ディスク状情報媒体の製造方法
【課題】 レーベル面にインク受容層を形成してディスク状情報媒体を作製する際において、インク受容層用塗布液の塗布時または塗布後の乾燥時に、インク受容層用塗布液がディスク端面に液垂れすることを防止し、塗布膜の厚みを均一とすることが可能なディスク状情報媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に、下地層とインク受容層とを少なくとも含むプリンタブル層を有するディスク状情報媒体の製造方法であって、前記基板の外周端部から前記インク受容層の外周端部までの外周領域に、液拡がり防止処理を施した後、前記インク受容層を形成するためのインク受容層用塗布液を前記下地層上に塗布してプリンタブル層を形成するプリンタブル層形成工程を含むことを特徴とするディスク状情報媒体の製造方法である。
【解決手段】 基板上に、下地層とインク受容層とを少なくとも含むプリンタブル層を有するディスク状情報媒体の製造方法であって、前記基板の外周端部から前記インク受容層の外周端部までの外周領域に、液拡がり防止処理を施した後、前記インク受容層を形成するためのインク受容層用塗布液を前記下地層上に塗布してプリンタブル層を形成するプリンタブル層形成工程を含むことを特徴とするディスク状情報媒体の製造方法である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、文字や写真などを印刷することができるプリンタブル層を有するディスク状情報媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
広く市場に受け入れられている情報媒体の規格として、ＣＤ（コンパクトディスク）とＤＶＤ（デジタルバーサタイルディスク）とがある。ＣＤとしては、読み出し専用のＣＤ−ＲＯＭ、１回限り情報の記録が可能な追記型のＣＤ−Ｒ、何回でも情報の記録が書き換えられる書き換え可能型のＣＤ−ＲＷがある。ＣＤ−ＲＯＭは、例えば、直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの透明基板に１．６μｍのトラックピッチでピット列が形成され、約６５０Ｍバイトの記録容量を有しており、線速度を１．２〜１．４ｍ／ｓで一定とし波長７７０〜７９０ｎｍのレーザ光を照射して情報を再生する。
【０００３】
一方、ＤＶＤもＣＤの場合と同様に、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷがある。ＤＶＤ−ＲＯＭは記録密度がＣＤの約６〜８倍で、構成としては厚さ０．６ｍｍ程度の２枚の基板を貼り合わせた構成等があり、０．７４μｍのトラックピッチでピットが形成され、線速度を３．５ｍ／ｓ程度で一定とし波長６３５〜６５０ｎｍのレーザ光を照射して情報を再生する。
【０００４】
近年、このようなＣＤやＤＶＤにおいて、情報の再生面とは反対側の面（レーベル面）に、インクジェットプリンターで画像の印画ができるようにプリンタブル層が形成された情報媒体が開発されている（例えば、特許文献１参照）。このような情報媒体のプリンタブル層としては、紫外線硬化樹脂が一般に使用されている。
【０００５】
一方、ディスクの中心より半径方向１１ｍｍからディスクの外周端より２ｍｍまでの領域に、当該プリンタブル層（特に、インク受容層）を塗布により形成しようとする場合、その塗布方法としては、エクストルージョンダイコータ法やカーテン塗布法等が知られている。この塗布法に使用する塗布液の粘度は５ＣＰ〜５００ＣＰと低いため、特に光ディスクの外周端面に塗布液の一部がだれて膜厚が薄くなり、均一な厚みの塗布膜が得られないという問題が生じてしまう。また、外周端面に液垂れした塗布液が、ディスクの裏側に回りこみディスクを汚してしまい、不良を発生してしまう問題も生じてしまう。
【特許文献１】特開２００２−２４５６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前述の従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、レーベル面にインク受容層を形成してディスク状情報媒体を作製する際において、インク受容層用塗布液の塗布時または塗布後の乾燥時に、インク受容層用塗布液がディスク端面に液垂れすることを防止し、塗布膜の厚みを均一とすることが可能なディスク状情報媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者らは、下記本発明に想到し当該課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は、基板上に、下地層とインク受容層とを少なくとも含むプリンタブル層を有するディスク状情報媒体の製造方法であって、前記基板の外周端部から前記インク受容層の外周端部までの外周領域に、液拡がり防止処理を施した後、前記インク受容層を形成するためのインク受容層用塗布液を前記下地層上に塗布してプリンタブル層を形成するプリンタブル層形成工程を含むことを特徴とするディスク状情報媒体の製造方法である。
【０００８】
本発明には、下記第１〜第３の態様のうちいずれか１以上の態様を適用することが好ましい。
（１）第１の態様は、前記プリンタブル層形成工程において、前記基板の内周端部から前記インク受容層の内周端部までの内周領域にも、前記液拡がり防止処理を施し、前記インク受容層用塗布液を前記下地層上に塗布する態様である。
（２）第２の態様は、前記液拡がり防止処理が、前記基板に凸部を形成する処理である態様である。
（３）第３の態様は、前記液拡がり防止処理が凸部を形成する処理である場合に、その凸部の高さと前記インク受容層の厚みとが略同一である態様である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、レーベル面にインク受容層を形成してディスク状情報媒体を作製する際において、インク受容層用塗布液の塗布時または塗布後の乾燥時に、インク受容層用塗布液がディスク端面に液垂れすることを防止し、塗布膜の厚みを均一とすることが可能なディスク状情報媒体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明のディスク状情報媒体（以下、単に「情報媒体」ということがある）の製造方法により製造される情報媒体としては、磁気記録媒体といった磁気媒体、光情報記録媒体といった光媒体、半導体媒体などを挙げることができる。特に、光情報記録媒体（光ディスク）が好ましい。形態としては、ディスク状、カートリッジ収納型でもよく、カートリッジ収納型の場合はリムーバブルであることが好ましい。そして、このような情報媒体のレーベル面（主に、ＤＶＤ構成の等の場合は、基板もしくは保護基板にレーベル面が設けられ、ＣＤ構成の等の場合は、保護層にレーベル面が設けられる）にプリンタブル層が形成されている。
【００１１】
光ディスクの場合、ＣＤ、ＤＶＤ、青紫色レーザーで記録再生する光ディスクなど、如何なるものであってもよい。青紫色レーザーで記録する媒体の場合、ＤＶＤのような貼り合わせタイプ（ＨＤ ＤＶＤ）と、１．１ｍｍ基板上に記録層とカバー層とが形成され、カバー層側からレーザー光が入射するタイプ（ブルーレイディスク）とがあるが、いずれであってもよい。また、情報媒体は、ＲＯＭ型でも、書き換え可能型、及び追記型のいずれでもよいが、特に、追記型が好ましい。
【００１２】
プリンタブル層を形成する箇所は、レーザー光が入射する面の反対側が基本であるが、レーザー光が入射する側でも入射エリア以外の領域であればプリンタブル層を形成することができる。
【００１３】
本発明の情報媒体の製造方法は、基板上に、下地層とインク受容層とを少なくとも含むプリンタブル層を形成してディスク状情報媒体の製造する方法である。当該方法について、図面を参照して説明する。
【００１４】
まず、図１（Ａ）に示すように、基板２０のレーベル面側で、その外周端部からインク受容層が形成される際の当該インク受容層の外周端部までの外周領域に、円環状の凸部１０を設ける液拡がり防止処理を施しておく。その後、図１（Ｂ）に示すように、当該凸部１０より内周側に下地層１２を形成する。そして、この下地層１２上に、インク受容層１４を形成するためのインク受容層用塗布液を塗布しプリンタブル層１６を形成（プリンタブル層形成工程）して、情報媒体が製造される。なお、プリンタブル層を形成する面の反対側の基板上には、記録層や光反射層といった層が適宜形成されている（図２および図３の場合も同様）。また、ここで、「液拡がり防止処理」とは、塗布液を塗布してインク受容層を形成する際に、塗布液が基板の外周端面や内周端面にまで拡がることを防止する処理をいう。
【００１５】
インク受容層１４は、インク受容層用塗布液をエクストルージョンダイコータ法やカーテン塗布法等により塗布して形成される。インク受容層用塗布液は、通常の塗布条件では粘度が低い状態にあるが、図１に示すように、液拡がり防止処理を施しておくことで、インク受容層用塗布液の塗布時または塗布後の乾燥時に、インク受容層用塗布液が基板２０の端面（ディスク端面）に液垂れすることを防止することが可能となり、外周方向に液が流動し端面高さが低くなることを防止できる。また、液拡がり防止処理としての凸部が、外周端部側へのインク受容層用塗布液の流れを堰き止める役割を果たし、その結果、外周端部側とそれ以外の部分とのインク受容層の厚みムラを抑制することもできる。
【００１６】
なお、図１に示す態様の場合、図１（ｃ）に示すように、基板上でその外周端部までスクリーン印刷などで下地層１２を形成しておき、下地層１２上で前記外周領域に液拡がり防止処理（凸部１０）を施してもよい。この場合、液拡がり防止処理として、下地層を形成する場合と同様に下地層と同材質を使用して、スクリーン印刷を施して凸部１０を設けるような処理としてもよい。
【００１７】
液拡がり防止処理は、外周領域だけでなく、基板の内周端部からインク受容層の内周端部までの内周領域に設けてもよい。内周領域に設けることで、内周端部側への液垂れも良好に防ぐことが可能となるとともに、外周端部側から内周端部側までの全体にかけて、インク受容層の厚みムラを抑制することもできる。
【００１８】
また、液拡がり防止処理として、基板のレーベル面に直接凸部を設ける処理である場合は、図２に示すような態様となる（図２中、図１と対応する部分には同一の符号が付してある）。すなわち、基板２０の成型時に予め凸部１０が形成されるようにして、基板２０と凸部１０とが連続してなる構成である。この状態で、下地層１２およびインク受容層１４が順次形成される。なお、既述のとおり、いわゆる内周領域にも当該凸部を設けてもよい。
【００１９】
液拡がり防止処理として、図３に示すような処理を施してもよい。すなわち、基板２０のレーベル面に下地層１２を形成した後、基板２０の外周端部からインク受容層１４の外周端部までの外周領域に、液拡がり防止処理としての円環状の枠１００を設ける（図３（Ａ））。そして、図３（Ｂ）に示すようにして、下地層１２上に、インク受容層１４を形成するためのインク受容層用塗布液を塗布しプリンタブル層１６を形成（プリンタブル層形成工程）する。その後、枠１００を取り外して、情報媒体が製造される。なお、図３中、図１と対応する部分には同一の符号が付してある。
【００２０】
当該枠１００を設ける手段を採用する場合、プリンタブル層１６を形成し、この枠１００を取り外す際に、プリンタブル層１６の端面を傷つける可能性がある。そこで、このプリンタブル層１６の端面と接触する枠１００の接触面には離形処理を施しておくことが好ましい。なお、既述のとおり、いわゆる内周領域にも当該枠を設けてもよい。
【００２１】
液拡がり防止処理が凸部を形成する処理である場合、凸部の高さは必ずしも受容層の高さより高い必要はない。これは、インク受容層を形成するための塗布液が基板の端面にまで広がらなければ、すなわち、凸部上で留まり端面に広がらなければ、液拡がり防止処理の目的が達せられるからである。しかし、実用性を考慮すると、その凸部の高さとインク受容層の厚みとは略同一であることが好ましい。ここで、「略同一」とは、インク受容層の厚みを「Ｘ」とした場合に、凸部の高さが、１．０Ｘ〜１．２Ｘの範囲にあることを意味し、好ましくは１．０Ｘ〜１．１Ｘの範囲である。凸部の好ましい具体的な高さは１０〜１２０μｍであり、より好ましくは１０〜４０μｍであり、さらに好ましくは２５〜３２μｍである。また、最大幅（半径方向の最大長さ）は０．１〜０．５ｍｍであることが好ましく、０．２〜０．４ｍｍであることがより好ましい。なお、凸部の断面形状は、図１〜図３に示すような四角形状に限定されず、三角形状や球形面状等種々の形状を適用することができる。また、図１〜図３は理解を容易にするため、誇張して表現されている。
【００２２】
基板に形成される凸部は、基板のレーベル面に直接、または、基板上に形成した下地層上にＵＶ硬化樹脂（例えば、下地層の形成に使用するＵＶ硬化樹脂）を用いてスクリーン印刷して形成することができる。また、射出成型用の基板成型金型の所定の箇所に溝を設け、射出成型により形成することができる。さらに、図３に示されるような枠は、公知の成型法で作製することができる。
【００２３】
本発明の製造方法で製造される情報媒体のプリンタブル層は、上述の通りにして形成することができる。以下、プリンタブル層の構成を説明しながら、プリンタブル層の形成方法についてより詳細に説明し、さらに、情報媒体に設けられる記録層等についても説明する。
【００２４】
本発明の製造方法で形成されるプリンタブル層は、少なくとも下地層とインク受容層とをを有する。以下、まず、プリンタブル層の各層について説明する。
【００２５】
＜下地層＞
下地層は、インク受容層と基板との間に形成する。下地層は、不透明性の高いため材料を使用することで紙に近い拡散性を示し、画質が向上する。特に、白色の下地層を設けると色再現性を良好とすることができる。下地層を光沢性の高いものにすると、光沢写真のように仕上がり、マット性の高いものとすると、マット写真のように仕上がる。下地層は、様々な色を用いると、様々な印象の画像を形成することができる。また、蛍光性の下地層の場合、蛍光性の画質とすることができる。このような下地層の形成手法は問わないが、生産性の観点から、放射線硬化樹脂をスクリーン印刷により形成することが好ましい。放射線硬化樹脂は、紫外線、電子ビーム、Ｘ線、γ線、赤外線等の電磁波によって硬化する樹脂であり、放射線としては、中でも、紫外線、電子ビームが好ましい。
【００２６】
下地層の層厚としては、０．１〜１００μｍが好ましく、１〜５０μｍがより好ましく、３〜２０μｍが最も好ましい。
【００２７】
＜インク受容層＞
インク受容層は、微粒子と、結合剤と、架橋剤と、を少なくとも有していることが好ましく、更に、必要に応じて、後述するような一般式（１）で表される化合物及び／または一般式（２）で表される化合物、各種添加剤などを含んでいてもよい。まず、上記材料について説明する。
【００２８】
［微粒子］
微粒子としては、気相法シリカ、擬ベーマイト、酸化アルミニウム、二酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、ゼオライト、カオリナイト、ハロイサイト、雲母、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、ベーマイト等が挙げられ、中でも、気相法シリカ、擬ベーマイト、酸化アルミニウムが好ましい。
【００２９】
（気相法シリカ）
シリカ微粒子は、通常その製造法により湿式法粒子と乾式法（気相法）粒子とに大別される。上記湿式法では、ケイ酸塩の酸分解により活性シリカを生成し、これを適度に重合させ凝集沈降させて含水シリカを得る方法が主流である。一方、気相法は、ハロゲン化珪素の高温気相加水分解による方法（火炎加水分解法）、ケイ砂とコークスとを電気炉中でアークによって加熱還元気化し、これを空気で酸化する方法（アーク法）によって無水シリカを得る方法が主流であり、「気相法シリカ」とは該気相法によって得られた無水シリカ微粒子を意味する。
【００３０】
上記気相法シリカは、上記含水シリカと表面のシラノール基の密度、空孔の有無等に相違があり、異なった性質を示すが、空隙率が高い三次元構造を形成するのに適している。この理由は明らかではないが、含水シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が５〜８個／ｎｍ2で多く、シリカ微粒子が密に凝集（アグリゲート）し易く、一方、気相法シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が２〜３個／ｎｍ2であり少ないことから疎な軟凝集（フロキュレート）となり、その結果、空隙率が高い構造になるものと推定される。
【００３１】
上記気相法シリカは、比表面積が特に大きいので、インクの吸収性、保持の効率が高く、また、屈折率が低いので、適切な粒子径まで分散を行えばインク受容層に透明性を付与でき、高い色濃度と良好な発色性が得られるという特徴がある。
【００３２】
上記気相法シリカの平均一次粒子径としては３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましく、３〜１０ｎｍが最も好ましい。上記気相法シリカは、シラノール基による水素結合によって粒子同士が付着しやすいため、平均一次粒子径が３０ｎｍ以下の場合に空隙率の大きい構造を形成することができ、インク吸収特性を効果的に向上させることができる。
【００３３】
また、気相法シリカのインク受容層における固形分含有量は、４０質量％以上が好ましく、より好ましくは５０質量％以上である。このように気相法シリカの含有量が５０質量％以上である場合、更に良好な多孔質構造を形成することが可能となり、十分なインキ吸収性を備えたインク受容層が得られるため好ましい。ここで、気相法シリカのインク受容層における固形分含有量とは、インク受容層を構成する組成分中の水以外の成分に基づき算出される含有量である。
【００３４】
また、含水シリカ微粒子、コロイダルシリカ、二酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、ゼオライト、カオリナイト、ハロイサイト、雲母、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、ベーマイト、擬ベーマイト等の他の無機顔料微粒子を併用してもよい。該他の無機顔料微粒子と上記気相法シリカとを併用する場合、全無機顔料微粒子中、気相法シリカの含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上が更に好ましい。
【００３５】
（擬ベーマイト）
擬ベーマイトは、Ａｌ2Ｏ3・ｘＨ2Ｏ（１＜ｘ＜２）で表され、一般にその結晶は（０２０）面が巨大な平面を形成する層状の化合物であり、その格子定数ｄは０．６７ｎｍである。ここで、擬ベーマイトは、過剰な水を（０２０）面の層間に含んだ構造を有するものである。擬ベーマイトは、インクを良く吸収し定着し、インクの吸収性及び経時ニジミを向上させることができる。また、容易に平滑な層が得られることから、ゾル状の擬ベーマイト（擬ベーマイトゾル）を原料として用いることが好ましい。
【００３６】
擬ベーマイトの一次平均粒子径は５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることが更により好ましく、３〜２０ｎｍの範囲内であることが特に好ましい。擬ベーマイトの平均一次粒子径が上記範囲内にあると、空隙率の大きい構造を形成することができ、更にインク受容層のインク吸収性を向上させることができる。なお、前記平均一次粒子径は、例えば、電子顕微鏡を用いて測定することができる。
また、擬ベーマイトのＢＥＴ比表面積としては、４０〜５００ｍ2／ｇが好ましく、２００〜５００ｍ2／ｇが更に好ましい。
【００３７】
更に、上記擬ベーマイトのアスペクト比としては、３〜１０が好ましい。擬ベーマイトの細孔構造については、その平均細孔半径は１〜３０ｎｍが好ましく、２〜１５ｎｍがより好ましい。また、その細孔容積は０．３〜２．０ｍｌ／ｇ（ｃｃ／ｇ）が好ましく、０．５〜１．５ｍｌ／ｇ（ｃｃ／ｇ）がより好ましい。ここで、上記細孔半径及び細孔容積の測定は、窒素吸脱着法により測定されるもので、例えば、ガス吸脱着アナライザー（例えば、コールター社製の商品名「オムニソープ３６９」）により測定できる。
【００３８】
また、擬ベーマイトのインク受容層における固形分含有量は、５０質量％以上が好ましく、より好ましくは６０質量％以上である。このように擬ベーマイトの含有量が６０質量％以上である場合、更に良好な多孔質構造を形成することが可能となり、十分なインキ吸収性を備えたインク受容層が得られるため好ましい。ここで、擬ベーマイトのインク受容層における固形分含有量とは、インク受容層を構成する組成分中の水以外の成分に基づき算出される含有量である。
【００３９】
また、擬ベーマイトは、水系溶媒に分散して用いるのが好ましい。分散して用いる場合の分散液中における擬ベーマイトの含有量としては、６０質量％以下が好ましく、５〜６０質量％がより好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。擬ベーマイトは、上記範囲で特に効果的に分散させることができ、例えば、分散時において擬ベーマイト同士の粒子間距離が短くなること等に起因する増粘やゲル化等を効果的に抑制することができる。
【００４０】
擬ベーマイト（Ａ）と、気相法シリカ（Ｓ）と、を併用する場合、その含有比（Ｓ：Ａ）としては、９５：５〜５：９５となる範囲が好ましく、８０：２０〜２０：８０の範囲がより好ましく、７０：３０〜３０：７０の範囲が特に好ましい。前記含有比の範囲で気相法シリカと擬ベーマイトを併用すると、複数色の全てのインクの経時ニジミを色相に依存することなく効果的に防止することができ、多色に画像形成する場合でも高解像度で鮮やかな画像を形成し、保持することができる。
【００４１】
（酸化アルミニウム）
酸化アルミニウムとしては、例えば、α−アルミナ、δ−アルミナ、θ−アルミナ、χ−アルミナ等の無水アルミナや、活性酸化アルミニウムが挙げられる。
これらの中でも好ましいアルミナ微粒子は、δ−アルミナであり、また、製造方法による観点からは、気相法により製造されるアルミナ微粒子、即ち、酸水素反応の際に発生する水の存在の下で、また、そのような反応に特徴的な温度において、気体状の金属塩化物を加水分解することにより得られる気相法アルミナ微粒子が、比表面積が大きいため好ましい。
【００４２】
上記酸化アルミニウムの形態としては、例えば、所定の粒子径を有する微細な粒子、微粒子、微細粒子、粉体、微粉、微細粉等を採用することができ、その平均一次粒子径は、２００ｎｍ以下であることが好ましく、５〜１００ｎｍであるのが更に好ましく、特に５〜２０ｎｍであることが好ましい。上記アルミナ微粒子の平均一次粒径が上記範囲内にあると、空隙率の大きい構造を形成することができ、更にインク受容層のインク吸収性を向上させることができる。なお、上記平均一次粒子径は、例えば、電子顕微鏡を用いて測定することができる。
【００４３】
また、酸化アルミニウムは、分散液に分散して用いるのが好ましい。上記分散液中の酸化アルミニウムの含有量は、６０質量％以下が好ましく、５〜６０質量％が更に好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。酸化アルミニウムの含有量が上記範囲内にあると、酸化アルミニウムをより効果的に分散させることができる。上記分散液における酸化アルミニウムの含有量が多くても６０質量％以下であると、例えば、分散液中において酸化アルミニウム微粒子同士の粒子間距離が短くなること等に起因する増粘やゲル化等を効果的に抑制することができる。
【００４４】
