ニアゼロ位相差のフィルム
すべての光入射角（６３３ナノメートルの波長における入射光を使用して測定した）で、ニアゼロ位相差を有する水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーを含む、画像表示デバイス又は装置（たとえば、ＬＣＤデバイス又は偏光板アセンブリ）に適した、又はこれに使用する、又はこれの構成要素としての光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２００８年５月７日に出願された「ニアゼロ位相差のフィルム（ＮＥＡＲ−ＺＥＲＯ ＯＰＴＩＣＡＬ ＲＥＴＡＲＤＡＴＩＯＮ ＦＩＬＭ）」という表題の、米国仮特許出願第６１／０５１，１６０号の優先権を主張する通常出願であり、この教示内容は、下記にすべてを転載したかのように、参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、一般にポリマーフィルム、特に水素化ブロックコポリマー、好ましくは実質的に水素化したブロックコポリマー、及びさらに好ましくは十分に水素化したブロックコポリマーを含むポリマーフィルムに関し、水素化前のブロックコポリマーは、ビニル芳香族モノマー及びジエン（たとえば１，３−ブタジエン、イソプレン又はそれらの混合物などの共役ジエン）のコポリマーである。本発明は、特に、それぞれ、Ｒ０及びＲｔｈと表記されるフィルム面及び厚み方向の両方において位相差が非常に低い（約ゼロナノメートル（ｎｍ））フィルムに関する。本発明は、延伸（配向）又は未延伸（未配向）のいずれであるかにかかわらず、液晶表示（ＬＣＤ）テレビジョン（ＴＶ）セットの色調改善及び視野角増大、又は他の表示装置の光学素子を含むが、それだけには限らないさまざまな最終用途におけるこのような光学フィルムの用途にも関する。
【背景技術】
【０００３】
ＬＣＤ ＴＶセットの製造業者は、一般に多層の前面偏光板アセンブリ、多層の後面偏光板アセンブリ、並びにこのようなアセンブリにはさまれた液晶ガラスセル又は層を含む構造を使用している。各偏光板アセンブリは、順序通りに、かつ有効に（好ましくは物理的な、より好ましくは、物理的で層状の結合又は接着状態の）接触をして、外側の保護層又はフィルムと、一般に偏光層又はフィルム（前面偏光板アセンブリの場合の前面偏光層及び後面偏光板アセンブリの場合の後面偏光層）としてヨウ素などの二色性物質を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムと、内側保護層又はフィルムとを含む。「内側」及び「外側」は、液晶ガラスセル又は層に対して保護層を配向させており、内側は、液晶ガラスセル又は層の表面、好ましくは主要面、より好ましくは主平面に隣接しており、好ましくは隣接しており、かつ物理的に又は有効に接触していて、外側は前記液晶ガラスセル又は層から遠く離れて配置されている。
【０００４】
多数のＬＣＤデバイス用に、たとえば面内切替型（ＩＰＳ）方式のＬＣＤ ＴＶにおいて、ＬＣＤディスプレイ製造業者は、光入射のすべての角における位相差がゼロｎｍに近い、好ましくは約ゼロｎｍであり、最も好ましくはゼロｎｍに等しい内側保護層を要望している。
【０００５】
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムはニアゼロ位相差を提供する１種類の物質を構成するが、このようなフィルムには、時間とともに吸湿して寸法安定性を損なう感湿傾向がある。
【０００６】
環状オレフィンのポリマー（「ＣＯＰ」）又はコポリマー（「ＣＯＣ」）は、ＴＡＣフィルムより感湿性が低いが、この種のＴＡＣフィルムよりかなり高いＲ０及びＲｔｈを有するフィルムをもたらす。たとえば、一般的なＣＯＰフィルムのＲ０は、５ｎｍから１０ｎｍまでの範囲に入る。一般的なＣＯＣフィルムは、ＣＯＰフィルムよりわずかに低い位相差値を取り得るが、製造業者は、ＣＯＣフィルムが偏光フィルムアセンブリの保護フィルムとしての用途には、あまりにも脆弱であると考えている。
【０００７】
米国特許出願公開第２００３／００３１８４８号（サワダら）には、飽和ノルボルネン樹脂などの非結晶熱可塑性樹脂の溶融押出しにより作製された、１００マイクロメートル（μｍ）未満の厚みを有する光学フィルムが開示されている。
【０００８】
２００７年１１月２０日に出願された米国仮特許出願第６０／９８９１５４号には、複屈折が０．００１から０．０５までの範囲であり、波長６３３ｎｍにおけるＲ０が２５ｎｍから５００ｎｍまでの範囲であるポリマーフィルムが開示されている。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
いくつかの実施形態では、本発明は、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーを含む光学フィルムであり、この光学フィルムは、６３３ｎｍの波長で、フィルムの主平面に対し垂直に向けた入射光を使用して測定したＲ０が５ｎｍ未満であり、次式（（（ｎｘ＋ｎｙ）／２）−ｎｚ）ｄ）によって表されるＲｔｈが１０ｎｍ未満である。水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーは、好ましくは実質的に十分に水素化したビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマー、より好ましくは、十分に水素化したビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーである。あるいは、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーは、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマー、実質的に十分に水素化したビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマー、及び十分に水素化したビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーのうちの２種以上のブレンドである。
【００１０】
フィルムの主平面に垂直な入射光を使用するＲ０測定及び４０度（４０°）の斜光の入射角で得られた測定値からＲｔｈを算出する。その遅相軸方向又はその進相軸方向のいずれかに関してフィルムを４０°に傾けることによって、斜入射光の入射角を測定する。Ｒ０測定からフィルム遅相軸方向、又は進相軸方向を決定する。光学フィルムは、未延伸であってもよく（たとえば、実質的に、ほとんど機械的な配向を誘発しない方法によって調製されるように）、又は１軸、２軸又は多軸のいずれであるかにかかわらず当業者にとって公知の従来技術によって延伸してもよい。光学フィルムは、未延伸フィルムが好ましい。延伸した場合、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーの結晶化度は、好ましくは、全フィルム重量に基づいて、３重量パーセント未満である。
【００１１】
光学フィルムは、ＩＰＳ方式のＬＣＤ装置の内側保護層として使用することができる。
【００１２】
いくつかの実施形態では、本発明は偏光板アセンブリであり、この偏光板アセンブリはＰＶＡフィルム層及び保護フィルム層を含み、このＰＶＡフィルム層はその主平面の少なくとも１面に上記の光学フィルムを含む保護フィルム層を付着させてあるものである。各保護フィルムは、ＰＶＡフィルム層の主平面と有効に接触しており、好ましくは接着剤を介して接着接触している。必要に応じて、コロナ処理、又はプラズマ処理などの周知の技術によってフィルムを処理することにより接着結合を改善することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
光学フィルムは、ＴＡＣベースの光学フィルムにおいて現在使用されている任意の光添加剤（たとえば、棒状又は円板状液晶分子）も任意選択で含む。しかしながら、光学フィルムは、ニアゼロＲ０及びＲｔｈを達成するために１つ又は複数の光添加剤を含む必要はない。
【００１４】
本明細書で範囲を、２から１０までの範囲というように規定する場合、範囲の両方の終点（たとえば２及び１０）及び各数値はこの種の値が有理数又は無理数のいずれであるかにかかわらず、特に除外されない限り、範囲の中に含まれるものとする。
【００１５】
「含んでいる（comprising）」及びその派生語は、同じことが本明細書において開示されているかどうかにかかわらず、任意の追加的な要素、工程又は手順の存在を排除するものではない。対照的に、「本質的に〜からなっている（consisting essentially of）」は、その直後の任意の記述範囲から、実施可能性に必要でない要素、工程又は手順を除いて、他の任意の要素、工程又は手順を排除する。「〜からなっている（consisting of）」は、特に詳細に描写も列挙もされていない任意の要素、工程又は手順を排除する。「又は」とは、特に指定しない限り、列挙した構成部分のそれぞれ並びに任意の組合せを指す。
【００１６】
温度は、その等価な℃とともに華氏（°Ｆ）又はより一般的に単に℃のいずれかによって表してもよい。
【００１７】
他に示されていない限り、又は文脈から暗黙的でない限り、又は当該技術分野において慣習的でない限り、すべての部及びパーセントは重量に基づくものとする。
【００１８】
米国特許実務のために、本明細書において参照される任意の特許、特許出願又は刊行物の内容は、本明細書にその全体が参照により組み込まれ（又は、その等価な米国版が、同じように参照により組み込まれる）、特に、合成技術、（本明細書に示す任意の定義と矛盾しない程度の）定義、及び当分野における一般知識の開示内容に関して参照により組み込まれる。
【００１９】
説明及び例は、どのような形であれ本発明を規定又は制限するのではなく、例示するのに役立ち、本発明のすべての可能な実施形態の網羅的な又はすべてを含んだリストを構成するというわけではない。
【００２０】
本明細書で使用している「ニアゼロ位相差」とは、Ｒ０が５ｎｍ未満であり、Ｒｔｈが１０ｎｍ未満であることを意味する。Ｒ０は、好ましくは３ｎｍ未満、より好ましくは２ｎｍ未満、より好ましくは１ｎｍ未満、さらに好ましくは０．５ｎｍ未満である。Ｒｔｈは、好ましくは５ｎｍ未満であり、より好ましくは３ｎｍ未満である。
【００２１】
本明細書において記載されている光学フィルムは、好ましくは水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーを含む。水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーは、より好ましくは実質的に十分に水素化し、さらに好ましくは十分に水素化したビニル芳香族／共役ジエンポリマーである。いずれの場合においても、「水素化した」という用語は、ビニル芳香族部分及び共役ジエン部分の両方に存在する二重結合の水素化のことをいう。
【００２２】
耐熱性並びに弾性率及び靱性などの機械的特性の一方又は両方の低下を受け入れることを決めるならば、好ましい水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーの全部又は一部の代わりに、十分に水素化した、ランダムなビニル芳香族／共役ジエンコポリマーを使用することができる。たとえば、１００℃の最低ガラス転移温度（Ｔｇ）を必要とする場合、このようなＴｇを有するランダムコポリマーの水素化前のビニル芳香族（たとえばスチレン）の含量は、水素化前のランダムコポリマーの総重量に基づいて、代表的に８５重量パーセント以上である。当業者は、通常、この種のランダムコポリマーから調製されたフィルムが、フィルムの切断及び取り扱い（たとえば積層）に必要なある程度の柔軟性又は非平面表面に順応する能力が必要とされる用途に使用するには、非常に脆弱であるため不適当であると考えている。
【００２３】
ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーは、水素化に先立って、異種（distinct）ブロック、テーパード（tapered）ブロック及び放射状ブロックを含むどのような周知の構造であってもよい。ビニル芳香族ブロック及び共役ジエンブロックを交互に含む異種ブロック構造は、特に、ビニル芳香族末端ブロックを有するそれぞれのケースで、当該ブロック構造がトリブロックコポリマー又はペンタブロックコポリマーを生じるときに、好適な結果をもたらす。ペンタブロックコポリマーは、特に好適なブロックコポリマーを構成する。所望に応じて、ビニル芳香族ブロックは同一又は異なる分子量を有することができる。同様に、共役ジエンブロックは、同一又は異なる分子量を有することができる。
【００２４】
ビニル芳香族ブロックは、米国特許（ＵＳＰ）第６，６３２，８９０号（Ｂａｔｅｓら）、及び同第６，３５０，８２０号（Ｈａｈｎｆｅｌｄら）に教示された任意のビニル芳香族モノマーを含むことができる。代表的なビニル芳香族モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンのすべての異性体（特にパラビニルトルエン）、エチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセンなどのすべての異性体、及びそれらの混合物が挙げられる。ブロックコポリマーは、各ビニル芳香族ブロックにおいて１種又は複数の重合済みビニル芳香族モノマーを含むことができる。ビニル芳香族ブロックは、好ましくはスチレンを含み、より好ましくは本質的にスチレンからなり、さらに好ましくは、スチレンからなる。
