人工歯根の有機汚染物除去装置
【課題】紫外光を放射するエキシマランプを用いた人工歯根の有機汚染物除去装置において、エキシマランプからの紫外光が作業者に照射されることがなく、人工歯根を効果的に安全に紫外光洗浄することのできる有機汚染物除去装置の構造を提供することである。
【解決手段】エキシマランプが収納されたケーシングに放射光を外部に出射するための開口部が形成され、該開口部に着脱自在に取り付けられ、エキシマランプに対向する光入射部と人工歯根に対向する光出射部を有する紫外光透過性材料からなる照射ブロックが設けられていることを特徴とする。
【解決手段】エキシマランプが収納されたケーシングに放射光を外部に出射するための開口部が形成され、該開口部に着脱自在に取り付けられ、エキシマランプに対向する光入射部と人工歯根に対向する光出射部を有する紫外光透過性材料からなる照射ブロックが設けられていることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、デンタルインプラントに用いられる人工歯根の有機汚染物除去装置に関するものであり、特に、エキシマランプから紫外光を照射して人工歯根の洗浄を行う有機汚染物除去装置に係わるものである。
【背景技術】
【０００２】
デンタルインプラントの施術において、人工歯根を紫外光によって洗浄して有機汚染物を除去することが知られていて、例えば、特許第３０７２３０３号の段落０００９には、波長１７２ｎｍのエキシマランプを用いて人工歯根の表面に付着した有機汚染物を除去することが記載されている。
しかしながら、この先行文献においては単にアイディアとしての記述がなされているだけであり、これを実現した具体的な装置構造が提案されているわけではない。
特に、エキシマランプの放射光は、人間が直視すると危険であり、かつ、紫外光によりオゾンが発生し、これが歯科医師等の作業者に悪影響を及ぼすなどの種々の問題があり、作業者が安全に使用できる装置の実現化が待たれている状況であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３０７２３０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この発明が解決しようとする課題は、紫外光を放射するエキシマランプを用いた人工歯根の有機汚染物除去装置において、放射される紫外光によって歯科医師等の作業者に悪影響を及ぼすことなく、安全にかつ簡便に操作できる人工歯根の有機汚染物除去装置の構造を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、この発明に係る有機汚染物除去装置は、エキシマランプが収納されたケーシングに放射光を外部に出射するための開口部が形成され、該開口部に着脱自在に取り付けられ、エキシマランプに対向する光入射部と人工歯根に対向する光出射部を有する紫外光透過性材料からなる照射ブロックが設けられていることを特徴とする。
また、前記光出射部が、照射ブロックに形成した凹部からなることを特徴とする。
また、前記照射ブロックにおける前記光入射部および光出射部以外の外表面に紫外光遮断材が被覆されていることを特徴とする。
また、前記照射ブロックは、前記エキシマランプ上に載置されていることを特徴とする。
また、前記ケーシングには、前記照射ブロックを覆う紫外光遮断材料から構成される開閉自在のブロックカバーが設けられていることを特徴とする。
更には、前記ケーシングの天板には、照射ブロックの近傍に、人工歯根の位置決め部材が設けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
この発明の有機汚染物除去装置によれば、照射ブロックを介してエキシマランプからの紫外光を効率的に人工歯根に照射できて、付着した有機汚染物を効果的に除去することができ、しかも、該照射ブロックがケーシングに着脱自在に取り付けられているので、人工歯根の洗浄作業に先立って、予め該照射ブロックを取り外して容易に加熱滅菌処理をすることができる。
【０００７】
また、光出射部が凹部からなるので、当該凹部内に挿入配置される人工歯根に効率的に集中して紫外光を照射することができる。
また、照射ブロックには光入射部および光出射部以外の外表面に紫外光遮断材が被覆されているので、光出射部に対応して配置される人工歯根に効果的に紫外光を照射することができるとともに、それ以外の不所望な個所に紫外光が放射されることがなく、歯科医師等の作業者に照射されることがない。
【０００８】
また、前記照射ブロックはエキシマランプ上に載置される構造であるので、照射ブロックの着脱が容易にでき、かつ、エキシマランプからの紫外光が周囲の酸素雰囲気によって吸収されることが少なく、人工歯根に最大限に照射される。