また、上記分散液には凝集防止剤として、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、第４級アンモニウム塩基を有するカチオンポリマーを添加してもよい。上記凝集防止剤の添加量としては、酸化アルミニウム微粒子に対して、１〜１０質量％が好ましく、１〜５質量％が更に好ましい。該添加量が、１質量％未満では分散性に劣る場合があり、１０質量％を超えるとインク受容層に印画した際、色濃度が低下することがあるため好ましくない。
【００４５】
上記酸化アルミニウムのインク受容層における固形分含有量は、５０質量％以上が好ましく、より好ましくは６０質量％以上である。上記含有量が６０質量％を超えていると、更に良好な多孔質構造を形成することが可能となり、十分なインク吸収性を備えたインク受容層が得られるので好ましい。ここで、上記酸化アルミニウムのインク受容層における固形分含有量とは、インク受容層を構成する組成物中の水以外の成分に基づき算出される含有量である。
【００４６】
また、酸化アルミニウムとともに、他の微粒子と併用してもよい。該他の微粒子と上記酸化アルミニウムとを併用する場合、全微粒子中の酸化アルミニウムの含有量は、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上が更に好ましい。
上記他の微粒子としては、有機微粒子、無機微粒子のいずれでもよいが、インク吸収性及び画像安定性の点から、無機微粒子が好ましい。
【００４７】
［結合剤］
上述の通り、インク受容層は結合剤を含有することが好ましい。当該結合剤としては水溶性樹脂が好ましい。
【００４８】
上記水溶性樹脂としては、例えば、親水性構造単位として水酸基を有する樹脂であるポリビニルアルコール系樹脂〔例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、アセトアセチル変性ＰＶＡ、カチオン変性ＰＶＡ、アニオン変性ＰＶＡ、シラノール変性ＰＶＡ、ポリビニルアセタール等〕、セルロース系樹脂〔メチルセルロース（ＭＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等〕、キチン類、キトサン類、デンプン、エーテル結合を有する樹脂〔例えば、ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、ポリプロピレンオキサイド（ＰＰＯ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル（ＰＶＥ）等〕、カルバモイル基を有する樹脂〔例えば、ポリアクリルアミド（ＰＡＡＭ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリアクリル酸ヒドラジド等〕などが挙げられる。
また、水溶性樹脂として、解離性基としてカルボキシ基を有するポリアクリル酸塩、マレイン酸樹脂、アルギン酸塩、ゼラチン類等も利用することができる。
【００４９】
以上の中でも、特に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂が好ましい。該ポリビニルアルコール系樹脂の例としては、特公平４−５２７８６号、特公平５−６７４３２号、特公平７−２９４７９号、特許第２，５３７，８２７号、特公平７−５７５５３号、特許第２，５０２，９９８号、特許第３，０５３，２３１号、特開昭６３−１７６１７３号、特許第２６０４３６７号、特開平７−２７６７８７号、特開平９−２０７４２５号、特開平１１−５８９４１号、特開２０００−１３５８５８号、特開２００１−２０５９２４号、特開２００１−２８７４４４号、特開昭６２−２７８０８０号、特開平９−３９３７３号、特許第２７５０４３３号、特開２０００−１５８８０１号、特開２００１−２１３０４５号、特開２００１−３２８３４５号、特開平８−３２４１０５号、特開平１１−３４８４１７号等に記載されたもの等を使用できる。また、ポリビニルアルコール系樹脂以外の水溶性樹脂の例としては、特開平１１−１６５４６１号公報の段落番号［００１１］〜［００１４］に記載の化合物等も挙げられる。
【００５０】
これら結合剤としての水溶性樹脂は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用して用いてもよい。本発明において、結合剤としての上記水溶性樹脂の含有量としては、インク受容層の全固形分質量に対して、９〜４０質量％が好ましく、１２〜３３質量％がより好ましい。
【００５１】
また、ポリビニルアルコール系樹脂は、前記その他の水溶性樹脂を併用してもよい。このようにポリビニルアルコール系樹脂とその他の水溶性樹脂とを併用する場合、全水溶性樹脂中、ポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。
【００５２】
上記ポリビニルアルコール系樹脂は、その構造単位に水酸基を有するが、この水酸基とシリカ微粒子表面のシラノール基とが水素結合を形成して、シリカ微粒子の二次粒子を鎖単位とする三次元網目構造を形成しやすくする。上記三次元網目構造の形成によって、空隙率の高い多孔質構造のインク受容層を形成しうると考えられる。インクジェット記録において、上述のようにして得た多孔質のインク受容層は、毛細管現象によって急速にインクを吸収し、インクニジミのない真円性の良好なドットを形成することができる。
【００５３】
また、透明性の観点から、鹸化度７０〜９９％のポリビニルアルコール系樹脂が更に好ましく、鹸化度８０〜９９％のポリビニルアルコール系樹脂が特に好ましい。
【００５４】
（微粒子と水溶性樹脂（結合剤）との含有比）
インク受容層内において、微粒子（ｘ）と、結合剤である水溶性樹脂（ｙ）と、の質量含有比〔ＰＢ比（ｘ／ｙ）〕は、該インク受容層の膜構造及び膜強度に大きな影響を与える。即ち、該質量含有比〔ＰＢ比〕が大きくなると、空隙率や細孔容積、表面積（単位質量当り）が大きくなるが、密度や強度は低下する傾向にある。
【００５５】
インク受容層では、上記質量含有比〔ＰＢ比（ｘ／ｙ）〕としては、該ＰＢ比が大き過ぎることに起因する、膜強度の低下や乾燥時のひび割れを防止し、かつ、該ＰＢ比が小さ過ぎることによって、該空隙が樹脂によって塞がれ易くなり、空隙率が減少することでインク吸収性が低下するのを防止する観点から、１．５／１〜１０／１が好ましい。
【００５６】
本発明の情報媒体がインクジェット記録プリンターの搬送系を通過する場合、該情報媒体に応力が加わることがあるので、インク受容層は十分な膜強度を有していることが好ましい。このようなことを考慮すると、上記ＰＢ比（ｘ／ｙ）としては４／１以下がより好ましく、一方、インクジェット記録プリンターで、高速インク吸収性を確保する観点からは、３／１以上であることがより好ましい。
【００５７】
［架橋剤］
インク受容層は、前記結合剤を架橋し得る架橋剤を含有することが好ましい。このように架橋剤を含有させることにより、インク受容層を、架橋剤と結合剤との架橋反応によって硬化された多孔質層とすることができる。
【００５８】
前記結合剤である水溶性樹脂として好適なポリビニルアルコールの架橋には、ホウ素化合物が好ましい。該ホウ素化合物としては、例えば、硼砂、硼酸、硼酸塩（例えば、オルト硼酸塩、ＩｎＢＯ3、ＳｃＢＯ3、ＹＢＯ3、ＬａＢＯ3、Ｍｇ3（ＢＯ3）2、Ｃｏ3（ＢＯ3）2、二硼酸塩（例えば、Ｍｇ2Ｂ2Ｏ5、Ｃｏ2Ｂ2Ｏ5）、メタ硼酸塩（例えば、ＬｉＢＯ2、Ｃａ（ＢＯ2）2、ＮａＢＯ2、ＫＢＯ2）、四硼酸塩（例えば、Ｎａ2Ｂ4Ｏ7・１０Ｈ2Ｏ）、五硼酸塩（例えば、ＫＢ5Ｏ8・４Ｈ2Ｏ、Ｃａ2Ｂ6Ｏ11・７Ｈ2Ｏ、ＣｓＢ5Ｏ5）等を挙げることができる。中でも、速やかに架橋反応を起こすことができる点で、硼砂、硼酸、硼酸塩が好ましく、特に硼酸が好ましい。
【００５９】
また、結合剤である水溶性樹脂の架橋剤として、上記のホウ素化合物以外の化合物を使用することもできる。例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、スクシンアルデヒド、グルタルアルデヒド、ジアルデヒドスターチ、植物ガムのジアルデヒド誘導体等のアルデヒド系化合物；ジアセチル、１，２−シクロペンタンジオン、３−ヘキセン−２，５−ジオン等のケトン系化合物；ビス（２−クロロエチル）尿素、ビス（２−クロロエチル）スルホン、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物；ジビニルスルホン、１，３−ビス（ビニルスルホニル）−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセタミド）、ジビニルケトン、１，３−ビス（アクリロイル）尿素、１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン等の活性ビニル化合物；ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のＮ−メチロール化合物；トリメチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン、メラミン、ベンゾグアナミン、メラミン樹脂等のメラミン化合物；エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジグリセリンポリグリシジルエーテル、スピログリコールジグリシジルエーテル、フェノール樹脂のポリグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；
【００６０】
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシナネート等のイソシアネート系化合物；米国特許第３，０１７，２８０号、同第２，９８３，６１１号等に記載のアジリジン系化合物；米国特許第３，１００，７０４号等に記載のカルボジイミド系化合物；１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物；ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物；２，３−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物；乳酸チタン、硫酸アルミ、クロム明ばん、カリ明ばん、酢酸ジルコニル、酢酸クロム等の金属含有化合物；テトラエチレンペンタミン等のポリアミン化合物；アジピン酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物；オキサゾリン基を２個以上含有する低分子又はポリマー等：米国特許第２，７２５，２９４号、米国特許第２，７２５，２９５号、米国特許第２，７２６，１６２号、米国特許第３，８３４，９０２号等に記載の多価酸の無水物、酸クロリド、ビススルホナート化合物；米国特許第３，５４２，５５８号、米国特許第３，２５１，９７２号等に記載の活性エステル化合物等が挙げられる。
上記の架橋剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組合わせて用いることもできる。
【００６１】
上記ポリビニルアルコールにゼラチンを併用する場合には、ゼラチンの硬膜剤として知られている、下記化合物を架橋剤としてホウ素化合物と併用することができる。
例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタールアルデヒド等のアルデヒド系化合物；ジアセチル、シクロペンタンジオン等のケトン系化合物；ビス（２−クロロエチル尿素）−２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジクロロ−６−Ｓ−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物；ジビニルスルホン酸、１，３−ビニルスルホニル−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセタミド）、１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン等の活性ビニル化合物；ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のＮ−メチロール化合物；
【００６２】
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート系化合物；米国特許第３，０１７，２８０号明細書、同第２，９８３，６１１号明細書に記載のアジリジン系化合物；米国特許第３，１００，７０４号明細書に記載のカルボキシイミド系化合物；グリセロールトリグリシジルエーテル等のエポキシ系化合物；１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物；ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物；２，３−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物；クロム明ばん、カリ明ばん、硫酸ジルコニウム、酢酸クロム等である。この場合、上記ホウ素化合物と他の架橋剤とを併用する場合、全架橋剤中ホウ素化合物の含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上が更に好ましい。
なお、上記ホウ素化合物は、一種単独でも、２種以上を組合わせてもよい。
【００６３】
上記架橋剤の付与は、少なくとも上記微粒子及び上記結合剤を含む、多孔質性のインク受容層を形成する塗布液（インク受容層用塗布液）が下地層上に塗布されるのと同時に、或いはインク受容層用塗布液を塗布して形成された塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に行われることが好ましい。この操作により、塗布層が乾燥する間に発生するひび割れの発生を効果的に防止することができる。
【００６４】
即ち、上記塗布液が塗布されたと同時に、或いは塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に、架橋剤を含む溶液を塗布層に付与することにより、架橋剤が塗布層内に浸透し、塗布層内の結合剤と速やかに反応し、結合剤をゲル化（硬化）させることにより、塗布層の膜強度を即時に大幅に向上させる。
【００６５】
また、本発明においては上記微粒子と任意の分散剤とからなる水分散物に、上記結合剤と後述する一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物とを含む溶液（第１の溶液）を添加し再分散して得られる塗布液を、下地層上に塗布して、該塗布と同時に、又は、該塗布によって形成される塗布層の乾燥途中であって、該塗布層が減率乾燥速度を示す前に、上記塗布層に架橋剤を含む溶液（第２の溶液）を付与してインク受容層を形成する方法も好適に用いることができる。当該方法を用いる場合には、塗布液に添加する第１の溶液、及び、後に付与する第２の溶液の両者に架橋剤を添加することが好ましい。
【００６６】
上記架橋剤を付与する際、その溶液は架橋剤を水及び／又は有機溶剤に溶解して調製される。上記架橋剤溶液中の架橋剤の濃度としては、架橋剤溶液の質量に対して、０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜８質量％が特に好ましい。架橋剤溶液を構成する溶媒としては、一般に水が使用され、該水と混和性を有するの有機溶媒を含む水系混合溶媒であってもよい。
【００６７】
上記有機溶剤としては、架橋剤が溶解するものであれば任意に使用することができ、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、グリセリン等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル；トルエン等の芳香族溶剤；テトラヒドロフラン等のエーテル、及びジクロロメタン等のハロゲン化炭素系溶剤等を挙げることができる。
【００６８】
［媒染剤］
本発明においては、形成画像の耐水性、耐経時ニジミの更なる向上を図るために、インク受容層に媒染剤が含有されることが好ましい。
上記媒染剤としてはカチオン性のポリマー（カチオン性媒染剤）が好ましく、該媒染剤をインク受容層中に存在させることにより、アニオン性染料を色材として有する液状インクとの間で相互作用し色材を安定化し、耐水性や経時ニジミを向上させることができる。
【００６９】
これを直接、インク受容層を形成するための塗布液（インク受容層用塗布液）に添加すると、アニオン電荷を有する気相法シリカとの間で凝集を生ずる懸念があるが、独立の別の溶液として調製し塗布する方法を利用すれば、無機顔料微粒子の凝集を懸念する必要はない。よって、本発明においては、上記気相法シリカとは別の溶液（例えば、架橋剤溶液）に含有して用いることが好ましい。
【００７０】
上記カチオン性媒染剤としては、カチオン性基として、第１級〜第３級アミノ基、又は第４級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が好適に用いられるが、また、カチオン性の非ポリマー媒染剤も使用することができる。
【００７１】
上記ポリマー媒染剤としては、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、又は第４級アンモニウム塩基を有する単量体（媒染モノマー）の単独重合体や、該媒染モノマーと他のモノマー（以下、「非媒染モノマー」という。）との共重合体又は縮重合体として得られるものが好ましい。また、これらのポリマー媒染剤は、水溶性ポリマーや、水分散性のラテックス粒子の形態で使用できる。
【００７２】
上記単量体（媒染モノマー）としては、例えば、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−オクチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（４−メチル）ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−フェニル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、
【００７３】
トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（３−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムアセテート、
【００７４】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミドのメチルクロライド、エチルクロライド、メチルブロマイド、エチルブロマイド、メチルアイオダイド若しくはエチルアイオダイドによる４級化物、又はそれらのアニオンを置換したスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、酢酸塩若しくはアルキルカルボン酸塩等が挙げられる。
【００７５】
具体的には、例えば、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、
【００７６】
Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムブロマイド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムブロマイド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムスルホネート、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムアセテート等を挙げることができる。
その他、共重合可能なモノマーとして、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール等も挙げられる。
【００７７】
上記非媒染モノマーとは、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、又は第４級アンモニウム塩基等の塩基性或いはカチオン性部分を含まず、インクジェットインク中の染料と相互作用を示さない、或いは相互作用が実質的に小さいモノマーをいう。
【００７８】
上記非媒染モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等の（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル；（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸アリールエステル；（メタ）アクリル酸ベンジル等のアラルキルエステル；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル等のビニルエステル類；酢酸アリル等のアリルエステル類；塩化ビニリデン、塩化ビニル等のハロゲン含有単量体；（メタ）アクリロニトリル等のシアン化ビニル；エチレン、プロピレン等のオレフィン類；等が挙げられる。
【００７９】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル部位の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル等が挙げられる。中でも、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレートが好ましい。 上記非媒染モノマーも、一種単独で、又は二種以上組合せて使用できる。
【００８０】
更に、ポリマー媒染剤として、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ポリメタクリロイルオキシエチル−β−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライド、ポリエチレニミン、ポリアリルアミン、ポリアリルアミン塩酸塩、ポリアミド−ポリアミン樹脂、カチオン化でんぷん、ジシアンジアミドホルマリン縮合物、ジメチル−２−ヒドロキシプロピルアンモニウム塩重合物、ポリアミジン、ポリビニルアミン等も好ましいものとして挙げることができる。
【００８１】
上記ポリマー媒染剤の分子量としては、重量平均分子量で１，０００〜２００，０００が好ましく、重量平均分子量で３，０００〜６０，０００が更に好ましい。上記分子量が１，０００〜２００，０００の範囲にあると、耐水性が不十分となることがなく、また、粘度が高くなりすぎてハンドリング適正が低下するのを防止できる。
【００８２】
上記カチオン性の非ポリマー媒染剤としては、例えば、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム、塩化マグネシウム等の水溶性金属塩が好ましい。
【００８３】
［一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物］
インク受容層には、更に、下記一般式（１）で表される化合物及び／又は下記一般式（２）で表される化合物を含むことが好ましい。下記一般式（１）で表される化合物及び下記一般式（２）で表される化合物は、高沸点溶剤である。
【００８４】
ＲＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＨ ・・・一般式（１）
（一般式（１）中、Ｒは、炭素数１〜１２の飽和炭化水素基、炭素数１〜１２の不飽和炭化水素基、フェニル基、又はアシル基を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。）
【００８５】