【００２５】
共役ジエンブロックは、ＵＳＰ第６，６３２，８９０号及びＵＳＰ第６，３５０，８２０号に教示されるように、２個の共役二重結合を有する任意のモノマーを含むことができる。例示的かつ非限定的な共役ジエンモノマーの例としては、ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、イソプレン及びそれらの混合物が挙げられる。ビニル芳香族ブロックの場合と同様に、ブロックコポリマーは１種（たとえばブタジエン又はイソプレン）又は２種以上（たとえばブタジエン及びイソプレンの両方）を含むことができる。ブロックコポリマーの好ましい共役ジエンポリマーブロックは、水素化に先立って、ポリブタジエンブロック、ポリイソプレンブロック又は混合したポリブタジエン／ポリイソプレンブロックを含むことができる。ブロックコポリマーが、水素化に先立って、１個以上のポリブタジエンブロック及び１個以上のポリイソプレンブロックを含んでもよいが、水素化に先立って、ポリブタジエンブロック単独又はポリイソプレンブロック単独のみの共役ジエンブロックを有するブロックコポリマーが、好ましい結果をもたらす。単一のジエンモノマーが好ましいのは、主として製造の簡便さに由来する。
【００２６】
ＵＳＰ第６，３５０，８２０号には、ブロックを、コポリマーの構造的に又は組成的に異なるポリマーセグメントからミクロ相分離を呈することができるコポリマーのポリマーセグメントとして定義している。ミクロ相分離は、ブロックコポリマー内部のポリマーセグメントの不適合性のために起こる。
【００２７】
各ビニル芳香族ブロックが、スチレン（Ｓ）を含み、各共役ジエンブロックが、ブタジエン（Ｂ）又はイソプレン（Ｉ）を含む例示的な好ましいビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーとしては、ＳＢＳ及びＳＩＳトリブロックコポリマー並びにＳＢＳＢＳ及びＳＩＳＩＳペンタブロックコポリマーが挙げられる。ブロックコポリマーはトリブロックコポリマー又はより好ましくはペンタブロックコポリマーであってもよいが、ブロックコポリマーは、１種又は複数の追加のビニル芳香族ポリマーブロック、１種又は複数の追加の共役ジエンポリマーブロック、又は１種又は複数の追加のビニル芳香族ポリマーブロックと１種又は複数の追加の共役ジエンポリマーブロックの両方、又は星形ブロックコポリマー（たとえば、カップリングによって製造される）を有するマルチブロックであってもよい。所望に応じて、２種以上のブロックコポリマー（たとえば、２種以上のトリブロックコポリマー、２種以上のペンタブロックコポリマー又は１種以上のトリブロックコポリマー及び１種以上のペンタブロックコポリマー）のブレンドを使用することができる。シングルブロックの内部に２種以上の異なるジエンモノマーを使用することもでき、これから、たとえば、ＳＩＢＳとして示すことができる構造が得られよう。これらの代表的な構造は、これに限定されるものではないが、本発明の実施形態における使用に適し得るブロックコポリマーを例示する。いずれの場合においても、好ましいブロックコポリマーは、水素化に先立って示される。
【００２８】
「実質的に十分に水素化した」とは、水素化前のビニル芳香族ブロック内に存在する二重結合の９０パーセント（パーセント）以上が水素化されるか又は飽和され、水素化前のジエンブロック内に存在する二重結合の９５パーセント以上が水素化されるか又は飽和されることを意味する。
【００２９】
「十分に水素化した」とは、水素化前のビニル芳香族ブロック内に存在する二重結合の９５パーセント以上が水素化されるか又は飽和され、水素化前のジエンブロック内に存在する二重結合の９７パーセント以上が水素化されるか又は飽和されることを意味する。
【００３０】
好ましい水素化ブロックコポリマーは、水素化した重合済みビニル芳香族モノマーのブロックを２以上、及び水素化した重合済みジエンモノマーのブロックを１以上含む。好ましい水素化トリブロックコポリマーは、水素化した重合済みビニル芳香族モノマーを２ブロック、水素化した重合済みジエンモノマーを１ブロック、及び２０，０００超、好ましくは３０，０００以上、より好ましくは４０，０００以上、さらに好ましくは５０，０００以上、１５０，０００未満、好ましくは１２０，０００未満、より好ましくは１００，０００未満、さらに好ましくは９０，０００未満の総数平均水素化前分子量（Ｍｎ）を有する。好ましい水素化ペンタブロックコポリマーは、水素化した重合済みビニル芳香族モノマーを３ブロック、水素化した重合済みジエンモノマーを２ブロック及び３０，０００以上、好ましくは４０，０００以上、より好ましくは５０，０００以上、２００，０００まで、好ましくは１５０，０００まで、より好ましくは１２０，０００まで、さらに好ましくは１００，０００までの総Ｍｎを有する。
【００３１】
ブロックコポリマーは、水素化に先立ち、好ましくは水素化及びフィルムへの成形に先立ち、５５ｗｔパーセントから９０ｗｔパーセント未満、好ましくは６５ｗｔパーセントから８５ｗｔパーセントまで、さらに好ましくは、６５ｗｔパーセントから８０ｗｔパーセントまでの範囲内のスチレン含量、及び４５ｗｔパーセントから１０ｗｔパーセント以上まで、好ましくは３５ｗｔパーセントから１５ｗｔパーセントまで、さらに好ましくは、３５ｗｔパーセントからの２０ｗｔパーセントまでの範囲内の共役ジエンモノマー含量を有し、各ｗｔパーセントはブロックコポリマーの総重量に基づいており、一緒にすると１００ｗｔパーセントになるスチレン／共役ジエンモノマーのブロックコポリマーである。
【００３２】
スチレン含量が５５ｗｔパーセントを下回るにつれて、特にスチレン含量が５０ｗｔパーセント以下に低下するにつれて、当該ポリマーから調製されるフィルムの寸法安定性は失われ始める。スチレン含量範囲は、より好ましくは６０ｗｔパーセントから８５ｗｔパーセント未満まで、さらに好ましくは６５ｗｔパーセントから８０ｗｔパーセント未満である。逆に、共役ジエンモノマー含量範囲は、より好ましくは１５ｗｔパーセント以上４０ｗｔパーセントまで、さらに好ましくは２０ｗｔパーセント以上３５ｗｔパーセントまでである。
【００３３】
水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマー用のジエンモノマーの選択は、結晶化度の存在の有無にも、結晶化度が存在する場合の結晶化度の量にも影響を及ぼす。たとえば、水素化ポリイソプレンは交互ポリ（エチレン−ａｌｔ−プロピレン）繰り返し単位構造を有しており、少なくとも現在の技術によって、識別可能な結晶化度を示さない。水素化ポリブタジエンは、ポリエチレン成分に起因する結晶化度を呈することができるポリ（エチレン−ｃｏ−１−ブテン）繰り返し単位構造を有する。水素化ポリブタジエンブロックにおいて達成できる結晶性レベルは、少なくとも一部は、ポリマーの微細構造、すなわち、１，２−重合を経由して当該微細構造に組み込まれたブタジエンモノマー対１，４−重合を経由した組み込みの百分率に依存する。１，２−重合を経由して組み込まれたブタジエンモノマーの百分率が３０ｗｔパーセントを上回るにつれて、水素化ポリブタジエンブロックにおける明らかな結晶化度は減少し始める。同様に、水素化に先立って、イソプレン及びブタジエンモノマーのブレンドを含んだジエンブロックを有する水素化ブロックコポリマーの結晶化度は、ゼロと純粋な水素化ポリブタジエン成分によってもたらされる結晶化度との中間にある。
【００３４】
ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーは、好ましくは３重量パーセント（ｗｔパーセント）未満の結晶化度、より好ましくは１ｗｔパーセント未満の結晶化度、さらに好ましくは０．５ｗｔパーセント未満の結晶化度を有する。示差走査熱分析（ＤＳＣ）によって結晶化率（％）を測定する。
【００３５】
しかしながら、ゼロの結晶化度は、たとえば、加工品の中に存在する加工中の異方性ポリマー鎖の配向及び／又はブロックコポリマーモルフォロジーから生じる複屈折に少なくとも一部が起因して、ゼロの面内位相差（Ｒ０）とは一致しない。
【００３６】
非ブロックポリマー又はコポリマーを、光学フィルムがかなりの量の非ブロックポリマー又はコポリマーをさらに含むように１種以上のブロックコポリマーとブレンドしてもよい。例示的な非ブロックポリマー及びコポリマーとしては、これに限定されるものではないが、水素化ビニル芳香族ホモポリマー又はランダムコポリマー、ポリオレフィン、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー、アクリルポリマー、アクリルコポリマー及びそれらの混合物を挙げることができる。非ブロックポリマー又はコポリマーは、ブロックコポリマーとブレンドすると、混和し、ブロックコポリマーの１個以上の相の中に封入される。非ブロックポリマーの量は、ブロックコポリマー及び非ブロックコポリマーの総重量に基づいて、好ましくは０．５ｗｔパーセントから５０ｗｔパーセントまでの範囲に入る。この範囲は、より好ましくは、１ｗｔパーセントから４０ｗｔパーセントまで、さらに好ましくは、５ｗｔパーセントから３０ｗｔパーセントまでである。
【００３７】
追加例示的な非ブロックコポリマーとしては、ビニル芳香族ホモポリマー及び水素化したビニル芳香族モノマー及び共役ジエンのランダムコポリマーからなる群から選択されたポリマー（たとえばホモポリマー、ランダムコポリマー又はインターポリマー）が挙げられる。
【００３８】
「ホモポリマー」とは、単一のモノマー（たとえば、ポリスチレンホモポリマーのスチレンモノマー）の中で重合されたポリマーのことをいう。同様に、「コポリマー」とは、２種の異なるモノマー（たとえば、スチレンアクリロニトリルコポリマーのスチレンモノマー及びアクリロニトリルモノマー）の中で重合されたポリマーのことをいい、「インターポリマー」とは、３種以上の異なるモノマー（たとえば、エチレン／プロピレン／ジエンモノマー（ＥＰＤＭ）インターポリマーのエチレンモノマー、プロピレンモノマー及びジエンモノマー）の中で重合されたポリマーのことをいう。
【００３９】
本明細書に記載される光学フィルムは、偏光板アセンブリ用の保護フィルム、特に、光入射角の範囲にわたって（たとえば、法線からフィルムまでの約９０°まで、９０°超、又は９０°未満）ニアゼロ位相差を備える偏光フィルム積層体が必要とされるＩＰＳ方式のＬＣＤ ＴＶセット又は他の任意の撮像装置において使用する偏光板アセンブリ用に有用である。このようなフィルムは、反射型及び半透過型ＬＣＤディスプレイにおいて使用される１／４波長板の保護フィルムとしても用いられている。このようなフィルムは、ａ）防眩性フィルム又は反射防止フィルム用のベースフィルム基板又は層、ｂ）直線偏光板又は円偏光フィルム用のベースフィルム基板又は層、或いはｃ）タッチスクリーンフィルムのうちの任意の１種又は複数としてさらに用いられている。
【００４０】
本明細書に記載されている光学フィルムは、単一すなわち単層フィルムであってもよいし、又は多層フィルム構造の１層又は複数の層を構成してもよい。光学フィルムは、２枚の、間隔を空けて離れた、好ましくは実質的に平行な主要面を有する。光学フィルムは、所望に応じて、酸化防止剤、紫外線（ＵＶ）光安定剤、可塑剤、離型剤、帯電防止剤、又はポリマーフィルムを製造する際に使用した他の従来の添加剤などの従来の添加剤を１種以上含んでもよい。
【００４１】
光学フィルムは、従来の架橋添加剤（たとえば、シロキサン）及び架橋を開始するための紫外光、水分又は熱を使用することを含んだ従来の架橋機構を用いて、少なくとも部分的に架橋することができる。架橋は、フィルム押出し後に起こり得る。いずれにしても、架橋の程度は、他の光学フィルムの機能又は特性の中でも、とりわけフィルムの鮮明性又は透明性を損なうゲルの形成が誘導されない限りは、有益となり得る。
【００４２】
光学フィルムを作製するために用いる組成物は、高密度デジタルビデオディスク及び光ピックアップレンズを含むが、これに限定されない低い位相差の恩恵を受ける他の製品を製造する際にも便利である。当業者は、ディスク又はレンズを成型する場合、フィルム押出しと異なる製造方法を必要とし、ひいては光学パラメータ及び物性性能要件の異なる１組が導かれ得ることを知っている。
【００４３】
