光学物品およびその製造方法
【課題】帯電防止性および耐久性の良好な反射防止層を形成できる光学物品を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材１と、この基材１の上にハードコート層２を介して形成された透光性の反射防止層３とを有し、反射防止層３の１つの層３２の上にシリサイド層３３が形成されているレンズ１０を提供する。このレンズサンプルは、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、２桁〜３桁（１０2〜１０3）程度小さくなり、光吸収損失の大幅な増加もなく、優れた耐薬品性および耐湿性を備えている。
【解決手段】プラスチックレンズ基材１と、この基材１の上にハードコート層２を介して形成された透光性の反射防止層３とを有し、反射防止層３の１つの層３２の上にシリサイド層３３が形成されているレンズ１０を提供する。このレンズサンプルは、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、２桁〜３桁（１０2〜１０3）程度小さくなり、光吸収損失の大幅な増加もなく、優れた耐薬品性および耐湿性を備えている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡レンズなどのレンズ、その他の光学材料あるいは製品に用いられる光学物品およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡レンズなどの光学物品は、種々の機能を果たすための基材（光学基材）の表面に、その基材の機能をさらに強化したり、保護したりするために種々の機能を備えた層（膜）が形成されている。たとえば、レンズ基材の耐久性を確保するためのハードコート層、ゴーストおよびちらつきを防止するための反射防止層などが公知である。反射防止層の典型的なものは、ハードコート層が積層されたレンズ基材の表面に異なる屈折率を持つ酸化膜を交互に積層してなるいわゆる多層反射防止層である。
【０００３】
引用文献１には、新規な、低耐熱性基材に好適な帯電防止性能を有する光学要素を提供することが記載されている。プラスチック製の光学基材上に複層構成の反射防止膜を備えた眼鏡レンズなどの光学要素において、反射防止膜が透明導電層を含み、該透明導電層をイオンアシスト真空蒸着により形成し、他の反射防止膜の構成層は、電子ビーム真空蒸着等により形成することが記載されている。導電層としては、インジウム、スズ、亜鉛等のいずれか、又は２種以上の複数を成分とする無機酸化物が挙げられており、特に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウムと酸化錫との混合物）が望ましいことが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３４１０５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基材の表面に形成される膜あるいは層に、帯電防止、電磁遮蔽などを目的として導電性を付与するために、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）層を挿入することが公知である。しかしながら、ＩＴＯ層は、透明性と帯電防止性に優れているものの、酸やアルカリなどの薬品により侵されやすい。このため、眼鏡レンズの表面に採用すると、人の汗は塩分を含んだ酸なので、ＩＴＯ層を含む反射防止層の耐久性が問題になる可能性がある。
【０００６】
一方、銀などの金属の層を薄く形成することで導電性を得ることが可能である。しかしながら、反射防止層、ハードコート層、防汚層などの光学物品の基材の表面に形成される層はシリコンを中心とする化合物あるいは酸化物が主成分であることが多く、それらとの相性が問題になる。例えば金は一般的に密着性が低く膜の剥れが発生する恐れがある。銀は酸化により導電性が低下することがある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様は、光学物品（光学素子）の製造方法であり、光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、第１の層の表面に、シリサイドを含む透光性薄膜を形成することとを有する。シリサイドは、遷移金属ケイ素化物であり、低抵抗であるとともにシリコンを中心とする化合物および／または酸化物、たとえば、酸化シリコン、有機ケイ素化合物との相性がよく、さらに、フッ酸以外の酸に対してはほぼ安定している。したがって、シート抵抗が低く、耐久性の高い光学物品を製造できる。このため、帯電防止機能および／または電磁波遮蔽機能などを備えた光学物品をいっそう容易に製造および提供できる。ここで、低抵抗とは電気的な抵抗がより低いことを示す。
【０００８】
さらに、シリサイドは低抵抗である。たとえば、チタンシリサイドの１つのＴｉＳｉ2の抵抗率は２×１０-5Ω・ｃｍであり、ＩＴＯの抵抗率が１０-3〜１０-4Ω・ｃｍなので、シリサイドの抵抗率はＩＴＯより小さい。したがって、シリサイド層を導電層として採用することにより薄膜であっても、基材の上に形成された層を十分に低抵抗にすることができる。このため、シリサイド膜の透光性を確保できるともに、既存の反射防止層の層構造を変えずに、または、ほとんど変えずに、シリサイドの薄膜を挿入できる。
【０００９】
シリサイド（遷移金属ケイ素化物）を含む透光性薄膜は、第１の層の表面にシリコンおよび金属を蒸着することにより形成できる。第１の層の表面に遷移金属ケイ素化物を蒸着してもよい。第１の層が金属酸化物を含む層の場合は、第１の層の表面にシリコンをイオンアシスト蒸着、スパッタなどにより打ち込んで第１の層の上にシリサイド層を形成してもよい。
【００１０】
第１の層の典型的なものは、光学基材の上にハードコート層、またはプライマー層およびハードコート層を介して積層された無機系または有機系の反射防止層に含まれる層である。この第１の層を形成することは、多層構造の反射防止層のいずれかの第１の層または複数の第１の層を形成することを含む。多層構造の反射防止層のシート抵抗を低減できる。第１の層は、無機系または有機系の反射防止層であってもよい。第１の層の上に、直にまたは他の層を介して防汚層を形成することをさらに有してもよい。
【００１１】
本発明の他の態様の１つは、光学基材と、光学基材の上に、直にまたは他の層を介して形成された透光性の第１の層と、第１の層の表面に形成された、シリサイドを含む透光性薄膜とを有する、光学物品である。第１の層の表面にシリサイドを含む透光性薄膜を形成することにより、その層およびその層を含み、光学基材の上に形成された膜あるいは層のシステムのシート抵抗を低減できる。したがって、基材の表面に形成された膜あるいは層に導電性を付与でき、帯電防止、電磁遮蔽などの機能を付与あるいはその機能を向上できる。さらに、シリサイドは、ＩＴＯと比較して、酸やアルカリなどの薬品に対して安定している。このため、耐久性の低下を抑制でき、帯電防止などが要望される身の回りの物品（素子、製品）、たとえば、眼鏡のレンズ、カメラのレンズ、情報端末の表示装置、ＤＶＤなどの多種多様な光学物品に適用できる。
【００１２】
第１の層の典型的なものは、無機系の反射防止層に含まれる層である。すなわち、光学物品が多層構造の反射防止層を有している場合は、第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であってよい。第１の層が反射防止層を構成する多層の複数の層であってもよい。第１の層は、有機系の反射防止層であってもよい。さらに、光学物品は、第１の層の上に、直にまたは他の層を介して形成された防汚層を有していてもよい。典型的な光学基材は、プラスチックレンズ基材であり、たとえば、眼鏡レンズである。
【００１３】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、眼鏡レンズと、眼鏡レンズが装着されたフレームとを有する眼鏡である。
【００１４】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品であって、一方の面が外界に面した光学物品を有し、光学物品を通して画像を透視するためのシステムである。このシステムの典型的なものは、時計、表示装置および表示装置を有する端末などの情報処理装置であり、表示装置の表面の帯電性を抑制でき、また、電磁波遮蔽能力を向上できる。
【００１５】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通して画像を投影させるための画像形成装置とを有するシステムである。このシステムの典型的なものはプロジェクターである。光学物品の典型的なものは、投射用のレンズ、ダイクロイックプリズム、カバーガラスなどである。本発明を、画像形成装置の１つであるＬＣＤ（液晶デバイス）などのライトバルブあるいはそれらに含まれる素子に適用してもよい。
【００１６】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通して画像を取得するための撮像装置とを有するシステムである。このシステムの典型的なものはカメラである。光学物品の典型的なものは、結像用のレンズ、カバーガラスなどである。本発明を、撮像装置の１つであるＣＣＤなどに適用してもよい。