更に、前記ケーシングには、前記照射ブロックを覆う紫外光遮断材料から構成される開閉自在のブロックカバーが設けられているので、照射ブロックから出射されてくる紫外光を該ブロックカバーによって遮断して、作業者に照射されることがない。そして、ブロックカバーの外部にオゾンが発生することも防止できる。
また、前記ケーシングの天板には、照射ブロックの近傍に、人工歯根の位置決め部材が設けられているので、この位置決め部材に人工歯根が取り付けられたドリルの先端部を位置させるだけで、人工歯根と照射ブロックとが適正に位置決めされるという使用上の簡便さももたらされるものである。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の有機汚染物除去装置の上面図。
【図２】図１のＸ−Ｘ断面図。
【図３】図２のＹ−Ｙ断面図。
【図４】異なる形状のエキシマランプによる他の実施例。
【図５】本発明における照射ブロックの詳細図。
【図６】他の実施例の部分断面図。
【図７】図６のランプの部分斜視図。
【図８】図６の他のランプ構造による実施例の部分断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１は、本発明の人工歯根の有機汚染物除去装置の上面図であり、先端に人口歯根３０が取り付けられた歯科用電動ドリル３１も合わせて記載されている。
図２は、図１のＸ−Ｘ断面図であり、ケーシング１内にはエキシマランプ２が配設されている。該エキシマランプ２は、公知の形状のもので、この例では扁平形状の放電容器２ａの上下面に一対の外部電極２ｂ、２ｂが設けられた構造である。
ケーシング１の天板３には該エキシマランプ２に対向する位置に、放射光を外部に出射するための開口部４が形成されていて、該開口部４内に位置して照射ブロック５がケーシング１に対して着脱自在に設けられている。
該照射ブロック５は、紫外光透過性材料、例えば石英ガラスからなり、その下面、すなわち、エキシマランプ２に対向する面が光入射部５ａを構成し、上面、すなわち、人工歯根３０に対向する面が光出射部５ｂを構成する。
この照射ブロック５は、前記開口部４内に挿入される形でエキシマランプ２上に載置される。
なお、照射ブロック５はエキシマランプ２に直接載置するものとしたが、これに限られず、ケーシング１の天板３に着脱自在に係止する構造であってもよい。
【００１１】
ケーシング１の天板３には、前記照射ブロック５および人工歯根３０を覆うように開閉自在のブロックカバー７が設けられている。このブロックカバー７により、その内部に処理物収容部８が形成され、この中に処理物である人工歯根３０が収容される。
該ブロックカバー７は、エキシマランプ２からの少なくとも紫外光を遮断する紫外光遮断材料からなり、また、可視光を透過する材料であることが好ましい。そのような具体的な材料としては、例えば、アクリル樹脂、シクロオレフィンコポリマー樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂やポリカーボネート樹脂などを用いることができる。
紫外光遮断性であることにより、人工歯根の洗浄を行なう医師等の作業者に紫外光が照射されることを防止でき、また、可視光透過性であることにより、エキシマランプの点灯・不点灯を目視により確認することができる。
【００１２】
なお、同図においては、ブロックカバー７は蝶番９によって回動自在に設けられているものを示したが、単に天板３上に上方から載置されるものであってもよく、その場合は、図示しない、段差部などの適宜の位置決め用の手段を設けてもいい。
また、図３にも示されるように、このブロックカバー７には切り欠き７ａが形成されていて、照射ブロック５および照射洗浄位置にある人工歯根３０を覆うようにセットされたときこれらとの干渉することがないようにされている。
また、図２に示すように、ハウジング１内には、区画壁１０によってエキシマランプ２を収容するランプ収容部１１が区画形成されている。該ランプ収容部１１には排気管１２が接続されていて、ランプ収容部１１内を排気している。
なお、１４はエキシマランプ２の電源である。
【００１３】
図１を参照して、ケーシング１の天板３上には照射ブロック５の近傍に人工歯根３０の位置決め部材１５が着脱自在に設けられていて、この位置決め部材１５上に人工歯根３０を装着した電動ドリル３１の先端３１ａが位置されると、該人工歯根３０は照射ブロック５上方の所定位置に位置決めされる。
より詳細には、同じく天板３上に人工歯根３０が装着されたドリル３１のための載置台１６、１７が着脱自在に設けられていて、当該載置台１６、１７上にドリル３１が載置され、その先端部３１ａが前記位置決め部材１５上にセットされると、人工歯根３０が照射ブロック５に対して位置決めされるものである。
