偽造・改ざん防止画像形成体およびその画像形成方法
【課題】カラーコピー機等を用いた複製による偽造、改ざんに対して防止効果のある、色が変化するカラーシフト材料に対して、個別情報の付加を可能にして、個人情報のセキュリティ性を向上させることにある。
【解決手段】樹脂基材上にカラーシフト材料層が積層されており、レーザー照射によりカラーシフト材料層を通して樹脂基材が黒化し、黒化部分のカラーシフト効果を顕著にした画像を形成できる樹脂基材により構成されていることを特徴とする偽造・改ざん防止画像形成体。
【解決手段】樹脂基材上にカラーシフト材料層が積層されており、レーザー照射によりカラーシフト材料層を通して樹脂基材が黒化し、黒化部分のカラーシフト効果を顕著にした画像を形成できる樹脂基材により構成されていることを特徴とする偽造・改ざん防止画像形成体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ＩＤカードに用いる偽造・改ざん防止等の高い防護機能を持ち、レーザー光による画像、文字、数字等の個別情報を備えたＩＤカードの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＤカードの偽造・改ざん防止策としてはポリカーボネート基材にレーザー光(ＹＡＧ、ＣＯ２など)を照射することで、基材の表面を削りＩＤカード毎に個別情報を印字するレーザー彫刻方法が知られている。レーザー印字方式は、インクジェット印字等に比べて、カード基材自体が削られており、改ざんが困難とされている。しかしながら、カード基材表面を削って個別情報を消去し、別情報を印刷する偽造が発生している。例えば、レーザーエングレーブ装置を使って、別画像を上書きするとか、印刷や他の印字方法(インクジェット、レーザープリンタなど)で情報が記録されてしまっている。
【０００３】
ＩＣカードに表示された個人情報等をＩＣチップ内に搭載し、ＩＣチップ内の情報を暗号化し、リーダ機器によって読取、情報自体の解析し、照合することで、改ざんを検知し、防止する方法が知られている。しかし、リーダ機器がない環境下では、改ざん・偽造を検知することができない。さらにＩＣチップが故意あるいは偶然に破壊されると、改ざんや偽造を検知することができない。
【０００４】
また、二つの異なる色の間でカラーシフトを示す光学的可変性顔料を用いることが知られている。カラーシフト材料は色が変化するため、カラーコピー機による複製はできない。しかしながらカラーシフト材料では、個人情報のセキュリティ性に関しては向上できない（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２００２−５２３６０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、かかる従来技術の問題点を解決するものであり、その課題とするところは、カラーコピー機等を用いた複製による偽造、改ざんに対して防止効果のある、色が変化するカラーシフト材料に対して、個別情報の付加を可能にして、個人情報のセキュリティ性を向上させる偽造・改ざん防止画像形成体およびその画像形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、樹脂基材上にカラーシフト材料層が積層されており、カラーシフト材料層を通過したレーザー照射により、カラーシフト材料層下部に設けられた樹脂基材が黒化し、黒化部分のカラーシフト効果を顕著にした画像を形成できる樹脂基材により構成されていることを特徴とする偽造・改ざん防止画像形成体である。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、前記樹脂基材あるいは前記カラーシフト材料層上にＯＶＤを一部あるいは全面に設けたことを特徴とする請求項1に記載の偽造・改ざん防止画像形成体である。
【０００９】
また、請求項３に記載の発明は、前記樹脂基材と前記カラーシフト材料層との間に吸収層が設けられた構成としたことを特徴とする請求項１または２に記載の偽造・改ざん防止画像形成体である。
【００１０】
また、請求項４に記載の発明は、前記樹脂基材がポリカーボネート樹脂で構成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の偽造・改ざん防止画像形成体である。
【００１１】
また、請求項５に記載の発明は、前記吸収層が網点状のカーボンインキであることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の偽造・改ざん防止画像形成体である。
