ベータ−ガンマエンカルボニル誘導体の製造方法
本発明はβ−γ エン カルボキシルあるいはケトン誘導体の製造方法に関連し、炭素二重結合の配置において特定の要求条件があるものとする。本手法は、少なくとも１つのカルボン酸と少なくとも１つのアルカリ、アルカリ土類金属、またはランタノイドハライドまたはカルボン酸塩の存在下で、α−β不飽和マロネートあるいはアセチルアセトン誘導体の熱処理を必要とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機化学分野に関連し、さらに詳細には、炭素二重結合の配置において特定の要求条件を有することがあるβ−γ エン カルボニル誘導体の製造に関連する。
【０００２】
先行技術
α−β不飽和ジェミナルジカルボニル誘導体のアシルまたはカルボン酸エステルでの脱離による、三置換または四置換されたβ−γ不飽和エステルまたはケトン誘導体の製造は、１つの参考文献にしか報告されていない（Ｖ．Ｖｅｎｋａｔｅｓｗａｒａｎ ｅｔ ａｌ． ｉｎ Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９７９，５５３を参照
本文献において、著者らは下記の図式による反応について報告している：
【化１】
しかしながら、この方法論によって、著者らは２つのケースにおいて、本発明に対して、主な異性体がα−β不飽和誘導体である生成物を得ており、１つのケースで主な異性体がβ−γ不飽和誘導体である生成物を得ているが、選択性が悪い。
【０００３】
Ｋ．ＳｃｈｕｌｔｅらのＨｅｌｖ．Ｃｈｅｍ−Ａｃｔａ，１９９２，７５９において、ＤＭＳＯ、水、ＬｉＣｌの存在中で対応するアルキリデンアセトアセテートのデメトキシカルボニル化による５，６ジメチルヘプト−４−エン−２−１（β−γ／α−β比が約１３で、β−γ Ｅ／Ｚ比が約２．２）の合成が開示されている。この手法で得られる選択性は上記に報告されたものよりも高いにもかかわらず、それらは未だ改善の余地と必要がある。
【０００４】
実際に、β−γ不飽和ケトンまたはエステルは、重要な化学物質製造において有用な中間体であり、良好な選択性とそれゆえに収率の向上した工程が可能になる新規あるいは既存の代替となる方法が必要とされる。さらには、二重結合の配置において良好な選択性を有する所望のβ−γ不飽和ケトンまたはエステルを製造することも重要である。なぜならば、（Ｅ）−β−γ異性体を多く含む生成物を得ることが望まれる場合があるためである。
【０００５】
発明の記述
前述の問題を克服するために、本発明は式（Ｉ）
【化２】
［式中、
点線は前記の化合物が相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合体の形態であることを示し、β−γ／α−βのモル比が少なくとも3であり、
Ｙは、互いに独立に、ＯＲ4あるいはＲ4基を表し、Ｒ4は酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ8炭化水素基を表し、
Ｒ1は酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ15炭化水素基を表し、
Ｒ2は酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ5炭化水素基を表し、
Ｒ3は水素原子あるいはＣ1−Ｃ5炭化水素基を表し、且つ、
随意に前記のＲ1とＲ2および／またはＲ1とＲ3は一緒になって、酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ4−Ｃ12炭化水素基を形成してもよい］
の化合物の製造方法において、１００℃から２３０℃の間を含む温度で、式
【化３】
［式中、
Ｙ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、式（Ｉ）で定義された通りである］
の化合物と
ｉ） 式ＭＸ2、Ｍ"Ｘ3あるいはＭ’Ｘ
［式中、
Ｍはアルカリ土類金属の陽イオンであり、Ｍ’はアルカリ金属の陽イオンあるいはＣ0−Ｃ12アンモニウムの陽イオンであり、Ｍ"はランタノイドの陽イオンであり、Ｘはハライドあるいは０から６の間を含むｐＫaを有するＨＸ酸の陰イオンである］の塩；
ｉｉ） 式Ｒ5ＣＯＯＨ
［式中、
Ｒ5は１つまたは２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］
のカルボン酸
からそれぞれ成る群ｉ）の少なくとも１つの化合物、および群ｉｉ）の少なくとも１つの化合物とを、随意に１００℃より高い沸点を有する極性非プロトン性の溶剤の存在下で反応させる段階を含む製造方法に関する。
【０００６】
本発明の実施態様によれば、本方法は化合物（Ｉ）であって、
点線は前記の化合物が相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合体の形態であることを示し、β−γ／α−βのモル比が少なくとも3であり、
Ｙは、互いに独立に、ＯＲ4あるいはＲ4基を表し、Ｒ4はＣ1−Ｃ6アルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し、
Ｒ1は酸素、硫黄および窒素から成る群から選択される１から３つのへテロ原子官能基を随意に含むＣ2−Ｃ12炭化水素原子を表し、
Ｒ2はＣ1−Ｃ3アルキル原子を表し、
Ｒ3は水素原子またはＣ1−Ｃ3アルキル基を表し、且つ
随意に前記のＲ1とＲ2、および／またはＲ1とＲ3は一緒になって、酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ5−Ｃ12炭化水素原子を形成してもよい化合物を、相応の化合物（ＩＩ）から出発して製造することに関する。
【０００７】
本発明の他の実施態様によれば、式（Ｉ）の化合物は、式
【化４】
［式中、