【００１７】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通してアクセスする媒体とを有するシステムである。このシステムの典型的なものは、記録媒体を内蔵し、表面の帯電性が低いことが要望されるＤＶＤなどの情報記録装置、美的表現を発揮する媒体を内蔵した装飾品などである。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】Ａグループの層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図２】反射防止層の製造に用いる蒸着装置を模式的に示す図。
【図３】図３（Ａ）は、ＺｒＯ2層上にＴｉＯxが蒸着された様子を示す図、図３（Ｂ）は、Ｓｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着によりＴｉＯx層へ打ち込む（添加する）様子を示す図、図３（Ｃ）は、添加されたＳｉ（金属シリコン）によりシリサイド層が形成された様子を示す図。
【図４】Ａグループに関連する反射防止層の層構造およびシート抵抗を示す表。
【図５】図５（Ａ）は、シート抵抗を測定する様子を示す断面図、図５（Ｂ）は平面図。
【図６】図６（Ａ）は、ＺｒＯ2層上に、Ｓｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着により打ち込む（添加する）様子を示す図、図６（Ｂ）は、添加されたＳｉ（金属シリコン）によりシリサイド層が形成された様子を示す図。
【図７】Ａグループに関連する反射防止層の層構造を示す表。
【図８】Ａグループに関連するサンプルの評価結果を示す表。
【図９】図９（Ａ）は、耐薬品性試験の擦傷工程に使用される試験装置の外観を示す図、図９（Ｂ）は試験装置の内部構造を示す図。
【図１０】耐薬品性試験の擦傷工程に使用される試験装置を回転することを示す図。
【図１１】耐湿性試験におけるむくみを判定する装置の概略を示す図。
【図１２】図１２（Ａ）は、レンズ表面にむくみのない状態を模式的に示す図、図１２（Ｂ）はレンズ表面にむくみのある状態を模式的に示す図。
【図１３】Ｂグループの層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図１４】Ｂグループに関連する反射防止層の層構造を示す表。
【図１５】Ｂグループに関連するサンプルの評価結果を示す表。
【図１６】Ｃグループの層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図１７】シート抵抗と、シート抵抗を低減するための蒸着時間との関係を示す図。
【図１８】シート抵抗の測定値と、光吸収損失との関係を示す図。
【図１９】眼鏡の概要を示す図。
【図２０】プロジェクターの概要を示す図。
【図２１】デジタルカメラの概要を示す図。
【図２２】記録媒体の概要を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明の幾つかの実施形態を説明する。以下では、光学物品として眼鏡用のレンズを例示して説明するが、本発明を適用可能な光学物品はこれに限定されるものではない。
【００２０】
図１に、典型的なレンズの構成を、基材を中心とした一方の面の側の断面図により示している。レンズ１０は、レンズ基材１と、レンズ基材１の表面に形成されたハードコート層２と、ハードコート層２の上に形成された透光性の反射防止層３と、反射防止層３の上に形成された防汚層４とを含む。
【００２１】
１． レンズの概要
１．１ レンズ基材
レンズ基材１は、特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂等を例示することができる。レンズ基材１の屈折率は、たとえば、１．６４〜１．７５程度である。この実施形態においては、屈折率は上記の範囲でも、上記の範囲から上下に離れていてもよい。
【００２２】
１．２ ハードコート層（プライマー層）
ハードコート層２は、耐擦傷性を向上するものである。ハードコート層２に使用される材料として、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等を挙げることができる。ハードコート層２の一例は、シリコーン系樹脂であり、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート層を形成できる。このコーティング組成物にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分が含まれていてもよい。
【００２３】
金属酸化物微粒子の具体例は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＣｅＯ2、Ｌａ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＷＯ3、ＺｒＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の金属酸化物からなる微粒子または２種以上の金属の金属酸化物からなる複合微粒子である。これらの微粒子を、分散媒たとえば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒にコロイド状に分散させたものをコーティング組成物に混合できる。
【００２４】
レンズ基材１とハードコート層２との密着性を確保するために、レンズ基材１とハードコート層２との間にプライマー層を設けてもよい。プライマー層は、高屈折率レンズ基材の欠点である耐衝撃性を改善するためにも有効である。プライマー層を形成するための樹脂としては、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等が挙げられる。密着性を持たせるためのプライマー層としてはウレタン系樹脂およびポリエステル系樹脂がよい。
【００２５】
ハードコート層２およびプライマー層の製造方法の典型的なものは、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法によりコーティング組成物を塗布し、その後、４０〜２００°Ｃの温度で数時間加熱乾燥する方法である。
【００２６】
１．３ 反射防止層
ハードコート層２の上に形成される反射防止層３の典型的なものは無機系の反射防止層と有機系の反射防止層である。無機系の反射防止層は多層膜で構成され、例えば、屈折率が１．３〜１．６である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．６である高屈折率層とを交互に積層して形成することができる。層数としては、５層あるいは７層程度が好ましい。反射防止層を構成する各層に使用される無機物の例としては、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＴｉＯ、Ｔｉ2Ｏ3、Ｔｉ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3、ＴａＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＮｄＯ2、ＮｂＯ、Ｎｂ2Ｏ3、ＮｂＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＣｅＯ2、ＭｇＯ、Ｙ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＭｇＦ2、ＷＯ3、ＨｆＯ2、Ｙ2Ｏ3などが挙げられる。これらの無機物は単独で用いるかもしくは２種以上を混合して用いる。
【００２７】
反射防止層３を形成する方法としては、乾式法、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などが挙げられる。真空蒸着法においては、蒸着中にイオンビームを同時に照射するイオンビームアシスト法を用いてもよい。
【００２８】
有機系の反射防止層３の製造方法の１つは湿式法である。例えば、内部空洞を有するシリカ系微粒子（以下、「中空シリカ系微粒子」ともいう）と、有機ケイ素化合物とを含んだ反射防止層形成用のコーティング組成物を、ハードコート層、プライマー層と同様の方法でコーティングして形成することもできる。中空シリカ系微粒子を用いるのは、内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶媒が包含されることによって、空洞のないシリカ系微粒子に比べてより屈折率が低減し、結果的に、優れた反射防止効果を付与できるからである。中空シリカ系微粒子は、特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている方法などで製造することができるが、平均粒子径が１〜１５０ｎｍの範囲にあり、かつ屈折率が１．１６〜１．３９の範囲にあるものを使用することが望ましい。この有機系の反射防止層の層厚は、５０〜１５０ｎｍの範囲が好ましい。この範囲より厚すぎたり薄すぎたりすると、十分な反射防止効果が得られないおそれがある。
【００２９】
１．４ 防汚層
反射防止層３の上に撥水膜、または親水性の防曇膜（防汚層）４を形成することが多い。防汚層４は、光学物品（レンズ）１０の表面の撥水撥油性能を向上させる目的で、反射防止層３の上に、フッ素を含有する有機ケイ素化合物からなる層を形成したものである。フッ素を含有する有機ケイ素化合物としては、例えば、特開２００５−３０１２０８号公報や特開２００６−１２６７８２号公報に記載されている含フッ素シラン化合物を好適に使用することができる。