光学フィルムは、好ましくはＰｌａｓｔｉｃｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ，Ｉｎｃ．、第４版、１５６、１７４、１８０、及び１８３頁（１９７６）において教示されるような溶融押出し又は溶融流延法から得られる。代表的な溶融流延法は、ポリマー又はポリマーのブレンドを固体（たとえば粒状又はペレット）状態から溶融状態すなわち溶融ポリマーに変換するのに十分な設定点温度、押出し機スクリュー速度、押出し機のダイ間隔の設定、及び押出し機背圧で運転するＫｉｌｌｉｏｎ Ｅｘｔｒｕｄｅｒｓ，Ｉｎｃ．製のミニ−キャストフィルムライン（mini-cast film line）などの溶融押出し機の使用を含む。ＵＳＰ第６，９６５，００３号（Ｓｏｎｅら）において開示される「Ｔダイ（T-die）」又はＭｏｄｅｒｎ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、Ｍｏｄｅｒｎ Ｐｌａｓｔｉｃｓ；Ｃｈａｒｌｅｓ Ａ Ｈａｒｐｅｒ編、（ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ、２０００）、第５章、Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ｏｆ Ｔｈｅｒｍｏｐｌａｓｔｉｃｓ、６４〜６６頁において開示される「コートハンガーダイ（coat hanger die）」などの従来のフィルム成形ダイを使用して、上述した物理的特性及びパフォーマンスパラメータを満たしているフィルムを作製する。
【００４４】
上記の光学フィルムを、特に押出し流延又は押出しカレンダリング、溶液流延法などの他の技術をも含んでいる周知のフィルム製造技術によって調製する。押出し流延については、適切な溶融加工は、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックポリマーの秩序−無秩序温度（ＴＯＤＴ）から、ＴＯＤＴが存在する場合は、３１０（℃）未満まで、又はＴＯＤＴが存在しない場合は１８０℃から３１０（℃）未満まで、好ましくは２００℃から２８０℃までの範囲である。
【００４５】
場合によっては、本発明の水素化ビニル芳香族共役ジエンブロックコポリマーのＴＯＤＴは、そのＴｇより低いため到達できないこともある。好ましい溶融加工ウィンドウは、Ｔｇ＋３０℃（超）であるが３１０℃未満、より好ましくはＴｇ＋５０℃超であるが２８０℃以下の温度で、ポリマー溶融物を押し出すことが可能になる。他の場合では、水素化ビニル芳香族共役ジエンブロックコポリマーのＴＯＤＴがあまりに高いために（３１０℃超）、このようなコポリマーを溶融押出しによってフィルム又はシートに加工することが非常に困難であり、したがって本発明のいくつかの実施形態にそぐわない場合もある。到達できるＴＯＤＴ、すなわち、Ｔｇ超であるが３１０℃未満の水素化ビニル芳香族共役ジエンブロックコポリマーについては、低い位相差の光学フィルムの調製に適切な溶融押出し温度は、ＴＯＤＴ超であるが３１０℃未満、より好ましくはＴＯＤＴ＋２０℃超であるが３１０℃未満、さらにより好ましくはＴＯＤＴ＋５０℃超であるが３１０℃未満の溶融温度である。
【００４６】
「ＴＯＤＴ」は、ブロックコポリマーが、離散的で周期的な形態学的秩序を失って分子鎖の実質的に均一な溶融物に移行する温度を意味する。その秩序状態における水素化ブロックコポリマーの小角Ｘ線散乱（ＳＡＸＳ）画像は高異方性である。異方性は、ポリマー溶融物が、低周波（たとえば０．０１ラジアン／秒（ｒａｄ／ｓ）〜０．１ｒａｄ／ｓの周波数）及び大きい歪振幅振動せん断（たとえば１００パーセントから３００パーセントまでの歪振幅）の下でそのＴＯＤＴ未満の温度でせん断配向されるときに、最も明らかになる。ミクロ相分離したブロックコポリマーのせん断配向挙動は、周知であり、たとえばＴｈｅ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ、Ｉａｎ Ｈａｍｌｅｙ著、Ｏｘｆｏｒｄ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｐｒｅｓｓ、１９９８に見出すことができる。逆に、無秩序状態の水素化ブロックコポリマーのＳＡＸＳ画像からは、個々のポリマー鎖がランダムコイル構造を呈し始めるために、まったく異方性は検出されない。ポリマー溶融温度がポリマーのＴＯＤＴを超える場合は、この種のポリマー溶融物からのキャストフィルムは非常に透明で、ヘイズが非常に小さい傾向がある。ポリマー溶融温度がポリマーのＴＯＤＴをはるかに下回る場合（たとえばＴＯＤＴより３０℃超低い）、キャストフィルムの光透過性は加工条件によって影響される恐れがある。場合によっては、このようなフィルムは、フィルム表面上の微小な粗さが原因でわずかにかすんで見える恐れがある。後者の場合、このようなフィルムの透過度を改善するために、ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）より高い温度で後続のフィルム配向／延伸工程（２軸又は１軸のいずれか）を、用いることができる。
【００４７】
Ｉａｎ Ｈａｍｌｅｙは、Ｔｈｅ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ、２９〜３２頁、Ｏｘｆｏｒｄ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｐｒｅｓｓ、１９９８においてＴＯＤＴの測定を論じており、この教示内容は、法律により認められた最大範囲までを本明細書に組み込むものとする。
【００４８】
「未延伸の」（又は「未配向の」）フィルムは、押出し流延（又はカレンダリング）によって作製されたフィルムを意味し、そのように使用される。このようなフィルムの調製には、加熱下に（たとえば、フィルム作製に用いるポリマーのガラス転移温度以上の温度で）フィルムを延伸することによってフィルムを配向させる別の加工工程を含まない。当業者は、フィルムキャスティングの間及びさらなる加工用にキャストフィルムを巻いてロールにする間の一方又は両方で、ある程度の配向がキャストフィルムに起こることは避けられないことを知っている。本発明は、このような不可避の配向度を「配向」又は「配向した」という定義から除外するものとする。
【００４９】
逆に、「延伸した」（又は「配向した」）フィルムの調製は、押出し流延（又はカレンダリング）によって作製されたフィルムの調製に続く別の加工工程を含む。別の加工工程は、フィルムを作製するために用いるポリマーのガラス転移温度以上の温度で、１軸又は２軸のいずれかに、フィルムを配向させること又は延伸することを含む。フィルム配向又はフィルム延伸の周知の方法の詳細については、たとえば、モノグラフ「Ｐｌａｓｔｉｃ Ｆｉｌｍｓ」、Ｊｏｈｎ Ｈ．Ｂｒｉｓｔｏｎ著、第８章、８７〜８９頁、Ｌｏｎｇｍａｎ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ ＆ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ（１９８８）を参照されたい。
【００５０】
溶融押出しが本発明のフィルムを加工する好ましい手段又は方法を表すが、所望に応じて、他のより好ましくない技術を使用してもよい。たとえば、溶剤の取り扱い及び溶剤除去が環境問題を含めた追加的な問題を提起することを認識した上で、溶液流延法を使用してもよい。また、プレス加工フィルムの手順によってフィルムを調製してもよい。
【００５１】
押出し流延については、キャストロール又は冷却ロールの温度は、１１０℃未満が満足な結果を与える。キャスト又は冷却ロールの温度は、好ましくは１００℃未満、より好ましくは９５℃未満である。キャスト又は冷却ロールの温度の実用的な下限は、４０℃である。
【００５２】
光学フィルムの厚みは、好ましくは２５０マイクロメートル（μｍ）未満、より好ましくは１５０μｍ以下、さらに好ましくは１００μｍ以下である。フィルムの厚みの実用的な下限は１５μｍであり、好ましいフィルムの厚みの下限は２５ｎｍである。
【００５３】
一旦調製されると、光学フィルムは１つ又は複数の後加工操作にかけることができる。たとえば、フィルムが測定可能な融解温度を有する場合、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーの融解温度（Ｔｍ）からそのＴｇまでの範囲内の温度でアニールして、フィルムの光学及び機械特性の中の１種又は複数を改善することができる。例示的なアニーリング温度の範囲は、７０℃から１００℃までである。アニーリングの代替として、フィルムは、１方向以上（たとえばその縦方向（ＭＤ）及び／又はその横方向（ＴＤ））に、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーのＴｇ−１０℃からそのＴｇ＋７５℃までの範囲の温度で、配向させるか又は延伸することができる。この範囲は、好ましくはＴｇからＴｇ＋ ５０℃までである。
【実施例】
【００５４】
以下の例で、本発明を例示するが、これに限ったものではない。すべての温度は、℃で表記する。本発明の実施例（Ｅｘ）はアラビア数字によって示し、比較例（Ｃｏｍｐ Ｅｘ又はＣＥｘ）は大文字のアルファベット文字によって示す。特に明記しない限り本明細書において、「室温」又は「周囲温度」は、公称２５℃である。
【００５５】
水素化スチレンブロックコポリマーのＴＯＤＴを、２３０℃の温度でこのコポリマーの一定分量をまず圧縮成形して２５ミリメートル（ｍｍ）の直径及び１．５ｍｍの厚みを有する円形の、ディスク形の試験片にすることによって測定する。この試験片に、線形粘弾性領域の動的レオロジー特性の決定を行うことにより、０．１ラジアン／秒（ｒａｄ／ｓｅｃ）の発振周波数及び１パーセントの歪振幅で作動している平行平板レオメータ（ＡＲＥＳ ｒｈｅｏｍｅｔｅｒ、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ、Ｎｅｗ Ｃａｓｔｌｅ、ＤＥ）を使用して、１６０℃から３００℃までの温度領域にわたって０．５℃／分の速度で加熱する際の立ち上がり時の低周波弾性率の不連続点を探し出す。動的レオロジーの測定に先立って、試料を１６０℃で３０分間熱的平衡状態に置く。この様式におけるＴＯＤＴの測定の精度は、±５℃である。
【００５６】
ＥＸＩＣＯＲ（商標）１５０ＡＴＳ（Ｈｉｎｄｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ）装置、及び６３３ナノメートル（ｎｍ）の波長を用いて、識別できる外観欠損を含まないフィルムの一部からフィルムの矩形区画（ＭＤ方向に３０ミリメートル（ｍｍ）でＴＤ方向に１００ｍｍ）を選択することと、矩形区画の異なる領域にわたって位相差に関する１２０個以上の独立した測定を行うこととによって、フィルムサンプルの位相差を測定する。それぞれの測定値は、５ｍｍ×５ｍｍのフィルム面積を測定していることを表す。入射光が矩形のフィルム区画の主平面に対して直角であるときに、Ｒ０を測定する。１２０個以上の独立した測定値の平均として面内位相差（Ｒ０）を記し、フィルムのその区画で実施したすべての独立した測定値に基づいてＲ０の標準偏差を算出する。上記の通りにＲｔｈを算出する。識別できる外観欠損を含まないフィルムの一部から、５個の独立した測定値の平均として、フィルムのＲｔｈを記す。その遅相軸方向又はその進相軸方向のいずれかに関してフィルムを４０°傾けることによって、斜入射光の入射角Ｒ４０を測定する。Ｒ０測定からフィルムの遅相軸方向又は進相軸方向を決定する。フィルム遅相軸方向がそのｘ軸であり、このｘ軸がまた、Ｒ４０測定のための傾斜軸であると仮定すると、以下の３つの方程式から（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）の値を解くことによってＲｔｈを算出することができる。
【００５７】
【数１】
上記３つの方程式において、ｎ０はフィルム作製に使用したポリマーの屈折率であり（株式会社アタゴ製の多波長アッベ（Abbe）屈折計ＤＲ−Ｍ２で測定される）、ｄはフィルムの厚みを表し、角θは次の方程式によって算出される。
【００５８】
【数２】
上記３つの方程式の解及びｄに基づいて、Ｒｔｈを次のように算出する：
【００５９】
【数３】
【００６０】
ＤＳＣ分析及びモデルＱ１０００ＤＳＣ（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ、Ｉｎｃ．）を使用して、水素化スチレン系ブロックコポリマー又はフィルム試料の総重量を基準にして、重量結晶化率（Ｘパーセント）を決定する。ＤＳＣ測定の一般原理及び半結晶性ポリマーを研究することへのＤＳＣの利用は、標準のテキスト（たとえば、Ｅ．Ａ．Ｔｕｒｉ編、Ｔｈｅｒｍａｌ Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ、１９８１）に記載されている。
【００６１】
Ｑ１０００用に推奨された標準手順に従って、最初にインジウム、次いで水を用いてモデルＱ１０００ＤＳＣを較正して、インジウムの融解熱（Ｈｆ）及び融解開始温度が、それぞれ、定められた標準（２８．７１Ｊ／ｇ及び１５６．６℃）から０．５ジュール／グラム（Ｊ／ｇ）及び０．５℃以内であり、水の溶融開始温度が、０℃から０．５℃以内であることを確実にする。
【００６２】
２３０℃の温度でポリマー試料をプレスして薄いフィルムにする。ＤＳＣ試料皿に、５ミリグラム（ｍｇ）から８ｍｇまでの重量の１片の薄いフィルムを配置する。皿上の蓋を圧着して確実に密閉する。
【００６３】
ＤＳＣのセルの中に試料皿を配置し、この皿の内容物を、約１００℃／分の速度で２３０℃の温度まで加熱する。約３分間その温度で皿の内容物を維持し、次いで−６０℃の温度まで１０℃／分の速度で皿の内容物を冷却する。皿の内容物を等温で３分間−６０℃に保ち、次に皿の内容物を「第２加熱」と呼ぶステップにおいて、１０℃／分の速度で２３０℃まで加熱する。
【００６４】