【００１２】
また、請求項６に記載の発明は、樹脂基材上にカラーシフト材料層、ＯＶＤを一部あるいは全面に積層するか、あるいは樹脂基材上にＯＶＤを一部あるいは全面に設け、さらにカラーシフト材料層を積層するか、あるいは樹脂基材上に、吸収層、カラーシフト材料層、ＯＶＤを一部あるいは全面に順次積層するか、あるいは樹脂基材上に、吸収層、ＯＶＤを一部あるいは全面に設け、さらにカラーシフト材料層を順次積層するか、いずれかに積層してなる画像形成体に、レーザー照射によりカラーシフト材料層を通して樹脂基材に画像を形成することを特徴とする偽造・改ざん防止画像形成方法である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、プラスチック基材にカラーシフト材料を施し、カラーシフト材料を通してレーザー照射することで、プラスチック基材に個別情報を印字すると共に、印字部が黒色化し、カラーシフト材料の色変化が顕著となる。カラーコピーによる偽造の防止だけではなく、個別情報の印字を可能としている。印字個別情報はカード基材自体を削ずり形成され、印字個別情報がカラーシフト材料層の下に形成されている。そのためカード基材表面を削って個別情報を消去することができず、セキュリティ性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の画像形成体とレーザー光を用い個別情報を印字する画像形成方法の実施形態の一例を示した概念図である。
【図２】本発明の画像形成体におけるカラーシフト材料の表示形態の一例を示した概念図である。
【図３】本発明の画像形成体におけるカラーシフト材料の上部全面にＯＶＤを設けた一例を示した概念図である。
【図４】本発明の画像形成体におけるカラーシフト材料の上部１部分にＯＶＤを設けた一例を示した概念図である。
【図５】本発明の画像形成体におけるカラーシフト材料の下部全面にＯＶＤを設けた一例を示した概念図である。
【図６】本発明の画像形成体におけるカラーシフト材料の下部１部分にＯＶＤを設けた一例を示した概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下本発明を実施するための形態を、図面を用いて詳細に説明する。本発明の画像形成体は基材５上にカラーシフト材料が形成されており、レーザー７からのレーザー光４により基材５が黒化して吸収層３が形成される。レーザー光４を有効に使うために網点状に黒インキ３を設けも良い。
【００１６】
カラーシフト材料の色変化は、下地が黒いと顕著に見える。図２は印字部の色変化を
示した模式図であるが、レーザー照射で黒化した部分が色変化を認識できる。黒化濃度が
弱い場合には、レーザー光４を吸収する吸収層３を設けても良い。吸収効率が悪くレーザー出力を上げてしまうと、基材自体に損傷が生じるなど不具合が生じる。
【００１７】
カード基材として用いられる材料は熱可塑性樹脂であることが好ましく、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニル共重合体、テレフタル酸と、シクロヘキサンジメタノール及びエチレングリコールとの共重合体、テレフタル酸とイソフタル酸及びエチレングリコールとの共重合体、またはその共重合体とポリカーボネート及び、またはポリアリレートとのポリマーアロイからなる非晶性ポリエステル、ＡＢＳ等の非晶性樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン等の結晶性樹脂が挙げられるが、ポリカーボネートが好適に用いることができ、レーザー光の照射により黒化する。
【００１８】
カラーシフト材料１としては、液晶材料、カラーシフトインキ、カラーシフトフィルムがあり、図３、図４、図５、図６に示す様に、カラーシフト材料１の上面又は下面に光学変化デバイス（ＯＰＴＩＣＡＬ ＶＡＲＩＡＢＬＥ ＥＶＩＣＥ：以下、「ＯＶＤ６」と称する。）を全面又は部分的に施すこともできる。ＯＶＤ６としては、回折格子、ホログラム、部分蒸着ホログラム、積層ホログラムを挙げることができる。回折格子としては、レリーフ型回折格子や体積型回折格子等がある。
【００１９】
ＯＶＤ６として、屈折率がおよそ２．０以上の高屈折率の薄膜と屈折率がおよそ１．５程度の低屈折率材料の薄膜とをそれぞれ光学的に適当な膜厚で適宜積層した多層薄膜等が利用できる。
【００２０】