【００３０】
含フッ素シラン化合物は、有機溶剤に溶解し、所定濃度に調整した撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）として用いることが好ましい。防汚層は、この撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を反射防止層上に塗布することにより形成することができる。塗布方法としては、ディッピング法、スピンコート法などを用いることができる。なお、撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を金属ペレットに充填した後、真空蒸着法などの乾式法を用いて、防汚層を形成することも可能である。
【００３１】
防汚層の層厚は、特に限定されないが、０．００１〜０．５μｍが好ましい。より好ましくは０．００１〜０．０３μｍである。防汚層の層厚が薄すぎると撥水撥油効果が乏しくなり、厚すぎると表面がべたつくので好ましくない。また、防汚層の厚さが０．０３μｍより厚くなると反射防止効果が低下する可能性がある。
【００３２】
２． サンプルの製造（Ａグループ）
２．１ 実施例１（サンプルＳ１）
２．１．１ レンズ基材の選択およびハードコート層の成膜
ハードコート層２を形成するための塗布液（コーティング液）を次のように調製した。エポキシ樹脂−シリカハイブリッド（商品名：コンポセランＥ１０２（荒川化学工業（株）製））２０重量部に、酸無水物系硬化剤（商品名：硬化剤液（Ｃ２）（荒川化学工業（株）製））４．４６重量部を混合、攪拌して塗布液（コーティング液）を得た。このコーティング液を所定の厚さになるようにスピンコーターを用いて基材１の上に塗布してハードコート層２を成膜した。
【００３３】
基材１としては、屈折率１．６７の眼鏡用のプラスチックレンズ基材（セイコーエプソン（株）製、商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ））を用いた。塗布後のレンズ基材を１２５°Ｃで２時間焼成した。
【００３４】
２．１．２ 反射防止層の成膜
２．１．２．１ 蒸着装置
次に、図２に示す蒸着装置１００により無機系の反射防止層３を製造（成膜）した。例示した蒸着装置１００は電子ビーム蒸着装置であり、真空容器１１０、排気装置１２０およびガス供給装置１３０を備えている。真空容器１１０は、ハードコート層２までが形成されたレンズサンプル１０が載置されるサンプル支持台１１５と、サンプル支持台１１５にセットされたレンズサンプル１０を加熱するための基材加熱用ヒーター１１６と、熱電子を発生するフィラメント１１７とを備えており、電子銃（不図示）により熱電子を加速して蒸発源（るつぼ）１１２および１１３にセットされた蒸着材料に熱電子を照射し蒸発させ、レンズサンプル１０に材料を蒸着する。
【００３５】
さらに、この蒸着装置１００は、イオンアシスト蒸着を可能とするために、容器１１０の内部に導入したガスをイオン化して加速し、レンズサンプル１０に照射するためのイオン銃１１８を備えている。また、真空容器１１０には、残留した水分を除去するためのコールドトラップや、層厚を管理するための装置等をさらに設けることができる。層厚を管理する装置としては、例えば、反射型の光学膜厚計や水晶振動子膜厚計などがある。
【００３６】
真空容器１１０の内部は、排気装置１２０に含まれるターボ分子ポンプまたはクライオポンプ１２１および圧力調整バルブ１２２により高真空、たとえば１×１０-4Ｐａに保持できる。一方、真空容器１１０の内部は、ガス供給装置１３０により所定のガス雰囲気することも可能である。たとえば、ガス容器１３１には、アルゴン（Ａｒ）、窒素（Ｎ2）、酸素（Ｏ2）などが用意される。ガスの流量は流量制御装置１３２により制御でき、真空容器１１０の内圧は圧力計１３５により制御できる。
【００３７】
基材加熱用ヒーター１１６は、例えば赤外線ランプであり、レンズサンプル１０を加熱することによりガス出しあるいは水分とばしを行い、レンズサンプル１０の表面に形成される層の密着性を確保する。
【００３８】
したがって、この蒸着装置１００における主な蒸着条件は、蒸着材料、電子銃の加速電圧および電流値、イオンアシストの有無である。イオンアシストを利用する場合の条件は、イオンの種類（真空容器１１０の雰囲気）と、イオン銃１１８の電圧値および電流値とにより与えられる。以下において、特に記載しないかぎり、電子銃の加速電圧は５〜１０ｋＶの範囲、電流値は５０〜５００ｍＡの範囲の中で成膜レートなどをもとに選択される。また、イオンアシストを利用する場合は、イオン銃１１８が電圧値２００Ｖ〜１ｋＶの範囲、電流値が１００〜５００ｍＡの範囲で成膜レートなどをもとに選択される。
【００３９】
２．１．２．２ 低屈折率層、高屈折率層およびシリサイド層の成膜
ハードコート層２が形成されたレンズサンプル１０をアセトンにて洗浄し、真空容器１１０の内部にて約７０°Ｃの加熱処理を行い、レンズサンプル１０に付着した水分を蒸発させる。次に、レンズサンプル１０の表面にイオンクリーニングを実施した。具体的には、イオン銃１１８を用いて酸素イオンビームを数百ｅＶのエネルギーでレンズサンプル１０の表面に照射し、レンズサンプル１０の表面に付着した有機物の除去を行った。この方法により、レンズサンプル１０の表面に形成する膜の付着力を強固なものとすることができる。なお、酸素イオンの代わりに不活性ガス、例えばＡｒ、キセノン（Ｘｅ）、Ｎ2を用いて同様の処理を行ってもよいし、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射してもよい。
【００４０】
真空容器１１０の内部を十分に真空排気した後、電子ビーム真空蒸着法により、低屈折率層３１および高屈折率層３２を交互に積層して反射防止層３を製造した。
【００４１】
実施例１のレンズサンプルＳ１（以降では、各々の実施例のサンプルはサンプルＳ１と呼び、共通するサンプルについてはサンプル１０と呼ぶ）には、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を低屈折率層３１として形成し、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）層を高屈折率層３２として形成した。
【００４２】
（低屈折率層）
図１に示すように、第１層および第３層が低屈折率層３１であり、イオンアシストは行わず、真空蒸着によりＳｉＯ２層を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとした。
【００４３】
（高屈折率層）
第２層および第４層が高屈折率層３２であり、タブレット状のＺｒＯ2焼結体材料を電子ビームで加熱蒸発させＺｒＯ2層として成膜した。成膜レートは０．８ｎｍ／ｓｅｃとした。
【００４４】
（シリサイド層）
レンズサンプル１０上に第１層３１、第２層３２、第３層３１および第４層３２を成膜した後、図３に示すように、蒸着装置１００を用い、シリサイド層（導電層、シリサイド層：ＴｉＳｉ）３３を第５層として成膜した。シリサイド層３３は、ＴｉＯx焼結体材料を電子ビームで加熱蒸発し、ＴｉＯxを、イオンアシストを行わず真空蒸着により成膜した（図３（Ａ））。そして、そのＴｉＯxの層に上からＳｉ（金属シリコン）を、アルゴンイオンを用いたイオンアシスト蒸着により打ち込んだ（図３（Ｂ））。Ｓｉ（金属シリコン）原子は、アルゴンイオンを用いたイオンアシスト蒸着により、あらかじめ、蒸着されたＴｉＯx層中でミキシングされて化学反応し、シリサイド層（ＴｉＳｉ）３３が形成される（図３（Ｃ））。なお、この実施例１において、シリサイド層（ＴｉＳｉ）の厚さは３ｎｍになるよう設定された。なお上記ではＴｉＯxを用いた例で説明したが、ＴｉＯxの代わりにＴｉＯ2を用いてもよい。
【００４５】
Ｓｉ（金属シリコン）を成膜する時のイオンアシスト蒸着の条件は、イオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は２００ｍＡであり、蒸着時間は１０秒である。
【００４６】
（低屈折率層）
シリサイド層３３の上に、第１および第３層と同様の条件で、ＳｉＯ2層を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとし、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は１００ｍＡとした。
【００４７】
これらの工程において、第１〜第６層の膜厚は、それぞれ、１５０ｎｍ、３０ｎｍ、２１ｎｍ、５５ｎｍ、３ｎｍ、８５ｎｍに管理した。これら６層からなる層構造、すなわち、第１層、第３層および第６層がＳｉＯ２層の低屈折率層３１、第２層および第４層がＺｒＯ2層の高屈折率層３２、そして、第５層がシリサイド層３３の層構造をタイプＡ１の層構造と呼ぶことにする。
【００４８】
２．１．３ 防汚層の成膜