ピーク融解温度、結晶化開始温度及びピーク結晶化温度及びＨｆ（融解熱としても知られる）については、上述のポリマーフィルム試料の第２加熱から得られるエンタルピー曲線を解析する。直線のベースラインを用いて融解の開始から融解の終わりまで融解吸熱曲線下の面積を積分することによって、Ｊ／ｇを単位としてＨｆを測定する。
【００６５】
１００パーセント結晶性ポリエチレンのＨｆは、当該技術分野において承認されている２９２Ｊ／ｇである。以下の方程式を用いて、水素化スチレンブロックコポリマー又はフィルム試料の総重量を基準にして、重量結晶化率（Ｘパーセント）を算出する。
Ｘパーセント＝（Ｈｆ／２９２）×１００パーセント
【００６６】
水素化ビニル芳香族共役ジエンブロックコポリマーを、水素化に先立ち、ブロックコポリマー用の溶媒としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を使用して、ゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）にかけることによって、このブロックコポリマーの分子量分析を行う。Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｌａｂｓ，Ｉｎｃ．製の分布の狭い分子量のポリスチレン標準を用いて、ＧＰＣカラムを較正する。標準の分子量は、５８０ダルトンから３，９００，０００ダルトンまでに及ぶ。水素化前のブロックコポリマーのＭｎ又は重量平均分子量（Ｍｗ）をポリスチレン換算値として記す。
【００６７】
結晶化度がゼロか又は極端に低い結晶化度である十分に水素化したビニル芳香族共役ジエンブロックコポリマーのＧＰＣ分析を、二元溶媒（デカリン／ＴＨＦ、デカリンはデカヒドロナフタレン（Ｃ１０Ｈ１８）の短縮形である）の使用により、水素化ブロックのような試料を最初に溶解してポリマー溶液を形成して、次いで、４０℃で移動相として流れるＴＨＦによって従来のＧＰＣシステム（たとえば、Ｈｅｗｌｅｔ Ｐａｃｋａｒｄ ＨＰ１０９０）を使用してポリマー溶液を分析することにより行う。同様に、十分に水素化したブロックコポリマーのＭｎ又は重量平均分子量（Ｍｗ）をポリスチレン換算値として記す。
【００６８】
下の表１は、次の実施例（Ｅｘ）及び比較例（Ｃｏｍｐ Ｅｘ）で使用する水素化スチレン系ブロックコポリマー材料及び他の材料を要約したものである。比較例Ａは、商標表記「ＺＥＯＮＯＲ（商標）ＺＦ−１４ フィルム」の下に日本ゼオンから市販されている環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムである。表１において、１，２−ビニル含量（１，２−ブタジエン又は１，２−イソプレン含量としても知られる）を水素化前にポリマーに存在する共役ジエン総含量に対するパーセントとして示す。表１において、Ｍｎという用語は、上述のように溶媒としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を使用するＧＰＣ分析に基づくポリスチレン換算分子量のことをいう。Ａ及びＥ以外のすべての材料について、Ｍｎ値は、水素化の前のポリマー特性を反映している。材料Ａ及びＥのＭｎは、上に詳述したように二元溶媒を使用するＧＰＣ分析によって十分に水素化したポリマーに対して測定された値である。純粋の水素化ポリイソプレンの結晶化度はゼロであるべきなので、材料Ａの結晶化度は予想外に低い量である。
【００６９】
【表１】
「nd」は未測定を意味する。
* Mn測定は、水素化前のポリマーではなく(十分に水素化した)後のポリマーに基づいた。
**は、比較例を作製するために使用した樹脂、又は材料を意味する。
【００７０】
（実施例１〜実施例１６及び比較例Ａ〜比較例Ｉ）
上記表１から選択された水素化スチレン／共役ジエンブロックコポリマー及びＫｉｌｌｉｏｎ Ｅｘｔｒｕｄｅｒｓ、Ｉｎｃ．製のミニキャストフィルムラインを使用して、未延伸単一層ポリマーフィルム材料の試料を調製する。フィルムラインは２４：１の長さと直径の比（Ｌ／Ｄ）を有し、以下の表２に示すような設定点押出し温度で操作する２５ｍｍの押出し機を含む。この押出し機は、コートハンガー押出しダイ（ダイギャップが０．０４０インチ（１ｍｍ）に設定され、１０インチ（２５．４ｃｍ）の幅）と協働する。ダイは、２００℃から２９０℃までの範囲内の設定点温度で操作する。フィルムラインも、セラミックコーティングした８インチ（２０．３ｃｍ）の直径及び１２インチ（３０．５ｃｍ）の幅を有するキャスティングロールを備え、８５℃から９０℃までの範囲内の設定点温度で操作する。押出し機の押出し量を毎時約５ポンド（毎時１１ｋｇ）の一定に保ち、製造されるフィルム厚さ（４０μｍ、６０μｍ、８０μｍ又は１３０μｍ）に基づいてキャストロール速度を変化させる。それぞれの異なるフィルムサンプルについては、表２にフィルム厚さ、Ｒ０及びＲｔｈも示す。
【００７１】
【表２】
「ND」は未測定を意味する。
* は、フィルムが粘着し過ぎ又は粘つき過ぎて、有用な測定ができなかったことを意味する。
【００７２】
上の表２に示されるデータは、いくつかの観察結果を裏付ける。第１に、実施例１〜６は、２５０℃から２８０℃までの３０℃以上の溶融加工温度ウィンドウにわたり、広範囲の厚みで、７０ｗｔパーセントのスチレン含量を有する水素化ＳＩＳＩＳペンタブロックコポリマーを用いて、非常に低いＲ０（１ｎｍ未満）及びＲｔｈ（２ｎｍ未満）を有する光学フィルムを調製できることを示している。第２に、実施例７〜１６及び比較例Ｂ〜比較例Ｆは、Ｍｎ値及び７０ｗｔパーセントから９０ｗｔパーセントにわたるスチレン含量を変化させた状態で、種々の水素化ペンタブロックコポリマー（実施例７〜９についてはＳＩＳＩＳ並びに実施例１０〜１６及び比較例Ｂ〜比較例ＦについてはＳＢＳＢＳ）から光学フィルムを調製する際に、加工温度が重要な役割を果たすことを示している。溶融加工又は押出し温度が最適溶融加工温度未満（たとえば、上記の３０℃溶融加工温度ウィンドウより低い）であると、実施例７〜１６でのように、得られたキャストフィルムはある程度の分子配向を有すると考えられ、次いで、実施例１〜６（たとえば実施例７についての３．４のＲ０に対して実施例１についての０．２９のＲ０）の位相差よりかなり高い位相差のレベルを示す。第３に、比較例Ｂ〜比較例Ｆは、ポリマー組成物（すなわちスチレン含量及び結晶化度）及びフィルムの厚みが位相差特性（特にＲ０）に影響することを示す。比較例Ｇ及び比較例Ｈは、ペンタブロックＳＢＳＢＳ構造であっても、過剰の結晶化度（たとえば７．０パーセント以上）がＲ０に悪影響を与え、フィルム押出しに使用する溶融加工温度に関わりなく、ニアゼロＲ０及びＲｔｈ値が必要とされる最終用途において、このようなペンタブロックＳＢＳＢＳ構造を使用することが不適切であることを示している。第４に、比較例Ｉは、極端にスチレン含量が低いと（この場合、水素化前ポリマーの総重量に基づいて５０ｗｔパーセント）ニアゼロＲ０及びＲｔｈ値が必要とされる用途では、光学フィルムとして使用するには軟らか過ぎ粘着性過ぎる水素化ポリマーを与えることを示す。第５に、比較例Ａは、実施例１〜６のＲ０値が１ｎｍ未満であるのに対して、ＣＯＰフィルムのＲ０は、そのＲ０が５．９であるように、ゼロに近くないことを示す。
【００７３】
（実施例１７〜１９及び比較例Ｊ〜Ｋ）
実施例１を繰り返すが、以下の表３に示すような延伸比を使用して、延伸温度１５０℃の比較例Ｋ以外はすべて１４５℃の延伸温度で、配向を開始し、実施例１７、実施例１８及び比較例Ｋについては２軸延伸を、そして実施例１９及び比較例Ｊについては１軸（縦方向）延伸を行う。表３は、未延伸フィルム特性及び延伸フィルム特性も示す。比較例Ｋは、比較例Ａで使用したフィルムと同じであり、未延伸のもの（比較例Ａと同じ）も、延伸したものも表３に示す。実施例１７及び比較例Ｊは材料Ｅを使用し、実施例１８及び実施例１９は材料Ｂを使用し、両者とも上の表１に示す。
【００７４】
【表３】
ndは未測定であることを意味する。
【００７５】
表３に示されるデータは、１軸又は２軸のいずれであるかにかかわらず、フィルム配向によってＲ０もＲｔｈも増加することを示す。実施例１７及び比較例Ｊについてのデータは、いずれの場合も未延伸フィルム特性と比較して、１軸延伸（比較例Ｊ）が、２軸延伸（実施例１７）より大きなＲ０及びＲｔｈの増加を引き起こすことを示唆する。実施例１８及び実施例１９についてのデータは、２軸延伸が材料Ｂについての１軸延伸よりＲ０及びＲｔｈの増加がいくぶん低く、それぞれの例における増加は、実施例１７についての増加と同等で比較例Ｊについて記述した増加よりはるかに少ないことを示す。材料Ｂと材料Ｅの間の延伸に対する異なる応答についての考えられる説明は、材料Ｂは、材料Ｅよりも水素化前スチレン含量が高くて、ブロックコポリマーモルフォロジーが明確でなく、その一方又は両方が、それに対応して配向誘起性の複屈折をより下げる傾向にする。比較例Ｋは、延伸ＣＯＰフィルムが、低位相差光学フィルム用途向けに、延伸前の同じＣＯＰフィルムほど好ましいものではないということを示す。
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２００８年５月７日に出願された「ニアゼロ位相差のフィルム（ＮＥＡＲ−ＺＥＲＯ ＯＰＴＩＣＡＬ ＲＥＴＡＲＤＡＴＩＯＮ ＦＩＬＭ）」という表題の、米国仮特許出願第６１／０５１，１６０号の優先権を主張する通常出願であり、この教示内容は、下記にすべてを転載したかのように、参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、一般にポリマーフィルム、特に水素化ブロックコポリマー、好ましくは実質的に水素化したブロックコポリマー、及びさらに好ましくは十分に水素化したブロックコポリマーを含むポリマーフィルムに関し、水素化前のブロックコポリマーは、ビニル芳香族モノマー及びジエン（たとえば１，３−ブタジエン、イソプレン又はそれらの混合物などの共役ジエン）のコポリマーである。本発明は、特に、それぞれ、Ｒ０及びＲｔｈと表記されるフィルム面及び厚み方向の両方において位相差が非常に低い（約ゼロナノメートル（ｎｍ））フィルムに関する。本発明は、延伸（配向）又は未延伸（未配向）のいずれであるかにかかわらず、液晶表示（ＬＣＤ）テレビジョン（ＴＶ）セットの色調改善及び視野角増大、又は他の表示装置の光学素子を含むが、それだけには限らないさまざまな最終用途におけるこのような光学フィルムの用途にも関する。
【背景技術】
【０００３】
ＬＣＤ ＴＶセットの製造業者は、一般に多層の前面偏光板アセンブリ、多層の後面偏光板アセンブリ、並びにこのようなアセンブリにはさまれた液晶ガラスセル又は層を含む構造を使用している。各偏光板アセンブリは、順序通りに、かつ有効に（好ましくは物理的な、より好ましくは、物理的で層状の結合又は接着状態の）接触をして、外側の保護層又はフィルムと、一般に偏光層又はフィルム（前面偏光板アセンブリの場合の前面偏光層及び後面偏光板アセンブリの場合の後面偏光層）としてヨウ素などの二色性物質を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムと、内側保護層又はフィルムとを含む。「内側」及び「外側」は、液晶ガラスセル又は層に対して保護層を配向させており、内側は、液晶ガラスセル又は層の表面、好ましくは主要面、より好ましくは主平面に隣接しており、好ましくは隣接しており、かつ物理的に又は有効に接触していて、外側は前記液晶ガラスセル又は層から遠く離れて配置されている。
【０００４】
多数のＬＣＤデバイス用に、たとえば面内切替型（ＩＰＳ）方式のＬＣＤ ＴＶにおいて、ＬＣＤディスプレイ製造業者は、光入射のすべての角における位相差がゼロｎｍに近い、好ましくは約ゼロｎｍであり、最も好ましくはゼロｎｍに等しい内側保護層を要望している。
【０００５】
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムはニアゼロ位相差を提供する１種類の物質を構成するが、このようなフィルムには、時間とともに吸湿して寸法安定性を損なう感湿傾向がある。
【０００６】
環状オレフィンのポリマー（「ＣＯＰ」）又はコポリマー（「ＣＯＣ」）は、ＴＡＣフィルムより感湿性が低いが、この種のＴＡＣフィルムよりかなり高いＲ０及びＲｔｈを有するフィルムをもたらす。たとえば、一般的なＣＯＰフィルムのＲ０は、５ｎｍから１０ｎｍまでの範囲に入る。一般的なＣＯＣフィルムは、ＣＯＰフィルムよりわずかに低い位相差値を取り得るが、製造業者は、ＣＯＣフィルムが偏光フィルムアセンブリの保護フィルムとしての用途には、あまりにも脆弱であると考えている。
【０００７】
米国特許出願公開第２００３／００３１８４８号（サワダら）には、飽和ノルボルネン樹脂などの非結晶熱可塑性樹脂の溶融押出しにより作製された、１００マイクロメートル（μｍ）未満の厚みを有する光学フィルムが開示されている。
【０００８】
２００７年１１月２０日に出願された米国仮特許出願第６０／９８９１５４号には、複屈折が０．００１から０．０５までの範囲であり、波長６３３ｎｍにおけるＲ０が２５ｎｍから５００ｎｍまでの範囲であるポリマーフィルムが開示されている。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