【００１４】
上述した人工歯根の有機汚染物除去装置を用いた人工歯根の洗浄作業について、説明すると以下の通りである。
洗浄処理に先立って、照射ブロック５、位置決め部材１５、載置台１６、１７はケーシング１から取り外されて、予め加熱等により滅菌処理が施されている。滅菌処理された照射ブロック５を開口部４内に挿入してエキシマランプ２上に載置するとともに、位置決め部材１５、載置台１６、１７を天板３上に取り付ける。
次いで、洗浄する人工歯根３０が取り付けられたドリル３１を載置台１６、１７上に載置して、その先端部３１ａが位置決め部材１５にセットされると、人工歯根３０は照射ブロック５上にセットされる。
その後に、ブロックカバー７を閉めて人工歯根３０を処理物収容部８内に収容するように取り囲む。
【００１５】
次いで、図示しないファンを稼働するとランプ収容部１１内のガスは排気管１２を経て外部に排気される。
その後に、電源１４によりエキシマランプ２を点灯すると、該エキシマランプ２から、例えば１７２ｎｍのピーク波長を有する紫外光が出射される。
この紫外光は、光入射部５ａから照射ブロック５に入射し、ここを透過して光出射部５ｂから出射されて上方の人工歯根３０に照射される。このとき、人工歯根３０がドリル３１により微速回転されていると、その全周に万遍なく紫外光が照射されてむらなく洗浄される。
【００１６】
また、ブロックカバー７の紫外光遮断材料を可視光透過材料から構成することによって、エキシマランプ２からの可視光がブロックカバー７を介して外部に出射されるので、エキシマランプ２の点灯状態を目視により確認することができる。
【００１７】
人工歯根３０の洗浄が終了したら、電源１４からの給電を終了させ、エキシマランプ２を消灯したのちに、ブロックカバー７を開いて、人工歯根３０を取り出す。
人工歯根を取り出した後、別の患者に施術する場合には、少なくとも、人工歯根に接近または接触する照射ブロック５を滅菌しなければならない。
このとき、該照射ブロック５はケーシング１に対して着脱自在であるので、滅菌作業のための着脱が容易であり、更には、エキシマランプ２上に載置する構造としたときには、その着脱がより一層容易になる。また、エキシマランプ２と照射ブロック５の位置が極めて接近し、その間の空気（酸素）による紫外光の減衰がほとんど生じることがない。
【００１８】
上記実施例では、エキシマランプ２は扁平形状の放電容器としたが、これに限られず、円筒状の放電容器であってもよく、図４にはこの例が示されている。
円筒状の放電容器２ａの外周に外部電極２ｃが設けられ、その内部には内部電極２ｄが配置されている。
照射ブロック５の光導入部５ａは、放電容器２ａの形状に沿うように、円弧上に窪んでおり、この窪んだ光導入部５ａ内にエキシマランプ２が配置される。
【００１９】
また、上記照射ブロック５には、図５（Ａ）に示すように、照射ブロック５の光入射部５ａと光出射部５ｂ以外の外表面５ｃには、紫外光遮断材２０が被覆されている。これにより、エキシマランプ２からの紫外光が光出射部５ｂからのみ出射されるので、有効な洗浄効果がもたらされるとともに、それ以外の不所望な箇所に出射されないので作業者に紫外光が照射されることもない。
更には、この紫外光遮断材２０に紫外光反射機能をもたせたものを使用してもよく、こうすることにより紫外光遮断材で反射した紫外光を人工歯根に有効に照射することができ、エキシマランプからの紫外光を効率よく利用することができる。
このような紫外光遮断材２０としては、例えば、９９．９９％のアルミニウム蒸着膜で構成でき、この場合の膜厚は１００〜１５０μｍである。
【００２０】
また、図５（Ｂ）に示すように、照射ブロック５に凹部６を形成して、該凹部６を光出射部５ｂとすることもできる。この場合も、該凹部６（光出射部５ｂ）と光入射部５ａを除いた外表面５ｃには、紫外光遮断材２０が被覆されている。洗浄に際しては、人工歯根３０はこの凹部６内に挿入配置されて、その周囲から紫外光が照射されるものである。
【００２１】
ところで、照射ブロック５をエキシマランプ２上に直接載置する構造とする場合、外部電極が導電体の蒸着によって構成されている場合には、その蒸着電極が損傷することがあり、また、この両者は、例えば石英ガラスやセラミックス材料で構成されているので、両者が当接するとき互いに傷つけて、しばしば破損に至る場合がある。
これを防止するために、図６、図７に示す例では、両者の間にクッション材を介在させている。
図６、７において、エキシマランプ２の放電容器２ａの外周に、長手方向の複数個所でクッション材としてワイヤ２１が巻回されている。このワイヤ２１は耐紫外光の観点から、例えば、ステンレスからなる。
これにより、セラミックス同士が直接に当接することが避けられて、その破損が防止できる。