反射防止層３を形成した後、酸素プラズマ処理を施し、真空容器１１０内で、分子量の大きなフッ素含有有機ケイ素化合物を含む「ＫＹ−１３０」（商品名、信越化学工業（株）製）を含有させたペレット材料を蒸着源として、約５００°Ｃで加熱し、ＫＹ−１３０を蒸発させて、防汚層４を成膜した。蒸着時間は、３分間程度とした。酸素プラズマ処理を施こすことにより最終のＳｉＯ2層の表面にシラノール基を生成できるので、反射防止層３と防汚層４との化学的密着性（化学結合）を向上できる。蒸着終了後、真空蒸着装置１００からレンズサンプル１０を取り出し、反転して再び投入し、上記の２．１．２〜２．１．３の工程を同じ手順で繰り返し、反射防止層の成膜、シリサイド層および防汚層の成膜を行った。その後、レンズサンプル１０を真空蒸着装置１００から取り出した。これにより、レンズ基材１の両面にハードコート層２、シリサイド層を層内に含むタイプＡ１の反射防止層３、および防汚層４を備えた実施例１のレンズサンプルＳ１が得られた。
【００４９】
２．２ 実施例２（サンプルＳ２）
サンプルＳ２として、上記と同じレンズ基材１を用い、同じ条件でハードコート層２を形成し、その表面にタイプＡ１の反射防止層３が形成されたサンプルＳ２を製造した。低屈折率層３１および高屈折率層３２の成膜方法は、実施例１と同じ条件（２．１．２．２）である。ただし、シリサイド層（第５層）３３には、蒸着源としてＴｉＳｉ化合物を採用し、イオンアシストを用いない真空蒸着によりシリサイド層３３を成膜した。ここで、サンプルＳ２のシリサイド層３３の膜厚は１ｎｍに設定された。そして、反射防止層３を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。
【００５０】
２．３ 比較例１（サンプルＲ１）
サンプルＲ１として、実施例１と同じレンズ基材１を用い、同じ条件でハードコート層２が成膜され、さらに、その表面に反射防止層３が形成されたサンプルＲ１を製造した。低屈折率層３１および高屈折率層３２は、上記の２．１．２と同じ条件で成膜した。
【００５１】
さらに、第５層（導電層）として、Ｓｉ（金属シリコン）のみを、イオンアシストを用いずに３ｎｍだけ蒸着した。すなわち、第４層（ＺｒＯ2層）を成膜後、Ｓｉ（金属シリコン）を真空蒸着により成膜し、アモルファスシリコンの層を形成した。したがって、反射防止層３は、アモルファスシリコン層を含む６層構造になる。この６層構造で、アモルファスシリコン層を含むタイプの層構造をタイプＡ３と呼ぶことにする。
【００５２】
反射防止層３を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。したがって、比較例１により製造されたレンズサンプルＲ１は、プラスチックレンズ基材１と、ハードコート層２と、第５層（導電層）３３にアモルファスシリコン層を含むタイプＡ３の反射防止層３と、防汚層４とを含む。
【００５３】
２．４ 比較例２（サンプルＲ２）
サンプルＲ２として、実施例１と同じレンズ基材１を用い、同じ条件でハードコート層２が成膜され、さらに、その表面に反射防止層３が形成されたサンプルＲ２を製造した。低屈折率層３１および高屈折率層３２は、上記の２．１．２と同じ条件で成膜した。
【００５４】
さらに、第５層（導電層）として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）をイオンアシスト真空蒸着により成膜した。すなわち、第４層（ＺｒＯ2層）３２を成膜後、ＩＴＯをイオンアシスト真空蒸着により３ｎｍ成膜し、第５層（導電層）３３としてＩＴＯ層を形成した。ＩＴＯ層の成膜の際は、電子銃の加速電圧を７ｋＶ、電流値を５０ｍＡとし、ＩＴＯ膜の酸化を促進させるために真空容器内に毎分１５ミリリットルの酸素ガスを導入し、酸素雰囲気とした。また、イオン銃へは毎分３５ミリリットルの酸素ガスを導入し、電圧値を５００Ｖ、電流値を２５０ｍＡとして酸素イオンビームを照射した。そして、その上に第６層として、ＳｉＯ２層を形成した。したがって、ＩＴＯ層を含む反射防止層３は６層構
造になる。
【００５５】
この６層構造で、ＩＴＯ層を含むタイプの層構造をタイプＡ４と呼ぶことにする。また、反射防止層３を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。したがって、比較例２により製造されたレンズサンプルＲ２は、プラスチックレンズ基材１と、ハードコート層２と、ＩＴＯ層を含むタイプＡ４の反射防止層３と、防汚層４とを含む。
【００５６】
これら実施例１、実施例２、比較例１および２の層構造を図４に纏めて示している。なお、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）からなる低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは１．４６２である。また、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）からなる高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．０５である。ＩＴＯ層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．１である。またアモルファスシリコンは純粋なSiだけで構成されていなくてもよく、多少は酸化されていてもよい。
【００５７】
２．５ サンプルの評価
上記により製造されたサンプルＳ１、Ｓ２、Ｒ１およびＲ２のシート抵抗を測定した。測定結果を図４に纏めて示している。
【００５８】
２．５．１ シート抵抗
図５（Ａ）および（Ｂ）に、各サンプルのシート抵抗を測定する様子を示している。この例では、測定対象、たとえば、レンズサンプル１０の表面１０Ａにリングプローブ６１を接触し、レンズサンプル１０の表面１０Ａのシート抵抗を測定した。測定装置６０は、三菱化学（株）製高抵抗抵抗率計ハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０型を使用した。使用したリングプローブ６１は、ＵＲＳタイプであり、２つの電極を有し、外側のリング電極６１Ａは外径１８ｍｍ、内径１０ｍｍであり、内側の円形電極６１Ｂは直径７ｍｍである。それらの電極間に１０〜１ｋＶの電圧を印加し、各サンプルのシート抵抗を計測した。
【００５９】
２．６ 考察
図４に測定結果を示している。反射防止層３にシリサイド層を含めたレンズサンプルＳ１およびＳ２のシート抵抗は７×１０9[Ω／□]および１×１０10[Ω／□]であった。反射防止層３にＳｉ（金属シリコン）層を含めたレンズサンプルＲ１および反射防止層３にＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ２のシート抵抗は９×１０12[Ω／□]および２×１０12[Ω／□]であった。レンズサンプルＳ１およびＳ２のシート抵抗は、レンズサンプルＲ１およびＲ２のシート抵抗と比較して、２桁〜３桁（１０2〜１０3）程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が１／１０2〜１／１０3になる。したがって、シリサイド層３３を含めることにより反射防止層３のシート抵抗を大幅に低減でき、３ｎｍ程度以下、さらには、１ｎｍ程度の厚みのシリサイド層３３が反射防止層２を含めた光学基材の表面の導電性を向上することに有効であることが分かった。
【００６０】
光学物品のシート抵抗を低減することにより幾つかの効果が得られる。典型的な効果は、帯電防止、および電磁遮蔽である。眼鏡用のレンズにおいて帯電防止性の有無の目安は、シート抵抗が１×１０12[Ω／□]以下であると考えられている。使用上の安全性などを考慮すると、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下であることがいっそう好ましい。サンプルＳ１およびＳ２は、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下、さらに、１×１０10[Ω／□]以下であり、非常に優れた帯電防止性を備えていることが分かる。
【００６１】
図３（Ｂ）に示すように、ＴｉＯx層の表面にＳｉ（金属シリコン）を適当なエネルギーのイオンアシスト蒸着することにより、図３（Ａ）に示すように、ＴｉＯx層の表面だけではなく、ＴｉＯx層の表面から若干、たとえば、１ｎｍ前後程度あるいはそれ以上の部分にＳｉ（金属シリコン）原子が注入（添加）されＴｉＯxとミキシングされる。すなわち、ＴｉＯx層にＳｉ（金属シリコン）原子が叩き込まれ（打ち込まれ）、下地の材料であるＴｉＯxと化学反応を起こし、表面の近傍が改質される。その結果、ＴｉＯX層のＴｉ原子とＳｉ（金属シリコン）原子とが反応し金属間化合物であるＴｉＳｉ、ＴｉＳｉ2などのチタンシリサイドが形成されると考えられる。チタンシリサイド（たとえば、ＴｉＳｉ2）の抵抗率は１５〜２０μΩ・ｃｍ（シート抵抗（２０ｎｍ）は１２〜１８Ω／□）と低く、ＨＦ以外には溶けにくいという耐薬品性も高い。さらに、酸化膜（ＳｉＯ2）との反応性があり、ＺｒＯ2層に積層される他の酸化膜との密着性も確保できる。
【００６２】
したがって、ＺｒＯ2層の表面全体に、あるいは部分的にチタンシリサイドが存在すればよく、また、チタンシリサイドの酸化物という状態でシリサイドが存在してもよい。シリサイド層３３が存在することにより反射防止層３のシート抵抗を低減でき、導電性を向上できると考えられる。このため、シリサイド層３３は、６層構造の５層目に限定されることはなく、いずれかの層でよく、さらに、複数の層上にシリサイド層を形成してもよい。
【００６３】