ＲＯ（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）nＨ ・・・一般式（２）
（一般式（２）中、Ｒは、炭素数１〜１２の飽和炭化水素基、炭素数１〜１２の不飽和炭化水素基、フェニル基、又はアシル基を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。）
【００８６】
上記一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物をインク受容層に含むことで、３次元網目構造（多孔質構造）形成時のインク受容層の乾燥収縮を抑制することができる。これは、一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物が、気相法シリカ表面のシラノール基とポリビニルアルコールの水酸基との水素結合を適度に阻害するためにインク受容層の乾燥収縮が緩和されるためと推測される。これにより３次元網目構造形成時におけるインク受容層の膜割れを防止でき、情報媒体の生産歩留まりや品質を向上させることができる。
【００８７】
上記一般式（１）及び一般式（２）において、Ｒは炭素数１〜１２の飽和炭化水素基、炭素数１〜１２の不飽和炭化水素基、フェニル基、又はアシル基を表し、炭素数１〜４の飽和炭化水素基が好ましい。
上記飽和炭化水素基の炭素数は１〜１２であり、好ましくは１〜８であり、更に好ましくは１〜４ある。該飽和炭化水素基としては、アルキル基、脂環族炭化水素基等が挙げられる。該飽和炭化水素基は置換基によって置換されていてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基などが挙げられ、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。
【００８８】
上記不飽和炭化水素基の炭素数は１〜１２であり、好ましくは１〜８であり、更に好ましくは１〜４である。該不飽和炭化水素基としては、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。該不飽和炭化水素基は置換基によって置換されていてもよい。具体的には、ビニル基、アリル基、エチニル基、１，３−ブタジエニル基、２−プロピニル基等が挙げられ、アリル基が好ましい。
【００８９】
上記アシル基としては、炭素数１〜８のアシル基が好ましく、１〜４のアシル基が更に好ましい。該アシル基は置換基によって置換されていてもよい。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基が挙げられ、ブチリル基が好ましい。
【００９０】
上記一般式（１）及び一般式（２）において、ｎは１〜３の整数を表し、２又は３が好ましい。
【００９１】
一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物としては、水溶性の化合物が好ましい。ここで「水溶性」とは、水に１質量％以上溶解するものをいう。
【００９２】
一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物としては、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノドデシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテルが好ましい。
【００９３】
一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物は、その少なくとも１種をインク受容層に含んでいればよい。従って、一般式（１）で表される化合物又は（２）で表される化合物を単独又は２種以上含んでいてもよいし、一般式（１）で表される化合物と一般式（２）で表される化合物とを併用してもよい。一般式（１）で表される化合物〔ｘ〕及び一般式（２）で表される化合物〔ｙ〕を併用する場合、その混合比（質量比；ｘ：ｙ）については特に限定はないが、好ましくは１００：１〜１００：１００であり、更に好ましくは１００：１０〜１００：５０である。
また、インク受容層中に含まれる一般式（１）で表される化合物及び（２）で表される化合物の総含有量としては、０．１〜５．０ｇ／ｍ2が好ましく、０．２〜３．０ｇ／ｍ2が更に好ましい。
【００９４】
［他の成分］
インク受容層は、必要に応じて、下記成分を含んでいてもよい。色材の劣化を抑制する目的で、各種の紫外線吸収剤、酸化防止剤、一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤を含んでいてもよい。
【００９５】
上記紫外線吸収剤としては、桂皮酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾリルフェノール誘導体等が挙げられる。例えば、α−シアノ−フェニル桂皮酸ブチル、ｏ−ベンゾトリアゾールフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−ｐ−クロロフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−２，４−ジ−ｔ−オクチルフェノール等が挙げられる。ヒンダートフェノール化合物も紫外線吸収剤として使用でき、具体的には少なくとも２位又は６位のうち１ヵ所以上が分岐アルキル基で置換されたフェノール誘導体が好ましい。
【００９６】
また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤等も使用できる。例えば、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第２，７１９，０８６号明細書、同３，７０７，３７５号明細書、同３，７５４，９１９号明細書、同４，２２０，７１１号明細書等に記載されている。
【００９７】
蛍光増白剤も紫外線吸収剤として使用でき、例えば、クマリン系蛍光増白剤等が挙げられる。具体的には、特公昭４５−４６９９号公報、同５４−５３２４号公報等に記載されている。
【００９８】
上記酸化防止剤としては、ヨーロッパ公開特許第２２３７３９号公報、同３０９４０１号公報、同３０９４０２号公報、同３１０５５１号公報、同第３１０５５２号公報、同第４５９４１６号公報、ドイツ公開特許第３４３５４４３号公報、特開昭５４−４８５３５号公報、同６０−１０７３８４号公報、同６０−１０７３８３号公報、同６０−１２５４７０号公報、同６０−１２５４７１号公報、同６０−１２５４７２号公報、同６０−２８７４８５号公報、同６０−２８７４８６号公報、同６０−２８７４８７号公報、同６０−２８７４８８号公報、同６１−１６０２８７号公報、同６１−１８５４８３号公報、同６１−２１１０７９号公報、同６２−１４６６７８号公報、同６２−１４６６８０号公報、同６２−１４６６７９号公報、同６２−２８２８８５号公報、同６２−２６２０４７号公報、同６３−０５１１７４号公報、同６３−８９８７７号公報、同６３−８８３８０号公報、同６６−８８３８１号公報、同６３−１１３５３６号公報、
【００９９】
同６３−１６３３５１号公報、同６３−２０３３７２号公報、同６３−２２４９８９号公報、同６３−２５１２８２号公報、同６３−２６７５９４号公報、同６３−１８２４８４号公報、特開平１−２３９２８２号公報、特開平２−２６２６５４号公報、同２−７１２６２号公報、同３−１２１４４９号公報、同４−２９１６８５号公報、同４−２９１６８４号公報、同５−６１１６６号公報、同５−１１９４４９号公報、同５−１８８６８７号公報、同５−１８８６８６号公報、同５−１１０４９０号公報、同５−１１０８４３７号公報、同５−１７０３６１号公報、特公昭４８−４３２９５号公報、同４８−３３２１２号公報、米国特許第４８１４２６２号、同第４９８０２７５号等に記載のものが挙げられる。
【０１００】
具体的には、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４，−テトラヒドロキノリン、シクロヘキサン酸ニッケル、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−エチルヘキサン、２−メチル−４−メトキシ−ジフェニルアミン、１−メチル−２−フェニルインドール等が挙げられる。
【０１０１】
上記褪色性防止剤は、単独でも２種以上を併用してもよい。この上記褪色性防止剤は、水溶性化、分散、エマルション化してもよく、マイクロカプセル中に含ませることもできる。上記褪色性防止剤の添加量としては、インク受容層用塗布液の０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１０２】
また、無機顔料微粒子の分散性を高める目的で、各種無機塩類、ｐＨ調整剤として酸やアルカリ等を含んでいてもよい。更に、表面の摩擦帯電や剥離帯電を抑制する目的で、電子導電性を持つ金属酸化物微粒子を、表面の摩擦特性を低減する目的で各種のマット剤を含んでいてもよい。
【０１０３】
インク受容層の細孔径は、メジアン径で０．００５〜０．０３０μｍが好ましく、０．０１〜０．０２５μｍがより好ましい。
上記空隙率及び細孔メジアン径は、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。
【０１０４】
また、インク受容層は、透明性に優れていることが好ましいが、その目安としては、インク受容層を透明フイルム支持体上に形成したときのヘイズ値が、３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましい。ヘイズ値は、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ：スガ試験機（株））を用いて測定することができる。
【０１０５】
上述のようなインク受容層の形成方法について、以下に説明する。当該インク受容層は、例えば、一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物と微粒子と結合剤とを含有する塗布液（インク受容層用塗布液）を下地層上に塗布することで形成することができるが、該塗布と同時に、又は、形成された塗布層の乾燥途中であって該塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に、該塗布層に架橋剤と媒染剤とを含有する溶液（架橋剤溶液）を付与した後、該溶液を付与した塗布層を架橋硬化させる方法（ＷＯＷ法；Ｗｅｔ Ｏｎ Ｗｅｔ法）により形成される方法を用いてもよい。当該方法においてインク受容層用塗布液のｐＨは８．０〜１０．０でアルカリ性を示す。
【０１０６】
また、インク受容層は、インク受容層用塗布液と、架橋剤溶液と、を架橋剤と反応しない材料からなるバリアー液（但し、架橋剤を含む溶液若しくはバリアー液の少なくとも一方に媒染剤を含有させる。）を挟んだ状態で同時塗布し、硬化させることによって得ることもできる。
【０１０７】
上記のように、架橋剤（ホウ素化合物）と共に媒染剤を同時塗布することにより、インク受容層の耐水性を向上させることができる。即ち、上記媒染剤をインク受容層用塗布液に添加すると、該媒染剤はカチオン性であるので、表面にアニオン電荷を持つ気相法シリカとの共存下では凝集を生ずる場合があるが、媒染剤を含む溶液とインク受容層用の塗布液とをそれぞれを独立に調製し、個々に塗布する方法を採用すれば、気相法シリカの凝集を考慮する必要がなく、媒染剤の選択範囲が広がる。
【０１０８】
一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物と、気相法シリカと、ポリビニルアルコールと、を少なくとも含むインク受容層用塗布液は、例えば、以下のようにして調製できる。
【０１０９】
即ち、気相法シリカを水中に添加して（例えば、１０〜２０質量％）、高速回転湿式コロイドミル（例えば、クレアミックス（エム・テクニック（株）製））を用いて、例えば１０，０００ｒｐｍ（好ましくは５，０００〜２０，０００ｒｐｍ）の高速回転の条件で２０分間（好ましくは１０〜３０分間）分散させた後、ポリビニルアルコール水溶液（例えば、気相法シリカの１／３程度の質量のＰＶＡとなるように）を加え、更に一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物を添加し、上記と同じ回転条件で分散を行うことで調製することができる。得られた塗布液は均一ゾルであり、これを下記塗布方法で基板上に塗布形成することにより、三次元網目構造を有する多孔質性のインク受容層を形成することができる。
【０１１０】
なお、上記分散の処理方法としては、高速回転分散機、媒体攪拌型分散機（ボールミル、サンドミルなど）、超音波分散機、コロイドミル分散機、高圧分散機等従来公知の各種の分散機を使用することができるが、本発明では形成されるダマ状微粒子の分散を効率的に行うという点から、コロイドミル分散機又は高圧分散機が好ましく用いられる。
【０１１１】
上記インク受容層用塗布液には、必要に応じて、更に、架橋剤溶液、界面活性剤、ｐＨ調整剤、帯電防止剤等を添加することもできる。
インク受容層用塗布液を塗布する他の方法としては、例えば、バーコート、ロールコート、ブレードコート、スクリーンコート、タンポコート等の接触塗布や、スプレーコート、スピンコート、カーテンコート、ディップコート、等の非接触塗布等により行うことができる。また、エクストリュージョンダイコータによる塗布方法を用いることもできる。
【０１１２】
スプレーコートにより塗布を行う場合、圧力としては、１．０１３〜２０２６ｈＰａが好ましく、５０．６５〜１０１３ｈＰａがより好ましく、１０１．３〜５０６．５ｈＰａが更に好ましい。スプレーの広がり角度としては、１〜１２０°が好ましく、１０〜６０°がより好ましく、２０〜５０°が更に好ましい。液粒径としては、０．１〜１０００μｍが好ましく、１〜５００μｍがより好ましく、１０〜１００μｍが更に好ましい。ワーク（情報媒体）からの距離としては、１〜１０００ｍｍが好ましく、１０〜２００ｍｍがより好ましく、３０〜１００ｍｍが更に好ましい。温度としては、１０〜４０℃が好ましく、１５〜３５℃がより好ましく、２０〜３０℃が更に好ましい。湿度としては、５〜７０％ＲＨが好ましく、１０〜４０％ＲＨがより好ましく、２０〜５０％ＲＨが更に好ましい。
【０１１３】
なお、スプレーコートを用いる場合、インク受容層用塗布液の塗布は、複数個並んだノズルの径を、ディスクの内周部から外周部にかけて線速度に応じて大きくすることで、所望の膜厚分布を得ることができる。
【０１１４】
スピンコートにより塗布を行う場合、塗布液の粘度としては、０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１〜６，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、１０〜３，０００ｍＰａ・ｓが更に好ましい。インク受容層用塗布液の粘度は、厚みを確保するため、５０〜１０，０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１００〜６０００ｍＰａ・ｓがより好ましく２００〜３，０００ｍＰａ・ｓが更に好ましい。回転数としては、ディスペンス時においては、１０〜１，０００ｒｐｍとすることが好ましく、５０〜６００ｒｐｍとすることがより好ましく、１００〜４００とすることが更に好ましい。振り切り時においては、徐々に回転数を上げ、上げ方はステップでもなだらかでもよく、具体的には、１００〜１０，０００ｒｐｍとすることが好ましく、２００〜５，０００ｒｐｍとすることがより好ましく、３００〜３，０００ｒｐｍとすることが更に好ましい。ノズルの形状は、長さは１〜１００ｍｍであることが好ましく、５〜５０ｍｍであることがより好ましく、１０〜３０ｍｍであることが更に好ましい。ノズルの内径は、０．１〜５ｍｍであることが好ましく、０．３〜３ｍｍであることがより好ましく、０．５〜２ｍｍであることが更に好ましい。ノズルの肉厚は０．１〜１ｍｍであることが好ましく、０．２〜０．５ｍｍであることがより好ましい。また、ノズルは流れに沿って斜めに設置してもよい。ワークからの距離としては、０．５〜１００ｍｍが好ましく、１〜５０ｍｍがより好ましく、２〜２０ｍｍが更に好ましい。温度としては、１０〜４０℃が好ましく、１５〜３５℃がより好ましく、２０〜３０℃が更に好ましい。湿度としては、５〜７０％ＲＨが好ましく、１０〜４０％ＲＨがより好ましく、２０〜５０％ＲＨが更に好ましい。
【０１１５】
後述する２液目（架橋剤溶液）をスピンコートにより塗布する場合には、塗布膜の均一性を確保するため、その粘度は、０．１〜１，０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１〜５００ｍＰａ・ｓがより好ましく、２〜３００ｍＰａ・ｓが更に好ましい。
【０１１６】
インク受容層用塗布液を塗布した後、該塗布層に架橋剤溶液が付与されるが、該架橋剤溶液は、塗布後の塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に付与してもよい。即ち、インク受容層用塗布液の塗布後、この塗布層が恒率乾燥速度を示す間に架橋剤及び媒染剤とを導入することで好適に製造される。
【０１１７】
ここで、「塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前」とは、通常、インク受容層用塗布液の塗布直後から数分間を指し、この間においては、塗布された塗布層中の溶剤の含有量が時間に比例して減少する現象である恒率乾燥速度を示す。該恒率乾燥速度を示す時間については、化学工学便覧（ｐ．７０７〜７１２、丸善（株）発行、昭和５５年１０月２５日）に記載されている。
【０１１８】
上記の通り、インク受容層用塗布液の塗布後、その塗布層が減率乾燥速度を示すようになるまで乾燥されるが、該乾燥条件の詳細について以下に述べる。
【０１１９】
インク受容層の塗布層の乾燥は、自然乾燥、温風乾燥、低温セット乾燥、赤外・遠赤外線乾燥、高周波乾燥、オーブン乾燥など、いかなる乾燥手法で行ってもよい。
自然乾燥の場合、塗布層の乾燥時間は、０．１〜１００００秒とすることが好ましく、１〜１０００秒とすることがより好ましく、１０〜５００秒とすることが更に好ましい。乾燥温度は、０〜４０℃とすることが好ましく、１０〜３５℃とすることがより好ましく、２０〜３０℃とすることが更に好ましい。乾燥湿度１０〜７０％ＲＨとすることが好ましく、２０〜６０％ＲＨとすることがより好ましく、３０〜５０％ＲＨとすることが更に好ましい。
【０１２０】
温風乾燥の場合、塗布層の乾燥時間は、０．１〜５０００秒とすることが好ましく、１〜１０００秒とすることがより好ましく、１０〜５００秒とすることが更に好ましい。乾燥温度は、４０〜２００℃とすることが好ましく、６０〜１５０℃とすることがより好ましく、８０〜１３０℃とすることが更に好ましい。乾燥湿度０．０１〜５０％ＲＨとすることが好ましく、０．１〜３０％ＲＨとすることがより好ましく、１〜２０％ＲＨとすることが更に好ましい。乾燥処理を施した後のインク受容層の厚みは、１０〜１００μｍであることが好ましく、１５〜８０μｍであることがより好ましく、２０〜５０μｍであることがさらに好ましい。
【０１２１】
低温セット乾燥の場合、塗布層の乾燥温度は、２〜２５℃とすることが好ましく、５〜１５℃とすることがより好ましい。乾燥湿度１０〜５０％ＲＨとすることが好ましく、１０〜３０％ＲＨとすることがより好ましい。この温・湿度は、乾燥の進行に伴い、低温低湿から高温高湿ヘ、徐々に或いは段階的にあげていることが好ましい。なお、風速は、減率乾燥速度を示したら、塗布層に対して平行に３ｍ／ｓ以上であることが好ましい。
【０１２２】
赤外・遠赤外乾燥の場合、塗布層の乾燥時間は、０．１〜１０００秒とすることが好ましく、１〜５００秒とすることがより好ましく、１０〜３００秒とすることが更に好ましい。出力は、１０〜２０００Ｗとすることが好ましく、５０〜１５００Ｗとすることがより好ましく、１００〜１０００Ｗとすることが更に好ましい。
高周波乾燥の場合の乾燥条件も赤外・遠赤外乾燥の場合と同様である。
【０１２３】
オーブン乾燥の場合、塗布層の乾燥時間は、０．１〜１，０００秒とすることが好ましく、１〜５００秒とすることがより好ましく、１０〜３００秒とすることが更にが好ましい。
【０１２４】
上記塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に架橋剤を付与する方法としては、（１）架橋剤溶液を塗布層上に更に塗布する方法、（２）スプレー等の方法によって噴霧する方法、（３）架橋剤溶液中に、該塗布層が形成された基板を浸漬する方法、等が挙げられる。
【０１２５】
上記方法（１）において、架橋剤溶液を塗布する塗布方法としては、例えば、カーテンフローコータ、エクストルージョンダイコータ、エアードクターコータ、ブレッドコータ、ロッドコータ、ナイフコータ、スクイズコータ、リバースロールコータ、バーコータ等の公知の塗布方法を利用することができる。中でも、エクストリュージョンダイコータ、カーテンフローコータ、バーコータ等のように、既に形成されている塗布層にコータが直接接触しない方法を利用することが好ましい。
【０１２６】
インク受容層上に付与する、架橋剤と媒染剤とを少なくとも含有する架橋剤溶液の塗布量としては、架橋剤換算で０．０１〜１０ｇ／ｍ2が一般的であり、０．０５〜５ｇ／ｍ2が好ましい。
【０１２７】
該架橋剤溶液の付与後は、一般に４０〜１８０℃で０．５〜３０分間加熱され、乾燥及び硬化が行なわれる。中でも、４０〜１５０℃で１〜２０分間加熱することが好ましい。
例えば、上記架橋剤溶液中にホウ素化合物としての硼砂や硼酸を使用する場合には、６０〜１００℃での加熱を５〜２０分間行うことが好ましい。
【０１２８】
また、上記架橋剤塗布液は、インク受容層用塗布液を塗布すると同時に付与してもよい。この場合、インク受容層用塗布液及び架橋剤溶液を、両液が基板と接触するようにして基板上に同時塗布（重層塗布）し、その後、乾燥硬化させることによりインク受容層を形成することができる。
【０１２９】
上記同時塗布（重層塗布）は、例えば、エクストルージョンダイコータ、カーテンフローコータを用いた塗布方法により行うことができる。同時塗布の後、形成された塗布層は乾燥されるが、この場合の乾燥は、一般に塗布層を４０〜１５０℃で０．５〜１０分間加熱することにより行われ、好ましくは、４０〜１００℃で０．５〜５分間加熱することにより行われる。例えば、架橋剤溶液にホウ素化合物としての硼砂や硼酸を使用する場合は、６０〜１００℃で５〜２０分間加熱することが好ましい。
【０１３０】
上記同時塗布（重層塗布）を、例えば、エクストルージョンダイコータにより行なった場合、同時に吐出される二種の塗布液は、エクストルージョンダイコータの吐出口附近で、即ち、基板上に移る前に重層形成され、その状態で基板上に重層塗布される。塗布前に重層された二層の塗布液は、基板に移る際、既に、二液の界面で架橋反応を生じ易いことから、エクストルージョンダイコータの吐出口付近では、吐出される二液が混合して増粘し易くなり、塗布操作に支障を来す場合がある。従って、上記のように同時塗布する際は、インク受容層用塗布液及び架橋剤と媒染剤とを含有する架橋剤溶液の塗布と共に、更に架橋剤と反応しない材料からなるバリアー層液（中間層液）を上記二液間に介在させて同時三重層塗布することが好ましい。
【０１３１】
上記バリアー層液は、架橋剤と反応せず液膜を形成できるものであれば、特に制限なく選択できる。例えば、架橋剤と反応しない水溶性樹脂を微量含む水溶液や、水等を挙げることができる。かかる水溶性樹脂は、増粘剤等の目的で、塗布性を考慮して使用されるもので、例えば、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ゼラチン等のポリマーが挙げられる。
