グラビア版に用いる銅の再利用方法
【課題】グラビア版の再版時に発生する銅及びクロムメッキ層から銅を効率よく分離し、再利用する方法を提供すること。
【解決手段】使用後のグラビア版の鉄芯から、銅メッキ層とクロムメッキ層とからなるバラード層を剥がし、前記バラード層を濃度３０〜４０重量％の硫酸曹にてクロムメッキ層のみ溶解させ、前記バラード層のうち溶解しなかった銅メッキ層を、陰極側をナトリウムイオンを通すが銅イオンを通さないイオン交換膜で保護した塩水電極曹にて通電することで、陽極付近に銅イオンを濃縮し、水酸化ナトリウム水溶液を追加して水酸化銅を析出させ、これをとり、加熱して酸化銅として回収することを特徴とする。
【解決手段】使用後のグラビア版の鉄芯から、銅メッキ層とクロムメッキ層とからなるバラード層を剥がし、前記バラード層を濃度３０〜４０重量％の硫酸曹にてクロムメッキ層のみ溶解させ、前記バラード層のうち溶解しなかった銅メッキ層を、陰極側をナトリウムイオンを通すが銅イオンを通さないイオン交換膜で保護した塩水電極曹にて通電することで、陽極付近に銅イオンを濃縮し、水酸化ナトリウム水溶液を追加して水酸化銅を析出させ、これをとり、加熱して酸化銅として回収することを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、グラビア版の再利用時に、剥離した銅メッキ層に用いた銅を再利用する方法であり、特には銅メッキ層およびクロムメッキ層を分離し、銅を効率よく回収し再利用する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
グラビア版は鉄芯と銅メッキ層とクロムメッキ層とからなるバラード層とからなり、グラビア版の使用後は、バラード層を剥がし、鉄芯は再利用していた。銅メッキ層の銅の再利用はプリント積層版などでは知られているが、クロムメッキ層との分離の必要性から効率よく再生利用できないため、グラビア版では行われていなかった。
【特許文献１】特開平７−３３４３５号公報
【特許文献２】特開２００１−９２８３号公報
【特許文献３】特開２００２−４７５８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明はこのような問題点を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、グラビア版の再版時に発生する銅及びクロムメッキ層から銅を効率よく分離し、再利用する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明はこの課題を解決するものであり、すなわちその請求項１記載の発明は、使用後のグラビア版の鉄芯から、銅メッキ層とクロムメッキ層とからなるバラード層を剥がし、前記バラード層を濃度３０〜４０重量％の硫酸曹にてクロムメッキ層のみ溶解させ、前記バラード層のうち溶解しなかった銅メッキ層を、陰極側をナトリウムイオンを通すが銅イオンを通さないイオン交換膜で保護した塩水電極曹にて通電することで、陽極付近に銅イオンを濃縮し、水酸化ナトリウム水溶液を追加して水酸化銅を析出させ、これをとり、加熱して酸化銅として回収することを特徴とする、グラビア版に用いる銅の再利用方法である。
【発明の効果】
【０００５】
請求項１記載の発明により、濃度３０〜４０重量％の硫酸曹を用いることでクロムメッキ層を容易に分離でき、銅イオンを通さないイオン交換膜を用いることで効率よく銅を回収することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
以下に本発明を詳細に説明する。
まず、グラビア版からバラード層を剥離し、濃度３０〜４０重量％の硫酸曹につけることでクロムメッキ層を分離し、銅メッキ層のみを取り出す。
【０００７】
次に、銅イオンを濃縮する。図１に塩水電極曹での銅イオンを濃縮する方法の概略を示す。容器１の中には塩水２が満たされ、容器外の電池３を通じて繋がっている陽極４と陰極５が塩水２中に配される。そして陰極５の周りにイオン交換膜６が配されている。このイオン交換膜６はナトリウムイオン７を通すが銅イオン８を通さないものを用いているので、ナトリウムイオン７は陰極側に集まるが、銅イオン８はその外側に濃縮される。
【０００８】
濃縮後、図示しないが、水酸化ナトリウム水溶液を添加して水酸化銅（Ｃｕ（ＯＨ）２）を発生させ、沈殿させる。これを採取して加熱し、酸化銅（ＣｕＯ）とする。
【０００９】
このようにして得た酸化銅（ＣｕＯ）を、図２に示す従来のグラビア版用バラード銅の作成装置における新規な酸化銅（ＣｕＯ）の使用と同様に使用することで、グラビア版に再利用することが可能となる。ここでは硫酸水溶液９中に再生した酸化銅１０を溶解させ、グラビア版１１を陰極とすることで、グラビア版の表面で銅１２を析出させ銅メッキとしている。
【００１０】
本発明におけるクロムメッキ層を分離する硫酸曹としては、硫酸の濃度３０〜４０重量％のものを用いる。３０重量％未満では分離が十分ではなく、４０重量％を超えると銅メッキ層に影響が及ぶものとなってしまう。最適には３５重量％である。
【００１１】