チタンシリサイドに限らず、遷移金属ケイ素化物は一般に低抵抗であり、シリコンあるいは含有シリコン化合物が多く用いられる反射防止層との親和性もよい。したがって、ＺｒＯ2層およびＴｉＯ2層に限らずに、他の金属酸化物の層にＳｉ（金属シリコン）原子をイオンアシスト蒸着あるいは他の方法、たとえば、通常の真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等を用いて導入・混合し、シリサイド層を形成することは有効である。また、Ｓｉ層またはＳｉＯ2層を形成し、さらには低屈折率のＳｉＯ2層の表面にＴｉ原子などの遷移金属原子をイオンアシスト蒸着などの方法により導入・混合してシリサイド層３３を形成してもよい。さらに、上記に示した実施例２と同様に、ＴｉＳｉ2などのシリサイド自身を蒸着などの方法により層の表面に導入・混合してシリサイド層を形成することも可能である。
【００６４】
シリサイドの他の例としては、ＺｒＳｉ、ＣｏＳｉ、ＷＳｉ、ＭｏＳｉ、ＮｉＳｉ、ＴａＳｉ、ＮｄＳｉ、Ｔｉ3Ｓｉ、Ｔｉ5Ｓｉ3、Ｔｉ5Ｓｉ4、ＴｉＳｉ、ＴｉＳｉ2、Ｚｒ3Ｓｉ、Ｚｒ2Ｓｉ、Ｚｒ5Ｓｉ3、Ｚｒ3Ｓｉ2、Ｚｒ5Ｓｉ4、Ｚｒ6Ｓｉ5、ＺｒＳｉ2、Ｈｆ2Ｓｉ、Ｈｆ5Ｓｉ３、Ｈｆ3Ｓｉ2、Ｈｆ4Ｓｉ3、Ｈｆ5Ｓｉ4、ＨｆＳｉ、ＨｆＳｉ2、Ｖ3Ｓｉ、Ｖ5Ｓｉ3、Ｖ5Ｓｉ4、ＶＳｉ2、Ｎｂ4Ｓｉ、Ｎｂ3Ｓｉ、Ｎｂ5Ｓｉ3、ＮｂＳｉ2、Ｔａ4.5Ｓｉ、Ｔａ4Ｓｉ、Ｔａ3Ｓｉ、Ｔａ2Ｓｉ、Ｔａ5Ｓｉ3、ＴａＳｉ2、Ｃｒ3Ｓｉ、Ｃｒ2Ｓｉ、Ｃｒ5Ｓｉ3、Ｃｒ3Ｓｉ2、ＣｒＳｉ、ＣｒＳｉ2、Ｍｏ3Ｓｉ、Ｍｏ5Ｓｉ3、Ｍｏ3Ｓｉ2、ＭｏＳｉ2、Ｗ3Ｓｉ、Ｗ5Ｓｉ3、Ｗ3Ｓｉ2、ＷＳｉ2、Ｍｎ6Ｓｉ、Ｍｎ3Ｓｉ、Ｍｎ5Ｓｉ2、Ｍｎ5Ｓｉ3、ＭｎＳｉ、Ｍｎ11Ｓｉ19、Ｍｎ4Ｓｉ7、ＭｎＳｉ2、Ｔｃ4Ｓｉ、Ｔｃ3Ｓｉ、Ｔｃ5Ｓｉ3、ＴｃＳｉ、ＴｃＳｉ2、Ｒｅ3Ｓｉ、Ｒｅ5Ｓｉ3、ＲｅＳｉ、ＲｅＳｉ2、Ｆｅ3Ｓｉ、Ｆｅ5Ｓｉ3、ＦｅＳｉ、ＦｅＳｉ2、Ｒｕ2Ｓｉ、ＲｕＳｉ、Ｒｕ2Ｓｉ3、ＯｓＳｉ、Ｏｓ2Ｓｉ3、ＯｓＳｉ2、ＯｓＳｉ1.8、ＯｓＳｉ3、Ｃｏ3Ｓｉ、Ｃｏ2Ｓｉ、ＣｏＳｉ2、Ｒｈ2Ｓｉ、Ｒｈ5Ｓｉ3、Ｒｈ3Ｓｉ2、ＲｈＳｉ、Ｒｈ4Ｓｉ5、Ｒｈ3Ｓｉ4、ＲｈＳｉ2、Ｉｒ3Ｓｉ、Ｉｒ2Ｓｉ、Ｉｒ3Ｓｉ2、ＩｒＳｉ、Ｉｒ2Ｓｉ3、ＩｒＳｉ1.75、ＩｒＳｉ2、ＩｒＳｉ3、Ｎｉ3Ｓｉ、Ｎｉ5Ｓｉ2、Ｎｉ2Ｓｉ、Ｎｉ3Ｓｉ2、ＮｉＳｉ2、Ｐｄ5Ｓｉ、Ｐｄ9Ｓｉ2、Ｐｄ4Ｓｉ、Ｐｄ3Ｓｉ、Ｐｄ9Ｓｉ4、Ｐｄ2Ｓｉ、ＰｄＳｉ、Ｐｔ4Ｓｉ、Ｐｔ3Ｓｉ、Ｐｔ5Ｓｉ2、Ｐｔ12Ｓｉ5、Ｐｔ7Ｓｉ3、Ｐｔ2Ｓｉ、Ｐｔ6Ｓｉ5、ＰｔＳｉを挙げることができる。
【００６５】
これらの中で、チタンシリサイドに加え、反射防止層の高屈折率層として使用されることが多い、ジルコニウム（Ｚｒ）系のシリサイド、タンタル（Ｔａ）系のシリサイド、ネオジム（Ｎｄ）系のシリサイド、ニオブ（Ｎｂ）系のシリサイドなどは有用である。また、チタンシリサイドと同様に非常に抵抗率の低いシリサイド、たとえば、コバルト系、ニッケル系のシリサイドも有用である。
【００６６】
シリサイド層を導入することにより表面抵抗率を低減できることが上記の実験でわかった。以下では、さらに、幾つかのサンプルを製造し、耐久性などの確認を行った。
【００６７】
３． 他のサンプル（Ａグループ）
３．１ 実施例３（サンプルＳ３）
実施例３として、光学基材１としてカバーガラスを用い、その表面に反射防止層３が形成されたサンプルＳ３を製造した。このカバーガラスのサンプル（ガラスサンプル）Ｓ３は、光学基材１として透明な白板ガラス（Ｂ２７０）を採用し、この光学基材１の上に、ハードコート層を成膜せず、直に反射防止層３を成膜した。反射防止層は、６層構造のタイプＡ１である。すなわち、第１層、第３層および第６層がＳｉＯ2層の低屈折率層３１、第２層および第４層がＺｒＯ2層の高屈折率層３２、そして、第５層がシリサイド層３３である。ＳｉＯ2層の低屈折率層３１およびＺｒＯ2層の高屈折率層３２は、実施例１と同じ条件（２．１．２．２）で成膜した。一方、シリサイド層３３は、実施例２と同じ条件（２．２）で成膜した。したがって、このガラスサンプルＳ３は、タイプＡ１の反射防止層３を備えている。また、反射防止層３の上に防汚層４を形成した。
【００６８】
３．２ 実施例４〜９（サンプルＳ４〜Ｓ９）
レンズ基材を用いたレンズサンプルと、カバーガラスを用いたガラスサンプルとについて、実施例１（２．１．２．２）のシリサイド層の成膜条件を変えた幾つかのサンプルＳ４〜Ｓ９を製造した。これらのサンプルは、第５層としてシリサイド層３３を備えており、シリサイド層３３の成膜条件を除き、レンズサンプルは実施例１と同様に、ガラスサンプルは実施例３と同様に製造した。
【００６９】
３．２．１ 実施例４および５（レンズサンプルＳ４およびガラスサンプルＳ５）
シリサイド層３３を成膜するために、第４層（ＺｒＯ2層）を成膜後、Ｓｉ（金属シリコン）を、アルゴンイオンを用いてイオンアシスト蒸着して第４層（ＺｒＯ2層）の表層をシリサイド化し、シリサイド層（この例では、ＺｒＳｉ）３３を形成した。イオンアシスト蒸着の条件は、イオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、イオンアシスト蒸着の時間は１０秒である。
【００７０】
図６（Ａ）に示すように、第４層（ＺｒＯ2）３２上に、アルゴンイオンを用いたイオンアシスト蒸着により、Ｓｉ（金属シリコン）を蒸着することにより、図６（Ｂ）に示すようにＳｉ（金属シリコン）原子は、ミキシング効果により、ＺｒＯ2層のある領域においてＺｒと化学反応しシリサイド（ＺｒＳｉ）層３３が形成される。下地層のＺｒとＳｉ（金属シリコン）とが化学反応したジルコニアシリサイドとしてはＺｒＳｉ、Ｚｒ3Ｓｉ、Ｚｒ2Ｓｉ、Ｚｒ5Ｓｉ3、Ｚｒ3Ｓｉ2、Ｚｒ5Ｓｉ4、Ｚｒ6Ｓｉ5、ＺｒＳｉ2のいずれか、または複数が形成されていると考えられる。
【００７１】
３．２．２ 実施例６および７（レンズサンプルＳ６およびガラスサンプルＳ７）
シリサイド層３３を成膜するために、通常の真空蒸着工程により、第４層（ＺｒＯ2層）の表面に厚さ１ｎｍ程度に達するＴｉＯx層を作成して下地処理した。その後、Ｓｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着して添加してシリサイド化した。イオンアシスト蒸着の条件は、イオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は５００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、蒸着時間（イオンアシスト蒸着の時間）を１０秒とした。
【００７２】
３．２．３ 実施例８および９（レンズサンプルＳ８およびガラスサンプルＳ９）
シリサイド層３３を成膜するために、通常の真空蒸着工程により、第４層（ＺｒＯ2層）の表面に厚さ１ｎｍ程度に達するＴｉＯx層を作成して下地処理した。その後、Ｓｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着して添加してシリサイド化した。イオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴンと酸素の１対１、イオンアシスト電圧は２５０ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、蒸着時間を１０秒とした。
【００７３】
３．３ 比較例３（サンプルＲ３）
上述した比較例１および２（レンズサンプルＲ１およびＲ２）に加え、上記の実施例により得られたガラスサンプルと比較するために、シリサイド層を有しないガラスサンプルＲ３を製造した。それ以外は、実施例３と同様にガラスサンプルＲ３を製造した。すなわち、比較例３により製造されたガラスサンプルＲ３は、ガラス基材１と、シリサイド層を含まない５層（ＳｉＯ2層、ＺｒＯ2層、ＳｉＯ2層、ＺｒＯ2層およびＳｉＯ2層、以降ではタイプＡ２）の反射防止層３とを含む。また、反射防止層３の上に防汚層４を形成している。
【００７４】
これらの層構造を、サンプルＳ１、サンプルＳ２、サンプルＲ１およびサンプルＲ２とともに図７に纏めて示している。
【００７５】
３．４ サンプルの評価
上記により製造されたサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ３について、シート抵抗、ごみの付着試験、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。それらの評価結果を図８に纏めて示している。
【００７６】
３．４．１ シート抵抗
上記の２．５．１に示した測定方法により、各サンプルのシート抵抗を測定した。シート抵抗については、サンプルＲ３の測定結果が示すように、従来のガラスサンプルではシート抵抗は５×１０14[Ω／□]である。これに対し、反射防止層３の１つの層としてシリサイド層を形成したサンプルＳ１〜Ｓ９においては、シート抵抗が２×１０9[Ω／□]〜８×１０11[Ω／□]となり、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、３桁〜５桁（１０3〜１０5）程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が１／１０3〜１／１０5になり、導電率が向上している。したがって、シリサイド層を形成することにより大幅にシート抵抗が低下し、導電率が向上することが確認された。また、これらのサンプルＳ１〜Ｓ９は上述した測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０12[Ω／□]以下であり、良好な帯電防止性を備えている。