いくつかの実施形態では、本発明は、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーを含む光学フィルムであり、この光学フィルムは、６３３ｎｍの波長で、フィルムの主平面に対し垂直に向けた入射光を使用して測定したＲ０が５ｎｍ未満であり、次式（（（ｎｘ＋ｎｙ）／２）−ｎｚ）ｄ）によって表されるＲｔｈが１０ｎｍ未満である。水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーは、好ましくは実質的に十分に水素化したビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマー、より好ましくは、十分に水素化したビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーである。あるいは、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーは、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマー、実質的に十分に水素化したビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマー、及び十分に水素化したビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーのうちの２種以上のブレンドである。
【００１０】
フィルムの主平面に垂直な入射光を使用するＲ０測定及び４０度（４０°）の斜光の入射角で得られた測定値からＲｔｈを算出する。その遅相軸方向又はその進相軸方向のいずれかに関してフィルムを４０°に傾けることによって、斜入射光の入射角を測定する。Ｒ０測定からフィルム遅相軸方向、又は進相軸方向を決定する。光学フィルムは、未延伸であってもよく（たとえば、実質的に、ほとんど機械的な配向を誘発しない方法によって調製されるように）、又は１軸、２軸又は多軸のいずれであるかにかかわらず当業者にとって公知の従来技術によって延伸してもよい。光学フィルムは、未延伸フィルムが好ましい。延伸した場合、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーの結晶化度は、好ましくは、全フィルム重量に基づいて、３重量パーセント未満である。
【００１１】
光学フィルムは、ＩＰＳ方式のＬＣＤ装置の内側保護層として使用することができる。
【００１２】
いくつかの実施形態では、本発明は偏光板アセンブリであり、この偏光板アセンブリはＰＶＡフィルム層及び保護フィルム層を含み、このＰＶＡフィルム層はその主平面の少なくとも１面に上記の光学フィルムを含む保護フィルム層を付着させてあるものである。各保護フィルムは、ＰＶＡフィルム層の主平面と有効に接触しており、好ましくは接着剤を介して接着接触している。必要に応じて、コロナ処理、又はプラズマ処理などの周知の技術によってフィルムを処理することにより接着結合を改善することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
光学フィルムは、ＴＡＣベースの光学フィルムにおいて現在使用されている任意の光添加剤（たとえば、棒状又は円板状液晶分子）も任意選択で含む。しかしながら、光学フィルムは、ニアゼロＲ０及びＲｔｈを達成するために１つ又は複数の光添加剤を含む必要はない。
【００１４】
本明細書で範囲を、２から１０までの範囲というように規定する場合、範囲の両方の終点（たとえば２及び１０）及び各数値はこの種の値が有理数又は無理数のいずれであるかにかかわらず、特に除外されない限り、範囲の中に含まれるものとする。
【００１５】
「含んでいる（comprising）」及びその派生語は、同じことが本明細書において開示されているかどうかにかかわらず、任意の追加的な要素、工程又は手順の存在を排除するものではない。対照的に、「本質的に〜からなっている（consisting essentially of）」は、その直後の任意の記述範囲から、実施可能性に必要でない要素、工程又は手順を除いて、他の任意の要素、工程又は手順を排除する。「〜からなっている（consisting of）」は、特に詳細に描写も列挙もされていない任意の要素、工程又は手順を排除する。「又は」とは、特に指定しない限り、列挙した構成部分のそれぞれ並びに任意の組合せを指す。
【００１６】
温度は、その等価な℃とともに華氏（°Ｆ）又はより一般的に単に℃のいずれかによって表してもよい。
【００１７】
他に示されていない限り、又は文脈から暗黙的でない限り、又は当該技術分野において慣習的でない限り、すべての部及びパーセントは重量に基づくものとする。
【００１８】
米国特許実務のために、本明細書において参照される任意の特許、特許出願又は刊行物の内容は、本明細書にその全体が参照により組み込まれ（又は、その等価な米国版が、同じように参照により組み込まれる）、特に、合成技術、（本明細書に示す任意の定義と矛盾しない程度の）定義、及び当分野における一般知識の開示内容に関して参照により組み込まれる。
【００１９】
説明及び例は、どのような形であれ本発明を規定又は制限するのではなく、例示するのに役立ち、本発明のすべての可能な実施形態の網羅的な又はすべてを含んだリストを構成するというわけではない。
【００２０】
本明細書で使用している「ニアゼロ位相差」とは、Ｒ０が５ｎｍ未満であり、Ｒｔｈが１０ｎｍ未満であることを意味する。Ｒ０は、好ましくは３ｎｍ未満、より好ましくは２ｎｍ未満、より好ましくは１ｎｍ未満、さらに好ましくは０．５ｎｍ未満である。Ｒｔｈは、好ましくは５ｎｍ未満であり、より好ましくは３ｎｍ未満である。
【００２１】
本明細書において記載されている光学フィルムは、好ましくは水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーを含む。水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーは、より好ましくは実質的に十分に水素化し、さらに好ましくは十分に水素化したビニル芳香族／共役ジエンポリマーである。いずれの場合においても、「水素化した」という用語は、ビニル芳香族部分及び共役ジエン部分の両方に存在する二重結合の水素化のことをいう。
【００２２】
耐熱性並びに弾性率及び靱性などの機械的特性の一方又は両方の低下を受け入れることを決めるならば、好ましい水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーの全部又は一部の代わりに、十分に水素化した、ランダムなビニル芳香族／共役ジエンコポリマーを使用することができる。たとえば、１００℃の最低ガラス転移温度（Ｔｇ）を必要とする場合、このようなＴｇを有するランダムコポリマーの水素化前のビニル芳香族（たとえばスチレン）の含量は、水素化前のランダムコポリマーの総重量に基づいて、代表的に８５重量パーセント以上である。当業者は、通常、この種のランダムコポリマーから調製されたフィルムが、フィルムの切断及び取り扱い（たとえば積層）に必要なある程度の柔軟性又は非平面表面に順応する能力が必要とされる用途に使用するには、非常に脆弱であるため不適当であると考えている。
【００２３】
ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーは、水素化に先立って、異種（distinct）ブロック、テーパード（tapered）ブロック及び放射状ブロックを含むどのような周知の構造であってもよい。ビニル芳香族ブロック及び共役ジエンブロックを交互に含む異種ブロック構造は、特に、ビニル芳香族末端ブロックを有するそれぞれのケースで、当該ブロック構造がトリブロックコポリマー又はペンタブロックコポリマーを生じるときに、好適な結果をもたらす。ペンタブロックコポリマーは、特に好適なブロックコポリマーを構成する。所望に応じて、ビニル芳香族ブロックは同一又は異なる分子量を有することができる。同様に、共役ジエンブロックは、同一又は異なる分子量を有することができる。
【００２４】
ビニル芳香族ブロックは、米国特許（ＵＳＰ）第６，６３２，８９０号（Ｂａｔｅｓら）、及び同第６，３５０，８２０号（Ｈａｈｎｆｅｌｄら）に教示された任意のビニル芳香族モノマーを含むことができる。代表的なビニル芳香族モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンのすべての異性体（特にパラビニルトルエン）、エチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセンなどのすべての異性体、及びそれらの混合物が挙げられる。ブロックコポリマーは、各ビニル芳香族ブロックにおいて１種又は複数の重合済みビニル芳香族モノマーを含むことができる。ビニル芳香族ブロックは、好ましくはスチレンを含み、より好ましくは本質的にスチレンからなり、さらに好ましくは、スチレンからなる。
【００２５】
共役ジエンブロックは、ＵＳＰ第６，６３２，８９０号及びＵＳＰ第６，３５０，８２０号に教示されるように、２個の共役二重結合を有する任意のモノマーを含むことができる。例示的かつ非限定的な共役ジエンモノマーの例としては、ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、イソプレン及びそれらの混合物が挙げられる。ビニル芳香族ブロックの場合と同様に、ブロックコポリマーは１種（たとえばブタジエン又はイソプレン）又は２種以上（たとえばブタジエン及びイソプレンの両方）を含むことができる。ブロックコポリマーの好ましい共役ジエンポリマーブロックは、水素化に先立って、ポリブタジエンブロック、ポリイソプレンブロック又は混合したポリブタジエン／ポリイソプレンブロックを含むことができる。ブロックコポリマーが、水素化に先立って、１個以上のポリブタジエンブロック及び１個以上のポリイソプレンブロックを含んでもよいが、水素化に先立って、ポリブタジエンブロック単独又はポリイソプレンブロック単独のみの共役ジエンブロックを有するブロックコポリマーが、好ましい結果をもたらす。単一のジエンモノマーが好ましいのは、主として製造の簡便さに由来する。
【００２６】
ＵＳＰ第６，３５０，８２０号には、ブロックを、コポリマーの構造的に又は組成的に異なるポリマーセグメントからミクロ相分離を呈することができるコポリマーのポリマーセグメントとして定義している。ミクロ相分離は、ブロックコポリマー内部のポリマーセグメントの不適合性のために起こる。
【００２７】
各ビニル芳香族ブロックが、スチレン（Ｓ）を含み、各共役ジエンブロックが、ブタジエン（Ｂ）又はイソプレン（Ｉ）を含む例示的な好ましいビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーとしては、ＳＢＳ及びＳＩＳトリブロックコポリマー並びにＳＢＳＢＳ及びＳＩＳＩＳペンタブロックコポリマーが挙げられる。ブロックコポリマーはトリブロックコポリマー又はより好ましくはペンタブロックコポリマーであってもよいが、ブロックコポリマーは、１種又は複数の追加のビニル芳香族ポリマーブロック、１種又は複数の追加の共役ジエンポリマーブロック、又は１種又は複数の追加のビニル芳香族ポリマーブロックと１種又は複数の追加の共役ジエンポリマーブロックの両方、又は星形ブロックコポリマー（たとえば、カップリングによって製造される）を有するマルチブロックであってもよい。所望に応じて、２種以上のブロックコポリマー（たとえば、２種以上のトリブロックコポリマー、２種以上のペンタブロックコポリマー又は１種以上のトリブロックコポリマー及び１種以上のペンタブロックコポリマー）のブレンドを使用することができる。シングルブロックの内部に２種以上の異なるジエンモノマーを使用することもでき、これから、たとえば、ＳＩＢＳとして示すことができる構造が得られよう。これらの代表的な構造は、これに限定されるものではないが、本発明の実施形態における使用に適し得るブロックコポリマーを例示する。いずれの場合においても、好ましいブロックコポリマーは、水素化に先立って示される。
【００２８】
「実質的に十分に水素化した」とは、水素化前のビニル芳香族ブロック内に存在する二重結合の９０パーセント（パーセント）以上が水素化されるか又は飽和され、水素化前のジエンブロック内に存在する二重結合の９５パーセント以上が水素化されるか又は飽和されることを意味する。
【００２９】
「十分に水素化した」とは、水素化前のビニル芳香族ブロック内に存在する二重結合の９５パーセント以上が水素化されるか又は飽和され、水素化前のジエンブロック内に存在する二重結合の９７パーセント以上が水素化されるか又は飽和されることを意味する。
【００３０】
好ましい水素化ブロックコポリマーは、水素化した重合済みビニル芳香族モノマーのブロックを２以上、及び水素化した重合済みジエンモノマーのブロックを１以上含む。好ましい水素化トリブロックコポリマーは、水素化した重合済みビニル芳香族モノマーを２ブロック、水素化した重合済みジエンモノマーを１ブロック、及び２０，０００超、好ましくは３０，０００以上、より好ましくは４０，０００以上、さらに好ましくは５０，０００以上、１５０，０００未満、好ましくは１２０，０００未満、より好ましくは１００，０００未満、さらに好ましくは９０，０００未満の総数平均水素化前分子量（Ｍｎ）を有する。好ましい水素化ペンタブロックコポリマーは、水素化した重合済みビニル芳香族モノマーを３ブロック、水素化した重合済みジエンモノマーを２ブロック及び３０，０００以上、好ましくは４０，０００以上、より好ましくは５０，０００以上、２００，０００まで、好ましくは１５０，０００まで、より好ましくは１２０，０００まで、さらに好ましくは１００，０００までの総Ｍｎを有する。