また、外部電極が金網構造の場合には、該外部電極をクッション材とすることもできる。
更にまた、図８はエキシマランプ２の放電容器２ａが円筒形状の場合を示し、その外周にクッション材としてのワイヤ２１が巻き付けられている。
【００２２】
以上説明したように、本発明に係る人工歯根の有機汚染物除去装置においては、エキシマランプを収容したケーシングの光取り出し用の開口部に、エキシマランプに対向する光入射部と人工歯根に対向する光出射部を有する紫外光透過性材料からなる照射ブロックが着脱自在に取り付けられていることから、エキシマランプからの紫外光を効率的に人工歯根に照射できて、付着した有機汚染物を有効に除去できるものである。また、照射ブロックは着脱自在なので、ケーシングから取り外して容易にその滅菌処理を行うことができる。
また、前記照射ブロックにおける前記光入射部および光出射部以外の外表面に紫外光遮断材が被覆されているので、光出射部に対応して配置される人工歯根にのみ効果的に紫外光を照射できるとともに、歯科医師等の作業者に紫外光が照射されることがない。
加えて、紫外光遮断材料からなるブロックカバーが開閉自在に設けられているので、エキシマランプからの紫外光が作業者に照射されることがない。
このように、本発明は、歯科医師等の作業者に紫外光が照射されることがなく、安全で確実に、かつ簡便に人工歯根の紫外光による洗浄処理が達成できる機能的な有機汚染物除去装置を実現したものである。
【符号の説明】
【００２３】
１ ケーシング
２ エキシマランプ
２ａ 放電容器
２ｂ、２ｃ 外部電極
２ｄ 内部電極
３ 天板
４ 開口部
５ 照射ブロック
５ａ 光入射部
５ｂ 光出射部
６ 凹部（光出射部）
７ ブロックカバー
８ 処理物収容部
１０ 区画壁
１１ ランプ収容部
１２ 排気管
１５ 人工歯根の位置決め部材
１６、１７ ドリル載置台
２０ 紫外線遮断材
２１ クッション材（ワイヤ）
３０ 人工歯根
３１ 電動ドリル
【技術分野】
【０００１】
この発明は、デンタルインプラントに用いられる人工歯根の有機汚染物除去装置に関するものであり、特に、エキシマランプから紫外光を照射して人工歯根の洗浄を行う有機汚染物除去装置に係わるものである。
【背景技術】
【０００２】
デンタルインプラントの施術において、人工歯根を紫外光によって洗浄して有機汚染物を除去することが知られていて、例えば、特許第３０７２３０３号の段落０００９には、波長１７２ｎｍのエキシマランプを用いて人工歯根の表面に付着した有機汚染物を除去することが記載されている。
しかしながら、この先行文献においては単にアイディアとしての記述がなされているだけであり、これを実現した具体的な装置構造が提案されているわけではない。
特に、エキシマランプの放射光は、人間が直視すると危険であり、かつ、紫外光によりオゾンが発生し、これが歯科医師等の作業者に悪影響を及ぼすなどの種々の問題があり、作業者が安全に使用できる装置の実現化が待たれている状況であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３０７２３０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この発明が解決しようとする課題は、紫外光を放射するエキシマランプを用いた人工歯根の有機汚染物除去装置において、放射される紫外光によって歯科医師等の作業者に悪影響を及ぼすことなく、安全にかつ簡便に操作できる人工歯根の有機汚染物除去装置の構造を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、この発明に係る有機汚染物除去装置は、エキシマランプが収納されたケーシングに放射光を外部に出射するための開口部が形成され、該開口部に着脱自在に取り付けられ、エキシマランプに対向する光入射部と人工歯根に対向する光出射部を有する紫外光透過性材料からなる照射ブロックが設けられていることを特徴とする。
また、前記光出射部が、照射ブロックに形成した凹部からなることを特徴とする。
また、前記照射ブロックにおける前記光入射部および光出射部以外の外表面に紫外光遮断材が被覆されていることを特徴とする。
また、前記照射ブロックは、前記エキシマランプ上に載置されていることを特徴とする。
また、前記ケーシングには、前記照射ブロックを覆う紫外光遮断材料から構成される開閉自在のブロックカバーが設けられていることを特徴とする。
更には、前記ケーシングの天板には、照射ブロックの近傍に、人工歯根の位置決め部材が設けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