前記レリーフ型回折格子は、その表面に微細な凹凸パターンの形態で回折格子を記録したものである。このような凹凸パターンは、例えば、二光束干渉法を使用して感光性樹脂の表面に互いに可干渉の２本の光線を照射してこの感光性樹脂表面に干渉縞を生成させ、この干渉縞を凹凸の形態で感光性樹脂に記録することで形成することができる。尚、この二光束性干渉法によって形成された干渉縞をホログラムと呼び、前記２本の光線の選択によって任意の立体画像を記録することが可能である。また、観察する角度に応じて異なる画像（以下チェンジング画像と言う）を見ることができるように記録することも可能である。
【００２１】
また、レリーフ型回折格子の凹凸パターンは、電子線硬化型樹脂の表面に電子線を照射して、回折格子を構成する縞状に露光することによって形成することも可能である。この場合には、その干渉縞を１本毎に制御することができるため、ホログラムと同様に任意の立体画像やチェンジング画像を記録することができる。また、画像をドット状の画素領域に分割し、この画素領域毎に異なる回折格子を記録し、これら画祖の集合で全体の画像を表現することも可能である。画素は円形のドットの他、星形のドットでも良い。
【００２２】
多層干渉膜は、金属薄膜、セラミックス薄膜、又は、それらを併設してなる複合薄膜として、各層の光学特性と層の組合せの関係による適当な数の層が積層されていれば良い。例えば、屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜とを組み合わせても良く、また特定の組合せを交互に積層するようにしても、いずれでもよい。それらの層による光学的条件を満たす適当な組合せにより、所望の光学的効果（ここでは構造色）を発現する光学多層干渉薄膜を得ることができる。
【００２３】
このような光学多層干渉膜に用いられる材料の例を以下に挙げる。尚、化学式の後ろに続くカッコ内の数値は、それぞれの屈折率ｎを示す。まず、セラミックスとしては、Ｓｂ２Ｏ３（３．０）、Ｆｅ２Ｏ３（２．７）、ＴｉＯ２（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ２（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ２（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ
２Ｏ３（２．０）、ＷＯ３（２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ２Ｏ３（２．５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ２Ｏ３（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ２（２．０）、ＭｇＯ（１．６）、Ｓｉ２Ｏ２（１．５）、ＭｇＦ２（１．４）、ＣｅＦ３（１．６）、ＣａＦ２（１．３〜１．４）、ＡｌＦ３（１．６）、Ａｌ２Ｏ３（１．６）、ＧａＯ（１．７）、等があり、また、金属系の材料としては、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ、等の金属単体もしくは合金が挙げられる。
【００２４】
また、低屈折率の材料としては、例えば有機ポリマーのうち、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等がある。ただし、ここでカッコ内の数値はそれぞれの屈折率ｎを示す。これらの高屈折率材料もしくは２０〜７０％の光透過率とした金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくとも一種をそれぞれ選択し、所定の厚さで交互に積層させることにより、可視光における特定の波長だけを吸収あるいは反射するようになる。
【００２５】
前記の各材料から屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐候性、層間密着性などに基づき適宜選択され、薄膜として積層されることによって光学的な波長干渉を発生させる多層薄膜を形成する。形成方法は、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚等の制御が可能な公知の方法が使用できる。例えば真空蒸着法やスパッタリング法、ＣＶＤ法等である。尚、前記光学膜厚とはｎ・ｄで与えられる量であり、ｎは屈折率、またｄは膜厚である。
【００２６】