点線は前記の化合物が相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合体の形態であることを示し、β−γ／α−βのモル比が少なくとも3であり、
Ｙは、互いに独立に、ＯＲ4あるいはＲ4基を表し、Ｒ4は１から３つの酸素あるいは窒素を随意に含むＣ1−Ｃ6アルキル基あるいはＣ6−Ｃ10フェニル又はベンジル基を表し、
Ｒ1は１から３つの酸素あるいは窒素官能基を随意に含むＣ2−Ｃ12炭化水素原子を表し、
Ｒ2はＣ1−Ｃ3アルキル基を表し、
前記のＲ1とＲ2が一緒になって１から３つの酸素あるいは窒素原子を随意に含むＣ4−Ｃ11炭化水素基を形成してもよい]
の化合物である。
【０００８】
式（ＩＩＩ）の前記の化合物は、本発明による方法で、前記条件下で
【化５】
［式中、
Ｙ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ4は式（ＩＩＩ）での定義と同様である。］
の化合物の反応によって得ることができる。
【０００９】
本発明の上記の任意の実施態様によれば、本発明の方法は、特に少なくとも１つのＹがＯＲ4基であるか、あるいは2つのＹがＯＲ4基でさえもある化合物（ＩＩ）を用いたときに特に有用なことがある。
【００１０】
本発明の上記の任意の実施態様によれば、前記の炭化水素基は、アルキル、アルケニル、アルカンジエニル、アリール基またはそれらの混合物の形態であり、前記の炭化水素基は直鎖、分岐型、環状基またはそれらの混合型（例えば、直鎖アルキル、（ポリ）環状アルケニルとアリール成分を含む）である。
【００１１】
さらには、本発明の上記の任意の実施態様によれば、前記の化合物（Ｉ）は、相応のβ−γまたはα−β不飽和誘導体の混合物の形態で得られ、ここでβ−γ誘導体とα−β誘導体のモル比（すなわちβ−γ／α−β）は、少なくとも４、あるいは少なくとも６でもある。特に関心があるのは、前記の比が８より上、あるいは１５より上でもある方法である。
【００１２】
上述のβ−γ／α−βの選択性と同時あるいは二者択一的に、本発明の上記の任意の実施態様によれば、前記の化合物（Ｉ）は、上に記載された相応のβ−γまたはα−β不飽和誘導体の混合物の形態で得られ、ここでβ−γ不飽和誘導体の異性体ＥとＺのモル比（（Ｅ）−β−γ）／（（Ｚ）β−γ）は１より上、あるいは２より上でもある。さらには、式（Ｉ）のβ−γ不飽和誘導体の前記の（Ｅ）／（Ｚ）比は、３より上あるいは４でもあってよく、いくつかの場合において、５より上になるように増加され得る。
【００１３】
特に、式（Ｉ）の化合物が相応のβ−γまたはα−β不飽和誘導体の混合物の形態で得られる実施態様が挙げられ、ここでβ−γ／α−βは少なくとも５．５あるいは１５でもあり、異性体の比（（Ｅ）−β−γ）／（Ｚ）β−γ）は３．５より上である。
【００１４】
式（Ｉ）の化合物の限定されない例は、式
【化６】
［式中、
Ｒ6はメチルまたはエチル基あるいはＯＭｅまたはＯＥｔ基を表し、且つ、
Ｒ7は
例えば、Ｃ10-12炭化水素基２−（２，６，６−トリメチル−シクロヘキシ−１−エニル）−エチル基を表し、
１または２つのＣ1−Ｃ3アルコキシまたはアミノ基で随意に置換されたフェニル基、あるいは
Ｃ3−Ｃ6アルキルまたはアルケニル基を表す]
の化合物である。
【００１５】
式（Ｉ）の化合物の他の例は、
【化７】
［式中、
Ｒ6は式（Ｖ）の定義と同様であり、Ｒ8は一緒になってＣ4−Ｃ11炭化水素基、例えば
ｎが２、３、４又は９を表すＣＨ2（ＣＨ2）nＣＨ2
不飽和Ｃ5−Ｃ9炭化水素基
を形成する］
である。
【００１６】
本発明の選択的な実施態様によると、前記方法は、エステルまたは選択的にケトンである式（Ｉ）の化合物に対して特に有用である。
【００１７】
前記の式（Ｖ）または（ＶＩ）の実施態様によれば、本発明の方法は
少なくとも１つのＲ6がＯＭｅまたはＯＥｔ基、あるいは２つのＲ6が両者ともＯＭｅまたはＯＥｔ基である、相応の式（ＩＩ）の化合物を出発材料として使用する場合に、特に有用である。
【００１８】
上述されたように、本発明の方法は、
ｉ） 式ＭＸ2、Ｍ"Ｘ3あるいはＭ’Ｘ
［式中、
Ｍはアルカリ土類金属の陽イオンであり、Ｍ’はアルカリ金属の陽イオンあるいはＣ0−Ｃ12アンモニウムの陽イオンであり、Ｍ"はランタノイドの陽イオンであり、Ｘはハライドあるいは０から６の間を含むｐＫaを有する酸ＨＸの陰イオンである］の塩；
ｉｉ） 式Ｒ5ＣＯＯＨ
［式中、
Ｒ5は１つまたは２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］のカルボン酸
からそれぞれ成る群ｉ）からの少なくとも１つの化合物、および群ｉｉ）から少なくとも１つの化合物の存在下で、且つ、随意に１００℃より高い沸点を有する極性非プロトン性の溶剤の存在下で行われる。
【００１９】
本発明の実施態様によれば、前記の反応は、
ｉ） 式ＭＸ2、あるいはＭ"Ｘ3
［式中、
Ｍはアルカリ土類金属の陽イオンであり、Ｍ’はアルカリ金属の陽イオンあるいはＣ0−Ｃ12アンモニウムの陽イオンであり、Ｍ"はランタノイドの陽イオンであり、Ｘはハライドあるいは０から６の間を含むｐＫaを有する酸ＨＸの陰イオンである］の塩；
ｉｉ） Ｒ5ＣＯＯＨ
［式中、
Ｒ5は１つあるいは２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］
のカルボン酸
からそれぞれ成る群ｉ）から少なくとも１つの化合物、および群ｉｉ）から少なくとも１つの化合物の存在下で行われる。
【００２０】
本発明の他の実施態様によれば、群ｉ）の化合物が、マグネシウム、カルシウム、セリウム、リチウム、ナトリウムまたはカリウム塩の塩化物、フッ化物、ヨウ化物、または式Ｒ9ＣＯＯ-で表されるカルボン酸塩であり、Ｒ9は１または２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す。