この発明の有機汚染物除去装置によれば、照射ブロックを介してエキシマランプからの紫外光を効率的に人工歯根に照射できて、付着した有機汚染物を効果的に除去することができ、しかも、該照射ブロックがケーシングに着脱自在に取り付けられているので、人工歯根の洗浄作業に先立って、予め該照射ブロックを取り外して容易に加熱滅菌処理をすることができる。
【０００７】
また、光出射部が凹部からなるので、当該凹部内に挿入配置される人工歯根に効率的に集中して紫外光を照射することができる。
また、照射ブロックには光入射部および光出射部以外の外表面に紫外光遮断材が被覆されているので、光出射部に対応して配置される人工歯根に効果的に紫外光を照射することができるとともに、それ以外の不所望な個所に紫外光が放射されることがなく、歯科医師等の作業者に照射されることがない。
【０００８】
また、前記照射ブロックはエキシマランプ上に載置される構造であるので、照射ブロックの着脱が容易にでき、かつ、エキシマランプからの紫外光が周囲の酸素雰囲気によって吸収されることが少なく、人工歯根に最大限に照射される。
更に、前記ケーシングには、前記照射ブロックを覆う紫外光遮断材料から構成される開閉自在のブロックカバーが設けられているので、照射ブロックから出射されてくる紫外光を該ブロックカバーによって遮断して、作業者に照射されることがない。そして、ブロックカバーの外部にオゾンが発生することも防止できる。
また、前記ケーシングの天板には、照射ブロックの近傍に、人工歯根の位置決め部材が設けられているので、この位置決め部材に人工歯根が取り付けられたドリルの先端部を位置させるだけで、人工歯根と照射ブロックとが適正に位置決めされるという使用上の簡便さももたらされるものである。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の有機汚染物除去装置の上面図。
【図２】図１のＸ−Ｘ断面図。
【図３】図２のＹ−Ｙ断面図。
【図４】異なる形状のエキシマランプによる他の実施例。
【図５】本発明における照射ブロックの詳細図。
【図６】他の実施例の部分断面図。
【図７】図６のランプの部分斜視図。
【図８】図６の他のランプ構造による実施例の部分断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１は、本発明の人工歯根の有機汚染物除去装置の上面図であり、先端に人口歯根３０が取り付けられた歯科用電動ドリル３１も合わせて記載されている。
図２は、図１のＸ−Ｘ断面図であり、ケーシング１内にはエキシマランプ２が配設されている。該エキシマランプ２は、公知の形状のもので、この例では扁平形状の放電容器２ａの上下面に一対の外部電極２ｂ、２ｂが設けられた構造である。
ケーシング１の天板３には該エキシマランプ２に対向する位置に、放射光を外部に出射するための開口部４が形成されていて、該開口部４内に位置して照射ブロック５がケーシング１に対して着脱自在に設けられている。
該照射ブロック５は、紫外光透過性材料、例えば石英ガラスからなり、その下面、すなわち、エキシマランプ２に対向する面が光入射部５ａを構成し、上面、すなわち、人工歯根３０に対向する面が光出射部５ｂを構成する。
この照射ブロック５は、前記開口部４内に挿入される形でエキシマランプ２上に載置される。
なお、照射ブロック５はエキシマランプ２に直接載置するものとしたが、これに限られず、ケーシング１の天板３に着脱自在に係止する構造であってもよい。
【００１１】
ケーシング１の天板３には、前記照射ブロック５および人工歯根３０を覆うように開閉自在のブロックカバー７が設けられている。このブロックカバー７により、その内部に処理物収容部８が形成され、この中に処理物である人工歯根３０が収容される。
該ブロックカバー７は、エキシマランプ２からの少なくとも紫外光を遮断する紫外光遮断材料からなり、また、可視光を透過する材料であることが好ましい。そのような具体的な材料としては、例えば、アクリル樹脂、シクロオレフィンコポリマー樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂やポリカーボネート樹脂などを用いることができる。
紫外光遮断性であることにより、人工歯根の洗浄を行なう医師等の作業者に紫外光が照射されることを防止でき、また、可視光透過性であることにより、エキシマランプの点灯・不点灯を目視により確認することができる。
【００１２】
なお、同図においては、ブロックカバー７は蝶番９によって回動自在に設けられているものを示したが、単に天板３上に上方から載置されるものであってもよく、その場合は、図示しない、段差部などの適宜の位置決め用の手段を設けてもいい。
また、図３にも示されるように、このブロックカバー７には切り欠き７ａが形成されていて、照射ブロック５および照射洗浄位置にある人工歯根３０を覆うようにセットされたときこれらとの干渉することがないようにされている。