液晶材料としては、コレステリック液晶性化合物を含む組成物が好適である。コレステリック液晶性化合物に特有の虹彩が見られるような組成物であればよく、特に限定されるものではない。中でも、コレステリック液晶性化合物を水に溶解した溶液を主体とする組成物は、コレステリック液晶性化合物に特有の見る角度によって異なる美しい虹彩を見ることができるので、好ましく使用できる。
【００２７】
また、コレステリック液晶の層は、その構成分子が光学活性を有し、薄層内ではネマッティック一軸配向しているが、隣接層間では相互に一定方向に一定角のねじれを起こしている螺旋構造を有している。そのピッチは数百ｎｍから無限大まで分布する。この螺旋構造のため、コレステリック液晶は螺旋ピッチに相応した波長の光を選択的に反射し、青から赤まで煌びやかな色彩を持つ。
【００２８】
代表的なコレステリック液晶性化合物としては、安息香酸コレステリル、塩化コレステリル、オクタン酸コレステリル、ノナン酸コレステリルクロルギ酸コレステリル、炭酸オレイルコレステリル、酢酸コレステリル、エレオステアリン酸コレステリルなどの他、液晶オリゴマー、液晶ポリマーなどを例示することができる。また、コレステリック液晶性化合物としてヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシブチルセルロースなどのヒドロキシアルキルセルロースや、これらのアシル誘導体なども例示することができる。
【００２９】
観察する角度に応じて異なる色彩を見ることができる粉末としては、例えば、雲母などの層状物質が挙げられる。この雲母を還元二酸化チタンや酸化鉄で被覆した粉末を利用することができる。これらは、いわゆるフリップフロップ効果によって、波長分散性能を発揮する。これら粉末をインキ化して公知の印刷法、または塗布法により、波長分散性能を有する層を形成することができる。
【００３０】
カラーシフトフィルムは、回折、干渉又は選択反射に基づいて観察角度に応じた表示色の変化を生じる層をもっており、例えば、酸化チタン及び／又は酸化鉄を主成分とする金
属酸化物で表面を被覆された天然雲母粒子、屈折率の異なる複数の無機酸化物を積層した光干渉膜を含んでおり、グラビア法若しくはロールコート法等の塗布法、又は、真空蒸着法等の蒸着法により形成する。
【００３１】
吸収層３は、カラーシフト材料１を透過した照明光を吸収する。この吸収層３を設けることにより、カラーシフト材料１からの反射光を、より容易に視認できるようになる。したがって、カラーシフト材料１が呈する上述の光学効果がより顕著となり、の偽造防止効果を向上させることができる。
【符号の説明】
【００３２】
１・・・カラーシフト材料
２・・・黒インキ（網点）
３・・・吸収層
４・・・レーザー光
５・・・基材
６・・・ＯＶＤ
７・・・レーザー装置
Ａ・・・カラーシフト画像
Ｂ・・・カラーシフト画像
【技術分野】
【０００１】
ＩＤカードに用いる偽造・改ざん防止等の高い防護機能を持ち、レーザー光による画像、文字、数字等の個別情報を備えたＩＤカードの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＤカードの偽造・改ざん防止策としてはポリカーボネート基材にレーザー光(ＹＡＧ、ＣＯ２など)を照射することで、基材の表面を削りＩＤカード毎に個別情報を印字するレーザー彫刻方法が知られている。レーザー印字方式は、インクジェット印字等に比べて、カード基材自体が削られており、改ざんが困難とされている。しかしながら、カード基材表面を削って個別情報を消去し、別情報を印刷する偽造が発生している。例えば、レーザーエングレーブ装置を使って、別画像を上書きするとか、印刷や他の印字方法(インクジェット、レーザープリンタなど)で情報が記録されてしまっている。
【０００３】
ＩＣカードに表示された個人情報等をＩＣチップ内に搭載し、ＩＣチップ内の情報を暗号化し、リーダ機器によって読取、情報自体の解析し、照合することで、改ざんを検知し、防止する方法が知られている。しかし、リーダ機器がない環境下では、改ざん・偽造を検知することができない。さらにＩＣチップが故意あるいは偶然に破壊されると、改ざんや偽造を検知することができない。
【０００４】
