得られた化合物（Ｍ２−２７）の５％とからなる組成物Ｅを調製した。組成物Ｅの物性値を外挿して化合物（Ｍ２−２７）の物性値を算出した。
光学異方性（Δｎ）：０．１９７
誘電率異方性（Δε）：２１．７
【０２１８】
［実施例１４］
実施例１０に記載した組成物Ａの８５重量％と実施例８で得られた化合物（Ｍ３−０２）の１５％とからなる組成物Ｆを調製した。組成物Ｆの物性値を外挿して化合物（Ｍ３−０２）の物性値を算出した。
光学異方性（Δｎ）：０．０７０６
誘電率異方性（Δε）：８．１４
【０２１９】
本発明の代表的な組成物を使用例１〜１３にまとめた。最初に、組成物の成分である化合物とその量（重量％）を示した。化合物は下記の表１の定義に従い、左末端基、結合基、環構造、および右末端基の記号によって表示した。１，４−シクロヘキシレンおよび１，３−ジオキサン−２，５−ジイルの立体配置はトランスである。末端基の記号がない場合は、末端基が水素であることを意味する。そして次に、組成物の物性値を示した。
＜表１＞ 記号を用いた化合物の表記方法
【０２２０】
［使用例１］
３−ＨＢＣｒｏ１−ＣＦ３ ４％
２−ＨＢ（Ｆ）Ｃｒｏ１−ＣＦ３ ４％
２−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ５％
３−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ４％
４−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ １２％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ １６％
３−ＨＢ−Ｏ２ １０％
３−ＨＨ−４ ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ ３％
３−ＨＨＢ−１ ８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ３％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ ３％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ４％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ４％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２ ５％
ＮＩ：８４．４℃
Δｎ：０．１４７
Δε：２８．２
Ｖｔｈ：１．０６Ｖ．
【０２２１】
［使用例２］
３−ＨＨＣｒｏ１−ＣＦ３ ５％
３−ＨＨＣｒｏ１（８Ｆ）−ＣＦ３ ４％
２−ＨＢ−Ｃ ５％
３−ＨＢ−Ｃ １２％
３−ＨＢ−Ｏ２ １５％
２−ＢＴＢ−１ ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ ４％
３−ＨＨＢ−１ ８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ５％
３−ＨＨＢ−３ １０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ４％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ ４％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
【０２２２】
［使用例３］
３−ＨＢＣｒｏ１（８Ｆ）−ＣＦ３ ４％
３−ＢＢＣｒｏ１−ＣＦ３ ３％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｃｒｏ１（８Ｆ）−ＣＦ３ ３％
３−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ８％
３−ＨＢ−Ｃ ８％
Ｖ−ＨＢ−Ｃ ８％
１Ｖ−ＨＢ−Ｃ ８％
３−ＨＢ−Ｏ２ ３％
３−ＨＨ−２Ｖ １４％
３−ＨＨ−２Ｖ１ ７％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ ５％
３−ＨＨＢ−１ ５％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ７％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ６％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ６％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ５％
【０２２３】
［使用例４］
３−ＨＢＣｒｏ１−ＣＬ ３％
３−ＨＨＣｒｏ１（Ｆ２） ３％
５−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ５％
Ｖ−ＨＢ−Ｃ １１％
５−ＰｙＢ−Ｃ ６％
４−ＢＢ−３ １１％
３−ＨＨ−２Ｖ １０％
５−ＨＨ−Ｖ １１％
Ｖ−ＨＨＢ−１ ７％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ １１％
３−ＨＨＢ−１ ７％
１Ｖ２−ＨＢＢ−２ １０％
３−ＨＨＥＢＨ−３ ５％
【０２２４】
［使用例５］
３−ＨＨＣｒｏ２−ＣＦ３ ５％
３−ＨＢＣｒｏ２（５Ｆ）−ＣＦ３ ４％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ ６％
３−ＨＢ−Ｃ １８％
２−ＢＴＢ−１ １０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ ３０％
３−ＨＨＢ−１ ３％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１ ５％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１ ６％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ５％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ４％
【０２２５】
［使用例６］
３−ＨＢＣｒｏ１−ＣＦ３ ５％
２−ＨＢ（Ｆ）Ｃｒｏ１−ＣＦ３ ５％
５−ＨＢ−ＣＬ １６％
３−ＨＨ−４ １２％
３−ＨＨ−５ ４％
３−ＨＨＢ−Ｆ ４％
３−ＨＨＢ−ＣＬ ３％
４−ＨＨＢ−ＣＬ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ２％
４−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
４−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
ＮＩ：１１３．６℃
Δｎ：０．０９９
Δε：３．７
Ｖｔｈ：２．７３Ｖ
この組成物１００重量部にＯｐ−５を０．２５重量部添加したときのピッチは６１．０μｍであった
【０２２６】
［使用例７］
３−ＢＢ（Ｆ）Ｃｒｏ２−ＣＦ３ ３％
３−ＨＣｒｏ２（５Ｆ）−Ｃ ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １８％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ２％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４ ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ ４％
【０２２７】
［使用例８］
３−ＨＢＣｒｏ２−ＣＬ ３％
３−ＨＨＣｒｏ２−１ＣＦ２Ｈ ２％
５−ＨＢ−Ｆ １２％
６−ＨＢ−Ｆ ９％
７−ＨＢ−Ｆ ７％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ７％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ７％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ７％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ５％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３ ４％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ２Ｈ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３ ５％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
５−ＨＢＢＨ−３ ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ ３％
【０２２８】
［使用例９］
３−ＨＨＣｒｏ２（Ｆ２） ３％
２−ＢＣｒｏ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
３−ＨＨＣｒｏ３−ＣＦ３ ３％
５−ＨＢ−ＣＬ １１％
３−ＨＨ−４ ８％
３−ＨＨＢ−１ ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６％
【０２２９】
［使用例１０］
３−ＨＨＣｒｏ３（５Ｆ）−ＣＦ３ ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｃｒｏ３−ＣＦ３ ４％
３−ＨＢ−ＣＬ ６％
５−ＨＢ−ＣＬ ４％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ５％
３−Ｈ２ＨＢ−ＯＣＦ３ ５％
５−Ｈ４ＨＢ−ＯＣＦ３ １５％
Ｖ−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ４％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ４％
３−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３ ８％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３ １０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ３％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
【０２３０】
［使用例１１］
３−ＨＣｒｏ３（５Ｆ）−Ｃ ４％
３−ＨＢＣｒｏ３−ＣＬ ４％
５−ＨＢ−ＣＬ １４％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨ−４ １０％
３−ＨＨ−５ ５％
３−ＨＢ−Ｏ２ １０％
３−ＨＨＢ−１ ８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ５％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
【０２３１】