【００７７】
一方、反射防止層３にアモルファスシリコン層あるいはＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ１およびＲ２では、図８に示すようにシート抵抗は、それぞれ９×１０12Ω、２×１０12Ωであり、良好な帯電防止性能が得られるというほど低下していない。
【００７８】
３．４．２ ごみの付着試験
プラスチックレンズの表面上で、眼鏡レンズ用拭き布を１ｋｇの垂直荷重にて１０往復こすりつけ、このときに発生した静電気によるごみの付着の有無を調べた。ここで、ごみとしては、発泡スチロールを粒子径２〜３ｍｍの大きさに砕いたものを使用した。判断基準は以下の通りである。
○：ゴミの付着が認められなかった。
△：ゴミが数個付着していることが認められた。
×：数多くのゴミが付着していることが認められた。
【００７９】
ごみの付着がない場合は帯電防止効果に優れ、ごみの付着がある場合は帯電防止効果が劣っている。図８に示すように、シリサイド層を形成したサンプルＳ１〜Ｓ９の評価はすべて○であり、帯電防止効果に優れていることがわかった。また、アモルファスシリコン層を備えたサンプルＲ１および導電層を形成しないサンプルＲ３は×であり帯電防止効果が劣っていることがわかった。また、ＩＴＯ層を備えたサンプルＲ２は、△であった。
【００８０】
３．４．３ 吸収損失
光の吸収損失を測定した。光の吸収損失は、表面が湾曲していたりすると測定が難しい。このため、上記のサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ３のうち、ガラスサンプルＳ３、Ｓ５、Ｓ７およびＳ９について吸収損失を測定し、ガラスサンプルＲ３の吸収損失と比較した。
【００８１】
光の吸収損失は、測定には、日立製分光光度計Ｕ−４１００を使用した。分光光度計を用いて反射率と透過率を測定し、（Ａ）式にて吸収率を算出した。
吸収率（吸収損失）＝１００％−透過率−反射率 ・・・・（Ａ）
以下、吸収率は波長５５０ｎｍ付近の吸収率を記している。
【００８２】
光の吸収損失については、シリサイド層を形成することにより若干吸収損失が上昇する傾向がみられる。しかしながら、最大でも１．２％程度であり、眼鏡用のレンズとしての許容範囲である透光性を備えている。また、帯電防止を考慮するのであれば、吸収損失が０．４％のサンプルＳ９または０．５％のサンプルＳ３により、シート抵抗が３×１０10[Ω／□]以下までシート抵抗を小さくできる。したがって、シリサイド層を形成することにより、従来とほぼ同等の吸収損失で、透光性および帯電防止性能の優れた光学物品を提供できることが分かる。
【００８３】
３．４．４ 耐薬品性
各サンプルの表面に傷をつけ、その後、薬液浸漬を行い、反射防止層の剥がれの有無を観察して耐薬品性を評価した。
【００８４】
（１）擦傷工程
図９（Ａ）に示す容器（ドラム）７１の内壁に図９（Ｂ）に示すように評価用のサンプル１０を４つ貼り付け、擦傷用として不織布７３とオガクズ７４を入れる。そして、蓋をした後、図１０に示すようにドラム７１を３０ｒｐｍで３０分間回転させる。
【００８５】
（２）薬液浸漬工程
人の汗を模した薬液（純水に乳酸を５０ｇ／Ｌ、塩を１００ｇ／Ｌ溶解した溶液）を用意した。（１）の擦傷工程を経たサンプル１０を、５０°Ｃに保持した薬液に１００時間浸漬した。
【００８６】
（３）評価
上記の工程を経た各サンプルを従来のサンプルであるサンプルＲ３を基準に目視により評価した。判断基準は以下の通りである。
○：基準のサンプルと比較し、傷がほとんど見えず、同等の透明性がある。
△：基準のサンプルに対して傷が見え、透明性が劣る。
×：基準のサンプルに対して層の剥離および多数の傷が見え、透明性が著しく低下した。
【００８７】
耐薬品性については、シリサイド層を含むサンプルＳ１〜Ｓ９の評価はすべて○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ２の評価は×であった。
【００８８】
３．４．５ むくみの発生（耐湿性）の評価
（１）恒温恒湿度環境試験
各サンプルを恒温恒湿度環境（６０°Ｃ、９８％ＲＨ）で８日間放置した。
【００８９】
（２）むくみの判定方法
上記の恒温恒湿度環境試験を経た各サンプルの表面または裏面の表面反射光を観察し、むくみの有無を判断した。具体的には、図１１に示すように、サンプル１０の凸面１０Ａにおける蛍光灯７５の反射光を観察した。図１２（Ａ）に示すように、蛍光灯７５の反射光７６の像の輪郭がくっきりと明瞭に観察できる場合は「むくみ無し」と判定した。一方、図１２（Ｂ）に示すように、蛍光灯７５の反射光７７の像の輪郭がぼやけている、またはかすれて観察できるときは「むくみ有り」と判定した。
【００９０】
シリサイド層を含むサンプルＳ１〜Ｓ９も含め、すべてのサンプルについてむくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。
【００９１】
３．５ 考察
以上の各評価より、反射防止層３にシリサイド層を含むサンプルＳ１〜Ｓ９については、シート抵抗が大幅に低下し、その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。したがって優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能を備えた光学物品を提供できることが分かった。
【００９２】
上記では、ＴｉＯx層を酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）層上に蒸着し、その後、Ｓｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着による方法、直にＴｉＳｉ化合物を酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）層上に蒸着する方法、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）層にＳｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着により打ち込む方法によりシリサイド層を形成しているが、シリサイド層の成膜方法はこれらに限定されることはない。また、反射防止層の構造もＺｒＯ2層を含むものにかぎらない。
【００９３】
次では、他のシリサイドの例として、低屈折率層にＳｉＯ2層、高屈折率層にＴｉＯ2層を用いた反射防止層３内に形成したチタンシリサイド（ＴｉＳｉ）層を備えたサンプルについて説明する。
【００９４】
４． ＳｉＯ2−ＴｉＯ2系の反射防止層を備えたサンプル（Ｂグループ）
４．１ 実施例１０（サンプルＳ１０）
４．１．１ サンプルＳ１０の製造
上記の実施例１と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。さらに、実施例１と同様の蒸着装置１００を用いて以下の反射防止層３を成膜した。実施例１０のレンズサンプルＳ１０には、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を低屈折率層３１として形成し、酸化チタン（ＴｉＯ2）層を高屈折率層３２として形成した。
【００９５】
（低屈折率層）
図１３に示すように、第１層、第３層および第５層が低屈折率層３１であり、ＳｉＯ2をイオンアシストは行わず、真空蒸着によりＳｉＯ2層を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとし、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は１００ｍＡとした。
【００９６】
（高屈折率層）
第２層、第４層および第６層が高屈折率層３２であり、ＴｉＯ2を酸素ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着を行い、ＴｉＯ2層を成膜した。成膜レートは０．４ｎｍ／ｓｅｃとし、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は３６０ｍＡとした。
【００９７】
（シリサイド層）
第６層（ＴｉＯ2層）を成膜後、Ｓｉ（金属シリコン）を、アルゴンイオンを用いてイオンアシスト蒸着してシリサイド層３３を第７層として形成した。イオンアシスト蒸着の条件は、イオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、イオンアシスト蒸着の時間は１０秒である。電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は４００ｍＡとした。
【００９８】
（低屈折率層）
シリサイド層３３の上に、第１層、第３層および第５層と同じ条件でＳｉＯ2を真空蒸着し低屈折率層３１を成膜した。
【００９９】
第１〜第６層および第８層の膜厚は、４４ｎｍ、１０ｎｍ、５７ｎｍ、３６ｎｍ、２５ｎｍ、３６ｎｍ、１０１ｎｍに管理した。シリサイド層３３の膜厚は、蒸着時間により管理した。シリサイド層３３の膜厚は、１〜５ｎｍ程度であると予想される。
【０１００】