また、二つの異なる色の間でカラーシフトを示す光学的可変性顔料を用いることが知られている。カラーシフト材料は色が変化するため、カラーコピー機による複製はできない。しかしながらカラーシフト材料では、個人情報のセキュリティ性に関しては向上できない（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２００２−５２３６０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、かかる従来技術の問題点を解決するものであり、その課題とするところは、カラーコピー機等を用いた複製による偽造、改ざんに対して防止効果のある、色が変化するカラーシフト材料に対して、個別情報の付加を可能にして、個人情報のセキュリティ性を向上させる偽造・改ざん防止画像形成体およびその画像形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、樹脂基材上にカラーシフト材料層が積層されており、カラーシフト材料層を通過したレーザー照射により、カラーシフト材料層下部に設けられた樹脂基材が黒化し、黒化部分のカラーシフト効果を顕著にした画像を形成できる樹脂基材により構成されていることを特徴とする偽造・改ざん防止画像形成体である。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、前記樹脂基材あるいは前記カラーシフト材料層上にＯＶＤを一部あるいは全面に設けたことを特徴とする請求項1に記載の偽造・改ざん防止画像形成体である。
【０００９】
また、請求項３に記載の発明は、前記樹脂基材と前記カラーシフト材料層との間に吸収層が設けられた構成としたことを特徴とする請求項１または２に記載の偽造・改ざん防止画像形成体である。
【００１０】
また、請求項４に記載の発明は、前記樹脂基材がポリカーボネート樹脂で構成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の偽造・改ざん防止画像形成体である。
【００１１】
また、請求項５に記載の発明は、前記吸収層が網点状のカーボンインキであることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の偽造・改ざん防止画像形成体である。
【００１２】
また、請求項６に記載の発明は、樹脂基材上にカラーシフト材料層、ＯＶＤを一部あるいは全面に積層するか、あるいは樹脂基材上にＯＶＤを一部あるいは全面に設け、さらにカラーシフト材料層を積層するか、あるいは樹脂基材上に、吸収層、カラーシフト材料層、ＯＶＤを一部あるいは全面に順次積層するか、あるいは樹脂基材上に、吸収層、ＯＶＤを一部あるいは全面に設け、さらにカラーシフト材料層を順次積層するか、いずれかに積層してなる画像形成体に、レーザー照射によりカラーシフト材料層を通して樹脂基材に画像を形成することを特徴とする偽造・改ざん防止画像形成方法である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、プラスチック基材にカラーシフト材料を施し、カラーシフト材料を通してレーザー照射することで、プラスチック基材に個別情報を印字すると共に、印字部が黒色化し、カラーシフト材料の色変化が顕著となる。カラーコピーによる偽造の防止だけではなく、個別情報の印字を可能としている。印字個別情報はカード基材自体を削ずり形成され、印字個別情報がカラーシフト材料層の下に形成されている。そのためカード基材表面を削って個別情報を消去することができず、セキュリティ性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の画像形成体とレーザー光を用い個別情報を印字する画像形成方法の実施形態の一例を示した概念図である。
【図２】本発明の画像形成体におけるカラーシフト材料の表示形態の一例を示した概念図である。
【図３】本発明の画像形成体におけるカラーシフト材料の上部全面にＯＶＤを設けた一例を示した概念図である。
【図４】本発明の画像形成体におけるカラーシフト材料の上部１部分にＯＶＤを設けた一例を示した概念図である。
【図５】本発明の画像形成体におけるカラーシフト材料の下部全面にＯＶＤを設けた一例を示した概念図である。
【図６】本発明の画像形成体におけるカラーシフト材料の下部１部分にＯＶＤを設けた一例を示した概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下本発明を実施するための形態を、図面を用いて詳細に説明する。本発明の画像形成体は基材５上にカラーシフト材料が形成されており、レーザー７からのレーザー光４により基材５が黒化して吸収層３が形成される。レーザー光４を有効に使うために網点状に黒インキ３を設けも良い。
【００１６】
カラーシフト材料の色変化は、下地が黒いと顕著に見える。図２は印字部の色変化を
示した模式図であるが、レーザー照射で黒化した部分が色変化を認識できる。黒化濃度が