［使用例１２］
３−ＨＨＣｒｏ３−１ＣＦ２Ｈ ７％
３−ＨＨＣｒｏ３（Ｆ２） ３％
５−ＨＢ−ＣＬ ３％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
３−ＨＨ−４ ９％
３−ＨＨ−ＥＭｅ １５％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ７％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ ７％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
４−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６％
２−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
３−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７％
【０２３２】
［使用例１３］
２−ＢＣｒｏ３（５Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
３−ＨＨ−４ ８％
３−ＨＨＢ−１ ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ９％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ ７％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、または炭素数１〜２０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜２０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜２０のアルケニル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、または１，４−フェニレンであり、これらの環において、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つ−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲン、メチルまたは−ＣＦ３で置き換えられてもよく；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４は独立して単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つ水素はハロゲンで置き換えられてもよく；ｈ、ｋ、ｍおよびｎは独立して０、１または２であり、そしてｈ、ｋ、ｍおよびｎの和は１、２または３であり；そして、Ｑは式（ｑ１）、式（ｑ２）および式（ｑ３）のいずれか１つで表される基である：
ここに、Ｘ１は水素、ハロゲン、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または−ＯＣＦＨ２であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである；但し、Ｑが式（ｑ１）で表される基であるとき、Ｘ１は水素、メチルまたはメトキシである。
【請求項２】
Ｑが式（ｑ１）で表される基であり、Ｘ１が水素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｑが式（ｑ２）で表される基であり、Ｘ１が水素またはフッ素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｑが式（ｑ３）で表される基であり、Ｘ１が水素またはフッ素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
式（１−１）〜式（１−５）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはメチルであり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【請求項６】
Ｘ１が水素である、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項５に記載の化合物。
【請求項８】
Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、請求項５に記載の化合物。
【請求項９】
Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項５に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、請求項５に記載の化合物。
【請求項１１】
式（１−６）〜式（１−１０）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはフッ素であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【請求項１２】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１５】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１６】
式（１−１１）〜式（１−１５）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはフッ素であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【請求項１７】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置換されてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項１８】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項１９】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２０】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物。
【請求項２２】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（２）、式（３）および式（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ２はフッ素、塩素、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３であり；環Ｂおよび環Ｄは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、環Ｅは１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ５およびＺ６は独立して−（ＣＨ２)２−、−（ＣＨ２)４−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合であり；そして、Ｌ１およびＬ２は独立して水素またはフッ素である。
【請求項２３】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ２およびＲ３は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；Ｚ７は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合であり；Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は独立して水素またはフッ素であり；そしてｂ、ｃおよびｄは独立して０または１である。
【請求項２４】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（７）〜式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【請求項２５】
式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２２に記載の組成物：
ここに、Ｒ２およびＲ３は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；Ｚ７は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合であり；Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は独立して水素またはフッ素であり；そしてｂ、ｃおよびｄは独立して０または１である。
【請求項２６】
式（７）、式（８）および式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２２に記載の組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【請求項２７】
式（７）、式（８）および式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２３に記載の組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【請求項２８】
請求項２１〜２７のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【請求項１】
式（１）で表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、または炭素数１〜２０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜２０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜２０のアルケニル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、または１，４−フェニレンであり、これらの環において、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つ−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲン、メチルまたは−ＣＦ３で置き換えられてもよく；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４は独立して単結合または炭素数１〜４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つ水素はハロゲンで置き換えられてもよく；ｈ、ｋ、ｍおよびｎは独立して０、１または２であり、そしてｈ、ｋ、ｍおよびｎの和は１、２または３であり；そして、Ｑは式（ｑ１）、式（ｑ２）および式（ｑ３）のいずれか１つで表される基である：