【００２１】
特に、塩化物とカルボン酸塩が挙げられる。
【００２２】
そのような塩の限定されない例は、ＮａＣｌ、ＮａＦ、ＮａＩ、Ｍｇ（Ｒ9ＣＯＯ）2、Ｒ9ＣＯＯＮａ、Ｒ9ＣＯＯＫ、ＫＦ、ＣｅＣｌ3、Ｃｅ（Ｒ9ＣＯＯ）3、ＣａＣｌ2およびＣａＦ2である。この塩は、使用前に金属酸化物または水酸化物を所要量のＨＸ酸と一緒に反応させることによって、その場で得ることができる。
【００２３】
本発明の特定の実施態様によれば、Ｒ9はＣ2−Ｃ9アルキル、アルケニル、フェニルまたはベンジル基である。特に、ペント−２−ｙｌ、ヘプト−３−ｙｌ、プロピル、イソプロピル、イソブチル、ターブチル、イソペンチル、シクロヘキシル、ベンジルまたは（Ｍｅ）2（ＣＨ2）3Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ基のなどの基を挙げることができる。
【００２４】
式（Ｉ）の化合物がエステルの場合、それに対応するカルボン酸もまた使用され得る。
【００２５】
本発明の実施態様によれば、群ｉｉ）の化合物はＲ9ＣＯＯＨカルボン酸であることができ、ここでＲ9は上述の定義と同様である。
【００２６】
本発明の実施態様によれば、極性非プロトン性溶剤は、１２０℃以上の沸点を有する溶媒であってもよい。さらには、前記溶剤はＣ2−Ｃ6ジアルキルスルホキシド、Ｃ2−Ｃ6ジアルキルスルホン、Ｃ3−Ｃ7アミドまたはラクタム、Ｃ3−Ｃ8ウレアまたはピリミドン誘導体、Ｃ6−Ｃ12ホスホラミドまたはホスフィノアミノ誘導体、Ｃ3−Ｃ8ニトリル、Ｃ4−Ｃ8モノまたはジエチレングリコールジエーテル、トリエタノールアミンから成る基から選択され得る。
【００２７】
特に、次のものが挙げられる：ＤＭＳＯ、ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）、ＤＭＦ、ＨＭＰＡ、ＤＭＰＵまたはジグライム。
【００２８】
群ｉ）からｉｉｉ）の様々な化合物が、広範囲の濃度中で反応媒体に添加され得る。限定されない例として、化合物（ＩＩ）のモル量に対して、０．５％から２００％の群ｉ）の濃度が挙げられる。好ましくは、群ｉ）の濃度には、１％から３０％の間が含まれる。
【００２９】
限定されない例として、化合物（ＩＩ）のモル量に関して、０．０％から３００％にわたる群ｉｉ）の濃度が挙げられる。好ましくは、群ｉｉ）の濃度には、６０％から２２０％の間が含まれる。
【００３０】
限定されない例として、化合物（ＩＩ）の質量に対して、０．０％から５００％にわたる群ｉｉｉ）の濃度が挙げられる。好ましくは、群ｉｉｉ）の濃度には、０．０％から３００％の間が含まれる。
【００３１】
前記の様々な列記されたそれぞれの化合物に最適な濃度は、それらの化合物および化合物（ＩＩ）の性質に依存することは言うまでもない。
【００３２】
水素化が行われ得る温度は、１００℃から２３０℃を含み、より好ましくは、１２０℃から１９０℃の範囲内である。当然、当業者は、出発および最終生成物の融点および沸点、および所望の反応速度の関数として、好ましい温度を選択することもできる。
【００３３】
前記の出発化合物（ＩＩ）は、当業者間で知られ、実施例の中でも記載される標準的な方法によって製造することができる。実施例の中でも記載されたように、それらはその場で製造することもできる。
【００３４】
以下の実施例により、本発明を更に詳細に説明するが、ここで温度は摂氏度であり、その省略形は当該技術分野での通常の意味を有する。
【００３５】
実施例
以降に記載されるすべての工程は、特に述べられない限り不活性雰囲気中で行われている。すべての基質および溶媒は、Ar中で適切な乾燥で留去した。
【００３６】
実施例１
Ａ） 一般的な工程
出発化合物（ＩＩ）（文献によって得られた）（０．２４モル）（表４参照）を１６０℃で１０−９時間、Ｍｇ（２−エチルヘキサネート）（０．０４５モル）と２−エチルヘキサン酸（０．２４モル）の存在中で熱処理した。５０℃に冷却した後、前記の混合物を２０％のＨ2ＳＯ4、１０ｇを用いて洗浄し、真空中で蒸留することで、不飽和エステルが得られた。表４は、収率と、化合物（Ｉ）の様々な異性体を示す。
【００３７】
【表１】
【００３８】
Ｂ） 一般的な工程
上述と同じ実験工程であり、出発化合物としてジメチル［２−メチル−４−（２，６，６−トリメチル−１−シクロヘキサン−１−ｙｌ）ブチリデン］マロネートを用い、触媒を変更した。結果を表５に示す。
【００３９】
【表２】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機化学分野に関連し、さらに詳細には、炭素二重結合の配置において特定の要求条件を有することがあるβ−γ エン カルボニル誘導体の製造に関連する。
【０００２】
先行技術
α−β不飽和ジェミナルジカルボニル誘導体のアシルまたはカルボン酸エステルでの脱離による、三置換または四置換されたβ−γ不飽和エステルまたはケトン誘導体の製造は、１つの参考文献にしか報告されていない（Ｖ．Ｖｅｎｋａｔｅｓｗａｒａｎ ｅｔ ａｌ． ｉｎ Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９７９，５５３を参照
本文献において、著者らは下記の図式による反応について報告している：
【化１】
しかしながら、この方法論によって、著者らは２つのケースにおいて、本発明に対して、主な異性体がα−β不飽和誘導体である生成物を得ており、１つのケースで主な異性体がβ−γ不飽和誘導体である生成物を得ているが、選択性が悪い。
【０００３】
Ｋ．ＳｃｈｕｌｔｅらのＨｅｌｖ．Ｃｈｅｍ−Ａｃｔａ，１９９２，７５９において、ＤＭＳＯ、水、ＬｉＣｌの存在中で対応するアルキリデンアセトアセテートのデメトキシカルボニル化による５，６ジメチルヘプト−４−エン−２−１（β−γ／α−β比が約１３で、β−γ Ｅ／Ｚ比が約２．２）の合成が開示されている。この手法で得られる選択性は上記に報告されたものよりも高いにもかかわらず、それらは未だ改善の余地と必要がある。