【００３１】
ブロックコポリマーは、水素化に先立ち、好ましくは水素化及びフィルムへの成形に先立ち、５５ｗｔパーセントから９０ｗｔパーセント未満、好ましくは６５ｗｔパーセントから８５ｗｔパーセントまで、さらに好ましくは、６５ｗｔパーセントから８０ｗｔパーセントまでの範囲内のスチレン含量、及び４５ｗｔパーセントから１０ｗｔパーセント以上まで、好ましくは３５ｗｔパーセントから１５ｗｔパーセントまで、さらに好ましくは、３５ｗｔパーセントからの２０ｗｔパーセントまでの範囲内の共役ジエンモノマー含量を有し、各ｗｔパーセントはブロックコポリマーの総重量に基づいており、一緒にすると１００ｗｔパーセントになるスチレン／共役ジエンモノマーのブロックコポリマーである。
【００３２】
スチレン含量が５５ｗｔパーセントを下回るにつれて、特にスチレン含量が５０ｗｔパーセント以下に低下するにつれて、当該ポリマーから調製されるフィルムの寸法安定性は失われ始める。スチレン含量範囲は、より好ましくは６０ｗｔパーセントから８５ｗｔパーセント未満まで、さらに好ましくは６５ｗｔパーセントから８０ｗｔパーセント未満である。逆に、共役ジエンモノマー含量範囲は、より好ましくは１５ｗｔパーセント以上４０ｗｔパーセントまで、さらに好ましくは２０ｗｔパーセント以上３５ｗｔパーセントまでである。
【００３３】
水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマー用のジエンモノマーの選択は、結晶化度の存在の有無にも、結晶化度が存在する場合の結晶化度の量にも影響を及ぼす。たとえば、水素化ポリイソプレンは交互ポリ（エチレン−ａｌｔ−プロピレン）繰り返し単位構造を有しており、少なくとも現在の技術によって、識別可能な結晶化度を示さない。水素化ポリブタジエンは、ポリエチレン成分に起因する結晶化度を呈することができるポリ（エチレン−ｃｏ−１−ブテン）繰り返し単位構造を有する。水素化ポリブタジエンブロックにおいて達成できる結晶性レベルは、少なくとも一部は、ポリマーの微細構造、すなわち、１，２−重合を経由して当該微細構造に組み込まれたブタジエンモノマー対１，４−重合を経由した組み込みの百分率に依存する。１，２−重合を経由して組み込まれたブタジエンモノマーの百分率が３０ｗｔパーセントを上回るにつれて、水素化ポリブタジエンブロックにおける明らかな結晶化度は減少し始める。同様に、水素化に先立って、イソプレン及びブタジエンモノマーのブレンドを含んだジエンブロックを有する水素化ブロックコポリマーの結晶化度は、ゼロと純粋な水素化ポリブタジエン成分によってもたらされる結晶化度との中間にある。
【００３４】
ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーは、好ましくは３重量パーセント（ｗｔパーセント）未満の結晶化度、より好ましくは１ｗｔパーセント未満の結晶化度、さらに好ましくは０．５ｗｔパーセント未満の結晶化度を有する。示差走査熱分析（ＤＳＣ）によって結晶化率（％）を測定する。
【００３５】
しかしながら、ゼロの結晶化度は、たとえば、加工品の中に存在する加工中の異方性ポリマー鎖の配向及び／又はブロックコポリマーモルフォロジーから生じる複屈折に少なくとも一部が起因して、ゼロの面内位相差（Ｒ０）とは一致しない。
【００３６】
非ブロックポリマー又はコポリマーを、光学フィルムがかなりの量の非ブロックポリマー又はコポリマーをさらに含むように１種以上のブロックコポリマーとブレンドしてもよい。例示的な非ブロックポリマー及びコポリマーとしては、これに限定されるものではないが、水素化ビニル芳香族ホモポリマー又はランダムコポリマー、ポリオレフィン、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー、アクリルポリマー、アクリルコポリマー及びそれらの混合物を挙げることができる。非ブロックポリマー又はコポリマーは、ブロックコポリマーとブレンドすると、混和し、ブロックコポリマーの１個以上の相の中に封入される。非ブロックポリマーの量は、ブロックコポリマー及び非ブロックコポリマーの総重量に基づいて、好ましくは０．５ｗｔパーセントから５０ｗｔパーセントまでの範囲に入る。この範囲は、より好ましくは、１ｗｔパーセントから４０ｗｔパーセントまで、さらに好ましくは、５ｗｔパーセントから３０ｗｔパーセントまでである。
【００３７】
追加例示的な非ブロックコポリマーとしては、ビニル芳香族ホモポリマー及び水素化したビニル芳香族モノマー及び共役ジエンのランダムコポリマーからなる群から選択されたポリマー（たとえばホモポリマー、ランダムコポリマー又はインターポリマー）が挙げられる。
【００３８】
「ホモポリマー」とは、単一のモノマー（たとえば、ポリスチレンホモポリマーのスチレンモノマー）の中で重合されたポリマーのことをいう。同様に、「コポリマー」とは、２種の異なるモノマー（たとえば、スチレンアクリロニトリルコポリマーのスチレンモノマー及びアクリロニトリルモノマー）の中で重合されたポリマーのことをいい、「インターポリマー」とは、３種以上の異なるモノマー（たとえば、エチレン／プロピレン／ジエンモノマー（ＥＰＤＭ）インターポリマーのエチレンモノマー、プロピレンモノマー及びジエンモノマー）の中で重合されたポリマーのことをいう。
【００３９】
本明細書に記載される光学フィルムは、偏光板アセンブリ用の保護フィルム、特に、光入射角の範囲にわたって（たとえば、法線からフィルムまでの約９０°まで、９０°超、又は９０°未満）ニアゼロ位相差を備える偏光フィルム積層体が必要とされるＩＰＳ方式のＬＣＤ ＴＶセット又は他の任意の撮像装置において使用する偏光板アセンブリ用に有用である。このようなフィルムは、反射型及び半透過型ＬＣＤディスプレイにおいて使用される１／４波長板の保護フィルムとしても用いられている。このようなフィルムは、ａ）防眩性フィルム又は反射防止フィルム用のベースフィルム基板又は層、ｂ）直線偏光板又は円偏光フィルム用のベースフィルム基板又は層、或いはｃ）タッチスクリーンフィルムのうちの任意の１種又は複数としてさらに用いられている。
【００４０】
本明細書に記載されている光学フィルムは、単一すなわち単層フィルムであってもよいし、又は多層フィルム構造の１層又は複数の層を構成してもよい。光学フィルムは、２枚の、間隔を空けて離れた、好ましくは実質的に平行な主要面を有する。光学フィルムは、所望に応じて、酸化防止剤、紫外線（ＵＶ）光安定剤、可塑剤、離型剤、帯電防止剤、又はポリマーフィルムを製造する際に使用した他の従来の添加剤などの従来の添加剤を１種以上含んでもよい。
【００４１】
光学フィルムは、従来の架橋添加剤（たとえば、シロキサン）及び架橋を開始するための紫外光、水分又は熱を使用することを含んだ従来の架橋機構を用いて、少なくとも部分的に架橋することができる。架橋は、フィルム押出し後に起こり得る。いずれにしても、架橋の程度は、他の光学フィルムの機能又は特性の中でも、とりわけフィルムの鮮明性又は透明性を損なうゲルの形成が誘導されない限りは、有益となり得る。
【００４２】
光学フィルムを作製するために用いる組成物は、高密度デジタルビデオディスク及び光ピックアップレンズを含むが、これに限定されない低い位相差の恩恵を受ける他の製品を製造する際にも便利である。当業者は、ディスク又はレンズを成型する場合、フィルム押出しと異なる製造方法を必要とし、ひいては光学パラメータ及び物性性能要件の異なる１組が導かれ得ることを知っている。
【００４３】
光学フィルムは、好ましくはＰｌａｓｔｉｃｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ，Ｉｎｃ．、第４版、１５６、１７４、１８０、及び１８３頁（１９７６）において教示されるような溶融押出し又は溶融流延法から得られる。代表的な溶融流延法は、ポリマー又はポリマーのブレンドを固体（たとえば粒状又はペレット）状態から溶融状態すなわち溶融ポリマーに変換するのに十分な設定点温度、押出し機スクリュー速度、押出し機のダイ間隔の設定、及び押出し機背圧で運転するＫｉｌｌｉｏｎ Ｅｘｔｒｕｄｅｒｓ，Ｉｎｃ．製のミニ−キャストフィルムライン（mini-cast film line）などの溶融押出し機の使用を含む。ＵＳＰ第６，９６５，００３号（Ｓｏｎｅら）において開示される「Ｔダイ（T-die）」又はＭｏｄｅｒｎ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、Ｍｏｄｅｒｎ Ｐｌａｓｔｉｃｓ；Ｃｈａｒｌｅｓ Ａ Ｈａｒｐｅｒ編、（ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ、２０００）、第５章、Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ｏｆ Ｔｈｅｒｍｏｐｌａｓｔｉｃｓ、６４〜６６頁において開示される「コートハンガーダイ（coat hanger die）」などの従来のフィルム成形ダイを使用して、上述した物理的特性及びパフォーマンスパラメータを満たしているフィルムを作製する。
【００４４】
上記の光学フィルムを、特に押出し流延又は押出しカレンダリング、溶液流延法などの他の技術をも含んでいる周知のフィルム製造技術によって調製する。押出し流延については、適切な溶融加工は、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックポリマーの秩序−無秩序温度（ＴＯＤＴ）から、ＴＯＤＴが存在する場合は、３１０（℃）未満まで、又はＴＯＤＴが存在しない場合は１８０℃から３１０（℃）未満まで、好ましくは２００℃から２８０℃までの範囲である。
【００４５】
場合によっては、本発明の水素化ビニル芳香族共役ジエンブロックコポリマーのＴＯＤＴは、そのＴｇより低いため到達できないこともある。好ましい溶融加工ウィンドウは、Ｔｇ＋３０℃（超）であるが３１０℃未満、より好ましくはＴｇ＋５０℃超であるが２８０℃以下の温度で、ポリマー溶融物を押し出すことが可能になる。他の場合では、水素化ビニル芳香族共役ジエンブロックコポリマーのＴＯＤＴがあまりに高いために（３１０℃超）、このようなコポリマーを溶融押出しによってフィルム又はシートに加工することが非常に困難であり、したがって本発明のいくつかの実施形態にそぐわない場合もある。到達できるＴＯＤＴ、すなわち、Ｔｇ超であるが３１０℃未満の水素化ビニル芳香族共役ジエンブロックコポリマーについては、低い位相差の光学フィルムの調製に適切な溶融押出し温度は、ＴＯＤＴ超であるが３１０℃未満、より好ましくはＴＯＤＴ＋２０℃超であるが３１０℃未満、さらにより好ましくはＴＯＤＴ＋５０℃超であるが３１０℃未満の溶融温度である。
【００４６】
「ＴＯＤＴ」は、ブロックコポリマーが、離散的で周期的な形態学的秩序を失って分子鎖の実質的に均一な溶融物に移行する温度を意味する。その秩序状態における水素化ブロックコポリマーの小角Ｘ線散乱（ＳＡＸＳ）画像は高異方性である。異方性は、ポリマー溶融物が、低周波（たとえば０．０１ラジアン／秒（ｒａｄ／ｓ）〜０．１ｒａｄ／ｓの周波数）及び大きい歪振幅振動せん断（たとえば１００パーセントから３００パーセントまでの歪振幅）の下でそのＴＯＤＴ未満の温度でせん断配向されるときに、最も明らかになる。ミクロ相分離したブロックコポリマーのせん断配向挙動は、周知であり、たとえばＴｈｅ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ、Ｉａｎ Ｈａｍｌｅｙ著、Ｏｘｆｏｒｄ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｐｒｅｓｓ、１９９８に見出すことができる。逆に、無秩序状態の水素化ブロックコポリマーのＳＡＸＳ画像からは、個々のポリマー鎖がランダムコイル構造を呈し始めるために、まったく異方性は検出されない。ポリマー溶融温度がポリマーのＴＯＤＴを超える場合は、この種のポリマー溶融物からのキャストフィルムは非常に透明で、ヘイズが非常に小さい傾向がある。ポリマー溶融温度がポリマーのＴＯＤＴをはるかに下回る場合（たとえばＴＯＤＴより３０℃超低い）、キャストフィルムの光透過性は加工条件によって影響される恐れがある。場合によっては、このようなフィルムは、フィルム表面上の微小な粗さが原因でわずかにかすんで見える恐れがある。後者の場合、このようなフィルムの透過度を改善するために、ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）より高い温度で後続のフィルム配向／延伸工程（２軸又は１軸のいずれか）を、用いることができる。
【００４７】
Ｉａｎ Ｈａｍｌｅｙは、Ｔｈｅ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ、２９〜３２頁、Ｏｘｆｏｒｄ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｐｒｅｓｓ、１９９８においてＴＯＤＴの測定を論じており、この教示内容は、法律により認められた最大範囲までを本明細書に組み込むものとする。