この８層からなる層構造、すなわち、第１層、第３層、第５層および第８層がＳｉＯ2層、第２層、第４層および第６層がＴｉＯ2層、そして第７層がシリサイド層（ＴｉＳｉ）の層構造をタイプＢ１の層構造と呼ぶことにする。反射防止層３を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。
【０１０１】
４．２ 実施例１１（サンプルＳ１１）
レンズ以外の光学物品の実施例として、光学基材１としてカバーガラスを用い、その表面に反射防止層３が形成されたガラスサンプルＳ１１を製造した。このガラスサンプルＳ１１では、光学基材１は、透明な白板ガラス（Ｂ２７０）である。この光学基材１の上に、ハードコート層を成膜せず、直に反射防止層３を成膜した。成膜方法は、上記の４．１．１と同じである。さらに、第７層として上記の４．１．１と同様にシリサイド層を形成した。したがって、このサンプルＳ１１は、タイプＢ１の反射防止層３を備えている。また、反射防止層３の上に、防汚層４を形成した。
【０１０２】
４．３ 実施例１２〜１７（サンプルＳ１２〜Ｓ１７）
レンズサンプルＳ１０と、カバーガラスのサンプル（ガラスサンプル）Ｓ１１とについて、上記４．１．１のシリサイド層形成のための処理条件を変えた幾つかのサンプルＳ１２〜Ｓ１７を製造した。レンズサンプルＳ１２およびガラスサンプルＳ１３は、シリサイド層形成時のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、イオンアシスト蒸着による蒸着時間を５秒とした。レンズサンプルＳ１４およびガラスサンプルＳ１５は、シリサイド層形成時のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は５００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、蒸着時間を１０秒とした。レンズサンプルＳ１６およびガラスサンプルＳ１７は、シリサイド層形成時のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴンと酸素の１対１、イオンアシスト電圧は２５０ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、蒸着時間を５秒とした。
【０１０３】
４．４ 比較例４、５（サンプルＲ４、Ｒ５）
上記の実施例により得られたレンズサンプルおよびガラスサンプルと比較するために、実施例１０および実施例１１と同様にレンズサンプルＲ４およびガラスサンプルＲ５を製造した。ただし、シリサイド層の形成（４．１．１）は行わなかった。すなわち、比較例４により製造されたレンズサンプルＲ４は、レンズ基材１と、ハードコート層２と、シリサイド層を含まないタイプＢ２の反射防止層３と、防汚層４とを含む。比較例５により製造されたガラスサンプルＲ５は、ガラス基材１と、シリサイド層を含まないタイプＢ２の反射防止層３とを含む。また、反射防止層３の上に防汚層４を形成している。
【０１０４】
４．５ 比較例６〜１１（サンプルＲ６〜Ｒ１１）
上記の実施例により得られたレンズサンプルと比較するために、透明な導電層としてＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層を備えたレンズサンプルＲ６〜Ｒ１１を製造した。これらのレンズサンプルＲ６〜Ｒ１１は、上記の実施例１０と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。第１〜第６層および第８層までは、実施例１０と同様に、低屈折率層３１にＳｉＯ2層、高屈折率層３２にＴｉＯ2層を用いた。ただし、第１〜第６層および第８層の膜厚は、図１４に示す。たとえば、比較例６は、２８．４、６．７、２０４．３、２３．２、３５．７、２６．７、９９．５ｎｍである。
【０１０５】
そして、第６層（ＴｉＯ2層）を成膜後、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）をイオンアシスト真空蒸着により成膜した。ＩＴＯ層の成膜の際は、電子銃の加速電圧を７ｋＶ、電流値を５０ｍＡとし、ＩＴＯ膜の酸化を促進させるために真空容器内に毎分１５ミリリットルの酸素ガスを導入し、酸素雰囲気とした。また、イオン銃へは毎分３５ミリリットルの酸素ガスを導入し、電圧値を５００Ｖ、電流値を２５０ｍＡとして酸素イオンビームを照射した。また、ＩＴＯ層の成膜レートは０．１ｎｍ／ｓｅｃとした。ＩＴＯ層の膜厚は、図１４に示すように、サンプルＲ６〜Ｒ１１で２．５、３．５、５、７、１０および１５ｎｍと変えた。したがって、ＩＴＯ層を含むと反射防止層３は８層構造になる。この８層構造で、ＩＴＯ層を含むタイプの層構造をタイプＢ３と呼ぶことにする。
【０１０６】
さらに、この比較例６〜１１においては、膜厚の異なるＩＴＯ層を挟むことにより、反射防止層３の膜設計が変わり、ＳｉＯ2層およびＴｉＯ2層の膜厚が異なり、タイプＢ３−１〜Ｂ３−６としている。サンプルＲ６〜Ｒ１１の反射防止層３の層構造を、上述したサンプルＳ１０〜Ｓ１７、Ｒ４およびＲ５とともに図１４に示している。
【０１０７】
４．６ サンプル評価
上記３．４と同様に、サンプルＳ１０〜Ｓ１７およびＲ４〜Ｒ１１について、シート抵抗、ごみの付着試験、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。それらの評価結果を図１５に纏めて示している。
【０１０８】
サンプルＲ４およびＲ５の測定結果が示すように、従来のレンズサンプルおよびガラスサンプルではシート抵抗は５×１０13[Ω／□]である。シート抵抗を低減するために反射防止層３にＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ６〜Ｒ１１では、ＩＴＯ層の厚みに依存するが、シート抵抗は１．５×１０11[Ω／□]〜２×１０13[Ω／□]に低下する。
【０１０９】
これに対し、反射防止層３の１つの層としてシリサイド層を形成したサンプルＳ１０〜Ｓ１７においては、シート抵抗が５×１０7[Ω／□]〜１×１０10[Ω／□]となり、シート抵抗が従来のサンプルと比較し、３桁〜６桁（１０3〜１０6）程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が１／１０3〜１／１０6になる。したがって、シリサイド層を形成することにより大幅にシート抵抗が低下することが分かる。
【０１１０】
また、反射防止層３を８層構造にしてＩＴＯ層を含めたサンプルＲ６〜Ｒ１１と比較しても、シート抵抗は１桁〜６桁（１０1〜１０6）程度小さくなり、シート抵抗が１／１０〜１／１０6になる。したがって、ＩＴＯ層を含めたサンプルよりも、シリサイド層を形成することによりシート抵抗が大幅に低下することが分かる。
【０１１１】
上記に示した様に、レンズ、カバーガラスなどの光学物品のシート抵抗を低減することにより幾つかの効果が得られる。典型的な効果は、帯電防止、および電磁遮蔽である。眼鏡用のレンズにおいて帯電防止性の有無の目安は、シート抵抗が１×１０12[Ω／□]以下であると考えられている。上記と同時に確認されたごみの付着試験では、図１５に示すように、シリサイド層を形成したサンプルＳ１０〜サンプルＳ１７の評価はすべて○であり、帯電防止効果に優れていることがわかった。また、ＩＴＯ層を形成した幾つかのサンプルＲ８〜Ｒ１１は○であり、ある程度の帯電防止効果を示している。しかしながら、ＩＴＯ層を形成したサンプルＲ７は△であり、ＩＴＯ層を形成したサンプルＲ６（シート抵抗が２×１０13[Ω／□]）および何も導電的な膜を形成していないサンプルＲ４およびＲ５（シート抵抗が５×１０13[Ω／□]）はいずれも×であり、帯電防止効果が劣っていることがわかった。
【０１１２】
さらに、使用上の安全性などを考慮すると、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下であることがいっそう好ましい。サンプルＳ１０〜Ｓ１７は、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下、さらに、１×１０10[Ω／□]以下であり、非常に優れた帯電防止性を備えていることが分かる。
【０１１３】
また、シリサイド層を形成することにより若干吸収損失が上昇する傾向がみられる。しかしながら、最大でも３％程度であり、十分に透光性は高く、反射防止層３の透光性に大きな影響を与えるほど光吸収損失は増加していない。したがって、シリサイド層を含む層構造Ｂ１の反射防止層３は眼鏡用のレンズとして十分に使用できる。また、帯電防止を考慮するのであれば、吸収損失が０．５％のサンプルＳ１７程度で十分にシート抵抗が小さい。したがって、シリサイド層を形成することにより、従来とほぼ同等の吸収損失で、透光性であり（透明であり）、帯電防止性能の優れた光学物品を提供できることが分かる。
【０１１４】
耐薬品性においては、図１５に示すようにシリサイド層を含むサンプルＳ１０〜Ｓ１７の評価はすべて○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ６〜Ｒ１１の評価はすべて×であり、ＩＴＯ層を成膜することによりサンプルの耐薬品性が低下していることが分かる。
【０１１５】
むくみの発生（耐湿性）の評価においては、図１５に示すようにシリサイド層を含むサンプルＳ１０〜Ｓ１７についてはむくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ６〜Ｒ１１については、ＩＴＯ層の膜厚が厚くなるとむくみの発生がみられ、ＩＴＯ層を成膜することによりサンプルの耐湿性が低下する可能性があることを示している。