なお、バリアー層液には、上記媒染剤を含有させることもできる。
【０１３２】
また、インク受容層は、微粒子と分散剤とからなる水分散物に、上記一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物及び結合剤を含む溶液（第１の溶液）と、架橋剤及び媒染剤を含む溶液（第２の溶液）と、をそれぞれ添加し、再分散して得られる塗布液を、下地層上に塗布して塗布層を形成し、その後、該塗布層を硬化させる方法によって形成されてもよい。当該方法においてインク受容層を形成する塗布液のｐＨは２．５〜４．０であり、酸性を示す。当該方法を用いると、光沢度及び印画濃度が向上するため好ましい。
【０１３３】
この方法を用いた場合の塗布層の硬化方法及びその条件としては、具体的には、Ｃ．Ａ．Ｆｉｎｃｈｉ編、''Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ Ｗａｔｅｒ−Ｓｏｌｕｂｌｅ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ''（１９８３年）に記載されている硬化方法及びその条件を適用することができる。
【０１３４】
上記分散剤としては、カチオン性のポリマーを用いることができる。カチオン性ポリマーとしては、上述の媒染剤の例として挙げた、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、又は第４級アンモニウム塩基を有する単量体の単独重合体や、該単量体と他のモノマーとの共重合体又は縮重合体として得られるものを好適に使用することができる。また、これらの分散剤は、水溶性ポリマーの形態で使用するのが好ましい。
【０１３５】
上記分散剤の分子量は、重量平均分子量で１，０００〜２００，０００が好ましく、３，０００〜６０，０００が更に好ましい。該分子量が１，０００より小さいと分散性に劣る場合があり、２００，０００を超えると水分散物の粘度が高くなる場合がある。上記分散剤の気相法シリカに対する添加量は、１％〜３０％が好ましく、３％〜２０％が更に好ましい。該添加量が、１％未満では分散性に劣る場合があり、３０％を超えるとインク受容層に印画した際、色濃度が低下することがあるため好ましくない。
【０１３６】
また、微粒子と分散剤とからなる水分散剤の調製は、微粒子水分散液を予め調製し、該水分散液を分散剤水溶液に添加してもよいし、分散剤水溶液を微粒子水分散液に添加してよいし、同時に混合してもよい。また、微粒子水分散液ではなく、粉体の微粒子を用いて上記のように分散剤水溶液に添加してもよい。
【０１３７】
上記の微粒子と分散剤とを混合した後、該混合液を分散機を用いて細粒化することで、平均粒子径５０〜３００ｎｍの水分散液を得ることができる。該水分散液を得るために用いる分散機としては、高速回転分散機、媒体攪拌型分散機（ボールミル、サンドミルなど）、超音波分散機、コロイドミル分散機、高圧分散機等従来公知の各種の分散機を使用することができるが、形成されるダマ状微粒子の分散を効率的に行うという点から、コロイドミル分散機又は高圧分散機が好ましい。
【０１３８】
また、塗布液に用いられる溶媒としては、水、有機溶媒、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、メトキシプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。
【０１３９】
なお、この方法においても、微粒子と任意の分散剤とからなる水分散物に、上記一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物及び結合剤を含む溶液（第１の溶液）と、架橋剤及び媒染剤を含む溶液（第２の溶液）と、をそれぞれ添加し、再分散して得られる塗布液は、インク受容層用塗布液を塗布する際と同様の方法を用いて塗布することができる。
【０１４０】
下地層上にインク受容層を形成した後、該インク受容層は、例えば、スーパーカレンダ、グロスカレンダ等を用い、加熱加圧下にロールニップ間を通してカレンダー処理を施すことにより、表面平滑性、光沢度、透明性及び塗膜強度を向上させることが可能である。しかしながら、該カレンダー処理は、空隙率を低下させる要因となることがあるため（即ち、インク吸収性が低下することがあるため）、空隙率の低下が少ない条件を設定して行う必要がある。
【０１４１】
カレンダー処理を行う場合のロール温度としては、３０〜１５０℃が好ましく、４０〜１００℃がより好ましい。
また、カレンダー処理時のロール間の線圧としては、５０〜４００ｋｇ／ｃｍが好ましく、１００〜２００ｋｇ／ｃｍがより好ましい。
【０１４２】
〔中間層〕
インク受容層と下地層との間には中間層を設けてもよい。中間層をインク吸収性の高い層とすると、受容できるインク量が増し、印画時に色濃度を向上させ、画質を向上させることができる。或いは、下地層と基板との間に中間層を設けてもよい。この場合、下地層と基板との密着性を向上させたり、情報媒体全体の反りを調整することができる。中間層の層厚としては、０．１〜１００μｍが好ましく、１〜５０μｍがより好ましく、３〜２０μｍが最も好ましい。
【０１４３】
〔表面層〕
また、インク受容層の上に表面層を形成してもよい。表面層を形成することにより、表面強度を更に向上させたり、印画の保存性を向上させたりすることができる。表面層は、インクを受容するか、或いは速やかに透過させる性質を有する必要がある。表面層の層厚としては、０．０１〜１００μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがより好ましく、０．５〜５μｍが最も好ましい。
【０１４４】
本発明の製造方法によって得られる情報媒体は、６０°において３０％以上の光沢度を示すことができる。該光沢度は、デジタル変角光沢度計（ＵＧＶ−５０ＤＰ，スガ試験機（株）製）等によって測定することができる。
【０１４５】
本発明の製造方法によって得られる情報媒体が、光情報記録媒体である場合、基板には、記録層や反射層等が形成されている。そこで、次に、本発明に使用される基板及び各層（記録層や反射層等）、並びにそれらの形成方法について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４６】
＜基板＞
基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．６〜１．１ｍｍとすることがより好ましい。なお、図１に示すような凸部を形成する場合は、既述のように、基板成型時に当該凸部を形成することが好ましい。
【０１４７】
基板には、トラッキング用の案内溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が形成されている。
青紫色レーザーで記録する媒体（ブルーレイディスクやＨＤ ＤＶＤ）の場合、プリグルーブのトラックピッチは、２００〜８００ｎｍの範囲とすること好ましく、２００〜５００ｎｍとすることがより好ましく、２００〜４００ｎｍとすることが更に好ましい。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１０〜１８０ｎｍの範囲とすることが好ましく、２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましい。
更に、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることが更に好ましい。
【０１４８】
ＤＶＤ−ＲやＤＶＤ−ＲＷの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることが更に好ましい。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜１６０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましく、１３０〜１４０ｎｍとすることが更に好ましい。
更に、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることが更に好ましい。
【０１４９】
ＣＤ−Ｒ又はＣＤ−ＲＷの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、１．２〜２．０μｍの範囲とすること好ましく、１．４〜１．８μｍとすることがより好ましく、１．５５〜１．６５μｍとすることが更に好ましい。
プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜２５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１５０〜２３０ｎｍとすることがより好ましく、１７０〜２１０ｎｍとすることが更に好ましい。
プリグルーブの半値幅は、４００〜６５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、４８０〜６００ｎｍとすることがより好ましく、５００〜５８０ｎｍとすることが更に好ましい。
【０１５０】
＜記録層＞
ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲやＨＤ ＤＶＤ、ブルーレイディスクの場合、記録層は、記録物質である色素を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液をスピンコート法により基板のプリグルーブが形成された面に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。
スピンコート法を適用する際の温度は、２３℃以上とすることが好ましく、２５℃以上とすることがより好ましい。温度の上限は特にないが、溶剤の引火点より低い温度とする必要があり、好ましく３５℃とする。
２３℃未満とすると、溶剤の乾燥が遅くなり、目的とする色素膜厚（記録層の厚み）が得られない場合や塗布乾燥時間が長くなり、生産性が低下することがある。
【０１５１】
当該色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、なかでも、フタロシアニン色素が好ましい。
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、及び同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素も好適に用いられる。
【０１５２】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、２−メトキシエチルアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、或いは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１５３】
結合剤を使用する場合に、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【０１５４】
塗布方法としては、既述のようにスピンコート法を適用するが、その際に使用する装置等については、従来公知のものを使用することができる。
また、記録層は単層でも重層でもよく、その層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【０１５５】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
【０１５６】
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【０１５７】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【０１５８】
ＣＤ−ＲＷ又はＤＶＤ−ＲやＨＤ ＤＶＤ、ブルーレイディスクの場合、記録層は、結晶状態と非晶状態の少なくとも２つの状態をとり得る少なくともＡｇ、Ａｌ、Ｔｅ、Ｓｂからなる相変化型の光記録材料からなることが好ましい。かかる記録層は、公知の方法で形成することができる。
なお、当該記録層上には、必要に応じて、公知の誘電体層が形成される。
【０１５９】
＜光反射層＞
記録層形成後、該記録層上に光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングして光反射層を形成する。光反射層の形成に際しては、通常マスクが使用され、これによって光反射層の形成領域を調節することができる。
【０１６０】
光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属或いはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、或いは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ或いはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇ或いはこれらの合金である。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【０１６１】
＜保護層、保護基板＞
光反射層を形成した後は、該光反射層上に保護層が形成される。
保護層は、スピンコート法により形成される。スピンコート法を適用することで、記録層にダメージ（色素の溶解、色素と保護層材料との化学反応等）を与えることなく保護層を形成することができる。スピンコートする際の回転数は、均一な層形成及び記録層へのダメージの防止の観点から、５０〜８０００ｒｐｍとすることが好ましく、１００〜５０００ｒｐｍとすることがより好ましい。
なお、保護層に放射線硬化樹脂（紫外線硬化樹脂）を使用した場合は、スピンコート法により保護層を形成した後、該保護層上から紫外線照射ランプ（メタルハライドランプ）により紫外線を照射して、紫外線硬化樹脂を硬化させる。
また、形成する保護層の厚みムラを無くすため、樹脂を硬化させる前に一定時間放置する等の処理を適宜行ってもよい。
【０１６２】
保護層は、水分の侵入やキズの発生を防止することができる。保護層を構成する材料としては、放射線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも放射線硬化樹脂であることが好ましい。該放射線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業（株）製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業（株）製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光及び再生光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。なお、ブルーレイディスクの場合には、保護層として、厚さ０．１ｍｍ程度の透明シートが設けられる。
【０１６３】
ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷやＨＤ ＤＶＤの場合は、保護層に代わって、紫外線硬化樹脂等からなる接着層及び保護基板としての基板（厚さ：０．６ｍｍ程度、材質については前記基板と同様）を積層する。即ち、光反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ６４０等）をスピンコート法によって２０〜６０μｍの厚さに塗布して、接着層を形成する。形成した接着層上に、例えば、保護基板としてのポリカーボネート基板（厚さ０．６ｍｍ）を載置し、基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させて貼り合わせる。
【０１６４】
以上のようにして、基板上に記録層、光反射層、保護層又は接着層を介した保護基板（ダミー基板）等が設けられた積層体で、レーベル面にプリンタブル層が形成された情報媒体が作製される。
【０１６５】
本発明の情報媒体の厚みとしては、下限としては、０．３ｍｍが好ましく、０．５ｍｍがより好ましく、０．７ｍｍが更に好ましい。また、上限としては、１００ｍｍが好ましく、２０ｍｍがより好ましく、５ｍｍが更に好ましい。薄すぎると、曲げたときに欠陥が発生することがある。厚すぎると、リムーバブル性に劣ることがある。
【実施例】
【０１６６】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の「部」及び「％」は、全て「質量部」及び「質量％」を表す。
【０１６７】
［実施例］
射出成形により、表面にスパイラル状のグルーブ（ランド）とＬＰＰとを形成したポリカーボネート基板（厚さ：０．６ｍｍ、外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、帝人（株）製、商品名「パンライトＡＤ５５０３」）を作製した。溝深さ：１４０ｎｍ、溝幅：３１０ｎｍ、溝ピッチ：７４０ｎｍであった。
【０１６８】
下記オキソノール色素（Ａ）とオキソノール色素（Ｂ）とを６５：３５の割合で混合した色素１ｇを、２，２，３，３−テトラフルオロ−プロパノール１００ｍｌに溶解し、記録層形成用塗布液を調製した。この記録層形成用塗布液を、得られた基板のグルーブ面に、回転数を３００〜３０００ｒｐｍまで変化させながらスピンコート法により塗布し、乾燥して記録層を形成した。記録層の厚さは、記録層の断面をＳＥＭにより観察して計測したところグルーブ内では１５０ｎｍ、ランド部では１１０ｎｍであった。
【０１６９】
【化１】
【０１７０】
次いで、アルゴン雰囲気中での、ＤＣスパッタリングにより、記録層上に厚さ約１５０ｎｍのＡｇからなる光反射層を形成した。なお、チャンバー内の圧力は０．５Ｐａであった。
【０１７１】
更に、光反射層上に、ＵＶ硬化性樹脂（商品名「ＳＤ−３１８」、大日本インキ化学工業（株）製）を環状にディスペンスし、別に用意したポリカーボネート製の円盤状保護基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）を中心を一致させて重ね合わせ、回転数５０００ｒｐｍで３秒間回転させ、ＵＶ硬化性樹脂（ＳＤ６４０、大日本インキ化学工業（株）製）を全面に広げ且つ余分なＵＶ硬化性樹脂を振り飛ばした。ＵＶ硬化性樹脂が全面に広がったところで、高圧水銀灯により紫外線を照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、記録層及び光反射層が形成された基板と円盤状保護基板とを貼り合わせた。貼り合わせ層の厚さは２５μｍであり、気泡の混入もなく貼り合せることができた。
【０１７２】
次いで、レーザー光入射面と反対側の円盤状保護基板の表面（レーベル面）に、以下のようにして、プリンタブル層を形成した（プリンタブル層形成工程）。
【０１７３】
まず、レーベル面の外周領域および内周領域に、後述する下地層の形成と同様にしてスクリーン印刷により凸部を形成した。当該凸部の高さは３０μｍであり、最大幅は１．０ｍｍであった。当該外周領域の凸部は、基板の外周端部から０．５〜１．０ｍｍの範囲に設け、当該内周領域の凸部は、基板の内周端部から１０〜１７ｍｍの範囲に設けた。
【０１７４】
次に、上記基板の外周側の凸部と内周側の凸部との間に、紫外線硬化インク（Ｗｈｉｔｅ Ｎｏ．３、帝国インキ製造（株）製）をスクリーン印刷で印刷し、印刷後、その上からメタルハライドランプで８０Ｗ／ｃｍの紫外線を照射して硬化させ８μｍの下地層（白色層）を繰り返し２層、トータルで１６μｍの厚みで形成した。スクリーンは３００本／インチメッシュ、糸径３１μｍ、オープニング３８μｍのテトロン製スクリーンを用いた。
【０１７５】
次に、下地層上にインク受容層を形成するため以下の工程を経た。
【０１７６】
−インク受容層用塗布液の調製−
下記組成中の（１）気相法シリカ微粒子、（２）イオン交換水を混合し、高速回転式コロイドミル（クレアミックス、エム・テクニック（株）製）を用いて、回転数１００００ｒｐｍで２０分間分散させた。その後、その水分散物に、（３）ポリオキシエチレンラウリルエーテル、（４）ポリビニルアルコール９％水溶液、及び（５）ジエチレングリコールモノブチルエーテルから構成される第１の溶液と、（６）硼酸、（７）媒染剤、及び（８）イオン交換水からなる第２の溶液と、をそれぞれ添加し、更に上記と同一条件で再分散を行い、インク受容層用塗布液Ａを調製した。
シリカ微粒子と水溶性樹脂との質量比（ＰＢ比／（１）：（４））は、３．５：１であり、インク受容層用塗布液ＡのｐＨは３．４であり、酸性を示した。
【０１７７】
〔インク受容層用塗布液Ａの組成〕
（１）気相法シリカ微粒子（無機顔料微粒子） １０．０部
（平均一次粒子径７ｎｍ；アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）
（２）イオン交換水 ５５．２部
［第１の溶液］
（３）ポリオキシエチレンラウリルエーテル（界面活性剤） ３．５部
（エマルゲン１０９Ｐ（１０％）、花王（株）製、ＨＬＢ値１３．６）
（４）ポリビニルアルコール９％水溶液（水溶性樹脂） ３１．７部
（ＰＶＡ４２０、（株）クラレ製、鹸化度８１．８％、重合度２，０００）
（５）ジエチレングリコールモノブチルエーテル ０．５部
（一般式（１）で表される化合物）
［第２の溶液］
（６）硼酸（６％；架橋剤） １０．４部
（７）媒染剤（ＰＡＳ−Ｆ５０００；２０％水溶液、日東紡（株）製） ２．５部
（８）イオン交換水 ５．３部
【０１７８】
−インク受容層の形成−
上記情報媒体の下地層の面にコロナ放電処理を行った後、上記から得たインク受容層用塗布液Ａを、エクストルージョンダイコータを用いて、下地層上に塗布した。その後、低温低湿庫にて５℃、１０％ＲＨ環境で、表面の塗布液の流動性が抑えられるまで乾燥させた。塗布層は、この期間恒率乾燥速度を示した。その直後、熱風乾燥機にて、２０℃、２０％ＲＨの環境（風速４ｍ／ｓｅｃ）で１０分間乾燥させた。これにより、乾燥膜厚３５μｍのインク受容層が設けられた情報媒体を作製した。
【０１７９】
当該情報媒体について、その外観を目視にて観察したところ、端部への液垂れは見られなかった。また、マイクロメータで塗布前後の厚みを比較することにより、プリンタブル層の膜厚のばらつきの状態を調べたところ、ほぼ均一であった。なお、スクリーン印刷により下地層を形成し、その後、外周側および内周側に凸部を設けても、上記同様に良好な結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１８０】
【図１】プリンタブル層を形成するための方法を説明するための図であり、（Ａ）及び（Ｃ）は凸部を基板上に設けた状態を示し、（Ｂ）はインク受容層を形成した状態を示す。
【図２】プリンタブル層を形成するための他の方法を説明するための図である。
【図３】プリンタブル層を形成するための他の方法を説明するための図であり、（Ａ）は凸部を基板上に設ける前の状態を示し、（Ｂ）は凸部を基板上に設けた状態を示す。
【符号の説明】
【０１８１】
１０・・・凸部
１４・・・インク受容層
１２・・・下地層
１６・・・プリンタブル層
２０・・・基板
１００・・・枠
【技術分野】
【０００１】
本発明は、文字や写真などを印刷することができるプリンタブル層を有するディスク状情報媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
広く市場に受け入れられている情報媒体の規格として、ＣＤ（コンパクトディスク）とＤＶＤ（デジタルバーサタイルディスク）とがある。ＣＤとしては、読み出し専用のＣＤ−ＲＯＭ、１回限り情報の記録が可能な追記型のＣＤ−Ｒ、何回でも情報の記録が書き換えられる書き換え可能型のＣＤ−ＲＷがある。ＣＤ−ＲＯＭは、例えば、直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの透明基板に１．６μｍのトラックピッチでピット列が形成され、約６５０Ｍバイトの記録容量を有しており、線速度を１．２〜１．４ｍ／ｓで一定とし波長７７０〜７９０ｎｍのレーザ光を照射して情報を再生する。