また、図２に示すように、ハウジング１内には、区画壁１０によってエキシマランプ２を収容するランプ収容部１１が区画形成されている。該ランプ収容部１１には排気管１２が接続されていて、ランプ収容部１１内を排気している。
なお、１４はエキシマランプ２の電源である。
【００１３】
図１を参照して、ケーシング１の天板３上には照射ブロック５の近傍に人工歯根３０の位置決め部材１５が着脱自在に設けられていて、この位置決め部材１５上に人工歯根３０を装着した電動ドリル３１の先端３１ａが位置されると、該人工歯根３０は照射ブロック５上方の所定位置に位置決めされる。
より詳細には、同じく天板３上に人工歯根３０が装着されたドリル３１のための載置台１６、１７が着脱自在に設けられていて、当該載置台１６、１７上にドリル３１が載置され、その先端部３１ａが前記位置決め部材１５上にセットされると、人工歯根３０が照射ブロック５に対して位置決めされるものである。
【００１４】
上述した人工歯根の有機汚染物除去装置を用いた人工歯根の洗浄作業について、説明すると以下の通りである。
洗浄処理に先立って、照射ブロック５、位置決め部材１５、載置台１６、１７はケーシング１から取り外されて、予め加熱等により滅菌処理が施されている。滅菌処理された照射ブロック５を開口部４内に挿入してエキシマランプ２上に載置するとともに、位置決め部材１５、載置台１６、１７を天板３上に取り付ける。
次いで、洗浄する人工歯根３０が取り付けられたドリル３１を載置台１６、１７上に載置して、その先端部３１ａが位置決め部材１５にセットされると、人工歯根３０は照射ブロック５上にセットされる。
その後に、ブロックカバー７を閉めて人工歯根３０を処理物収容部８内に収容するように取り囲む。
【００１５】
次いで、図示しないファンを稼働するとランプ収容部１１内のガスは排気管１２を経て外部に排気される。
その後に、電源１４によりエキシマランプ２を点灯すると、該エキシマランプ２から、例えば１７２ｎｍのピーク波長を有する紫外光が出射される。
この紫外光は、光入射部５ａから照射ブロック５に入射し、ここを透過して光出射部５ｂから出射されて上方の人工歯根３０に照射される。このとき、人工歯根３０がドリル３１により微速回転されていると、その全周に万遍なく紫外光が照射されてむらなく洗浄される。
【００１６】
また、ブロックカバー７の紫外光遮断材料を可視光透過材料から構成することによって、エキシマランプ２からの可視光がブロックカバー７を介して外部に出射されるので、エキシマランプ２の点灯状態を目視により確認することができる。
【００１７】
人工歯根３０の洗浄が終了したら、電源１４からの給電を終了させ、エキシマランプ２を消灯したのちに、ブロックカバー７を開いて、人工歯根３０を取り出す。
人工歯根を取り出した後、別の患者に施術する場合には、少なくとも、人工歯根に接近または接触する照射ブロック５を滅菌しなければならない。
このとき、該照射ブロック５はケーシング１に対して着脱自在であるので、滅菌作業のための着脱が容易であり、更には、エキシマランプ２上に載置する構造としたときには、その着脱がより一層容易になる。また、エキシマランプ２と照射ブロック５の位置が極めて接近し、その間の空気（酸素）による紫外光の減衰がほとんど生じることがない。
【００１８】
上記実施例では、エキシマランプ２は扁平形状の放電容器としたが、これに限られず、円筒状の放電容器であってもよく、図４にはこの例が示されている。
円筒状の放電容器２ａの外周に外部電極２ｃが設けられ、その内部には内部電極２ｄが配置されている。
照射ブロック５の光導入部５ａは、放電容器２ａの形状に沿うように、円弧上に窪んでおり、この窪んだ光導入部５ａ内にエキシマランプ２が配置される。
【００１９】
また、上記照射ブロック５には、図５（Ａ）に示すように、照射ブロック５の光入射部５ａと光出射部５ｂ以外の外表面５ｃには、紫外光遮断材２０が被覆されている。これにより、エキシマランプ２からの紫外光が光出射部５ｂからのみ出射されるので、有効な洗浄効果がもたらされるとともに、それ以外の不所望な箇所に出射されないので作業者に紫外光が照射されることもない。
更には、この紫外光遮断材２０に紫外光反射機能をもたせたものを使用してもよく、こうすることにより紫外光遮断材で反射した紫外光を人工歯根に有効に照射することができ、エキシマランプからの紫外光を効率よく利用することができる。
このような紫外光遮断材２０としては、例えば、９９．９９％のアルミニウム蒸着膜で構成でき、この場合の膜厚は１００〜１５０μｍである。
【００２０】