弱い場合には、レーザー光４を吸収する吸収層３を設けても良い。吸収効率が悪くレーザー出力を上げてしまうと、基材自体に損傷が生じるなど不具合が生じる。
【００１７】
カード基材として用いられる材料は熱可塑性樹脂であることが好ましく、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニル共重合体、テレフタル酸と、シクロヘキサンジメタノール及びエチレングリコールとの共重合体、テレフタル酸とイソフタル酸及びエチレングリコールとの共重合体、またはその共重合体とポリカーボネート及び、またはポリアリレートとのポリマーアロイからなる非晶性ポリエステル、ＡＢＳ等の非晶性樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン等の結晶性樹脂が挙げられるが、ポリカーボネートが好適に用いることができ、レーザー光の照射により黒化する。
【００１８】
カラーシフト材料１としては、液晶材料、カラーシフトインキ、カラーシフトフィルムがあり、図３、図４、図５、図６に示す様に、カラーシフト材料１の上面又は下面に光学変化デバイス（ＯＰＴＩＣＡＬ ＶＡＲＩＡＢＬＥ ＥＶＩＣＥ：以下、「ＯＶＤ６」と称する。）を全面又は部分的に施すこともできる。ＯＶＤ６としては、回折格子、ホログラム、部分蒸着ホログラム、積層ホログラムを挙げることができる。回折格子としては、レリーフ型回折格子や体積型回折格子等がある。
【００１９】
ＯＶＤ６として、屈折率がおよそ２．０以上の高屈折率の薄膜と屈折率がおよそ１．５程度の低屈折率材料の薄膜とをそれぞれ光学的に適当な膜厚で適宜積層した多層薄膜等が利用できる。
【００２０】
前記レリーフ型回折格子は、その表面に微細な凹凸パターンの形態で回折格子を記録したものである。このような凹凸パターンは、例えば、二光束干渉法を使用して感光性樹脂の表面に互いに可干渉の２本の光線を照射してこの感光性樹脂表面に干渉縞を生成させ、この干渉縞を凹凸の形態で感光性樹脂に記録することで形成することができる。尚、この二光束性干渉法によって形成された干渉縞をホログラムと呼び、前記２本の光線の選択によって任意の立体画像を記録することが可能である。また、観察する角度に応じて異なる画像（以下チェンジング画像と言う）を見ることができるように記録することも可能である。
【００２１】
また、レリーフ型回折格子の凹凸パターンは、電子線硬化型樹脂の表面に電子線を照射して、回折格子を構成する縞状に露光することによって形成することも可能である。この場合には、その干渉縞を１本毎に制御することができるため、ホログラムと同様に任意の立体画像やチェンジング画像を記録することができる。また、画像をドット状の画素領域に分割し、この画素領域毎に異なる回折格子を記録し、これら画祖の集合で全体の画像を表現することも可能である。画素は円形のドットの他、星形のドットでも良い。
【００２２】
多層干渉膜は、金属薄膜、セラミックス薄膜、又は、それらを併設してなる複合薄膜として、各層の光学特性と層の組合せの関係による適当な数の層が積層されていれば良い。例えば、屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜とを組み合わせても良く、また特定の組合せを交互に積層するようにしても、いずれでもよい。それらの層による光学的条件を満たす適当な組合せにより、所望の光学的効果（ここでは構造色）を発現する光学多層干渉薄膜を得ることができる。
【００２３】
このような光学多層干渉膜に用いられる材料の例を以下に挙げる。尚、化学式の後ろに続くカッコ内の数値は、それぞれの屈折率ｎを示す。まず、セラミックスとしては、Ｓｂ２Ｏ３（３．０）、Ｆｅ２Ｏ３（２．７）、ＴｉＯ２（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ２（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ２（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ
２Ｏ３（２．０）、ＷＯ３（２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ２Ｏ３（２．５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ２Ｏ３（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ２（２．０）、ＭｇＯ（１．６）、Ｓｉ２Ｏ２（１．５）、ＭｇＦ２（１．４）、ＣｅＦ３（１．６）、ＣａＦ２（１．３〜１．４）、ＡｌＦ３（１．６）、Ａｌ２Ｏ３（１．６）、ＧａＯ（１．７）、等があり、また、金属系の材料としては、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ、等の金属単体もしくは合金が挙げられる。