【０００４】
実際に、β−γ不飽和ケトンまたはエステルは、重要な化学物質製造において有用な中間体であり、良好な選択性とそれゆえに収率の向上した工程が可能になる新規あるいは既存の代替となる方法が必要とされる。さらには、二重結合の配置において良好な選択性を有する所望のβ−γ不飽和ケトンまたはエステルを製造することも重要である。なぜならば、（Ｅ）−β−γ異性体を多く含む生成物を得ることが望まれる場合があるためである。
【０００５】
発明の記述
前述の問題を克服するために、本発明は式（Ｉ）
【化２】
［式中、
点線は前記の化合物が相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合体の形態であることを示し、β−γ／α−βのモル比が少なくとも3であり、
Ｙは、互いに独立に、ＯＲ4あるいはＲ4基を表し、Ｒ4は酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ8炭化水素基を表し、
Ｒ1は酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ15炭化水素基を表し、
Ｒ2は酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ5炭化水素基を表し、
Ｒ3は水素原子あるいはＣ1−Ｃ5炭化水素基を表し、且つ、
随意に前記のＲ1とＲ2および／またはＲ1とＲ3は一緒になって、酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ4−Ｃ12炭化水素基を形成してもよい］
の化合物の製造方法において、１００℃から２３０℃の間を含む温度で、式
【化３】
［式中、
Ｙ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、式（Ｉ）で定義された通りである］
の化合物と
ｉ） 式ＭＸ2、Ｍ"Ｘ3あるいはＭ’Ｘ
［式中、
Ｍはアルカリ土類金属の陽イオンであり、Ｍ’はアルカリ金属の陽イオンあるいはＣ0−Ｃ12アンモニウムの陽イオンであり、Ｍ"はランタノイドの陽イオンであり、Ｘはハライドあるいは０から６の間を含むｐＫaを有するＨＸ酸の陰イオンである］の塩；
ｉｉ） 式Ｒ5ＣＯＯＨ
［式中、
Ｒ5は１つまたは２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］
のカルボン酸
からそれぞれ成る群ｉ）の少なくとも１つの化合物、および群ｉｉ）の少なくとも１つの化合物とを、随意に１００℃より高い沸点を有する極性非プロトン性の溶剤の存在下で反応させる段階を含む製造方法に関する。
【０００６】
本発明の実施態様によれば、本方法は化合物（Ｉ）であって、
点線は前記の化合物が相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合体の形態であることを示し、β−γ／α−βのモル比が少なくとも3であり、
Ｙは、互いに独立に、ＯＲ4あるいはＲ4基を表し、Ｒ4はＣ1−Ｃ6アルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し、
Ｒ1は酸素、硫黄および窒素から成る群から選択される１から３つのへテロ原子官能基を随意に含むＣ2−Ｃ12炭化水素原子を表し、
Ｒ2はＣ1−Ｃ3アルキル原子を表し、
Ｒ3は水素原子またはＣ1−Ｃ3アルキル基を表し、且つ
随意に前記のＲ1とＲ2、および／またはＲ1とＲ3は一緒になって、酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ5−Ｃ12炭化水素原子を形成してもよい化合物を、相応の化合物（ＩＩ）から出発して製造することに関する。
【０００７】
本発明の他の実施態様によれば、式（Ｉ）の化合物は、式
【化４】
［式中、
点線は前記の化合物が相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合体の形態であることを示し、β−γ／α−βのモル比が少なくとも3であり、
Ｙは、互いに独立に、ＯＲ4あるいはＲ4基を表し、Ｒ4は１から３つの酸素あるいは窒素を随意に含むＣ1−Ｃ6アルキル基あるいはＣ6−Ｃ10フェニル又はベンジル基を表し、
Ｒ1は１から３つの酸素あるいは窒素官能基を随意に含むＣ2−Ｃ12炭化水素原子を表し、
Ｒ2はＣ1−Ｃ3アルキル基を表し、
前記のＲ1とＲ2が一緒になって１から３つの酸素あるいは窒素原子を随意に含むＣ4−Ｃ11炭化水素基を形成してもよい]
の化合物である。
【０００８】
式（ＩＩＩ）の前記の化合物は、本発明による方法で、前記条件下で
【化５】
［式中、
Ｙ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ4は式（ＩＩＩ）での定義と同様である。］
の化合物の反応によって得ることができる。
【０００９】
本発明の上記の任意の実施態様によれば、本発明の方法は、特に少なくとも１つのＹがＯＲ4基であるか、あるいは2つのＹがＯＲ4基でさえもある化合物（ＩＩ）を用いたときに特に有用なことがある。
【００１０】
本発明の上記の任意の実施態様によれば、前記の炭化水素基は、アルキル、アルケニル、アルカンジエニル、アリール基またはそれらの混合物の形態であり、前記の炭化水素基は直鎖、分岐型、環状基またはそれらの混合型（例えば、直鎖アルキル、（ポリ）環状アルケニルとアリール成分を含む）である。
【００１１】
さらには、本発明の上記の任意の実施態様によれば、前記の化合物（Ｉ）は、相応のβ−γまたはα−β不飽和誘導体の混合物の形態で得られ、ここでβ−γ誘導体とα−β誘導体のモル比（すなわちβ−γ／α−β）は、少なくとも４、あるいは少なくとも６でもある。特に関心があるのは、前記の比が８より上、あるいは１５より上でもある方法である。