ここに、Ｘ１は水素、ハロゲン、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または−ＯＣＦＨ２であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである；但し、Ｑが式（ｑ１）で表される基であるとき、Ｘ１は水素、メチルまたはメトキシである。
【請求項２】
Ｑが式（ｑ１）で表される基であり、Ｘ１が水素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｑが式（ｑ２）で表される基であり、Ｘ１が水素またはフッ素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｑが式（ｑ３）で表される基であり、Ｘ１が水素またはフッ素であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、およびＹ５が独立して水素またはフッ素である、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
式（１−１）〜式（１−５）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはメチルであり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【請求項６】
Ｘ１が水素である、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項５に記載の化合物。
【請求項８】
Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、請求項５に記載の化合物。
【請求項９】
Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項５に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｘ１が水素であり；Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、請求項５に記載の化合物。
【請求項１１】
式（１−６）〜式（１−１０）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはフッ素であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【請求項１２】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１５】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１６】
式（１−１１）〜式（１−１５）のいずれか１つで表される化合物：
ここに、Ｒａは水素、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、または炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｒｂはハロゲン、−ＣＮ、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられている炭素数１〜１０のアルキル、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられてもよい炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４は独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−または−ＯＣＦ２−であり；Ｘ１は水素またはフッ素であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ4およびＹ５は独立して水素、ハロゲンまたはメチルである。
【請求項１７】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置換されてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項１８】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が独立して単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が水素であり、そしてＹ５がフッ素または塩素である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項１９】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が独立して水素、フッ素またはメチルであり、そしてＹ５が水素である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２０】
Ｒａが水素、炭素数１〜７のアルキル、または炭素数２〜７のアルケニルであり；Ｒｂがハロゲン、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている炭素数１〜７のアルキルであり；Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４が単結合であり；そして、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４およびＹ５が水素である、請求項１６に記載の化合物。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物。
【請求項２２】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（２）、式（３）および式（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ２はフッ素、塩素、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３であり；環Ｂおよび環Ｄは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、環Ｅは１，４−シクロヘキシレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；Ｚ５およびＺ６は独立して−（ＣＨ２)２−、−（ＣＨ２)４−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合であり；そして、Ｌ１およびＬ２は独立して水素またはフッ素である。
【請求項２３】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、そして少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ２およびＲ３は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；Ｚ７は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合であり；Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は独立して水素またはフッ素であり；そしてｂ、ｃおよびｄは独立して０または１である。
【請求項２４】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つと、式（７）〜式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物とを含有し、少なくとも１つの光学活性化合物を含有してもよい液晶組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【請求項２５】
式（５）および式（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２２に記載の組成物：
ここに、Ｒ２およびＲ３は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮであり；環Ｇは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；環Ｊは１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２,５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｋは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；Ｚ７は−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または単結合であり；Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は独立して水素またはフッ素であり；そしてｂ、ｃおよびｄは独立して０または１である。
【請求項２６】
式（７）、式（８）および式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２２に記載の組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【請求項２７】
式（７）、式（８）および式（９）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２３に記載の組成物：
ここに、Ｒ４およびＲ５は独立して炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；環Ｍ、環Ｐおよび環Ｑは独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；そしてＺ７およびＺ８は独立して−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。
【請求項２８】
請求項２１〜２７のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【公開番号】特開２００６−１９３５１７（Ｐ２００６−１９３５１７Ａ）
【公開日】平成１８年７月２７日（２００６．７．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３６１９３０（Ｐ２００５−３６１９３０）
【出願日】平成１７年１２月１５日（２００５．１２．１５）
【出願人】（０００００２０７１）チッソ株式会社 (658)
【出願人】（５９６０３２１００）チッソ石油化学株式会社 (309)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年７月２７日（２００６．７．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１２月１５日（２００５．１２．１５）
【出願人】（０００００２０７１）チッソ株式会社 (658)
【出願人】（５９６０３２１００）チッソ石油化学株式会社 (309)
【Ｆターム（参考）】
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