【０００３】
一方、ＤＶＤもＣＤの場合と同様に、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷがある。ＤＶＤ−ＲＯＭは記録密度がＣＤの約６〜８倍で、構成としては厚さ０．６ｍｍ程度の２枚の基板を貼り合わせた構成等があり、０．７４μｍのトラックピッチでピットが形成され、線速度を３．５ｍ／ｓ程度で一定とし波長６３５〜６５０ｎｍのレーザ光を照射して情報を再生する。
【０００４】
近年、このようなＣＤやＤＶＤにおいて、情報の再生面とは反対側の面（レーベル面）に、インクジェットプリンターで画像の印画ができるようにプリンタブル層が形成された情報媒体が開発されている（例えば、特許文献１参照）。このような情報媒体のプリンタブル層としては、紫外線硬化樹脂が一般に使用されている。
【０００５】
一方、ディスクの中心より半径方向１１ｍｍからディスクの外周端より２ｍｍまでの領域に、当該プリンタブル層（特に、インク受容層）を塗布により形成しようとする場合、その塗布方法としては、エクストルージョンダイコータ法やカーテン塗布法等が知られている。この塗布法に使用する塗布液の粘度は５ＣＰ〜５００ＣＰと低いため、特に光ディスクの外周端面に塗布液の一部がだれて膜厚が薄くなり、均一な厚みの塗布膜が得られないという問題が生じてしまう。また、外周端面に液垂れした塗布液が、ディスクの裏側に回りこみディスクを汚してしまい、不良を発生してしまう問題も生じてしまう。
【特許文献１】特開２００２−２４５６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前述の従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、レーベル面にインク受容層を形成してディスク状情報媒体を作製する際において、インク受容層用塗布液の塗布時または塗布後の乾燥時に、インク受容層用塗布液がディスク端面に液垂れすることを防止し、塗布膜の厚みを均一とすることが可能なディスク状情報媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者らは、下記本発明に想到し当該課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は、基板上に、下地層とインク受容層とを少なくとも含むプリンタブル層を有するディスク状情報媒体の製造方法であって、前記基板の外周端部から前記インク受容層の外周端部までの外周領域に、液拡がり防止処理を施した後、前記インク受容層を形成するためのインク受容層用塗布液を前記下地層上に塗布してプリンタブル層を形成するプリンタブル層形成工程を含むことを特徴とするディスク状情報媒体の製造方法である。
【０００８】
本発明には、下記第１〜第３の態様のうちいずれか１以上の態様を適用することが好ましい。
（１）第１の態様は、前記プリンタブル層形成工程において、前記基板の内周端部から前記インク受容層の内周端部までの内周領域にも、前記液拡がり防止処理を施し、前記インク受容層用塗布液を前記下地層上に塗布する態様である。
（２）第２の態様は、前記液拡がり防止処理が、前記基板に凸部を形成する処理である態様である。
（３）第３の態様は、前記液拡がり防止処理が凸部を形成する処理である場合に、その凸部の高さと前記インク受容層の厚みとが略同一である態様である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、レーベル面にインク受容層を形成してディスク状情報媒体を作製する際において、インク受容層用塗布液の塗布時または塗布後の乾燥時に、インク受容層用塗布液がディスク端面に液垂れすることを防止し、塗布膜の厚みを均一とすることが可能なディスク状情報媒体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明のディスク状情報媒体（以下、単に「情報媒体」ということがある）の製造方法により製造される情報媒体としては、磁気記録媒体といった磁気媒体、光情報記録媒体といった光媒体、半導体媒体などを挙げることができる。特に、光情報記録媒体（光ディスク）が好ましい。形態としては、ディスク状、カートリッジ収納型でもよく、カートリッジ収納型の場合はリムーバブルであることが好ましい。そして、このような情報媒体のレーベル面（主に、ＤＶＤ構成の等の場合は、基板もしくは保護基板にレーベル面が設けられ、ＣＤ構成の等の場合は、保護層にレーベル面が設けられる）にプリンタブル層が形成されている。
【００１１】
光ディスクの場合、ＣＤ、ＤＶＤ、青紫色レーザーで記録再生する光ディスクなど、如何なるものであってもよい。青紫色レーザーで記録する媒体の場合、ＤＶＤのような貼り合わせタイプ（ＨＤ ＤＶＤ）と、１．１ｍｍ基板上に記録層とカバー層とが形成され、カバー層側からレーザー光が入射するタイプ（ブルーレイディスク）とがあるが、いずれであってもよい。また、情報媒体は、ＲＯＭ型でも、書き換え可能型、及び追記型のいずれでもよいが、特に、追記型が好ましい。
【００１２】
プリンタブル層を形成する箇所は、レーザー光が入射する面の反対側が基本であるが、レーザー光が入射する側でも入射エリア以外の領域であればプリンタブル層を形成することができる。
【００１３】
本発明の情報媒体の製造方法は、基板上に、下地層とインク受容層とを少なくとも含むプリンタブル層を形成してディスク状情報媒体の製造する方法である。当該方法について、図面を参照して説明する。
【００１４】
まず、図１（Ａ）に示すように、基板２０のレーベル面側で、その外周端部からインク受容層が形成される際の当該インク受容層の外周端部までの外周領域に、円環状の凸部１０を設ける液拡がり防止処理を施しておく。その後、図１（Ｂ）に示すように、当該凸部１０より内周側に下地層１２を形成する。そして、この下地層１２上に、インク受容層１４を形成するためのインク受容層用塗布液を塗布しプリンタブル層１６を形成（プリンタブル層形成工程）して、情報媒体が製造される。なお、プリンタブル層を形成する面の反対側の基板上には、記録層や光反射層といった層が適宜形成されている（図２および図３の場合も同様）。また、ここで、「液拡がり防止処理」とは、塗布液を塗布してインク受容層を形成する際に、塗布液が基板の外周端面や内周端面にまで拡がることを防止する処理をいう。
【００１５】
インク受容層１４は、インク受容層用塗布液をエクストルージョンダイコータ法やカーテン塗布法等により塗布して形成される。インク受容層用塗布液は、通常の塗布条件では粘度が低い状態にあるが、図１に示すように、液拡がり防止処理を施しておくことで、インク受容層用塗布液の塗布時または塗布後の乾燥時に、インク受容層用塗布液が基板２０の端面（ディスク端面）に液垂れすることを防止することが可能となり、外周方向に液が流動し端面高さが低くなることを防止できる。また、液拡がり防止処理としての凸部が、外周端部側へのインク受容層用塗布液の流れを堰き止める役割を果たし、その結果、外周端部側とそれ以外の部分とのインク受容層の厚みムラを抑制することもできる。
【００１６】
なお、図１に示す態様の場合、図１（ｃ）に示すように、基板上でその外周端部までスクリーン印刷などで下地層１２を形成しておき、下地層１２上で前記外周領域に液拡がり防止処理（凸部１０）を施してもよい。この場合、液拡がり防止処理として、下地層を形成する場合と同様に下地層と同材質を使用して、スクリーン印刷を施して凸部１０を設けるような処理としてもよい。
【００１７】
液拡がり防止処理は、外周領域だけでなく、基板の内周端部からインク受容層の内周端部までの内周領域に設けてもよい。内周領域に設けることで、内周端部側への液垂れも良好に防ぐことが可能となるとともに、外周端部側から内周端部側までの全体にかけて、インク受容層の厚みムラを抑制することもできる。
【００１８】
また、液拡がり防止処理として、基板のレーベル面に直接凸部を設ける処理である場合は、図２に示すような態様となる（図２中、図１と対応する部分には同一の符号が付してある）。すなわち、基板２０の成型時に予め凸部１０が形成されるようにして、基板２０と凸部１０とが連続してなる構成である。この状態で、下地層１２およびインク受容層１４が順次形成される。なお、既述のとおり、いわゆる内周領域にも当該凸部を設けてもよい。
【００１９】
液拡がり防止処理として、図３に示すような処理を施してもよい。すなわち、基板２０のレーベル面に下地層１２を形成した後、基板２０の外周端部からインク受容層１４の外周端部までの外周領域に、液拡がり防止処理としての円環状の枠１００を設ける（図３（Ａ））。そして、図３（Ｂ）に示すようにして、下地層１２上に、インク受容層１４を形成するためのインク受容層用塗布液を塗布しプリンタブル層１６を形成（プリンタブル層形成工程）する。その後、枠１００を取り外して、情報媒体が製造される。なお、図３中、図１と対応する部分には同一の符号が付してある。
【００２０】
当該枠１００を設ける手段を採用する場合、プリンタブル層１６を形成し、この枠１００を取り外す際に、プリンタブル層１６の端面を傷つける可能性がある。そこで、このプリンタブル層１６の端面と接触する枠１００の接触面には離形処理を施しておくことが好ましい。なお、既述のとおり、いわゆる内周領域にも当該枠を設けてもよい。
【００２１】
液拡がり防止処理が凸部を形成する処理である場合、凸部の高さは必ずしも受容層の高さより高い必要はない。これは、インク受容層を形成するための塗布液が基板の端面にまで広がらなければ、すなわち、凸部上で留まり端面に広がらなければ、液拡がり防止処理の目的が達せられるからである。しかし、実用性を考慮すると、その凸部の高さとインク受容層の厚みとは略同一であることが好ましい。ここで、「略同一」とは、インク受容層の厚みを「Ｘ」とした場合に、凸部の高さが、１．０Ｘ〜１．２Ｘの範囲にあることを意味し、好ましくは１．０Ｘ〜１．１Ｘの範囲である。凸部の好ましい具体的な高さは１０〜１２０μｍであり、より好ましくは１０〜４０μｍであり、さらに好ましくは２５〜３２μｍである。また、最大幅（半径方向の最大長さ）は０．１〜０．５ｍｍであることが好ましく、０．２〜０．４ｍｍであることがより好ましい。なお、凸部の断面形状は、図１〜図３に示すような四角形状に限定されず、三角形状や球形面状等種々の形状を適用することができる。また、図１〜図３は理解を容易にするため、誇張して表現されている。
【００２２】
基板に形成される凸部は、基板のレーベル面に直接、または、基板上に形成した下地層上にＵＶ硬化樹脂（例えば、下地層の形成に使用するＵＶ硬化樹脂）を用いてスクリーン印刷して形成することができる。また、射出成型用の基板成型金型の所定の箇所に溝を設け、射出成型により形成することができる。さらに、図３に示されるような枠は、公知の成型法で作製することができる。
【００２３】
本発明の製造方法で製造される情報媒体のプリンタブル層は、上述の通りにして形成することができる。以下、プリンタブル層の構成を説明しながら、プリンタブル層の形成方法についてより詳細に説明し、さらに、情報媒体に設けられる記録層等についても説明する。
【００２４】
本発明の製造方法で形成されるプリンタブル層は、少なくとも下地層とインク受容層とをを有する。以下、まず、プリンタブル層の各層について説明する。
【００２５】
＜下地層＞
下地層は、インク受容層と基板との間に形成する。下地層は、不透明性の高いため材料を使用することで紙に近い拡散性を示し、画質が向上する。特に、白色の下地層を設けると色再現性を良好とすることができる。下地層を光沢性の高いものにすると、光沢写真のように仕上がり、マット性の高いものとすると、マット写真のように仕上がる。下地層は、様々な色を用いると、様々な印象の画像を形成することができる。また、蛍光性の下地層の場合、蛍光性の画質とすることができる。このような下地層の形成手法は問わないが、生産性の観点から、放射線硬化樹脂をスクリーン印刷により形成することが好ましい。放射線硬化樹脂は、紫外線、電子ビーム、Ｘ線、γ線、赤外線等の電磁波によって硬化する樹脂であり、放射線としては、中でも、紫外線、電子ビームが好ましい。
【００２６】
下地層の層厚としては、０．１〜１００μｍが好ましく、１〜５０μｍがより好ましく、３〜２０μｍが最も好ましい。
【００２７】
＜インク受容層＞
インク受容層は、微粒子と、結合剤と、架橋剤と、を少なくとも有していることが好ましく、更に、必要に応じて、後述するような一般式（１）で表される化合物及び／または一般式（２）で表される化合物、各種添加剤などを含んでいてもよい。まず、上記材料について説明する。
【００２８】
［微粒子］
微粒子としては、気相法シリカ、擬ベーマイト、酸化アルミニウム、二酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、ゼオライト、カオリナイト、ハロイサイト、雲母、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、ベーマイト等が挙げられ、中でも、気相法シリカ、擬ベーマイト、酸化アルミニウムが好ましい。
【００２９】
（気相法シリカ）
シリカ微粒子は、通常その製造法により湿式法粒子と乾式法（気相法）粒子とに大別される。上記湿式法では、ケイ酸塩の酸分解により活性シリカを生成し、これを適度に重合させ凝集沈降させて含水シリカを得る方法が主流である。一方、気相法は、ハロゲン化珪素の高温気相加水分解による方法（火炎加水分解法）、ケイ砂とコークスとを電気炉中でアークによって加熱還元気化し、これを空気で酸化する方法（アーク法）によって無水シリカを得る方法が主流であり、「気相法シリカ」とは該気相法によって得られた無水シリカ微粒子を意味する。
【００３０】
上記気相法シリカは、上記含水シリカと表面のシラノール基の密度、空孔の有無等に相違があり、異なった性質を示すが、空隙率が高い三次元構造を形成するのに適している。この理由は明らかではないが、含水シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が５〜８個／ｎｍ2で多く、シリカ微粒子が密に凝集（アグリゲート）し易く、一方、気相法シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が２〜３個／ｎｍ2であり少ないことから疎な軟凝集（フロキュレート）となり、その結果、空隙率が高い構造になるものと推定される。
【００３１】
上記気相法シリカは、比表面積が特に大きいので、インクの吸収性、保持の効率が高く、また、屈折率が低いので、適切な粒子径まで分散を行えばインク受容層に透明性を付与でき、高い色濃度と良好な発色性が得られるという特徴がある。
【００３２】
上記気相法シリカの平均一次粒子径としては３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましく、３〜１０ｎｍが最も好ましい。上記気相法シリカは、シラノール基による水素結合によって粒子同士が付着しやすいため、平均一次粒子径が３０ｎｍ以下の場合に空隙率の大きい構造を形成することができ、インク吸収特性を効果的に向上させることができる。
【００３３】
また、気相法シリカのインク受容層における固形分含有量は、４０質量％以上が好ましく、より好ましくは５０質量％以上である。このように気相法シリカの含有量が５０質量％以上である場合、更に良好な多孔質構造を形成することが可能となり、十分なインキ吸収性を備えたインク受容層が得られるため好ましい。ここで、気相法シリカのインク受容層における固形分含有量とは、インク受容層を構成する組成分中の水以外の成分に基づき算出される含有量である。
【００３４】
また、含水シリカ微粒子、コロイダルシリカ、二酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、ゼオライト、カオリナイト、ハロイサイト、雲母、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、ベーマイト、擬ベーマイト等の他の無機顔料微粒子を併用してもよい。該他の無機顔料微粒子と上記気相法シリカとを併用する場合、全無機顔料微粒子中、気相法シリカの含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上が更に好ましい。
【００３５】
（擬ベーマイト）
擬ベーマイトは、Ａｌ2Ｏ3・ｘＨ2Ｏ（１＜ｘ＜２）で表され、一般にその結晶は（０２０）面が巨大な平面を形成する層状の化合物であり、その格子定数ｄは０．６７ｎｍである。ここで、擬ベーマイトは、過剰な水を（０２０）面の層間に含んだ構造を有するものである。擬ベーマイトは、インクを良く吸収し定着し、インクの吸収性及び経時ニジミを向上させることができる。また、容易に平滑な層が得られることから、ゾル状の擬ベーマイト（擬ベーマイトゾル）を原料として用いることが好ましい。
【００３６】
擬ベーマイトの一次平均粒子径は５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることが更により好ましく、３〜２０ｎｍの範囲内であることが特に好ましい。擬ベーマイトの平均一次粒子径が上記範囲内にあると、空隙率の大きい構造を形成することができ、更にインク受容層のインク吸収性を向上させることができる。なお、前記平均一次粒子径は、例えば、電子顕微鏡を用いて測定することができる。
また、擬ベーマイトのＢＥＴ比表面積としては、４０〜５００ｍ2／ｇが好ましく、２００〜５００ｍ2／ｇが更に好ましい。
【００３７】
更に、上記擬ベーマイトのアスペクト比としては、３〜１０が好ましい。擬ベーマイトの細孔構造については、その平均細孔半径は１〜３０ｎｍが好ましく、２〜１５ｎｍがより好ましい。また、その細孔容積は０．３〜２．０ｍｌ／ｇ（ｃｃ／ｇ）が好ましく、０．５〜１．５ｍｌ／ｇ（ｃｃ／ｇ）がより好ましい。ここで、上記細孔半径及び細孔容積の測定は、窒素吸脱着法により測定されるもので、例えば、ガス吸脱着アナライザー（例えば、コールター社製の商品名「オムニソープ３６９」）により測定できる。
【００３８】
また、擬ベーマイトのインク受容層における固形分含有量は、５０質量％以上が好ましく、より好ましくは６０質量％以上である。このように擬ベーマイトの含有量が６０質量％以上である場合、更に良好な多孔質構造を形成することが可能となり、十分なインキ吸収性を備えたインク受容層が得られるため好ましい。ここで、擬ベーマイトのインク受容層における固形分含有量とは、インク受容層を構成する組成分中の水以外の成分に基づき算出される含有量である。
【００３９】
また、擬ベーマイトは、水系溶媒に分散して用いるのが好ましい。分散して用いる場合の分散液中における擬ベーマイトの含有量としては、６０質量％以下が好ましく、５〜６０質量％がより好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。擬ベーマイトは、上記範囲で特に効果的に分散させることができ、例えば、分散時において擬ベーマイト同士の粒子間距離が短くなること等に起因する増粘やゲル化等を効果的に抑制することができる。
【００４０】
擬ベーマイト（Ａ）と、気相法シリカ（Ｓ）と、を併用する場合、その含有比（Ｓ：Ａ）としては、９５：５〜５：９５となる範囲が好ましく、８０：２０〜２０：８０の範囲がより好ましく、７０：３０〜３０：７０の範囲が特に好ましい。前記含有比の範囲で気相法シリカと擬ベーマイトを併用すると、複数色の全てのインクの経時ニジミを色相に依存することなく効果的に防止することができ、多色に画像形成する場合でも高解像度で鮮やかな画像を形成し、保持することができる。
【００４１】
（酸化アルミニウム）
酸化アルミニウムとしては、例えば、α−アルミナ、δ−アルミナ、θ−アルミナ、χ−アルミナ等の無水アルミナや、活性酸化アルミニウムが挙げられる。
これらの中でも好ましいアルミナ微粒子は、δ−アルミナであり、また、製造方法による観点からは、気相法により製造されるアルミナ微粒子、即ち、酸水素反応の際に発生する水の存在の下で、また、そのような反応に特徴的な温度において、気体状の金属塩化物を加水分解することにより得られる気相法アルミナ微粒子が、比表面積が大きいため好ましい。
【００４２】
上記酸化アルミニウムの形態としては、例えば、所定の粒子径を有する微細な粒子、微粒子、微細粒子、粉体、微粉、微細粉等を採用することができ、その平均一次粒子径は、２００ｎｍ以下であることが好ましく、５〜１００ｎｍであるのが更に好ましく、特に５〜２０ｎｍであることが好ましい。上記アルミナ微粒子の平均一次粒径が上記範囲内にあると、空隙率の大きい構造を形成することができ、更にインク受容層のインク吸収性を向上させることができる。なお、上記平均一次粒子径は、例えば、電子顕微鏡を用いて測定することができる。
【００４３】
また、酸化アルミニウムは、分散液に分散して用いるのが好ましい。上記分散液中の酸化アルミニウムの含有量は、６０質量％以下が好ましく、５〜６０質量％が更に好ましく、１０〜５０質量％が特に好ましい。酸化アルミニウムの含有量が上記範囲内にあると、酸化アルミニウムをより効果的に分散させることができる。上記分散液における酸化アルミニウムの含有量が多くても６０質量％以下であると、例えば、分散液中において酸化アルミニウム微粒子同士の粒子間距離が短くなること等に起因する増粘やゲル化等を効果的に抑制することができる。
【００４４】
また、上記分散液には凝集防止剤として、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、第４級アンモニウム塩基を有するカチオンポリマーを添加してもよい。上記凝集防止剤の添加量としては、酸化アルミニウム微粒子に対して、１〜１０質量％が好ましく、１〜５質量％が更に好ましい。該添加量が、１質量％未満では分散性に劣る場合があり、１０質量％を超えるとインク受容層に印画した際、色濃度が低下することがあるため好ましくない。
【００４５】
上記酸化アルミニウムのインク受容層における固形分含有量は、５０質量％以上が好ましく、より好ましくは６０質量％以上である。上記含有量が６０質量％を超えていると、更に良好な多孔質構造を形成することが可能となり、十分なインク吸収性を備えたインク受容層が得られるので好ましい。ここで、上記酸化アルミニウムのインク受容層における固形分含有量とは、インク受容層を構成する組成物中の水以外の成分に基づき算出される含有量である。
【００４６】
また、酸化アルミニウムとともに、他の微粒子と併用してもよい。該他の微粒子と上記酸化アルミニウムとを併用する場合、全微粒子中の酸化アルミニウムの含有量は、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上が更に好ましい。
上記他の微粒子としては、有機微粒子、無機微粒子のいずれでもよいが、インク吸収性及び画像安定性の点から、無機微粒子が好ましい。
【００４７】
［結合剤］
上述の通り、インク受容層は結合剤を含有することが好ましい。当該結合剤としては水溶性樹脂が好ましい。
【００４８】