【００１２】
上述のβ−γ／α−βの選択性と同時あるいは二者択一的に、本発明の上記の任意の実施態様によれば、前記の化合物（Ｉ）は、上に記載された相応のβ−γまたはα−β不飽和誘導体の混合物の形態で得られ、ここでβ−γ不飽和誘導体の異性体ＥとＺのモル比（（Ｅ）−β−γ）／（（Ｚ）β−γ）は１より上、あるいは２より上でもある。さらには、式（Ｉ）のβ−γ不飽和誘導体の前記の（Ｅ）／（Ｚ）比は、３より上あるいは４でもあってよく、いくつかの場合において、５より上になるように増加され得る。
【００１３】
特に、式（Ｉ）の化合物が相応のβ−γまたはα−β不飽和誘導体の混合物の形態で得られる実施態様が挙げられ、ここでβ−γ／α−βは少なくとも５．５あるいは１５でもあり、異性体の比（（Ｅ）−β−γ）／（Ｚ）β−γ）は３．５より上である。
【００１４】
式（Ｉ）の化合物の限定されない例は、式
【化６】
［式中、
Ｒ6はメチルまたはエチル基あるいはＯＭｅまたはＯＥｔ基を表し、且つ、
Ｒ7は
例えば、Ｃ10-12炭化水素基２−（２，６，６−トリメチル−シクロヘキシ−１−エニル）−エチル基を表し、
１または２つのＣ1−Ｃ3アルコキシまたはアミノ基で随意に置換されたフェニル基、あるいは
Ｃ3−Ｃ6アルキルまたはアルケニル基を表す]
の化合物である。
【００１５】
式（Ｉ）の化合物の他の例は、
【化７】
［式中、
Ｒ6は式（Ｖ）の定義と同様であり、Ｒ8は一緒になってＣ4−Ｃ11炭化水素基、例えば
ｎが２、３、４又は９を表すＣＨ2（ＣＨ2）nＣＨ2
不飽和Ｃ5−Ｃ9炭化水素基
を形成する］
である。
【００１６】
本発明の選択的な実施態様によると、前記方法は、エステルまたは選択的にケトンである式（Ｉ）の化合物に対して特に有用である。
【００１７】
前記の式（Ｖ）または（ＶＩ）の実施態様によれば、本発明の方法は
少なくとも１つのＲ6がＯＭｅまたはＯＥｔ基、あるいは２つのＲ6が両者ともＯＭｅまたはＯＥｔ基である、相応の式（ＩＩ）の化合物を出発材料として使用する場合に、特に有用である。
【００１８】
上述されたように、本発明の方法は、
ｉ） 式ＭＸ2、Ｍ"Ｘ3あるいはＭ’Ｘ
［式中、
Ｍはアルカリ土類金属の陽イオンであり、Ｍ’はアルカリ金属の陽イオンあるいはＣ0−Ｃ12アンモニウムの陽イオンであり、Ｍ"はランタノイドの陽イオンであり、Ｘはハライドあるいは０から６の間を含むｐＫaを有する酸ＨＸの陰イオンである］の塩；
ｉｉ） 式Ｒ5ＣＯＯＨ
［式中、
Ｒ5は１つまたは２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］のカルボン酸
からそれぞれ成る群ｉ）からの少なくとも１つの化合物、および群ｉｉ）から少なくとも１つの化合物の存在下で、且つ、随意に１００℃より高い沸点を有する極性非プロトン性の溶剤の存在下で行われる。
【００１９】
本発明の実施態様によれば、前記の反応は、
ｉ） 式ＭＸ2、あるいはＭ"Ｘ3
［式中、
Ｍはアルカリ土類金属の陽イオンであり、Ｍ’はアルカリ金属の陽イオンあるいはＣ0−Ｃ12アンモニウムの陽イオンであり、Ｍ"はランタノイドの陽イオンであり、Ｘはハライドあるいは０から６の間を含むｐＫaを有する酸ＨＸの陰イオンである］の塩；
ｉｉ） Ｒ5ＣＯＯＨ
［式中、
Ｒ5は１つあるいは２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］
のカルボン酸
からそれぞれ成る群ｉ）から少なくとも１つの化合物、および群ｉｉ）から少なくとも１つの化合物の存在下で行われる。
【００２０】
本発明の他の実施態様によれば、群ｉ）の化合物が、マグネシウム、カルシウム、セリウム、リチウム、ナトリウムまたはカリウム塩の塩化物、フッ化物、ヨウ化物、または式Ｒ9ＣＯＯ-で表されるカルボン酸塩であり、Ｒ9は１または２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す。
【００２１】
特に、塩化物とカルボン酸塩が挙げられる。
【００２２】
そのような塩の限定されない例は、ＮａＣｌ、ＮａＦ、ＮａＩ、Ｍｇ（Ｒ9ＣＯＯ）2、Ｒ9ＣＯＯＮａ、Ｒ9ＣＯＯＫ、ＫＦ、ＣｅＣｌ3、Ｃｅ（Ｒ9ＣＯＯ）3、ＣａＣｌ2およびＣａＦ2である。この塩は、使用前に金属酸化物または水酸化物を所要量のＨＸ酸と一緒に反応させることによって、その場で得ることができる。
【００２３】
本発明の特定の実施態様によれば、Ｒ9はＣ2−Ｃ9アルキル、アルケニル、フェニルまたはベンジル基である。特に、ペント−２−ｙｌ、ヘプト−３−ｙｌ、プロピル、イソプロピル、イソブチル、ターブチル、イソペンチル、シクロヘキシル、ベンジルまたは（Ｍｅ）2（ＣＨ2）3Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ基のなどの基を挙げることができる。
【００２４】
式（Ｉ）の化合物がエステルの場合、それに対応するカルボン酸もまた使用され得る。
【００２５】
本発明の実施態様によれば、群ｉｉ）の化合物はＲ9ＣＯＯＨカルボン酸であることができ、ここでＲ9は上述の定義と同様である。
【００２６】
本発明の実施態様によれば、極性非プロトン性溶剤は、１２０℃以上の沸点を有する溶媒であってもよい。さらには、前記溶剤はＣ2−Ｃ6ジアルキルスルホキシド、Ｃ2−Ｃ6ジアルキルスルホン、Ｃ3−Ｃ7アミドまたはラクタム、Ｃ3−Ｃ8ウレアまたはピリミドン誘導体、Ｃ6−Ｃ12ホスホラミドまたはホスフィノアミノ誘導体、Ｃ3−Ｃ8ニトリル、Ｃ4−Ｃ8モノまたはジエチレングリコールジエーテル、トリエタノールアミンから成る基から選択され得る。
【００２７】
特に、次のものが挙げられる：ＤＭＳＯ、ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）、ＤＭＦ、ＨＭＰＡ、ＤＭＰＵまたはジグライム。