【００２４】
また、低屈折率の材料としては、例えば有機ポリマーのうち、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等がある。ただし、ここでカッコ内の数値はそれぞれの屈折率ｎを示す。これらの高屈折率材料もしくは２０〜７０％の光透過率とした金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくとも一種をそれぞれ選択し、所定の厚さで交互に積層させることにより、可視光における特定の波長だけを吸収あるいは反射するようになる。
【００２５】
前記の各材料から屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐候性、層間密着性などに基づき適宜選択され、薄膜として積層されることによって光学的な波長干渉を発生させる多層薄膜を形成する。形成方法は、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚等の制御が可能な公知の方法が使用できる。例えば真空蒸着法やスパッタリング法、ＣＶＤ法等である。尚、前記光学膜厚とはｎ・ｄで与えられる量であり、ｎは屈折率、またｄは膜厚である。
【００２６】
液晶材料としては、コレステリック液晶性化合物を含む組成物が好適である。コレステリック液晶性化合物に特有の虹彩が見られるような組成物であればよく、特に限定されるものではない。中でも、コレステリック液晶性化合物を水に溶解した溶液を主体とする組成物は、コレステリック液晶性化合物に特有の見る角度によって異なる美しい虹彩を見ることができるので、好ましく使用できる。
【００２７】
また、コレステリック液晶の層は、その構成分子が光学活性を有し、薄層内ではネマッティック一軸配向しているが、隣接層間では相互に一定方向に一定角のねじれを起こしている螺旋構造を有している。そのピッチは数百ｎｍから無限大まで分布する。この螺旋構造のため、コレステリック液晶は螺旋ピッチに相応した波長の光を選択的に反射し、青から赤まで煌びやかな色彩を持つ。
【００２８】
代表的なコレステリック液晶性化合物としては、安息香酸コレステリル、塩化コレステリル、オクタン酸コレステリル、ノナン酸コレステリルクロルギ酸コレステリル、炭酸オレイルコレステリル、酢酸コレステリル、エレオステアリン酸コレステリルなどの他、液晶オリゴマー、液晶ポリマーなどを例示することができる。また、コレステリック液晶性化合物としてヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシブチルセルロースなどのヒドロキシアルキルセルロースや、これらのアシル誘導体なども例示することができる。
【００２９】
観察する角度に応じて異なる色彩を見ることができる粉末としては、例えば、雲母などの層状物質が挙げられる。この雲母を還元二酸化チタンや酸化鉄で被覆した粉末を利用することができる。これらは、いわゆるフリップフロップ効果によって、波長分散性能を発揮する。これら粉末をインキ化して公知の印刷法、または塗布法により、波長分散性能を有する層を形成することができる。
【００３０】
カラーシフトフィルムは、回折、干渉又は選択反射に基づいて観察角度に応じた表示色の変化を生じる層をもっており、例えば、酸化チタン及び／又は酸化鉄を主成分とする金
属酸化物で表面を被覆された天然雲母粒子、屈折率の異なる複数の無機酸化物を積層した光干渉膜を含んでおり、グラビア法若しくはロールコート法等の塗布法、又は、真空蒸着法等の蒸着法により形成する。
【００３１】
吸収層３は、カラーシフト材料１を透過した照明光を吸収する。この吸収層３を設けることにより、カラーシフト材料１からの反射光を、より容易に視認できるようになる。したがって、カラーシフト材料１が呈する上述の光学効果がより顕著となり、の偽造防止効果を向上させることができる。
【符号の説明】
【００３２】
１・・・カラーシフト材料
２・・・黒インキ（網点）
３・・・吸収層
４・・・レーザー光
５・・・基材
６・・・ＯＶＤ
７・・・レーザー装置
Ａ・・・カラーシフト画像
Ｂ・・・カラーシフト画像