本発明におけるイオン交換膜６としては、マイナス電荷を帯びた官能基（例えばスルフォン酸）が固定されていて、固定されている電荷と同じ電荷のイオンは膜内の透過を邪魔される。しかし、原子の大きさによっては、固定されている電荷と異なる電荷の原子でも膜の物理的な穴によって通ったり、通らなかったりする。本発明では、原子の大きさが銅イオンより小さいプラス電荷を帯びたナトリウムイオン７を通すが、原子の大きさがナトリウムイオンより大きいプラス電荷を帯びた銅イオン８を通さない陽イオン交換膜を用いる。具体的には、厚さ１３０μｍの陽イオン交換膜が使用可能であり、ＡＧＣエンジニアリング（株）製：「セレミオンＣＭＶ」が好適に用いられるが、特にこれに限定されるものではない。
【００１２】
本発明における塩水電極曹の塩分濃度としては、１重量％〜２６．４重量％（６．１ｍｏｌ／リットル）のものが好適である。１重量％未満では電流の流れが小さいという不都合があり、２６．４重量％を超えると飽和溶解度を越えて塩分が沈殿するという不都合が発生する。ただし、上記は水温は２５℃と仮定し、食塩の飽和溶解度を１００ｇの水に３５．２ｇ（２６．４重量％）まで（食塩の分子量５８．５、６．１ｍｏｌ／リットル）溶けるとした場合であり、適宜変更可能である。
【００１３】
本発明における塩水電極曹の電流密度としては、１０〜１００Ａ／ｄｍ２が好適であり、およそ０．１から８時間程濃縮させるのが効率が良い。
【産業上の利用可能性】
【００１４】
本発明により、グラビア版の再版時に発生する銅及びクロムメッキ層から銅を銅イオン及び酸化銅として再生利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】塩水電極曹銅での銅イオンを濃縮する方法の概略を示す説明図である。
【００１６】
【図２】従来のグラビア版用バラード銅の作成装置の概略を示す説明図である。
【符号の説明】
【００１７】
１…容器
２…塩水
３…電池
４…陽極（白金製）
５…陰極（白金製）
６…イオン交換膜
７…ナトリウムイオンＮａ＋
８…銅イオンＣｕ２＋
９…硫酸水溶液
１０…再生した酸化銅
１１…グラビア版（陰極）
１２…銅
【技術分野】
【０００１】
本発明は、グラビア版の再利用時に、剥離した銅メッキ層に用いた銅を再利用する方法であり、特には銅メッキ層およびクロムメッキ層を分離し、銅を効率よく回収し再利用する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
グラビア版は鉄芯と銅メッキ層とクロムメッキ層とからなるバラード層とからなり、グラビア版の使用後は、バラード層を剥がし、鉄芯は再利用していた。銅メッキ層の銅の再利用はプリント積層版などでは知られているが、クロムメッキ層との分離の必要性から効率よく再生利用できないため、グラビア版では行われていなかった。
【特許文献１】特開平７−３３４３５号公報
【特許文献２】特開２００１−９２８３号公報
【特許文献３】特開２００２−４７５８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明はこのような問題点を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、グラビア版の再版時に発生する銅及びクロムメッキ層から銅を効率よく分離し、再利用する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明はこの課題を解決するものであり、すなわちその請求項１記載の発明は、使用後のグラビア版の鉄芯から、銅メッキ層とクロムメッキ層とからなるバラード層を剥がし、前記バラード層を濃度３０〜４０重量％の硫酸曹にてクロムメッキ層のみ溶解させ、前記バラード層のうち溶解しなかった銅メッキ層を、陰極側をナトリウムイオンを通すが銅イオンを通さないイオン交換膜で保護した塩水電極曹にて通電することで、陽極付近に銅イオンを濃縮し、水酸化ナトリウム水溶液を追加して水酸化銅を析出させ、これをとり、加熱して酸化銅として回収することを特徴とする、グラビア版に用いる銅の再利用方法である。
【発明の効果】
【０００５】
請求項１記載の発明により、濃度３０〜４０重量％の硫酸曹を用いることでクロムメッキ層を容易に分離でき、銅イオンを通さないイオン交換膜を用いることで効率よく銅を回収することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
以下に本発明を詳細に説明する。
まず、グラビア版からバラード層を剥離し、濃度３０〜４０重量％の硫酸曹につけることでクロムメッキ層を分離し、銅メッキ層のみを取り出す。
【０００７】
次に、銅イオンを濃縮する。図１に塩水電極曹での銅イオンを濃縮する方法の概略を示す。容器１の中には塩水２が満たされ、容器外の電池３を通じて繋がっている陽極４と陰極５が塩水２中に配される。そして陰極５の周りにイオン交換膜６が配されている。このイオン交換膜６はナトリウムイオン７を通すが銅イオン８を通さないものを用いているので、ナトリウムイオン７は陰極側に集まるが、銅イオン８はその外側に濃縮される。
【０００８】
濃縮後、図示しないが、水酸化ナトリウム水溶液を添加して水酸化銅（Ｃｕ（ＯＨ）２）を発生させ、沈殿させる。これを採取して加熱し、酸化銅（ＣｕＯ）とする。