【００２８】
群ｉ）からｉｉｉ）の様々な化合物が、広範囲の濃度中で反応媒体に添加され得る。限定されない例として、化合物（ＩＩ）のモル量に対して、０．５％から２００％の群ｉ）の濃度が挙げられる。好ましくは、群ｉ）の濃度には、１％から３０％の間が含まれる。
【００２９】
限定されない例として、化合物（ＩＩ）のモル量に関して、０．０％から３００％にわたる群ｉｉ）の濃度が挙げられる。好ましくは、群ｉｉ）の濃度には、６０％から２２０％の間が含まれる。
【００３０】
限定されない例として、化合物（ＩＩ）の質量に対して、０．０％から５００％にわたる群ｉｉｉ）の濃度が挙げられる。好ましくは、群ｉｉｉ）の濃度には、０．０％から３００％の間が含まれる。
【００３１】
前記の様々な列記されたそれぞれの化合物に最適な濃度は、それらの化合物および化合物（ＩＩ）の性質に依存することは言うまでもない。
【００３２】
水素化が行われ得る温度は、１００℃から２３０℃を含み、より好ましくは、１２０℃から１９０℃の範囲内である。当然、当業者は、出発および最終生成物の融点および沸点、および所望の反応速度の関数として、好ましい温度を選択することもできる。
【００３３】
前記の出発化合物（ＩＩ）は、当業者間で知られ、実施例の中でも記載される標準的な方法によって製造することができる。実施例の中でも記載されたように、それらはその場で製造することもできる。
【００３４】
以下の実施例により、本発明を更に詳細に説明するが、ここで温度は摂氏度であり、その省略形は当該技術分野での通常の意味を有する。
【００３５】
実施例
以降に記載されるすべての工程は、特に述べられない限り不活性雰囲気中で行われている。すべての基質および溶媒は、Ar中で適切な乾燥で留去した。
【００３６】
実施例１
Ａ） 一般的な工程
出発化合物（ＩＩ）（文献によって得られた）（０．２４モル）（表４参照）を１６０℃で１０−９時間、Ｍｇ（２−エチルヘキサネート）（０．０４５モル）と２−エチルヘキサン酸（０．２４モル）の存在中で熱処理した。５０℃に冷却した後、前記の混合物を２０％のＨ2ＳＯ4、１０ｇを用いて洗浄し、真空中で蒸留することで、不飽和エステルが得られた。表４は、収率と、化合物（Ｉ）の様々な異性体を示す。
【００３７】
【表１】
【００３８】
Ｂ） 一般的な工程
上述と同じ実験工程であり、出発化合物としてジメチル［２−メチル−４−（２，６，６−トリメチル−１−シクロヘキサン−１−ｙｌ）ブチリデン］マロネートを用い、触媒を変更した。結果を表５に示す。
【００３９】
【表２】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
［式中、
点線は前記の化合物が相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合体の形態であることを示し、β−γ／α−βのモル比が少なくとも３であり、
Ｙは、互いに独立に、ＯＲ4あるいはＲ4基を表し、Ｒ4は酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ8炭化水素基を表し、
Ｒ1は、酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ15炭化水素基を表し、
Ｒ2は、酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ5炭化水素基を表し、
Ｒ3は、水素原子あるいはＣ1−Ｃ5炭化水素基を表し、且つ、
随意に前記のＲ1とＲ2および／またはＲ1とＲ3は一緒になって、酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ4−Ｃ12炭化水素基を形成しうる］
の化合物の製造方法において、
１００℃から２３０℃の間を含む温度で、式
【化２】
［式中、
Ｙ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、式（Ｉ）での定義と同様である］
の化合物と、
ｉ） 式ＭＸ2、Ｍ"Ｘ3あるいはＭ’Ｘ
［式中、
Ｍはアルカリ土類金属の陽イオンであり、Ｍ’はアルカリ金属の陽イオンあるいはＣ0−Ｃ12アンモニウムの陽イオンであり、Ｍ"はランタノイドの陽イオンであり、Ｘはハライドあるいは０から６の間を含むｐＫaを有する酸ＨＸの陰イオンである］の塩；
ｉｉ）式 Ｒ5ＣＯＯＨ
［式中、
Ｒ5は１つまたは２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］のカルボン酸
からそれぞれ成る群ｉ）の少なくとも１つの化合物、および群ｉｉ）の少なくとも１つの化合物とを、随意に１００℃より高い沸点を有する極性非プロトン性の溶剤の存在下で反応させる段階を含む方法。
【請求項２】
式（Ｉ）の化合物が、式
【化３】
［式中、
点線は前記の化合物が相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合体の形態であることを示し、β−γ／α−βのモル比が少なくとも3であり、
Ｙは、互いに独立に、ＯＲ4あるいはＲ4基を表し、Ｒ4は１から３つの酸素あるいは窒素原子を随意に含むＣ1−Ｃ6アルキル基あるいはＣ6−Ｃ10フェニルまたはベンジル基を表し、
Ｒ1は１から３つの酸素あるいは窒素官能基を随意に含むＣ2−Ｃ12炭化水素原子を表し、
Ｒ2はＣ1−Ｃ3アルキル基を表す］
の化合物であり、
前記のＲ1とＲ2が一緒になって１から３つの酸素あるいは窒素原子を随意に含むＣ4−Ｃ11炭化水素基を形成しうることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
化合物（Ｉ）が、相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合物の形態で得られ、β−γ／α−βの比が少なくとも６、および／またはβ−γ不飽和誘導体の異性体ＥおよびＺのモル比、（Ｅ）−β−γ）／（（Ｚ）−β−γが３より上であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