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材上にカラーシフト材料層が積層されており、カラーシフト材料層を通過したレーザー照射により、カラーシフト材料層下部に設けられた樹脂基材が黒化し、黒化部分のカラーシフト効果を顕著にした画像を形成できる樹脂基材により構成されていることを特徴とする偽造・改ざん防止画像形成体。
【請求項２】
前記樹脂基材あるいは前記カラーシフト材料層上にＯＶＤを一部あるいは全面に設けたことを特徴とする請求項1に記載の偽造・改ざん防止画像形成体。
【請求項３】
前記樹脂基材と前記カラーシフト材料層との間に吸収層が設けられた構成としたことを特徴とする請求項１または２に記載の偽造・改ざん防止画像形成体。
【請求項４】
前記樹脂基材がポリカーボネート樹脂で構成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の偽造・改ざん防止画像形成体。
【請求項５】
前記吸収層が網点状のカーボンインキであることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の偽造・改ざん防止画像形成体。
【請求項６】
樹脂基材上にカラーシフト材料層、ＯＶＤを一部あるいは全面に積層するか、あるいは樹脂基材上にＯＶＤを一部あるいは全面に設け、さらにカラーシフト材料層を積層するか、あるいは樹脂基材上に、吸収層、カラーシフト材料層、ＯＶＤを一部あるいは全面に順次積層するか、あるいは樹脂基材上に、吸収層、ＯＶＤを一部あるいは全面に設け、さらにカラーシフト材料層を順次積層するか、いずれかに積層してなる画像形成体に、レーザー照射によりカラーシフト材料層を通して樹脂基材に画像を形成することを特徴とする偽造・改ざん防止画像形成方法。
【請求項１】
樹脂基材上にカラーシフト材料層が積層されており、カラーシフト材料層を通過したレーザー照射により、カラーシフト材料層下部に設けられた樹脂基材が黒化し、黒化部分のカラーシフト効果を顕著にした画像を形成できる樹脂基材により構成されていることを特徴とする偽造・改ざん防止画像形成体。
【請求項２】
前記樹脂基材あるいは前記カラーシフト材料層上にＯＶＤを一部あるいは全面に設けたことを特徴とする請求項1に記載の偽造・改ざん防止画像形成体。
【請求項３】
前記樹脂基材と前記カラーシフト材料層との間に吸収層が設けられた構成としたことを特徴とする請求項１または２に記載の偽造・改ざん防止画像形成体。
【請求項４】
前記樹脂基材がポリカーボネート樹脂で構成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の偽造・改ざん防止画像形成体。
【請求項５】
前記吸収層が網点状のカーボンインキであることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の偽造・改ざん防止画像形成体。
【請求項６】
樹脂基材上にカラーシフト材料層、ＯＶＤを一部あるいは全面に積層するか、あるいは樹脂基材上にＯＶＤを一部あるいは全面に設け、さらにカラーシフト材料層を積層するか、あるいは樹脂基材上に、吸収層、カラーシフト材料層、ＯＶＤを一部あるいは全面に順次積層するか、あるいは樹脂基材上に、吸収層、ＯＶＤを一部あるいは全面に設け、さらにカラーシフト材料層を順次積層するか、いずれかに積層してなる画像形成体に、レーザー照射によりカラーシフト材料層を通して樹脂基材に画像を形成することを特徴とする偽造・改ざん防止画像形成方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１１−２３５５１４（Ｐ２０１１−２３５５１４Ａ）
【公開日】平成２３年１１月２４日（２０１１．１１．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１０８０９７（Ｐ２０１０−１０８０９７）
【出願日】平成２２年５月１０日（２０１０．５．１０）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月２４日（２０１１．１１．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月１０日（２０１０．５．１０）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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