上記水溶性樹脂としては、例えば、親水性構造単位として水酸基を有する樹脂であるポリビニルアルコール系樹脂〔例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、アセトアセチル変性ＰＶＡ、カチオン変性ＰＶＡ、アニオン変性ＰＶＡ、シラノール変性ＰＶＡ、ポリビニルアセタール等〕、セルロース系樹脂〔メチルセルロース（ＭＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等〕、キチン類、キトサン類、デンプン、エーテル結合を有する樹脂〔例えば、ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、ポリプロピレンオキサイド（ＰＰＯ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル（ＰＶＥ）等〕、カルバモイル基を有する樹脂〔例えば、ポリアクリルアミド（ＰＡＡＭ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリアクリル酸ヒドラジド等〕などが挙げられる。
また、水溶性樹脂として、解離性基としてカルボキシ基を有するポリアクリル酸塩、マレイン酸樹脂、アルギン酸塩、ゼラチン類等も利用することができる。
【００４９】
以上の中でも、特に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂が好ましい。該ポリビニルアルコール系樹脂の例としては、特公平４−５２７８６号、特公平５−６７４３２号、特公平７−２９４７９号、特許第２，５３７，８２７号、特公平７−５７５５３号、特許第２，５０２，９９８号、特許第３，０５３，２３１号、特開昭６３−１７６１７３号、特許第２６０４３６７号、特開平７−２７６７８７号、特開平９−２０７４２５号、特開平１１−５８９４１号、特開２０００−１３５８５８号、特開２００１−２０５９２４号、特開２００１−２８７４４４号、特開昭６２−２７８０８０号、特開平９−３９３７３号、特許第２７５０４３３号、特開２０００−１５８８０１号、特開２００１−２１３０４５号、特開２００１−３２８３４５号、特開平８−３２４１０５号、特開平１１−３４８４１７号等に記載されたもの等を使用できる。また、ポリビニルアルコール系樹脂以外の水溶性樹脂の例としては、特開平１１−１６５４６１号公報の段落番号［００１１］〜［００１４］に記載の化合物等も挙げられる。
【００５０】
これら結合剤としての水溶性樹脂は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用して用いてもよい。本発明において、結合剤としての上記水溶性樹脂の含有量としては、インク受容層の全固形分質量に対して、９〜４０質量％が好ましく、１２〜３３質量％がより好ましい。
【００５１】
また、ポリビニルアルコール系樹脂は、前記その他の水溶性樹脂を併用してもよい。このようにポリビニルアルコール系樹脂とその他の水溶性樹脂とを併用する場合、全水溶性樹脂中、ポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。
【００５２】
上記ポリビニルアルコール系樹脂は、その構造単位に水酸基を有するが、この水酸基とシリカ微粒子表面のシラノール基とが水素結合を形成して、シリカ微粒子の二次粒子を鎖単位とする三次元網目構造を形成しやすくする。上記三次元網目構造の形成によって、空隙率の高い多孔質構造のインク受容層を形成しうると考えられる。インクジェット記録において、上述のようにして得た多孔質のインク受容層は、毛細管現象によって急速にインクを吸収し、インクニジミのない真円性の良好なドットを形成することができる。
【００５３】
また、透明性の観点から、鹸化度７０〜９９％のポリビニルアルコール系樹脂が更に好ましく、鹸化度８０〜９９％のポリビニルアルコール系樹脂が特に好ましい。
【００５４】
（微粒子と水溶性樹脂（結合剤）との含有比）
インク受容層内において、微粒子（ｘ）と、結合剤である水溶性樹脂（ｙ）と、の質量含有比〔ＰＢ比（ｘ／ｙ）〕は、該インク受容層の膜構造及び膜強度に大きな影響を与える。即ち、該質量含有比〔ＰＢ比〕が大きくなると、空隙率や細孔容積、表面積（単位質量当り）が大きくなるが、密度や強度は低下する傾向にある。
【００５５】
インク受容層では、上記質量含有比〔ＰＢ比（ｘ／ｙ）〕としては、該ＰＢ比が大き過ぎることに起因する、膜強度の低下や乾燥時のひび割れを防止し、かつ、該ＰＢ比が小さ過ぎることによって、該空隙が樹脂によって塞がれ易くなり、空隙率が減少することでインク吸収性が低下するのを防止する観点から、１．５／１〜１０／１が好ましい。
【００５６】
本発明の情報媒体がインクジェット記録プリンターの搬送系を通過する場合、該情報媒体に応力が加わることがあるので、インク受容層は十分な膜強度を有していることが好ましい。このようなことを考慮すると、上記ＰＢ比（ｘ／ｙ）としては４／１以下がより好ましく、一方、インクジェット記録プリンターで、高速インク吸収性を確保する観点からは、３／１以上であることがより好ましい。
【００５７】
［架橋剤］
インク受容層は、前記結合剤を架橋し得る架橋剤を含有することが好ましい。このように架橋剤を含有させることにより、インク受容層を、架橋剤と結合剤との架橋反応によって硬化された多孔質層とすることができる。
【００５８】
前記結合剤である水溶性樹脂として好適なポリビニルアルコールの架橋には、ホウ素化合物が好ましい。該ホウ素化合物としては、例えば、硼砂、硼酸、硼酸塩（例えば、オルト硼酸塩、ＩｎＢＯ3、ＳｃＢＯ3、ＹＢＯ3、ＬａＢＯ3、Ｍｇ3（ＢＯ3）2、Ｃｏ3（ＢＯ3）2、二硼酸塩（例えば、Ｍｇ2Ｂ2Ｏ5、Ｃｏ2Ｂ2Ｏ5）、メタ硼酸塩（例えば、ＬｉＢＯ2、Ｃａ（ＢＯ2）2、ＮａＢＯ2、ＫＢＯ2）、四硼酸塩（例えば、Ｎａ2Ｂ4Ｏ7・１０Ｈ2Ｏ）、五硼酸塩（例えば、ＫＢ5Ｏ8・４Ｈ2Ｏ、Ｃａ2Ｂ6Ｏ11・７Ｈ2Ｏ、ＣｓＢ5Ｏ5）等を挙げることができる。中でも、速やかに架橋反応を起こすことができる点で、硼砂、硼酸、硼酸塩が好ましく、特に硼酸が好ましい。
【００５９】
また、結合剤である水溶性樹脂の架橋剤として、上記のホウ素化合物以外の化合物を使用することもできる。例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、スクシンアルデヒド、グルタルアルデヒド、ジアルデヒドスターチ、植物ガムのジアルデヒド誘導体等のアルデヒド系化合物；ジアセチル、１，２−シクロペンタンジオン、３−ヘキセン−２，５−ジオン等のケトン系化合物；ビス（２−クロロエチル）尿素、ビス（２−クロロエチル）スルホン、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物；ジビニルスルホン、１，３−ビス（ビニルスルホニル）−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセタミド）、ジビニルケトン、１，３−ビス（アクリロイル）尿素、１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン等の活性ビニル化合物；ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のＮ−メチロール化合物；トリメチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン、メラミン、ベンゾグアナミン、メラミン樹脂等のメラミン化合物；エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジグリセリンポリグリシジルエーテル、スピログリコールジグリシジルエーテル、フェノール樹脂のポリグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；
【００６０】
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシナネート等のイソシアネート系化合物；米国特許第３，０１７，２８０号、同第２，９８３，６１１号等に記載のアジリジン系化合物；米国特許第３，１００，７０４号等に記載のカルボジイミド系化合物；１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物；ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物；２，３−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物；乳酸チタン、硫酸アルミ、クロム明ばん、カリ明ばん、酢酸ジルコニル、酢酸クロム等の金属含有化合物；テトラエチレンペンタミン等のポリアミン化合物；アジピン酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物；オキサゾリン基を２個以上含有する低分子又はポリマー等：米国特許第２，７２５，２９４号、米国特許第２，７２５，２９５号、米国特許第２，７２６，１６２号、米国特許第３，８３４，９０２号等に記載の多価酸の無水物、酸クロリド、ビススルホナート化合物；米国特許第３，５４２，５５８号、米国特許第３，２５１，９７２号等に記載の活性エステル化合物等が挙げられる。
上記の架橋剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組合わせて用いることもできる。
【００６１】
上記ポリビニルアルコールにゼラチンを併用する場合には、ゼラチンの硬膜剤として知られている、下記化合物を架橋剤としてホウ素化合物と併用することができる。
例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタールアルデヒド等のアルデヒド系化合物；ジアセチル、シクロペンタンジオン等のケトン系化合物；ビス（２−クロロエチル尿素）−２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジクロロ−６−Ｓ−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物；ジビニルスルホン酸、１，３−ビニルスルホニル−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセタミド）、１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン等の活性ビニル化合物；ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のＮ−メチロール化合物；
【００６２】
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート系化合物；米国特許第３，０１７，２８０号明細書、同第２，９８３，６１１号明細書に記載のアジリジン系化合物；米国特許第３，１００，７０４号明細書に記載のカルボキシイミド系化合物；グリセロールトリグリシジルエーテル等のエポキシ系化合物；１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物；ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物；２，３−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物；クロム明ばん、カリ明ばん、硫酸ジルコニウム、酢酸クロム等である。この場合、上記ホウ素化合物と他の架橋剤とを併用する場合、全架橋剤中ホウ素化合物の含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上が更に好ましい。
なお、上記ホウ素化合物は、一種単独でも、２種以上を組合わせてもよい。
【００６３】
上記架橋剤の付与は、少なくとも上記微粒子及び上記結合剤を含む、多孔質性のインク受容層を形成する塗布液（インク受容層用塗布液）が下地層上に塗布されるのと同時に、或いはインク受容層用塗布液を塗布して形成された塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に行われることが好ましい。この操作により、塗布層が乾燥する間に発生するひび割れの発生を効果的に防止することができる。
【００６４】
即ち、上記塗布液が塗布されたと同時に、或いは塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に、架橋剤を含む溶液を塗布層に付与することにより、架橋剤が塗布層内に浸透し、塗布層内の結合剤と速やかに反応し、結合剤をゲル化（硬化）させることにより、塗布層の膜強度を即時に大幅に向上させる。
【００６５】
また、本発明においては上記微粒子と任意の分散剤とからなる水分散物に、上記結合剤と後述する一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物とを含む溶液（第１の溶液）を添加し再分散して得られる塗布液を、下地層上に塗布して、該塗布と同時に、又は、該塗布によって形成される塗布層の乾燥途中であって、該塗布層が減率乾燥速度を示す前に、上記塗布層に架橋剤を含む溶液（第２の溶液）を付与してインク受容層を形成する方法も好適に用いることができる。当該方法を用いる場合には、塗布液に添加する第１の溶液、及び、後に付与する第２の溶液の両者に架橋剤を添加することが好ましい。
【００６６】
上記架橋剤を付与する際、その溶液は架橋剤を水及び／又は有機溶剤に溶解して調製される。上記架橋剤溶液中の架橋剤の濃度としては、架橋剤溶液の質量に対して、０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜８質量％が特に好ましい。架橋剤溶液を構成する溶媒としては、一般に水が使用され、該水と混和性を有するの有機溶媒を含む水系混合溶媒であってもよい。
【００６７】
上記有機溶剤としては、架橋剤が溶解するものであれば任意に使用することができ、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、グリセリン等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル；トルエン等の芳香族溶剤；テトラヒドロフラン等のエーテル、及びジクロロメタン等のハロゲン化炭素系溶剤等を挙げることができる。
【００６８】
［媒染剤］
本発明においては、形成画像の耐水性、耐経時ニジミの更なる向上を図るために、インク受容層に媒染剤が含有されることが好ましい。
上記媒染剤としてはカチオン性のポリマー（カチオン性媒染剤）が好ましく、該媒染剤をインク受容層中に存在させることにより、アニオン性染料を色材として有する液状インクとの間で相互作用し色材を安定化し、耐水性や経時ニジミを向上させることができる。
【００６９】
これを直接、インク受容層を形成するための塗布液（インク受容層用塗布液）に添加すると、アニオン電荷を有する気相法シリカとの間で凝集を生ずる懸念があるが、独立の別の溶液として調製し塗布する方法を利用すれば、無機顔料微粒子の凝集を懸念する必要はない。よって、本発明においては、上記気相法シリカとは別の溶液（例えば、架橋剤溶液）に含有して用いることが好ましい。
【００７０】
上記カチオン性媒染剤としては、カチオン性基として、第１級〜第３級アミノ基、又は第４級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が好適に用いられるが、また、カチオン性の非ポリマー媒染剤も使用することができる。
【００７１】
上記ポリマー媒染剤としては、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、又は第４級アンモニウム塩基を有する単量体（媒染モノマー）の単独重合体や、該媒染モノマーと他のモノマー（以下、「非媒染モノマー」という。）との共重合体又は縮重合体として得られるものが好ましい。また、これらのポリマー媒染剤は、水溶性ポリマーや、水分散性のラテックス粒子の形態で使用できる。
【００７２】
上記単量体（媒染モノマー）としては、例えば、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−オクチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（４−メチル）ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−フェニル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、
【００７３】
トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（３−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムアセテート、
【００７４】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミドのメチルクロライド、エチルクロライド、メチルブロマイド、エチルブロマイド、メチルアイオダイド若しくはエチルアイオダイドによる４級化物、又はそれらのアニオンを置換したスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、酢酸塩若しくはアルキルカルボン酸塩等が挙げられる。
【００７５】
具体的には、例えば、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、
【００７６】
Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムブロマイド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムブロマイド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムスルホネート、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムアセテート等を挙げることができる。
その他、共重合可能なモノマーとして、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール等も挙げられる。
【００７７】
上記非媒染モノマーとは、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、又は第４級アンモニウム塩基等の塩基性或いはカチオン性部分を含まず、インクジェットインク中の染料と相互作用を示さない、或いは相互作用が実質的に小さいモノマーをいう。
【００７８】
上記非媒染モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等の（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル；（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸アリールエステル；（メタ）アクリル酸ベンジル等のアラルキルエステル；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル等のビニルエステル類；酢酸アリル等のアリルエステル類；塩化ビニリデン、塩化ビニル等のハロゲン含有単量体；（メタ）アクリロニトリル等のシアン化ビニル；エチレン、プロピレン等のオレフィン類；等が挙げられる。
【００７９】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル部位の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル等が挙げられる。中でも、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレートが好ましい。 上記非媒染モノマーも、一種単独で、又は二種以上組合せて使用できる。
【００８０】
更に、ポリマー媒染剤として、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ポリメタクリロイルオキシエチル−β−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライド、ポリエチレニミン、ポリアリルアミン、ポリアリルアミン塩酸塩、ポリアミド−ポリアミン樹脂、カチオン化でんぷん、ジシアンジアミドホルマリン縮合物、ジメチル−２−ヒドロキシプロピルアンモニウム塩重合物、ポリアミジン、ポリビニルアミン等も好ましいものとして挙げることができる。
【００８１】
上記ポリマー媒染剤の分子量としては、重量平均分子量で１，０００〜２００，０００が好ましく、重量平均分子量で３，０００〜６０，０００が更に好ましい。上記分子量が１，０００〜２００，０００の範囲にあると、耐水性が不十分となることがなく、また、粘度が高くなりすぎてハンドリング適正が低下するのを防止できる。
【００８２】
上記カチオン性の非ポリマー媒染剤としては、例えば、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム、塩化マグネシウム等の水溶性金属塩が好ましい。
【００８３】
［一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物］
インク受容層には、更に、下記一般式（１）で表される化合物及び／又は下記一般式（２）で表される化合物を含むことが好ましい。下記一般式（１）で表される化合物及び下記一般式（２）で表される化合物は、高沸点溶剤である。
【００８４】
ＲＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＨ ・・・一般式（１）
（一般式（１）中、Ｒは、炭素数１〜１２の飽和炭化水素基、炭素数１〜１２の不飽和炭化水素基、フェニル基、又はアシル基を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。）
【００８５】
ＲＯ（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）nＨ ・・・一般式（２）
（一般式（２）中、Ｒは、炭素数１〜１２の飽和炭化水素基、炭素数１〜１２の不飽和炭化水素基、フェニル基、又はアシル基を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。）
【００８６】
上記一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物をインク受容層に含むことで、３次元網目構造（多孔質構造）形成時のインク受容層の乾燥収縮を抑制することができる。これは、一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物が、気相法シリカ表面のシラノール基とポリビニルアルコールの水酸基との水素結合を適度に阻害するためにインク受容層の乾燥収縮が緩和されるためと推測される。これにより３次元網目構造形成時におけるインク受容層の膜割れを防止でき、情報媒体の生産歩留まりや品質を向上させることができる。
【００８７】
上記一般式（１）及び一般式（２）において、Ｒは炭素数１〜１２の飽和炭化水素基、炭素数１〜１２の不飽和炭化水素基、フェニル基、又はアシル基を表し、炭素数１〜４の飽和炭化水素基が好ましい。
上記飽和炭化水素基の炭素数は１〜１２であり、好ましくは１〜８であり、更に好ましくは１〜４ある。該飽和炭化水素基としては、アルキル基、脂環族炭化水素基等が挙げられる。該飽和炭化水素基は置換基によって置換されていてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基などが挙げられ、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。
【００８８】
上記不飽和炭化水素基の炭素数は１〜１２であり、好ましくは１〜８であり、更に好ましくは１〜４である。該不飽和炭化水素基としては、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。該不飽和炭化水素基は置換基によって置換されていてもよい。具体的には、ビニル基、アリル基、エチニル基、１，３−ブタジエニル基、２−プロピニル基等が挙げられ、アリル基が好ましい。