式（Ｉ）の化合物が式
【化４】
［式中、
Ｒ6はメチルまたはエチル基あるいはＯＭｅまたはＯＥｔ基であり、且つ
Ｒ7は
Ｃ10-12炭化水素基を表し、
１または２つのＣ1−Ｃ3アルコキシまたはアミノ基で随意に置換されたフェニル基、あるいは
Ｃ3−Ｃ6アルキルまたはアルケニル基を表す］
の化合物であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
式（ＩＩ）の化合物を、
ｉ） 式ＭＸ2、Ｍ"Ｘ3あるいはＭ’Ｘ
［式中、
Ｍはアルカリ土類金属の陽イオンであり、Ｍ’はアルカリ金属の陽イオンあるいはＣ0−Ｃ12アンモニウムの陽イオンであり、Ｍ"はランタノイドの陽イオンであり、Ｘはハライドあるいは０から６の間を含むｐＫaを有する酸ＨＸの陰イオンである］の塩、［特にＭＸ2またはＭ"Ｘ3の塩］
ｉｉ）式 Ｒ5ＣＯＯＨ
［式中、
ここでＲ5は１つまたは２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］の酸である群ｉ）の少なくとも１つの化合物、および群ｉｉ）の少なくとも１つの化合物と反応させることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
群ｉ）の化合物が式ＭＸ2またはＭ"Ｘ3
［式中、
Ｍ、Ｍ"とＸは請求項５の定義と同様である］
の塩であることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
群ｉ）の化合物が、マグネシウム、カルシウム、セリウム、リチウム、ナトリウムまたはカリウム塩の塩化物、フッ化物、ヨウ化物、または式Ｒ9ＣＯＯ-
［式中、Ｒ9は１または２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］
で表されるカルボン酸塩であることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
塩がＮａＣｌ、ＮａＦ、ＮａＩ、Ｍｇ（Ｒ9ＣＯＯ）2、Ｒ9ＣＯＯＮａ、Ｒ9ＣＯＯＫ、ＫＦ、ＣｅＣｌ3、Ｃｅ（Ｒ9ＣＯＯ）3、ＣａＣｌ2あるいはＣａＦ2
［式中、
Ｒ9は請求項７の定義と同様である］
であることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
群ｉｉ）の化合物がＲ9ＣＯＯＨ
［式中、
Ｒ9はＣ2−Ｃ9アルキル、アルケニル、フェニルあるいはベンジル基である］
のカルボン酸であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
Ｒ9がペント−２−ｙｌ、ヘプト−３ｙｌ、プロピル、イソプロピル、イソブチル、ターブチル、イソペンチル、シクロヘキシル、ベンジルあるいは（Ｍｅ）2（ＣＨ2）3Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ基を表すことを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
［式中、
点線は前記の化合物が相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合体の形態であることを示し、β−γ／α−βのモル比が少なくとも３であり、
Ｙは、互いに独立に、ＯＲ4あるいはＲ4基を表し、Ｒ4は酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ8炭化水素基を表し、
Ｒ1は、酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ15炭化水素基を表し、
Ｒ2は、酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ1−Ｃ5炭化水素基を表し、
Ｒ3は、水素原子あるいはＣ1−Ｃ5炭化水素基を表し、且つ、
随意に前記のＲ1とＲ2および／またはＲ1とＲ3は一緒になって、酸素、硫黄および窒素から成る群から選択された１から３つのへテロ原子を随意に含むＣ4−Ｃ12炭化水素基を形成しうる］
の化合物の製造方法において、
１００℃から２３０℃の間を含む温度で、式
【化２】
［式中、
Ｙ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、式（Ｉ）での定義と同様である］
の化合物と、
ｉ） 式ＭＸ2、Ｍ"Ｘ3あるいはＭ’Ｘ
［式中、
Ｍはアルカリ土類金属の陽イオンであり、Ｍ’はアルカリ金属の陽イオンあるいはＣ0−Ｃ12アンモニウムの陽イオンであり、Ｍ"はランタノイドの陽イオンであり、Ｘはハライドあるいは０から６の間を含むｐＫaを有する酸ＨＸの陰イオンである］の塩；
ｉｉ）式 Ｒ5ＣＯＯＨ
［式中、
Ｒ5は１つまたは２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］のカルボン酸
からそれぞれ成る群ｉ）の少なくとも１つの化合物、および群ｉｉ）の少なくとも１つの化合物とを、随意に１００℃より高い沸点を有する極性非プロトン性の溶剤の存在下で反応させる段階を含む方法。
【請求項２】
式（Ｉ）の化合物が、式
【化３】
［式中、
点線は前記の化合物が相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合体の形態であることを示し、β−γ／α−βのモル比が少なくとも3であり、
Ｙは、互いに独立に、ＯＲ4あるいはＲ4基を表し、Ｒ4は１から３つの酸素あるいは窒素原子を随意に含むＣ1−Ｃ6アルキル基あるいはＣ6−Ｃ10フェニルまたはベンジル基を表し、