また、図５（Ｂ）に示すように、照射ブロック５に凹部６を形成して、該凹部６を光出射部５ｂとすることもできる。この場合も、該凹部６（光出射部５ｂ）と光入射部５ａを除いた外表面５ｃには、紫外光遮断材２０が被覆されている。洗浄に際しては、人工歯根３０はこの凹部６内に挿入配置されて、その周囲から紫外光が照射されるものである。
【００２１】
ところで、照射ブロック５をエキシマランプ２上に直接載置する構造とする場合、外部電極が導電体の蒸着によって構成されている場合には、その蒸着電極が損傷することがあり、また、この両者は、例えば石英ガラスやセラミックス材料で構成されているので、両者が当接するとき互いに傷つけて、しばしば破損に至る場合がある。
これを防止するために、図６、図７に示す例では、両者の間にクッション材を介在させている。
図６、７において、エキシマランプ２の放電容器２ａの外周に、長手方向の複数個所でクッション材としてワイヤ２１が巻回されている。このワイヤ２１は耐紫外光の観点から、例えば、ステンレスからなる。
これにより、セラミックス同士が直接に当接することが避けられて、その破損が防止できる。
また、外部電極が金網構造の場合には、該外部電極をクッション材とすることもできる。
更にまた、図８はエキシマランプ２の放電容器２ａが円筒形状の場合を示し、その外周にクッション材としてのワイヤ２１が巻き付けられている。
【００２２】
以上説明したように、本発明に係る人工歯根の有機汚染物除去装置においては、エキシマランプを収容したケーシングの光取り出し用の開口部に、エキシマランプに対向する光入射部と人工歯根に対向する光出射部を有する紫外光透過性材料からなる照射ブロックが着脱自在に取り付けられていることから、エキシマランプからの紫外光を効率的に人工歯根に照射できて、付着した有機汚染物を有効に除去できるものである。また、照射ブロックは着脱自在なので、ケーシングから取り外して容易にその滅菌処理を行うことができる。
また、前記照射ブロックにおける前記光入射部および光出射部以外の外表面に紫外光遮断材が被覆されているので、光出射部に対応して配置される人工歯根にのみ効果的に紫外光を照射できるとともに、歯科医師等の作業者に紫外光が照射されることがない。
加えて、紫外光遮断材料からなるブロックカバーが開閉自在に設けられているので、エキシマランプからの紫外光が作業者に照射されることがない。
このように、本発明は、歯科医師等の作業者に紫外光が照射されることがなく、安全で確実に、かつ簡便に人工歯根の紫外光による洗浄処理が達成できる機能的な有機汚染物除去装置を実現したものである。
【符号の説明】
【００２３】
１ ケーシング
２ エキシマランプ
２ａ 放電容器
２ｂ、２ｃ 外部電極
２ｄ 内部電極
３ 天板
４ 開口部
５ 照射ブロック
５ａ 光入射部
５ｂ 光出射部
６ 凹部（光出射部）
７ ブロックカバー
８ 処理物収容部
１０ 区画壁
１１ ランプ収容部
１２ 排気管
１５ 人工歯根の位置決め部材
１６、１７ ドリル載置台
２０ 紫外線遮断材
２１ クッション材（ワイヤ）
３０ 人工歯根
３１ 電動ドリル
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外光を放射するエキシマランプを用いた人工歯根の有機汚染物除去装置において、
エキシマランプが収納されたケーシングに放射光を外部に出射するための開口部が形成され、
該開口部に着脱自在に取り付けられ、エキシマランプに対向する光入射部と人工歯根に対向する光出射部を有する紫外光透過性材料からなる照射ブロックが設けられていることを特徴とする人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項２】
前記光出射部が、照射ブロックに形成した凹部からなることを特徴とする請求項１に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項３】
前記照射ブロックにおける前記光入射部および光出射部以外の外表面に紫外光遮断材が被覆されていることを特徴とする請求項１に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項４】
前記紫外光遮断材は紫外光反射機能を有していることを特徴とする請求項３に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項５】
前記照射ブロックは、前記エキシマランプ上に載置されていることを特徴とする請求項１に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項６】
前記照射ブロックと前記エキシマランプの間にクッション材を介在させたことを特徴とする請求項５に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項７】