【０００９】
このようにして得た酸化銅（ＣｕＯ）を、図２に示す従来のグラビア版用バラード銅の作成装置における新規な酸化銅（ＣｕＯ）の使用と同様に使用することで、グラビア版に再利用することが可能となる。ここでは硫酸水溶液９中に再生した酸化銅１０を溶解させ、グラビア版１１を陰極とすることで、グラビア版の表面で銅１２を析出させ銅メッキとしている。
【００１０】
本発明におけるクロムメッキ層を分離する硫酸曹としては、硫酸の濃度３０〜４０重量％のものを用いる。３０重量％未満では分離が十分ではなく、４０重量％を超えると銅メッキ層に影響が及ぶものとなってしまう。最適には３５重量％である。
【００１１】
本発明におけるイオン交換膜６としては、マイナス電荷を帯びた官能基（例えばスルフォン酸）が固定されていて、固定されている電荷と同じ電荷のイオンは膜内の透過を邪魔される。しかし、原子の大きさによっては、固定されている電荷と異なる電荷の原子でも膜の物理的な穴によって通ったり、通らなかったりする。本発明では、原子の大きさが銅イオンより小さいプラス電荷を帯びたナトリウムイオン７を通すが、原子の大きさがナトリウムイオンより大きいプラス電荷を帯びた銅イオン８を通さない陽イオン交換膜を用いる。具体的には、厚さ１３０μｍの陽イオン交換膜が使用可能であり、ＡＧＣエンジニアリング（株）製：「セレミオンＣＭＶ」が好適に用いられるが、特にこれに限定されるものではない。
【００１２】
本発明における塩水電極曹の塩分濃度としては、１重量％〜２６．４重量％（６．１ｍｏｌ／リットル）のものが好適である。１重量％未満では電流の流れが小さいという不都合があり、２６．４重量％を超えると飽和溶解度を越えて塩分が沈殿するという不都合が発生する。ただし、上記は水温は２５℃と仮定し、食塩の飽和溶解度を１００ｇの水に３５．２ｇ（２６．４重量％）まで（食塩の分子量５８．５、６．１ｍｏｌ／リットル）溶けるとした場合であり、適宜変更可能である。
【００１３】
本発明における塩水電極曹の電流密度としては、１０〜１００Ａ／ｄｍ２が好適であり、およそ０．１から８時間程濃縮させるのが効率が良い。
【産業上の利用可能性】
【００１４】
本発明により、グラビア版の再版時に発生する銅及びクロムメッキ層から銅を銅イオン及び酸化銅として再生利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】塩水電極曹銅での銅イオンを濃縮する方法の概略を示す説明図である。
【００１６】
【図２】従来のグラビア版用バラード銅の作成装置の概略を示す説明図である。
【符号の説明】
【００１７】
１…容器
２…塩水
３…電池
４…陽極（白金製）
５…陰極（白金製）
６…イオン交換膜
７…ナトリウムイオンＮａ＋
８…銅イオンＣｕ２＋
９…硫酸水溶液
１０…再生した酸化銅
１１…グラビア版（陰極）
１２…銅
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用後のグラビア版の鉄芯から、銅メッキ層とクロムメッキ層とからなるバラード層を剥がし、前記バラード層を濃度３０〜４０重量％の硫酸曹にてクロムメッキ層のみ溶解させ、前記バラード層のうち溶解しなかった銅メッキ層を、陰極側をナトリウムイオンを通すが銅イオンを通さないイオン交換膜で保護した塩水電極曹にて通電することで、陽極付近に銅イオンを濃縮し、水酸化ナトリウム水溶液を追加して水酸化銅を析出させ、これをとり、加熱して酸化銅として回収することを特徴とする、グラビア版に用いる銅の再利用方法。
【請求項１】
使用後のグラビア版の鉄芯から、銅メッキ層とクロムメッキ層とからなるバラード層を剥がし、前記バラード層を濃度３０〜４０重量％の硫酸曹にてクロムメッキ層のみ溶解させ、前記バラード層のうち溶解しなかった銅メッキ層を、陰極側をナトリウムイオンを通すが銅イオンを通さないイオン交換膜で保護した塩水電極曹にて通電することで、陽極付近に銅イオンを濃縮し、水酸化ナトリウム水溶液を追加して水酸化銅を析出させ、これをとり、加熱して酸化銅として回収することを特徴とする、グラビア版に用いる銅の再利用方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００９−５０７４８（Ｐ２００９−５０７４８Ａ）
【公開日】平成２１年３月１２日（２００９．３．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２１６９０１（Ｐ２００７−２１６９０１）
【出願日】平成１９年８月２３日（２００７．８．２３）
【出願人】（５９３１７３８４０）株式会社トッパン・コスモ (243)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年３月１２日（２００９．３．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年８月２３日（２００７．８．２３）
【出願人】（５９３１７３８４０）株式会社トッパン・コスモ (243)
【Ｆターム（参考）】
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