Ｒ1は１から３つの酸素あるいは窒素官能基を随意に含むＣ2−Ｃ12炭化水素原子を表し、
Ｒ2はＣ1−Ｃ3アルキル基を表す］
の化合物であり、
前記のＲ1とＲ2が一緒になって１から３つの酸素あるいは窒素原子を随意に含むＣ4−Ｃ11炭化水素基を形成しうることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
化合物（Ｉ）が、相応のβ−γあるいはα−β不飽和誘導体の混合物の形態で得られ、β−γ／α−βの比が少なくとも６、および／またはβ−γ不飽和誘導体の異性体ＥおよびＺのモル比、（Ｅ）−β−γ）／（（Ｚ）−β−γが３より上であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
式（Ｉ）の化合物が式
【化４】
［式中、
Ｒ6はメチルまたはエチル基あるいはＯＭｅまたはＯＥｔ基であり、且つ
Ｒ7は
Ｃ10-12炭化水素基を表し、
１または２つのＣ1−Ｃ3アルコキシまたはアミノ基で随意に置換されたフェニル基、あるいは
Ｃ3−Ｃ6アルキルまたはアルケニル基を表す］
の化合物であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
式（ＩＩ）の化合物を、
ｉ） 式ＭＸ2、Ｍ"Ｘ3あるいはＭ’Ｘ
［式中、
Ｍはアルカリ土類金属の陽イオンであり、Ｍ’はアルカリ金属の陽イオンあるいはＣ0−Ｃ12アンモニウムの陽イオンであり、Ｍ"はランタノイドの陽イオンであり、Ｘはハライドあるいは０から６の間を含むｐＫaを有する酸ＨＸの陰イオンである］の塩、［特にＭＸ2またはＭ"Ｘ3の塩］
ｉｉ）式 Ｒ5ＣＯＯＨ
［式中、
ここでＲ5は１つまたは２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］の酸である群ｉ）の少なくとも１つの化合物、および群ｉｉ）の少なくとも１つの化合物と反応させることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
群ｉ）の化合物が式ＭＸ2またはＭ"Ｘ3
［式中、
Ｍ、Ｍ"とＸは請求項５の定義と同様である］
の塩であることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
群ｉ）の化合物が、マグネシウム、カルシウム、セリウム、リチウム、ナトリウムまたはカリウム塩の塩化物、フッ化物、ヨウ化物、または式Ｒ9ＣＯＯ-
［式中、Ｒ9は１または２つの酸素原子を随意に含むＣ1−Ｃ18炭化水素基を表す］
で表されるカルボン酸塩であることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
塩がＮａＣｌ、ＮａＦ、ＮａＩ、Ｍｇ（Ｒ9ＣＯＯ）2、Ｒ9ＣＯＯＮａ、Ｒ9ＣＯＯＫ、ＫＦ、ＣｅＣｌ3、Ｃｅ（Ｒ9ＣＯＯ）3、ＣａＣｌ2あるいはＣａＦ2
［式中、
Ｒ9は請求項７の定義と同様である］
であることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
群ｉｉ）の化合物がＲ9ＣＯＯＨ
［式中、
Ｒ9はＣ2−Ｃ9アルキル、アルケニル、フェニルあるいはベンジル基である］
のカルボン酸であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
Ｒ9がペント−２−ｙｌ、ヘプト−３ｙｌ、プロピル、イソプロピル、イソブチル、ターブチル、イソペンチル、シクロヘキシル、ベンジルあるいは（Ｍｅ）2（ＣＨ2）3Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ基を表すことを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【公表番号】特表２００９−５２７５４５（Ｐ２００９−５２７５４５Ａ）
【公表日】平成２１年７月３０日（２００９．７．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５５５９０５（Ｐ２００８−５５５９０５）
【出願日】平成１９年２月１日（２００７．２．１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００７／０５０３４１
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０９６７９１
【国際公開日】平成１９年８月３０日（２００７．８．３０）
【出願人】（３９０００９２８７）フイルメニツヒ ソシエテ アノニム (146)
【氏名又は名称原語表記】ＦＩＲＭＥＮＩＣＨ ＳＡ
【住所又は居所原語表記】１，ｒｏｕｔｅ ｄｅｓ Ｊｅｕｎｅｓ， ＣＨ−１２１１ Ｇｅｎｅｖｅ ８， Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年７月３０日（２００９．７．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年２月１日（２００７．２．１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００７／０５０３４１
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０９６７９１
【国際公開日】平成１９年８月３０日（２００７．８．３０）
【出願人】（３９０００９２８７）フイルメニツヒ ソシエテ アノニム (146)
【氏名又は名称原語表記】ＦＩＲＭＥＮＩＣＨ ＳＡ
【住所又は居所原語表記】１，ｒｏｕｔｅ ｄｅｓ Ｊｅｕｎｅｓ， ＣＨ−１２１１ Ｇｅｎｅｖｅ ８， Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ
【Ｆターム（参考）】
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