【００８９】
上記アシル基としては、炭素数１〜８のアシル基が好ましく、１〜４のアシル基が更に好ましい。該アシル基は置換基によって置換されていてもよい。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基が挙げられ、ブチリル基が好ましい。
【００９０】
上記一般式（１）及び一般式（２）において、ｎは１〜３の整数を表し、２又は３が好ましい。
【００９１】
一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物としては、水溶性の化合物が好ましい。ここで「水溶性」とは、水に１質量％以上溶解するものをいう。
【００９２】
一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物としては、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノドデシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテルが好ましい。
【００９３】
一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物は、その少なくとも１種をインク受容層に含んでいればよい。従って、一般式（１）で表される化合物又は（２）で表される化合物を単独又は２種以上含んでいてもよいし、一般式（１）で表される化合物と一般式（２）で表される化合物とを併用してもよい。一般式（１）で表される化合物〔ｘ〕及び一般式（２）で表される化合物〔ｙ〕を併用する場合、その混合比（質量比；ｘ：ｙ）については特に限定はないが、好ましくは１００：１〜１００：１００であり、更に好ましくは１００：１０〜１００：５０である。
また、インク受容層中に含まれる一般式（１）で表される化合物及び（２）で表される化合物の総含有量としては、０．１〜５．０ｇ／ｍ2が好ましく、０．２〜３．０ｇ／ｍ2が更に好ましい。
【００９４】
［他の成分］
インク受容層は、必要に応じて、下記成分を含んでいてもよい。色材の劣化を抑制する目的で、各種の紫外線吸収剤、酸化防止剤、一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤を含んでいてもよい。
【００９５】
上記紫外線吸収剤としては、桂皮酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾリルフェノール誘導体等が挙げられる。例えば、α−シアノ−フェニル桂皮酸ブチル、ｏ−ベンゾトリアゾールフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−ｐ−クロロフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−２，４−ジ−ｔ−オクチルフェノール等が挙げられる。ヒンダートフェノール化合物も紫外線吸収剤として使用でき、具体的には少なくとも２位又は６位のうち１ヵ所以上が分岐アルキル基で置換されたフェノール誘導体が好ましい。
【００９６】
また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤等も使用できる。例えば、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第２，７１９，０８６号明細書、同３，７０７，３７５号明細書、同３，７５４，９１９号明細書、同４，２２０，７１１号明細書等に記載されている。
【００９７】
蛍光増白剤も紫外線吸収剤として使用でき、例えば、クマリン系蛍光増白剤等が挙げられる。具体的には、特公昭４５−４６９９号公報、同５４−５３２４号公報等に記載されている。
【００９８】
上記酸化防止剤としては、ヨーロッパ公開特許第２２３７３９号公報、同３０９４０１号公報、同３０９４０２号公報、同３１０５５１号公報、同第３１０５５２号公報、同第４５９４１６号公報、ドイツ公開特許第３４３５４４３号公報、特開昭５４−４８５３５号公報、同６０−１０７３８４号公報、同６０−１０７３８３号公報、同６０−１２５４７０号公報、同６０−１２５４７１号公報、同６０−１２５４７２号公報、同６０−２８７４８５号公報、同６０−２８７４８６号公報、同６０−２８７４８７号公報、同６０−２８７４８８号公報、同６１−１６０２８７号公報、同６１−１８５４８３号公報、同６１−２１１０７９号公報、同６２−１４６６７８号公報、同６２−１４６６８０号公報、同６２−１４６６７９号公報、同６２−２８２８８５号公報、同６２−２６２０４７号公報、同６３−０５１１７４号公報、同６３−８９８７７号公報、同６３−８８３８０号公報、同６６−８８３８１号公報、同６３−１１３５３６号公報、
【００９９】
同６３−１６３３５１号公報、同６３−２０３３７２号公報、同６３−２２４９８９号公報、同６３−２５１２８２号公報、同６３−２６７５９４号公報、同６３−１８２４８４号公報、特開平１−２３９２８２号公報、特開平２−２６２６５４号公報、同２−７１２６２号公報、同３−１２１４４９号公報、同４−２９１６８５号公報、同４−２９１６８４号公報、同５−６１１６６号公報、同５−１１９４４９号公報、同５−１８８６８７号公報、同５−１８８６８６号公報、同５−１１０４９０号公報、同５−１１０８４３７号公報、同５−１７０３６１号公報、特公昭４８−４３２９５号公報、同４８−３３２１２号公報、米国特許第４８１４２６２号、同第４９８０２７５号等に記載のものが挙げられる。
【０１００】
具体的には、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４，−テトラヒドロキノリン、シクロヘキサン酸ニッケル、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−エチルヘキサン、２−メチル−４−メトキシ−ジフェニルアミン、１−メチル−２−フェニルインドール等が挙げられる。
【０１０１】
上記褪色性防止剤は、単独でも２種以上を併用してもよい。この上記褪色性防止剤は、水溶性化、分散、エマルション化してもよく、マイクロカプセル中に含ませることもできる。上記褪色性防止剤の添加量としては、インク受容層用塗布液の０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１０２】
また、無機顔料微粒子の分散性を高める目的で、各種無機塩類、ｐＨ調整剤として酸やアルカリ等を含んでいてもよい。更に、表面の摩擦帯電や剥離帯電を抑制する目的で、電子導電性を持つ金属酸化物微粒子を、表面の摩擦特性を低減する目的で各種のマット剤を含んでいてもよい。
【０１０３】
インク受容層の細孔径は、メジアン径で０．００５〜０．０３０μｍが好ましく、０．０１〜０．０２５μｍがより好ましい。
上記空隙率及び細孔メジアン径は、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。
【０１０４】
また、インク受容層は、透明性に優れていることが好ましいが、その目安としては、インク受容層を透明フイルム支持体上に形成したときのヘイズ値が、３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましい。ヘイズ値は、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ：スガ試験機（株））を用いて測定することができる。
【０１０５】
上述のようなインク受容層の形成方法について、以下に説明する。当該インク受容層は、例えば、一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物と微粒子と結合剤とを含有する塗布液（インク受容層用塗布液）を下地層上に塗布することで形成することができるが、該塗布と同時に、又は、形成された塗布層の乾燥途中であって該塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に、該塗布層に架橋剤と媒染剤とを含有する溶液（架橋剤溶液）を付与した後、該溶液を付与した塗布層を架橋硬化させる方法（ＷＯＷ法；Ｗｅｔ Ｏｎ Ｗｅｔ法）により形成される方法を用いてもよい。当該方法においてインク受容層用塗布液のｐＨは８．０〜１０．０でアルカリ性を示す。
【０１０６】
また、インク受容層は、インク受容層用塗布液と、架橋剤溶液と、を架橋剤と反応しない材料からなるバリアー液（但し、架橋剤を含む溶液若しくはバリアー液の少なくとも一方に媒染剤を含有させる。）を挟んだ状態で同時塗布し、硬化させることによって得ることもできる。
【０１０７】
上記のように、架橋剤（ホウ素化合物）と共に媒染剤を同時塗布することにより、インク受容層の耐水性を向上させることができる。即ち、上記媒染剤をインク受容層用塗布液に添加すると、該媒染剤はカチオン性であるので、表面にアニオン電荷を持つ気相法シリカとの共存下では凝集を生ずる場合があるが、媒染剤を含む溶液とインク受容層用の塗布液とをそれぞれを独立に調製し、個々に塗布する方法を採用すれば、気相法シリカの凝集を考慮する必要がなく、媒染剤の選択範囲が広がる。
【０１０８】
一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物と、気相法シリカと、ポリビニルアルコールと、を少なくとも含むインク受容層用塗布液は、例えば、以下のようにして調製できる。
【０１０９】
即ち、気相法シリカを水中に添加して（例えば、１０〜２０質量％）、高速回転湿式コロイドミル（例えば、クレアミックス（エム・テクニック（株）製））を用いて、例えば１０，０００ｒｐｍ（好ましくは５，０００〜２０，０００ｒｐｍ）の高速回転の条件で２０分間（好ましくは１０〜３０分間）分散させた後、ポリビニルアルコール水溶液（例えば、気相法シリカの１／３程度の質量のＰＶＡとなるように）を加え、更に一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物を添加し、上記と同じ回転条件で分散を行うことで調製することができる。得られた塗布液は均一ゾルであり、これを下記塗布方法で基板上に塗布形成することにより、三次元網目構造を有する多孔質性のインク受容層を形成することができる。
【０１１０】
なお、上記分散の処理方法としては、高速回転分散機、媒体攪拌型分散機（ボールミル、サンドミルなど）、超音波分散機、コロイドミル分散機、高圧分散機等従来公知の各種の分散機を使用することができるが、本発明では形成されるダマ状微粒子の分散を効率的に行うという点から、コロイドミル分散機又は高圧分散機が好ましく用いられる。
【０１１１】
上記インク受容層用塗布液には、必要に応じて、更に、架橋剤溶液、界面活性剤、ｐＨ調整剤、帯電防止剤等を添加することもできる。
インク受容層用塗布液を塗布する他の方法としては、例えば、バーコート、ロールコート、ブレードコート、スクリーンコート、タンポコート等の接触塗布や、スプレーコート、スピンコート、カーテンコート、ディップコート、等の非接触塗布等により行うことができる。また、エクストリュージョンダイコータによる塗布方法を用いることもできる。
【０１１２】
スプレーコートにより塗布を行う場合、圧力としては、１．０１３〜２０２６ｈＰａが好ましく、５０．６５〜１０１３ｈＰａがより好ましく、１０１．３〜５０６．５ｈＰａが更に好ましい。スプレーの広がり角度としては、１〜１２０°が好ましく、１０〜６０°がより好ましく、２０〜５０°が更に好ましい。液粒径としては、０．１〜１０００μｍが好ましく、１〜５００μｍがより好ましく、１０〜１００μｍが更に好ましい。ワーク（情報媒体）からの距離としては、１〜１０００ｍｍが好ましく、１０〜２００ｍｍがより好ましく、３０〜１００ｍｍが更に好ましい。温度としては、１０〜４０℃が好ましく、１５〜３５℃がより好ましく、２０〜３０℃が更に好ましい。湿度としては、５〜７０％ＲＨが好ましく、１０〜４０％ＲＨがより好ましく、２０〜５０％ＲＨが更に好ましい。
【０１１３】
なお、スプレーコートを用いる場合、インク受容層用塗布液の塗布は、複数個並んだノズルの径を、ディスクの内周部から外周部にかけて線速度に応じて大きくすることで、所望の膜厚分布を得ることができる。
【０１１４】
スピンコートにより塗布を行う場合、塗布液の粘度としては、０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１〜６，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、１０〜３，０００ｍＰａ・ｓが更に好ましい。インク受容層用塗布液の粘度は、厚みを確保するため、５０〜１０，０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１００〜６０００ｍＰａ・ｓがより好ましく２００〜３，０００ｍＰａ・ｓが更に好ましい。回転数としては、ディスペンス時においては、１０〜１，０００ｒｐｍとすることが好ましく、５０〜６００ｒｐｍとすることがより好ましく、１００〜４００とすることが更に好ましい。振り切り時においては、徐々に回転数を上げ、上げ方はステップでもなだらかでもよく、具体的には、１００〜１０，０００ｒｐｍとすることが好ましく、２００〜５，０００ｒｐｍとすることがより好ましく、３００〜３，０００ｒｐｍとすることが更に好ましい。ノズルの形状は、長さは１〜１００ｍｍであることが好ましく、５〜５０ｍｍであることがより好ましく、１０〜３０ｍｍであることが更に好ましい。ノズルの内径は、０．１〜５ｍｍであることが好ましく、０．３〜３ｍｍであることがより好ましく、０．５〜２ｍｍであることが更に好ましい。ノズルの肉厚は０．１〜１ｍｍであることが好ましく、０．２〜０．５ｍｍであることがより好ましい。また、ノズルは流れに沿って斜めに設置してもよい。ワークからの距離としては、０．５〜１００ｍｍが好ましく、１〜５０ｍｍがより好ましく、２〜２０ｍｍが更に好ましい。温度としては、１０〜４０℃が好ましく、１５〜３５℃がより好ましく、２０〜３０℃が更に好ましい。湿度としては、５〜７０％ＲＨが好ましく、１０〜４０％ＲＨがより好ましく、２０〜５０％ＲＨが更に好ましい。
【０１１５】
後述する２液目（架橋剤溶液）をスピンコートにより塗布する場合には、塗布膜の均一性を確保するため、その粘度は、０．１〜１，０００ｍＰａ・ｓが好ましく、１〜５００ｍＰａ・ｓがより好ましく、２〜３００ｍＰａ・ｓが更に好ましい。
【０１１６】
インク受容層用塗布液を塗布した後、該塗布層に架橋剤溶液が付与されるが、該架橋剤溶液は、塗布後の塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に付与してもよい。即ち、インク受容層用塗布液の塗布後、この塗布層が恒率乾燥速度を示す間に架橋剤及び媒染剤とを導入することで好適に製造される。
【０１１７】
ここで、「塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前」とは、通常、インク受容層用塗布液の塗布直後から数分間を指し、この間においては、塗布された塗布層中の溶剤の含有量が時間に比例して減少する現象である恒率乾燥速度を示す。該恒率乾燥速度を示す時間については、化学工学便覧（ｐ．７０７〜７１２、丸善（株）発行、昭和５５年１０月２５日）に記載されている。
【０１１８】
上記の通り、インク受容層用塗布液の塗布後、その塗布層が減率乾燥速度を示すようになるまで乾燥されるが、該乾燥条件の詳細について以下に述べる。
【０１１９】
インク受容層の塗布層の乾燥は、自然乾燥、温風乾燥、低温セット乾燥、赤外・遠赤外線乾燥、高周波乾燥、オーブン乾燥など、いかなる乾燥手法で行ってもよい。
自然乾燥の場合、塗布層の乾燥時間は、０．１〜１００００秒とすることが好ましく、１〜１０００秒とすることがより好ましく、１０〜５００秒とすることが更に好ましい。乾燥温度は、０〜４０℃とすることが好ましく、１０〜３５℃とすることがより好ましく、２０〜３０℃とすることが更に好ましい。乾燥湿度１０〜７０％ＲＨとすることが好ましく、２０〜６０％ＲＨとすることがより好ましく、３０〜５０％ＲＨとすることが更に好ましい。
【０１２０】
温風乾燥の場合、塗布層の乾燥時間は、０．１〜５０００秒とすることが好ましく、１〜１０００秒とすることがより好ましく、１０〜５００秒とすることが更に好ましい。乾燥温度は、４０〜２００℃とすることが好ましく、６０〜１５０℃とすることがより好ましく、８０〜１３０℃とすることが更に好ましい。乾燥湿度０．０１〜５０％ＲＨとすることが好ましく、０．１〜３０％ＲＨとすることがより好ましく、１〜２０％ＲＨとすることが更に好ましい。乾燥処理を施した後のインク受容層の厚みは、１０〜１００μｍであることが好ましく、１５〜８０μｍであることがより好ましく、２０〜５０μｍであることがさらに好ましい。
【０１２１】
低温セット乾燥の場合、塗布層の乾燥温度は、２〜２５℃とすることが好ましく、５〜１５℃とすることがより好ましい。乾燥湿度１０〜５０％ＲＨとすることが好ましく、１０〜３０％ＲＨとすることがより好ましい。この温・湿度は、乾燥の進行に伴い、低温低湿から高温高湿ヘ、徐々に或いは段階的にあげていることが好ましい。なお、風速は、減率乾燥速度を示したら、塗布層に対して平行に３ｍ／ｓ以上であることが好ましい。
【０１２２】
赤外・遠赤外乾燥の場合、塗布層の乾燥時間は、０．１〜１０００秒とすることが好ましく、１〜５００秒とすることがより好ましく、１０〜３００秒とすることが更に好ましい。出力は、１０〜２０００Ｗとすることが好ましく、５０〜１５００Ｗとすることがより好ましく、１００〜１０００Ｗとすることが更に好ましい。
高周波乾燥の場合の乾燥条件も赤外・遠赤外乾燥の場合と同様である。
【０１２３】
オーブン乾燥の場合、塗布層の乾燥時間は、０．１〜１，０００秒とすることが好ましく、１〜５００秒とすることがより好ましく、１０〜３００秒とすることが更にが好ましい。
【０１２４】
上記塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に架橋剤を付与する方法としては、（１）架橋剤溶液を塗布層上に更に塗布する方法、（２）スプレー等の方法によって噴霧する方法、（３）架橋剤溶液中に、該塗布層が形成された基板を浸漬する方法、等が挙げられる。
【０１２５】
上記方法（１）において、架橋剤溶液を塗布する塗布方法としては、例えば、カーテンフローコータ、エクストルージョンダイコータ、エアードクターコータ、ブレッドコータ、ロッドコータ、ナイフコータ、スクイズコータ、リバースロールコータ、バーコータ等の公知の塗布方法を利用することができる。中でも、エクストリュージョンダイコータ、カーテンフローコータ、バーコータ等のように、既に形成されている塗布層にコータが直接接触しない方法を利用することが好ましい。
【０１２６】
インク受容層上に付与する、架橋剤と媒染剤とを少なくとも含有する架橋剤溶液の塗布量としては、架橋剤換算で０．０１〜１０ｇ／ｍ2が一般的であり、０．０５〜５ｇ／ｍ2が好ましい。
【０１２７】
該架橋剤溶液の付与後は、一般に４０〜１８０℃で０．５〜３０分間加熱され、乾燥及び硬化が行なわれる。中でも、４０〜１５０℃で１〜２０分間加熱することが好ましい。
例えば、上記架橋剤溶液中にホウ素化合物としての硼砂や硼酸を使用する場合には、６０〜１００℃での加熱を５〜２０分間行うことが好ましい。
【０１２８】
また、上記架橋剤塗布液は、インク受容層用塗布液を塗布すると同時に付与してもよい。この場合、インク受容層用塗布液及び架橋剤溶液を、両液が基板と接触するようにして基板上に同時塗布（重層塗布）し、その後、乾燥硬化させることによりインク受容層を形成することができる。
【０１２９】
上記同時塗布（重層塗布）は、例えば、エクストルージョンダイコータ、カーテンフローコータを用いた塗布方法により行うことができる。同時塗布の後、形成された塗布層は乾燥されるが、この場合の乾燥は、一般に塗布層を４０〜１５０℃で０．５〜１０分間加熱することにより行われ、好ましくは、４０〜１００℃で０．５〜５分間加熱することにより行われる。例えば、架橋剤溶液にホウ素化合物としての硼砂や硼酸を使用する場合は、６０〜１００℃で５〜２０分間加熱することが好ましい。
【０１３０】
上記同時塗布（重層塗布）を、例えば、エクストルージョンダイコータにより行なった場合、同時に吐出される二種の塗布液は、エクストルージョンダイコータの吐出口附近で、即ち、基板上に移る前に重層形成され、その状態で基板上に重層塗布される。塗布前に重層された二層の塗布液は、基板に移る際、既に、二液の界面で架橋反応を生じ易いことから、エクストルージョンダイコータの吐出口付近では、吐出される二液が混合して増粘し易くなり、塗布操作に支障を来す場合がある。従って、上記のように同時塗布する際は、インク受容層用塗布液及び架橋剤と媒染剤とを含有する架橋剤溶液の塗布と共に、更に架橋剤と反応しない材料からなるバリアー層液（中間層液）を上記二液間に介在させて同時三重層塗布することが好ましい。
【０１３１】
上記バリアー層液は、架橋剤と反応せず液膜を形成できるものであれば、特に制限なく選択できる。例えば、架橋剤と反応しない水溶性樹脂を微量含む水溶液や、水等を挙げることができる。かかる水溶性樹脂は、増粘剤等の目的で、塗布性を考慮して使用されるもので、例えば、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ゼラチン等のポリマーが挙げられる。
なお、バリアー層液には、上記媒染剤を含有させることもできる。
【０１３２】
また、インク受容層は、微粒子と分散剤とからなる水分散物に、上記一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物及び結合剤を含む溶液（第１の溶液）と、架橋剤及び媒染剤を含む溶液（第２の溶液）と、をそれぞれ添加し、再分散して得られる塗布液を、下地層上に塗布して塗布層を形成し、その後、該塗布層を硬化させる方法によって形成されてもよい。当該方法においてインク受容層を形成する塗布液のｐＨは２．５〜４．０であり、酸性を示す。当該方法を用いると、光沢度及び印画濃度が向上するため好ましい。
【０１３３】
この方法を用いた場合の塗布層の硬化方法及びその条件としては、具体的には、Ｃ．Ａ．Ｆｉｎｃｈｉ編、''Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ Ｗａｔｅｒ−Ｓｏｌｕｂｌｅ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ''（１９８３年）に記載されている硬化方法及びその条件を適用することができる。
【０１３４】
上記分散剤としては、カチオン性のポリマーを用いることができる。カチオン性ポリマーとしては、上述の媒染剤の例として挙げた、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、又は第４級アンモニウム塩基を有する単量体の単独重合体や、該単量体と他のモノマーとの共重合体又は縮重合体として得られるものを好適に使用することができる。また、これらの分散剤は、水溶性ポリマーの形態で使用するのが好ましい。
【０１３５】
上記分散剤の分子量は、重量平均分子量で１，０００〜２００，０００が好ましく、３，０００〜６０，０００が更に好ましい。該分子量が１，０００より小さいと分散性に劣る場合があり、２００，０００を超えると水分散物の粘度が高くなる場合がある。上記分散剤の気相法シリカに対する添加量は、１％〜３０％が好ましく、３％〜２０％が更に好ましい。該添加量が、１％未満では分散性に劣る場合があり、３０％を超えるとインク受容層に印画した際、色濃度が低下することがあるため好ましくない。