前記クッション材は、前記エキシマランプの放電容器の外面に形成された電極であることを特徴とする請求項６に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項８】
前記ケーシングには、前記照射ブロックを覆う紫外光遮断材料から構成される開閉自在のブロックカバーが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項９】
前記ブロックカバーの紫外光遮断材料は、エキシマランプからの可視光を透過する材料であることを特徴とする請求項８に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項１０】
前記ケーシングの天板には、照射ブロックの近傍に、人工歯根の位置決め部材が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項１１】
前記位置決め部材は、前記ケーシングに対して着脱自在であることを特徴とする請求項１０に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項１】
紫外光を放射するエキシマランプを用いた人工歯根の有機汚染物除去装置において、
エキシマランプが収納されたケーシングに放射光を外部に出射するための開口部が形成され、
該開口部に着脱自在に取り付けられ、エキシマランプに対向する光入射部と人工歯根に対向する光出射部を有する紫外光透過性材料からなる照射ブロックが設けられていることを特徴とする人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項２】
前記光出射部が、照射ブロックに形成した凹部からなることを特徴とする請求項１に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項３】
前記照射ブロックにおける前記光入射部および光出射部以外の外表面に紫外光遮断材が被覆されていることを特徴とする請求項１に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項４】
前記紫外光遮断材は紫外光反射機能を有していることを特徴とする請求項３に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項５】
前記照射ブロックは、前記エキシマランプ上に載置されていることを特徴とする請求項１に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項６】
前記照射ブロックと前記エキシマランプの間にクッション材を介在させたことを特徴とする請求項５に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項７】
前記クッション材は、前記エキシマランプの放電容器の外面に形成された電極であることを特徴とする請求項６に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項８】
前記ケーシングには、前記照射ブロックを覆う紫外光遮断材料から構成される開閉自在のブロックカバーが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項９】
前記ブロックカバーの紫外光遮断材料は、エキシマランプからの可視光を透過する材料であることを特徴とする請求項８に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項１０】
前記ケーシングの天板には、照射ブロックの近傍に、人工歯根の位置決め部材が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【請求項１１】
前記位置決め部材は、前記ケーシングに対して着脱自在であることを特徴とする請求項１０に記載の人工歯根の有機汚染物除去装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１２−１１８（Ｐ２０１２−１１８Ａ）
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１３４７１９（Ｐ２０１０−１３４７１９）
【出願日】平成２２年６月１４日（２０１０．６．１４）
【出願人】（０００１０２２１２）ウシオ電機株式会社 (1,414)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年６月１４日（２０１０．６．１４）
【出願人】（０００１０２２１２）ウシオ電機株式会社 (1,414)
【Ｆターム（参考）】
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