【００４８】
「未延伸の」（又は「未配向の」）フィルムは、押出し流延（又はカレンダリング）によって作製されたフィルムを意味し、そのように使用される。このようなフィルムの調製には、加熱下に（たとえば、フィルム作製に用いるポリマーのガラス転移温度以上の温度で）フィルムを延伸することによってフィルムを配向させる別の加工工程を含まない。当業者は、フィルムキャスティングの間及びさらなる加工用にキャストフィルムを巻いてロールにする間の一方又は両方で、ある程度の配向がキャストフィルムに起こることは避けられないことを知っている。本発明は、このような不可避の配向度を「配向」又は「配向した」という定義から除外するものとする。
【００４９】
逆に、「延伸した」（又は「配向した」）フィルムの調製は、押出し流延（又はカレンダリング）によって作製されたフィルムの調製に続く別の加工工程を含む。別の加工工程は、フィルムを作製するために用いるポリマーのガラス転移温度以上の温度で、１軸又は２軸のいずれかに、フィルムを配向させること又は延伸することを含む。フィルム配向又はフィルム延伸の周知の方法の詳細については、たとえば、モノグラフ「Ｐｌａｓｔｉｃ Ｆｉｌｍｓ」、Ｊｏｈｎ Ｈ．Ｂｒｉｓｔｏｎ著、第８章、８７〜８９頁、Ｌｏｎｇｍａｎ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ ＆ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ（１９８８）を参照されたい。
【００５０】
溶融押出しが本発明のフィルムを加工する好ましい手段又は方法を表すが、所望に応じて、他のより好ましくない技術を使用してもよい。たとえば、溶剤の取り扱い及び溶剤除去が環境問題を含めた追加的な問題を提起することを認識した上で、溶液流延法を使用してもよい。また、プレス加工フィルムの手順によってフィルムを調製してもよい。
【００５１】
押出し流延については、キャストロール又は冷却ロールの温度は、１１０℃未満が満足な結果を与える。キャスト又は冷却ロールの温度は、好ましくは１００℃未満、より好ましくは９５℃未満である。キャスト又は冷却ロールの温度の実用的な下限は、４０℃である。
【００５２】
光学フィルムの厚みは、好ましくは２５０マイクロメートル（μｍ）未満、より好ましくは１５０μｍ以下、さらに好ましくは１００μｍ以下である。フィルムの厚みの実用的な下限は１５μｍであり、好ましいフィルムの厚みの下限は２５ｎｍである。
【００５３】
一旦調製されると、光学フィルムは１つ又は複数の後加工操作にかけることができる。たとえば、フィルムが測定可能な融解温度を有する場合、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーの融解温度（Ｔｍ）からそのＴｇまでの範囲内の温度でアニールして、フィルムの光学及び機械特性の中の１種又は複数を改善することができる。例示的なアニーリング温度の範囲は、７０℃から１００℃までである。アニーリングの代替として、フィルムは、１方向以上（たとえばその縦方向（ＭＤ）及び／又はその横方向（ＴＤ））に、水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーのＴｇ−１０℃からそのＴｇ＋７５℃までの範囲の温度で、配向させるか又は延伸することができる。この範囲は、好ましくはＴｇからＴｇ＋ ５０℃までである。
【実施例】
【００５４】
以下の例で、本発明を例示するが、これに限ったものではない。すべての温度は、℃で表記する。本発明の実施例（Ｅｘ）はアラビア数字によって示し、比較例（Ｃｏｍｐ Ｅｘ又はＣＥｘ）は大文字のアルファベット文字によって示す。特に明記しない限り本明細書において、「室温」又は「周囲温度」は、公称２５℃である。
【００５５】
水素化スチレンブロックコポリマーのＴＯＤＴを、２３０℃の温度でこのコポリマーの一定分量をまず圧縮成形して２５ミリメートル（ｍｍ）の直径及び１．５ｍｍの厚みを有する円形の、ディスク形の試験片にすることによって測定する。この試験片に、線形粘弾性領域の動的レオロジー特性の決定を行うことにより、０．１ラジアン／秒（ｒａｄ／ｓｅｃ）の発振周波数及び１パーセントの歪振幅で作動している平行平板レオメータ（ＡＲＥＳ ｒｈｅｏｍｅｔｅｒ、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ、Ｎｅｗ Ｃａｓｔｌｅ、ＤＥ）を使用して、１６０℃から３００℃までの温度領域にわたって０．５℃／分の速度で加熱する際の立ち上がり時の低周波弾性率の不連続点を探し出す。動的レオロジーの測定に先立って、試料を１６０℃で３０分間熱的平衡状態に置く。この様式におけるＴＯＤＴの測定の精度は、±５℃である。
【００５６】
ＥＸＩＣＯＲ（商標）１５０ＡＴＳ（Ｈｉｎｄｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ）装置、及び６３３ナノメートル（ｎｍ）の波長を用いて、識別できる外観欠損を含まないフィルムの一部からフィルムの矩形区画（ＭＤ方向に３０ミリメートル（ｍｍ）でＴＤ方向に１００ｍｍ）を選択することと、矩形区画の異なる領域にわたって位相差に関する１２０個以上の独立した測定を行うこととによって、フィルムサンプルの位相差を測定する。それぞれの測定値は、５ｍｍ×５ｍｍのフィルム面積を測定していることを表す。入射光が矩形のフィルム区画の主平面に対して直角であるときに、Ｒ０を測定する。１２０個以上の独立した測定値の平均として面内位相差（Ｒ０）を記し、フィルムのその区画で実施したすべての独立した測定値に基づいてＲ０の標準偏差を算出する。上記の通りにＲｔｈを算出する。識別できる外観欠損を含まないフィルムの一部から、５個の独立した測定値の平均として、フィルムのＲｔｈを記す。その遅相軸方向又はその進相軸方向のいずれかに関してフィルムを４０°傾けることによって、斜入射光の入射角Ｒ４０を測定する。Ｒ０測定からフィルムの遅相軸方向又は進相軸方向を決定する。フィルム遅相軸方向がそのｘ軸であり、このｘ軸がまた、Ｒ４０測定のための傾斜軸であると仮定すると、以下の３つの方程式から（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）の値を解くことによってＲｔｈを算出することができる。
【００５７】
【数１】
上記３つの方程式において、ｎ０はフィルム作製に使用したポリマーの屈折率であり（株式会社アタゴ製の多波長アッベ（Abbe）屈折計ＤＲ−Ｍ２で測定される）、ｄはフィルムの厚みを表し、角θは次の方程式によって算出される。
【００５８】
【数２】
上記３つの方程式の解及びｄに基づいて、Ｒｔｈを次のように算出する：
【００５９】
【数３】
【００６０】
ＤＳＣ分析及びモデルＱ１０００ＤＳＣ（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ、Ｉｎｃ．）を使用して、水素化スチレン系ブロックコポリマー又はフィルム試料の総重量を基準にして、重量結晶化率（Ｘパーセント）を決定する。ＤＳＣ測定の一般原理及び半結晶性ポリマーを研究することへのＤＳＣの利用は、標準のテキスト（たとえば、Ｅ．Ａ．Ｔｕｒｉ編、Ｔｈｅｒｍａｌ Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ、１９８１）に記載されている。
【００６１】
Ｑ１０００用に推奨された標準手順に従って、最初にインジウム、次いで水を用いてモデルＱ１０００ＤＳＣを較正して、インジウムの融解熱（Ｈｆ）及び融解開始温度が、それぞれ、定められた標準（２８．７１Ｊ／ｇ及び１５６．６℃）から０．５ジュール／グラム（Ｊ／ｇ）及び０．５℃以内であり、水の溶融開始温度が、０℃から０．５℃以内であることを確実にする。
【００６２】
２３０℃の温度でポリマー試料をプレスして薄いフィルムにする。ＤＳＣ試料皿に、５ミリグラム（ｍｇ）から８ｍｇまでの重量の１片の薄いフィルムを配置する。皿上の蓋を圧着して確実に密閉する。
【００６３】
ＤＳＣのセルの中に試料皿を配置し、この皿の内容物を、約１００℃／分の速度で２３０℃の温度まで加熱する。約３分間その温度で皿の内容物を維持し、次いで−６０℃の温度まで１０℃／分の速度で皿の内容物を冷却する。皿の内容物を等温で３分間−６０℃に保ち、次に皿の内容物を「第２加熱」と呼ぶステップにおいて、１０℃／分の速度で２３０℃まで加熱する。
【００６４】
ピーク融解温度、結晶化開始温度及びピーク結晶化温度及びＨｆ（融解熱としても知られる）については、上述のポリマーフィルム試料の第２加熱から得られるエンタルピー曲線を解析する。直線のベースラインを用いて融解の開始から融解の終わりまで融解吸熱曲線下の面積を積分することによって、Ｊ／ｇを単位としてＨｆを測定する。
【００６５】
１００パーセント結晶性ポリエチレンのＨｆは、当該技術分野において承認されている２９２Ｊ／ｇである。以下の方程式を用いて、水素化スチレンブロックコポリマー又はフィルム試料の総重量を基準にして、重量結晶化率（Ｘパーセント）を算出する。
Ｘパーセント＝（Ｈｆ／２９２）×１００パーセント
【００６６】
水素化ビニル芳香族共役ジエンブロックコポリマーを、水素化に先立ち、ブロックコポリマー用の溶媒としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を使用して、ゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）にかけることによって、このブロックコポリマーの分子量分析を行う。Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｌａｂｓ，Ｉｎｃ．製の分布の狭い分子量のポリスチレン標準を用いて、ＧＰＣカラムを較正する。標準の分子量は、５８０ダルトンから３，９００，０００ダルトンまでに及ぶ。水素化前のブロックコポリマーのＭｎ又は重量平均分子量（Ｍｗ）をポリスチレン換算値として記す。
【００６７】
結晶化度がゼロか又は極端に低い結晶化度である十分に水素化したビニル芳香族共役ジエンブロックコポリマーのＧＰＣ分析を、二元溶媒（デカリン／ＴＨＦ、デカリンはデカヒドロナフタレン（Ｃ１０Ｈ１８）の短縮形である）の使用により、水素化ブロックのような試料を最初に溶解してポリマー溶液を形成して、次いで、４０℃で移動相として流れるＴＨＦによって従来のＧＰＣシステム（たとえば、Ｈｅｗｌｅｔ Ｐａｃｋａｒｄ ＨＰ１０９０）を使用してポリマー溶液を分析することにより行う。同様に、十分に水素化したブロックコポリマーのＭｎ又は重量平均分子量（Ｍｗ）をポリスチレン換算値として記す。
【００６８】
下の表１は、次の実施例（Ｅｘ）及び比較例（Ｃｏｍｐ Ｅｘ）で使用する水素化スチレン系ブロックコポリマー材料及び他の材料を要約したものである。比較例Ａは、商標表記「ＺＥＯＮＯＲ（商標）ＺＦ−１４ フィルム」の下に日本ゼオンから市販されている環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムである。表１において、１，２−ビニル含量（１，２−ブタジエン又は１，２−イソプレン含量としても知られる）を水素化前にポリマーに存在する共役ジエン総含量に対するパーセントとして示す。表１において、Ｍｎという用語は、上述のように溶媒としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を使用するＧＰＣ分析に基づくポリスチレン換算分子量のことをいう。Ａ及びＥ以外のすべての材料について、Ｍｎ値は、水素化の前のポリマー特性を反映している。材料Ａ及びＥのＭｎは、上に詳述したように二元溶媒を使用するＧＰＣ分析によって十分に水素化したポリマーに対して測定された値である。純粋の水素化ポリイソプレンの結晶化度はゼロであるべきなので、材料Ａの結晶化度は予想外に低い量である。
【００６９】
【表１】
「nd」は未測定を意味する。
* Mn測定は、水素化前のポリマーではなく(十分に水素化した)後のポリマーに基づいた。
**は、比較例を作製するために使用した樹脂、又は材料を意味する。
【００７０】
（実施例１〜実施例１６及び比較例Ａ〜比較例Ｉ）
上記表１から選択された水素化スチレン／共役ジエンブロックコポリマー及びＫｉｌｌｉｏｎ Ｅｘｔｒｕｄｅｒｓ、Ｉｎｃ．製のミニキャストフィルムラインを使用して、未延伸単一層ポリマーフィルム材料の試料を調製する。フィルムラインは２４：１の長さと直径の比（Ｌ／Ｄ）を有し、以下の表２に示すような設定点押出し温度で操作する２５ｍｍの押出し機を含む。この押出し機は、コートハンガー押出しダイ（ダイギャップが０．０４０インチ（１ｍｍ）に設定され、１０インチ（２５．４ｃｍ）の幅）と協働する。ダイは、２００℃から２９０℃までの範囲内の設定点温度で操作する。フィルムラインも、セラミックコーティングした８インチ（２０．３ｃｍ）の直径及び１２インチ（３０．５ｃｍ）の幅を有するキャスティングロールを備え、８５℃から９０℃までの範囲内の設定点温度で操作する。押出し機の押出し量を毎時約５ポンド（毎時１１ｋｇ）の一定に保ち、製造されるフィルム厚さ（４０μｍ、６０μｍ、８０μｍ又は１３０μｍ）に基づいてキャストロール速度を変化させる。それぞれの異なるフィルムサンプルについては、表２にフィルム厚さ、Ｒ０及びＲｔｈも示す。