【０１３６】
また、微粒子と分散剤とからなる水分散剤の調製は、微粒子水分散液を予め調製し、該水分散液を分散剤水溶液に添加してもよいし、分散剤水溶液を微粒子水分散液に添加してよいし、同時に混合してもよい。また、微粒子水分散液ではなく、粉体の微粒子を用いて上記のように分散剤水溶液に添加してもよい。
【０１３７】
上記の微粒子と分散剤とを混合した後、該混合液を分散機を用いて細粒化することで、平均粒子径５０〜３００ｎｍの水分散液を得ることができる。該水分散液を得るために用いる分散機としては、高速回転分散機、媒体攪拌型分散機（ボールミル、サンドミルなど）、超音波分散機、コロイドミル分散機、高圧分散機等従来公知の各種の分散機を使用することができるが、形成されるダマ状微粒子の分散を効率的に行うという点から、コロイドミル分散機又は高圧分散機が好ましい。
【０１３８】
また、塗布液に用いられる溶媒としては、水、有機溶媒、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、メトキシプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。
【０１３９】
なお、この方法においても、微粒子と任意の分散剤とからなる水分散物に、上記一般式（１）で表される化合物及び／又は一般式（２）で表される化合物及び結合剤を含む溶液（第１の溶液）と、架橋剤及び媒染剤を含む溶液（第２の溶液）と、をそれぞれ添加し、再分散して得られる塗布液は、インク受容層用塗布液を塗布する際と同様の方法を用いて塗布することができる。
【０１４０】
下地層上にインク受容層を形成した後、該インク受容層は、例えば、スーパーカレンダ、グロスカレンダ等を用い、加熱加圧下にロールニップ間を通してカレンダー処理を施すことにより、表面平滑性、光沢度、透明性及び塗膜強度を向上させることが可能である。しかしながら、該カレンダー処理は、空隙率を低下させる要因となることがあるため（即ち、インク吸収性が低下することがあるため）、空隙率の低下が少ない条件を設定して行う必要がある。
【０１４１】
カレンダー処理を行う場合のロール温度としては、３０〜１５０℃が好ましく、４０〜１００℃がより好ましい。
また、カレンダー処理時のロール間の線圧としては、５０〜４００ｋｇ／ｃｍが好ましく、１００〜２００ｋｇ／ｃｍがより好ましい。
【０１４２】
〔中間層〕
インク受容層と下地層との間には中間層を設けてもよい。中間層をインク吸収性の高い層とすると、受容できるインク量が増し、印画時に色濃度を向上させ、画質を向上させることができる。或いは、下地層と基板との間に中間層を設けてもよい。この場合、下地層と基板との密着性を向上させたり、情報媒体全体の反りを調整することができる。中間層の層厚としては、０．１〜１００μｍが好ましく、１〜５０μｍがより好ましく、３〜２０μｍが最も好ましい。
【０１４３】
〔表面層〕
また、インク受容層の上に表面層を形成してもよい。表面層を形成することにより、表面強度を更に向上させたり、印画の保存性を向上させたりすることができる。表面層は、インクを受容するか、或いは速やかに透過させる性質を有する必要がある。表面層の層厚としては、０．０１〜１００μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがより好ましく、０．５〜５μｍが最も好ましい。
【０１４４】
本発明の製造方法によって得られる情報媒体は、６０°において３０％以上の光沢度を示すことができる。該光沢度は、デジタル変角光沢度計（ＵＧＶ−５０ＤＰ，スガ試験機（株）製）等によって測定することができる。
【０１４５】
本発明の製造方法によって得られる情報媒体が、光情報記録媒体である場合、基板には、記録層や反射層等が形成されている。そこで、次に、本発明に使用される基板及び各層（記録層や反射層等）、並びにそれらの形成方法について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４６】
＜基板＞
基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．６〜１．１ｍｍとすることがより好ましい。なお、図１に示すような凸部を形成する場合は、既述のように、基板成型時に当該凸部を形成することが好ましい。
【０１４７】
基板には、トラッキング用の案内溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が形成されている。
青紫色レーザーで記録する媒体（ブルーレイディスクやＨＤ ＤＶＤ）の場合、プリグルーブのトラックピッチは、２００〜８００ｎｍの範囲とすること好ましく、２００〜５００ｎｍとすることがより好ましく、２００〜４００ｎｍとすることが更に好ましい。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１０〜１８０ｎｍの範囲とすることが好ましく、２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましい。
更に、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることが更に好ましい。
【０１４８】
ＤＶＤ−ＲやＤＶＤ−ＲＷの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることが更に好ましい。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜１６０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましく、１３０〜１４０ｎｍとすることが更に好ましい。
更に、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることが更に好ましい。
【０１４９】
ＣＤ−Ｒ又はＣＤ−ＲＷの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、１．２〜２．０μｍの範囲とすること好ましく、１．４〜１．８μｍとすることがより好ましく、１．５５〜１．６５μｍとすることが更に好ましい。
プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜２５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１５０〜２３０ｎｍとすることがより好ましく、１７０〜２１０ｎｍとすることが更に好ましい。
プリグルーブの半値幅は、４００〜６５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、４８０〜６００ｎｍとすることがより好ましく、５００〜５８０ｎｍとすることが更に好ましい。
【０１５０】
＜記録層＞
ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲやＨＤ ＤＶＤ、ブルーレイディスクの場合、記録層は、記録物質である色素を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液をスピンコート法により基板のプリグルーブが形成された面に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。
スピンコート法を適用する際の温度は、２３℃以上とすることが好ましく、２５℃以上とすることがより好ましい。温度の上限は特にないが、溶剤の引火点より低い温度とする必要があり、好ましく３５℃とする。
２３℃未満とすると、溶剤の乾燥が遅くなり、目的とする色素膜厚（記録層の厚み）が得られない場合や塗布乾燥時間が長くなり、生産性が低下することがある。
【０１５１】
当該色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、なかでも、フタロシアニン色素が好ましい。
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、及び同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素も好適に用いられる。
【０１５２】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、２−メトキシエチルアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、或いは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１５３】
結合剤を使用する場合に、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【０１５４】
塗布方法としては、既述のようにスピンコート法を適用するが、その際に使用する装置等については、従来公知のものを使用することができる。
また、記録層は単層でも重層でもよく、その層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【０１５５】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
【０１５６】
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【０１５７】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【０１５８】
ＣＤ−ＲＷ又はＤＶＤ−ＲやＨＤ ＤＶＤ、ブルーレイディスクの場合、記録層は、結晶状態と非晶状態の少なくとも２つの状態をとり得る少なくともＡｇ、Ａｌ、Ｔｅ、Ｓｂからなる相変化型の光記録材料からなることが好ましい。かかる記録層は、公知の方法で形成することができる。
なお、当該記録層上には、必要に応じて、公知の誘電体層が形成される。
【０１５９】
＜光反射層＞
記録層形成後、該記録層上に光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングして光反射層を形成する。光反射層の形成に際しては、通常マスクが使用され、これによって光反射層の形成領域を調節することができる。
【０１６０】
光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属或いはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、或いは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ或いはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇ或いはこれらの合金である。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【０１６１】
＜保護層、保護基板＞
光反射層を形成した後は、該光反射層上に保護層が形成される。
保護層は、スピンコート法により形成される。スピンコート法を適用することで、記録層にダメージ（色素の溶解、色素と保護層材料との化学反応等）を与えることなく保護層を形成することができる。スピンコートする際の回転数は、均一な層形成及び記録層へのダメージの防止の観点から、５０〜８０００ｒｐｍとすることが好ましく、１００〜５０００ｒｐｍとすることがより好ましい。
なお、保護層に放射線硬化樹脂（紫外線硬化樹脂）を使用した場合は、スピンコート法により保護層を形成した後、該保護層上から紫外線照射ランプ（メタルハライドランプ）により紫外線を照射して、紫外線硬化樹脂を硬化させる。
また、形成する保護層の厚みムラを無くすため、樹脂を硬化させる前に一定時間放置する等の処理を適宜行ってもよい。
【０１６２】
保護層は、水分の侵入やキズの発生を防止することができる。保護層を構成する材料としては、放射線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも放射線硬化樹脂であることが好ましい。該放射線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業（株）製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業（株）製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光及び再生光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。なお、ブルーレイディスクの場合には、保護層として、厚さ０．１ｍｍ程度の透明シートが設けられる。
【０１６３】
ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷやＨＤ ＤＶＤの場合は、保護層に代わって、紫外線硬化樹脂等からなる接着層及び保護基板としての基板（厚さ：０．６ｍｍ程度、材質については前記基板と同様）を積層する。即ち、光反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ６４０等）をスピンコート法によって２０〜６０μｍの厚さに塗布して、接着層を形成する。形成した接着層上に、例えば、保護基板としてのポリカーボネート基板（厚さ０．６ｍｍ）を載置し、基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させて貼り合わせる。
【０１６４】
以上のようにして、基板上に記録層、光反射層、保護層又は接着層を介した保護基板（ダミー基板）等が設けられた積層体で、レーベル面にプリンタブル層が形成された情報媒体が作製される。
【０１６５】
本発明の情報媒体の厚みとしては、下限としては、０．３ｍｍが好ましく、０．５ｍｍがより好ましく、０．７ｍｍが更に好ましい。また、上限としては、１００ｍｍが好ましく、２０ｍｍがより好ましく、５ｍｍが更に好ましい。薄すぎると、曲げたときに欠陥が発生することがある。厚すぎると、リムーバブル性に劣ることがある。
【実施例】
【０１６６】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の「部」及び「％」は、全て「質量部」及び「質量％」を表す。
【０１６７】
［実施例］
射出成形により、表面にスパイラル状のグルーブ（ランド）とＬＰＰとを形成したポリカーボネート基板（厚さ：０．６ｍｍ、外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、帝人（株）製、商品名「パンライトＡＤ５５０３」）を作製した。溝深さ：１４０ｎｍ、溝幅：３１０ｎｍ、溝ピッチ：７４０ｎｍであった。
【０１６８】
下記オキソノール色素（Ａ）とオキソノール色素（Ｂ）とを６５：３５の割合で混合した色素１ｇを、２，２，３，３−テトラフルオロ−プロパノール１００ｍｌに溶解し、記録層形成用塗布液を調製した。この記録層形成用塗布液を、得られた基板のグルーブ面に、回転数を３００〜３０００ｒｐｍまで変化させながらスピンコート法により塗布し、乾燥して記録層を形成した。記録層の厚さは、記録層の断面をＳＥＭにより観察して計測したところグルーブ内では１５０ｎｍ、ランド部では１１０ｎｍであった。
【０１６９】
【化１】
【０１７０】
次いで、アルゴン雰囲気中での、ＤＣスパッタリングにより、記録層上に厚さ約１５０ｎｍのＡｇからなる光反射層を形成した。なお、チャンバー内の圧力は０．５Ｐａであった。
【０１７１】
更に、光反射層上に、ＵＶ硬化性樹脂（商品名「ＳＤ−３１８」、大日本インキ化学工業（株）製）を環状にディスペンスし、別に用意したポリカーボネート製の円盤状保護基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）を中心を一致させて重ね合わせ、回転数５０００ｒｐｍで３秒間回転させ、ＵＶ硬化性樹脂（ＳＤ６４０、大日本インキ化学工業（株）製）を全面に広げ且つ余分なＵＶ硬化性樹脂を振り飛ばした。ＵＶ硬化性樹脂が全面に広がったところで、高圧水銀灯により紫外線を照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、記録層及び光反射層が形成された基板と円盤状保護基板とを貼り合わせた。貼り合わせ層の厚さは２５μｍであり、気泡の混入もなく貼り合せることができた。
【０１７２】
次いで、レーザー光入射面と反対側の円盤状保護基板の表面（レーベル面）に、以下のようにして、プリンタブル層を形成した（プリンタブル層形成工程）。
【０１７３】
まず、レーベル面の外周領域および内周領域に、後述する下地層の形成と同様にしてスクリーン印刷により凸部を形成した。当該凸部の高さは３０μｍであり、最大幅は１．０ｍｍであった。当該外周領域の凸部は、基板の外周端部から０．５〜１．０ｍｍの範囲に設け、当該内周領域の凸部は、基板の内周端部から１０〜１７ｍｍの範囲に設けた。
【０１７４】
次に、上記基板の外周側の凸部と内周側の凸部との間に、紫外線硬化インク（Ｗｈｉｔｅ Ｎｏ．３、帝国インキ製造（株）製）をスクリーン印刷で印刷し、印刷後、その上からメタルハライドランプで８０Ｗ／ｃｍの紫外線を照射して硬化させ８μｍの下地層（白色層）を繰り返し２層、トータルで１６μｍの厚みで形成した。スクリーンは３００本／インチメッシュ、糸径３１μｍ、オープニング３８μｍのテトロン製スクリーンを用いた。
【０１７５】
次に、下地層上にインク受容層を形成するため以下の工程を経た。
【０１７６】
−インク受容層用塗布液の調製−
下記組成中の（１）気相法シリカ微粒子、（２）イオン交換水を混合し、高速回転式コロイドミル（クレアミックス、エム・テクニック（株）製）を用いて、回転数１００００ｒｐｍで２０分間分散させた。その後、その水分散物に、（３）ポリオキシエチレンラウリルエーテル、（４）ポリビニルアルコール９％水溶液、及び（５）ジエチレングリコールモノブチルエーテルから構成される第１の溶液と、（６）硼酸、（７）媒染剤、及び（８）イオン交換水からなる第２の溶液と、をそれぞれ添加し、更に上記と同一条件で再分散を行い、インク受容層用塗布液Ａを調製した。
シリカ微粒子と水溶性樹脂との質量比（ＰＢ比／（１）：（４））は、３．５：１であり、インク受容層用塗布液ＡのｐＨは３．４であり、酸性を示した。
【０１７７】
〔インク受容層用塗布液Ａの組成〕
（１）気相法シリカ微粒子（無機顔料微粒子） １０．０部
（平均一次粒子径７ｎｍ；アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）
（２）イオン交換水 ５５．２部
［第１の溶液］
（３）ポリオキシエチレンラウリルエーテル（界面活性剤） ３．５部
（エマルゲン１０９Ｐ（１０％）、花王（株）製、ＨＬＢ値１３．６）
（４）ポリビニルアルコール９％水溶液（水溶性樹脂） ３１．７部
（ＰＶＡ４２０、（株）クラレ製、鹸化度８１．８％、重合度２，０００）
（５）ジエチレングリコールモノブチルエーテル ０．５部
（一般式（１）で表される化合物）
［第２の溶液］
（６）硼酸（６％；架橋剤） １０．４部
（７）媒染剤（ＰＡＳ−Ｆ５０００；２０％水溶液、日東紡（株）製） ２．５部
（８）イオン交換水 ５．３部
【０１７８】
−インク受容層の形成−
上記情報媒体の下地層の面にコロナ放電処理を行った後、上記から得たインク受容層用塗布液Ａを、エクストルージョンダイコータを用いて、下地層上に塗布した。その後、低温低湿庫にて５℃、１０％ＲＨ環境で、表面の塗布液の流動性が抑えられるまで乾燥させた。塗布層は、この期間恒率乾燥速度を示した。その直後、熱風乾燥機にて、２０℃、２０％ＲＨの環境（風速４ｍ／ｓｅｃ）で１０分間乾燥させた。これにより、乾燥膜厚３５μｍのインク受容層が設けられた情報媒体を作製した。
【０１７９】
当該情報媒体について、その外観を目視にて観察したところ、端部への液垂れは見られなかった。また、マイクロメータで塗布前後の厚みを比較することにより、プリンタブル層の膜厚のばらつきの状態を調べたところ、ほぼ均一であった。なお、スクリーン印刷により下地層を形成し、その後、外周側および内周側に凸部を設けても、上記同様に良好な結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１８０】
【図１】プリンタブル層を形成するための方法を説明するための図であり、（Ａ）及び（Ｃ）は凸部を基板上に設けた状態を示し、（Ｂ）はインク受容層を形成した状態を示す。
【図２】プリンタブル層を形成するための他の方法を説明するための図である。
【図３】プリンタブル層を形成するための他の方法を説明するための図であり、（Ａ）は凸部を基板上に設ける前の状態を示し、（Ｂ）は凸部を基板上に設けた状態を示す。
【符号の説明】
【０１８１】
１０・・・凸部
１４・・・インク受容層
１２・・・下地層
１６・・・プリンタブル層
２０・・・基板
１００・・・枠
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、下地層とインク受容層とを少なくとも含むプリンタブル層を有するディスク状情報媒体の製造方法であって、
前記基板の外周端部から前記インク受容層の外周端部までの外周領域に、液拡がり防止処理を施した後、前記インク受容層を形成するためのインク受容層用塗布液を前記下地層上に塗布してプリンタブル層を形成するプリンタブル層形成工程を含むことを特徴とするディスク状情報媒体の製造方法。
【請求項２】
前記プリンタブル層形成工程において、前記基板の内周端部から前記インク受容層の内周端部までの内周領域にも、前記液拡がり防止処理を施し、前記インク受容層用塗布液を前記下地層上に塗布することを特徴とする請求項１に記載のディスク状情報媒体の製造方法。
【請求項３】
前記液拡がり防止処理が、前記基板に凸部を形成する処理であることを特徴とする請求項１または２に記載のディスク状情報媒体の製造方法。
【請求項１】
基板上に、下地層とインク受容層とを少なくとも含むプリンタブル層を有するディスク状情報媒体の製造方法であって、
前記基板の外周端部から前記インク受容層の外周端部までの外周領域に、液拡がり防止処理を施した後、前記インク受容層を形成するためのインク受容層用塗布液を前記下地層上に塗布してプリンタブル層を形成するプリンタブル層形成工程を含むことを特徴とするディスク状情報媒体の製造方法。
【請求項２】
前記プリンタブル層形成工程において、前記基板の内周端部から前記インク受容層の内周端部までの内周領域にも、前記液拡がり防止処理を施し、前記インク受容層用塗布液を前記下地層上に塗布することを特徴とする請求項１に記載のディスク状情報媒体の製造方法。
【請求項３】
前記液拡がり防止処理が、前記基板に凸部を形成する処理であることを特徴とする請求項１または２に記載のディスク状情報媒体の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００６−２２１７７２（Ｐ２００６−２２１７７２Ａ）
【公開日】平成１８年８月２４日（２００６．８．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３６６５５（Ｐ２００５−３６６５５）
【出願日】平成１７年２月１４日（２００５．２．１４）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年８月２４日（２００６．８．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年２月１４日（２００５．２．１４）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
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