【００７１】
【表２】
「ND」は未測定を意味する。
* は、フィルムが粘着し過ぎ又は粘つき過ぎて、有用な測定ができなかったことを意味する。
【００７２】
上の表２に示されるデータは、いくつかの観察結果を裏付ける。第１に、実施例１〜６は、２５０℃から２８０℃までの３０℃以上の溶融加工温度ウィンドウにわたり、広範囲の厚みで、７０ｗｔパーセントのスチレン含量を有する水素化ＳＩＳＩＳペンタブロックコポリマーを用いて、非常に低いＲ０（１ｎｍ未満）及びＲｔｈ（２ｎｍ未満）を有する光学フィルムを調製できることを示している。第２に、実施例７〜１６及び比較例Ｂ〜比較例Ｆは、Ｍｎ値及び７０ｗｔパーセントから９０ｗｔパーセントにわたるスチレン含量を変化させた状態で、種々の水素化ペンタブロックコポリマー（実施例７〜９についてはＳＩＳＩＳ並びに実施例１０〜１６及び比較例Ｂ〜比較例ＦについてはＳＢＳＢＳ）から光学フィルムを調製する際に、加工温度が重要な役割を果たすことを示している。溶融加工又は押出し温度が最適溶融加工温度未満（たとえば、上記の３０℃溶融加工温度ウィンドウより低い）であると、実施例７〜１６でのように、得られたキャストフィルムはある程度の分子配向を有すると考えられ、次いで、実施例１〜６（たとえば実施例７についての３．４のＲ０に対して実施例１についての０．２９のＲ０）の位相差よりかなり高い位相差のレベルを示す。第３に、比較例Ｂ〜比較例Ｆは、ポリマー組成物（すなわちスチレン含量及び結晶化度）及びフィルムの厚みが位相差特性（特にＲ０）に影響することを示す。比較例Ｇ及び比較例Ｈは、ペンタブロックＳＢＳＢＳ構造であっても、過剰の結晶化度（たとえば７．０パーセント以上）がＲ０に悪影響を与え、フィルム押出しに使用する溶融加工温度に関わりなく、ニアゼロＲ０及びＲｔｈ値が必要とされる最終用途において、このようなペンタブロックＳＢＳＢＳ構造を使用することが不適切であることを示している。第４に、比較例Ｉは、極端にスチレン含量が低いと（この場合、水素化前ポリマーの総重量に基づいて５０ｗｔパーセント）ニアゼロＲ０及びＲｔｈ値が必要とされる用途では、光学フィルムとして使用するには軟らか過ぎ粘着性過ぎる水素化ポリマーを与えることを示す。第５に、比較例Ａは、実施例１〜６のＲ０値が１ｎｍ未満であるのに対して、ＣＯＰフィルムのＲ０は、そのＲ０が５．９であるように、ゼロに近くないことを示す。
【００７３】
（実施例１７〜１９及び比較例Ｊ〜Ｋ）
実施例１を繰り返すが、以下の表３に示すような延伸比を使用して、延伸温度１５０℃の比較例Ｋ以外はすべて１４５℃の延伸温度で、配向を開始し、実施例１７、実施例１８及び比較例Ｋについては２軸延伸を、そして実施例１９及び比較例Ｊについては１軸（縦方向）延伸を行う。表３は、未延伸フィルム特性及び延伸フィルム特性も示す。比較例Ｋは、比較例Ａで使用したフィルムと同じであり、未延伸のもの（比較例Ａと同じ）も、延伸したものも表３に示す。実施例１７及び比較例Ｊは材料Ｅを使用し、実施例１８及び実施例１９は材料Ｂを使用し、両者とも上の表１に示す。
【００７４】
【表３】
ndは未測定であることを意味する。
【００７５】
表３に示されるデータは、１軸又は２軸のいずれであるかにかかわらず、フィルム配向によってＲ０もＲｔｈも増加することを示す。実施例１７及び比較例Ｊについてのデータは、いずれの場合も未延伸フィルム特性と比較して、１軸延伸（比較例Ｊ）が、２軸延伸（実施例１７）より大きなＲ０及びＲｔｈの増加を引き起こすことを示唆する。実施例１８及び実施例１９についてのデータは、２軸延伸が材料Ｂについての１軸延伸よりＲ０及びＲｔｈの増加がいくぶん低く、それぞれの例における増加は、実施例１７についての増加と同等で比較例Ｊについて記述した増加よりはるかに少ないことを示す。材料Ｂと材料Ｅの間の延伸に対する異なる応答についての考えられる説明は、材料Ｂは、材料Ｅよりも水素化前スチレン含量が高くて、ブロックコポリマーモルフォロジーが明確でなく、その一方又は両方が、それに対応して配向誘起性の複屈折をより下げる傾向にする。比較例Ｋは、延伸ＣＯＰフィルムが、低位相差光学フィルム用途向けに、延伸前の同じＣＯＰフィルムほど好ましいものではないということを示す。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーを含み、６３３ナノメートルの波長で、フィルムの主平面に直角に向けた入射光を使用して測定した面内位相差（Ｒ０）が５ナノメートル未満で、面外位相差（Ｒｔｈ）が１０ナノメートル未満である、光学フィルム。
【請求項２】
水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーが実質的に十分に水素化されたブロックコポリマーである、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーが十分に水素化されたブロックコポリマーである、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項４】
１軸延伸フィルム又は２軸延伸フィルムである、請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記ブロックコポリマーが、水素化に先立って、５５重量パーセントから９０重量パーセント未満の範囲内のスチレン含量、及び４５重量パーセントから１０重量パーセントの範囲内の共役ジエン含量を有するスチレン／共役ジエンブロックコポリマーであり、各パーセントはブロックコポリマー全重量に基づいており、一緒にすると１００重量パーセントになる、請求項１から４のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記ブロックコポリマーの結晶化度が、フィルム全重量に基づいて３重量パーセント未満である、請求項１から５のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記ブロックコポリマーが、２０，０００〜１５０，０００の範囲内の数平均分子量を有するビニル芳香族／共役ジエンモノマートリブロックコポリマーである、請求項１から６のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記ブロックコポリマーが、３０，０００〜２００，０００の範囲内の数平均分子量を有するビニル芳香族／共役ジエンモノマーペンタブロックコポリマーである、請求項１から６のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項９】
単層フィルムである、請求項１から８のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項１０】
多層フィルムの少なくとも１つの層である、請求項１から１８のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項１１】
非ブロックコポリマーを、ブロックコポリマー及び非ブロックコポリマーの総重量に基づいて、０．５重量パーセントから５０重量パーセントまでの範囲内の量でさらに含む、請求項１から１０のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれかに記載の光学フィルムを含む、画像表示デバイス又は装置。
【請求項１３】
面内切換型液晶表示（ＬＣＤ）デバイスであって、請求項１から１１のいずれかに記載の光学フィルムを含む内側保護層を備えたデバイス。
【請求項１４】
ポリビニルアルコールフィルム層及び保護フィルム層を含み、前記ポリビニルアルコールフィルム層が、その主平面のうちの少なくとも１つを保護フィルム層と有効に接触させており、各保護フィルム層が請求項１から１１のいずれかに記載の光学フィルムを含む、偏光板アセンブリ。
【請求項１】
水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーを含み、６３３ナノメートルの波長で、フィルムの主平面に直角に向けた入射光を使用して測定した面内位相差（Ｒ０）が５ナノメートル未満で、面外位相差（Ｒｔｈ）が１０ナノメートル未満である、光学フィルム。
【請求項２】
水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーが実質的に十分に水素化されたブロックコポリマーである、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
水素化ビニル芳香族／共役ジエンブロックコポリマーが十分に水素化されたブロックコポリマーである、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項４】
１軸延伸フィルム又は２軸延伸フィルムである、請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記ブロックコポリマーが、水素化に先立って、５５重量パーセントから９０重量パーセント未満の範囲内のスチレン含量、及び４５重量パーセントから１０重量パーセントの範囲内の共役ジエン含量を有するスチレン／共役ジエンブロックコポリマーであり、各パーセントはブロックコポリマー全重量に基づいており、一緒にすると１００重量パーセントになる、請求項１から４のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記ブロックコポリマーの結晶化度が、フィルム全重量に基づいて３重量パーセント未満である、請求項１から５のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記ブロックコポリマーが、２０，０００〜１５０，０００の範囲内の数平均分子量を有するビニル芳香族／共役ジエンモノマートリブロックコポリマーである、請求項１から６のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記ブロックコポリマーが、３０，０００〜２００，０００の範囲内の数平均分子量を有するビニル芳香族／共役ジエンモノマーペンタブロックコポリマーである、請求項１から６のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項９】
単層フィルムである、請求項１から８のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項１０】
多層フィルムの少なくとも１つの層である、請求項１から１８のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項１１】
非ブロックコポリマーを、ブロックコポリマー及び非ブロックコポリマーの総重量に基づいて、０．５重量パーセントから５０重量パーセントまでの範囲内の量でさらに含む、請求項１から１０のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれかに記載の光学フィルムを含む、画像表示デバイス又は装置。
【請求項１３】
面内切換型液晶表示（ＬＣＤ）デバイスであって、請求項１から１１のいずれかに記載の光学フィルムを含む内側保護層を備えたデバイス。
【請求項１４】
ポリビニルアルコールフィルム層及び保護フィルム層を含み、前記ポリビニルアルコールフィルム層が、その主平面のうちの少なくとも１つを保護フィルム層と有効に接触させており、各保護フィルム層が請求項１から１１のいずれかに記載の光学フィルムを含む、偏光板アセンブリ。
【公表番号】特表２０１１−５２３６６８（Ｐ２０１１−５２３６６８Ａ）
【公表日】平成２３年８月１８日（２０１１．８．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５０８５４５（Ｐ２０１１−５０８５４５）
【出願日】平成２１年４月２４日（２００９．４．２４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０４１６５０
【国際公開番号】ＷＯ２００９／１３７２７８
【国際公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【出願人】（５０２１４１０５０）ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー (1,383)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２３年８月１８日（２０１１．８．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年４月２４日（２００９．４．２４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０４１６５０
【国際公開番号】ＷＯ２００９／１３７２７８
【国際公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【出願人】（５０２１４１０５０）ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー (1,383)
【Ｆターム（参考）】
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