【０１１６】
４．７ 考察
以上の各評価より、反射防止層３の１つの層として、シリサイド層を形成したサンプルＳ１０〜Ｓ１７については、シート抵抗が大幅に低下し、その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。シリサイド層を形成することにより、若干の吸収損失の増加が観測される。しかしながら、帯電防止および電磁波遮断などの他の目的に応じた適切な導電性が得られる程度にシリサイド層を形成することにより、吸収損失の影響は光学物品としてほとんど無視できる程度のものを提供できる。このため、反射防止層３の１つの層として、シリサイド層を形成することにより、良好な透光性と、さらに、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能とを備えた光学物品を提供できる。
【０１１７】
５． 有機系の反射防止層を備えたサンプル（Ｃグループ）
５．１ 実施例１８（サンプルＳ１８）
５．１．１ サンプルＳ１８の製造
図１６に示すように有機系反射防止層３５を備えたレンズサンプルＳ１８を製造した。まず、上記の実施例１と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。このハードコート層２の表面に有機系の層３５により反射防止層３を形成した。
【０１１８】
（反射防止層）
化学式 （ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ−Ｃ2Ｈ4−Ｃ6Ｆ12−Ｃ2Ｈ4−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3で表されるフッ素含有シラン化合物４７．８重量部（０．０８モル）に、有機溶剤としてメタノール３１２．４重量部、フッ素を含有しないシラン化合物であるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン４．７重量部（０．０２モル）を加え、さらに０．１規定の塩酸水溶液３６重量部を加えて混合した。その後、設定温度が２５°Ｃの恒温槽内で２時間攪拌して、固形分比率が１０重量％のシリコーンレジンを得た。
【０１１９】
このシリコーンレジンに、内部に空洞を有するシリカ微粒子として、中空シリカ−イソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業（株）製、固形分比率：２０重量％、平均粒子径：３５ｎｍ、外殻厚み：８ｎｍ）を、シリコーンレジンと中空シリカの固形分比率が７０：３０となるように配合した。さらに、分散媒として、プロピレングリコールモノメチルエーテル９３５重量部を加えて希釈し、固形分が３重量％の組成物を得た。
【０１２０】
そして、この組成物に、アルミニウム（Ａｌ（III））を中心金属とする金属錯塩として、アルミニウムのアセチルアセトン（Ａｌ（ａｃａｃ）3）を、最終組成物（有機系反射防止層を形成するコーティング組成物）に対する固形分比率が３重量％となるように加えた後、４時間攪拌した。これにより、有機系反射防止層を形成するコーティング組成物としての反射防止処理液を得た。
【０１２１】
ハードコート層２が形成されたレンズサンプル１０を、大気プラズマによりプラズマ処理した。その後、上記で得られた反射防止処理液を、ハードコート層２の表面に、乾燥膜厚が１００ｎｍとなるように、スピナー法を用いて塗布した。そして、温度１２５°Ｃに保たれた恒温槽内に２時間投入して、塗布された反射防止処理液の硬化を行った。これにより、ハードコート層２の上に有機系反射防止層３５を形成した。
【０１２２】
（シリサイド層）
有機系反射防止層３５を成膜後、有機系反射防止層３５上に、イオンアシスト蒸着ではなく、通常の真空蒸着工程により、有機系反射防止層３５上に厚さ２ｎｍ程度のＴｉＯ2層を作る下地処理を行い、Ｓｉ（金属シリコン）原子をイオンアシスト蒸着により添加した。この処理により有機系の反射防止層３５上にシリサイド層３６を形成した。イオンアシスト蒸着の条件はイオン種がアルゴンおよび酸素、イオンアシスト電圧は２５０ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、イオンアシスト蒸着時間は５秒である。
【０１２３】
（防汚層）
シリサイド層３６を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。このようにして、プラスチック基材１、ハードコート層２、有機系の反射防止層３５、シリサイド層３６、防汚層４を含むレンズサンプルＳ１８を得た（図１６）。
【０１２４】
５．２ サンプルの評価
上記３．４と同様に、サンプルＳ１８について、シート抵抗、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。シート抵抗は、２×１０10[Ω／□]であり、優れた帯電防止性能が得られた。光の吸収損失は、０．６％程度であり、眼鏡レンズとして問題のない値であり、十分な透光性を備えている。また、耐薬品性は○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。むくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。
【０１２５】
５．３ 考察
以上の各評価より、有機系の反射防止層３５においても、シリサイド層３６を形成することによりシート抵抗を低下できる。その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。したがって、無機系の層に限らず、有機系の層においても、表面にシリサイド層を形成することにより、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能を備えた光学物品を提供できることがわかった。
【０１２６】
６． まとめ
図１７に、上記のサンプルＳ１〜Ｓ１７およびＲ６〜Ｒ１１において測定されたシート抵抗を、シリサイド層を形成する際のシリコンの蒸着時間と、ＩＴＯ層を成膜するための蒸着時間の関数で示している。
【０１２７】
この図からわかるように、反射防止層３を形成する酸化物層上にシリサイド層を形成することにより簡単にシート抵抗を下げることができる。したがって、帯電防止性能を得るなどの目的で、耐薬品性および耐湿性の劣化の要因になるＩＴＯ層を形成する必要はない。また、シリサイド層は、シリサイドを蒸着したり、金属酸化膜（層）を蒸着し、その表面にＳｉ（金属シリコン）を蒸着することなどにより形成できる。したがって、従来の反射防止層の構成、材料および蒸着プロセスをほとんど変えずに、シート抵抗が低く、導電性の高いレンズなどの光学物品を提供できる。
【０１２８】
さらに、シリサイド層を形成するのに要する材料は、従来の反射防止層を成膜するための材料とほぼ同じであり、低コストで製造できる。また、従来の反射防止層と同系列の材料でシリサイド層を成膜できるので、無機系および有機系の反射防止層、ハードコート層、防汚層との相性（マッチング）もよく、上述したように薬品、湿度などに対する耐久性も優れている。
【０１２９】
なお、シリサイド層を形成する方法は、Ｓｉ（金属シリコン）のイオンアシスト蒸着に限らず、スパッタなどの他のある程度のエネルギーを供給できる方法、シリサイド自体を蒸着する方法などであってもよいことは上述した通りである。
【０１３０】
図１８に、上記のガラスサンプルＳ３、Ｓ５、Ｓ７、Ｓ９、Ｓ１１、Ｓ１３、Ｓ１５およびＳ１７、Ｒ３およびＲ５の光吸収損失とシート抵抗とを示している。この図からわかるように、シリサイド層を形成することによって、シート抵抗が下がると、光吸収損失は微小ながら増大する傾向がある。特に、上記の測定方法により測定されたシート抵抗が１×１０9〜１×１０10[Ω／□]近傍より低下すると、光吸収損失の増加傾向が増す。また、ごみの付着現象はシート抵抗が５×１０12[Ω／□]以下になると改善することが分かっている。したがって、光吸収損失が大きく性能に影響を及ぼす光学物品においては、シリサイド層の形成によりシート抵抗が１×１０9〜５×１０12[Ω／□]である光学物品が好ましい。さらに、シリサイド層の形成によりシート抵抗が１×１０10〜１×１０12[Ω／□]である光学物品がいっそう好ましい。
【０１３１】
なお、上記の実施例で示した反射防止層の層構造は幾つかの例にすぎず、本発明がそれらの層構造に限定されることはない。たとえば、３層以下、あるいは９層以上の反射防止層に適用することも可能であり、シリサイド層は１つに限定されない。また、高屈折率層と低屈折率層の組み合わせは、ＺｒＯ2／ＳｉＯ2、ＴｉＯ2／ＳｉＯ2に限定されることはなく、Ｔａ2Ｏ5／ＳｉＯ2、ＮｄＯ2／ＳｉＯ2、ＨｆＯ2／ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3／ＳｉＯ2などの系のいずれかの層の表面にシリサイド層を形成することが可能である。
【０１３２】
図１９に、上記のシリサイド層を含む眼鏡レンズ１０と、眼鏡レンズ１０が装着されたフレーム２０１とを含む眼鏡２００を示している。また、図２０に、上記のシリサイド層を含むレンズ２１１と、シリサイド層を含むカバーガラス２１２と、投射レンズ２１１およびカバーガラス２１２とを通して投影する光を生成する画像形成装置、たとえばＬＣＤ２１３とを備えたプロジェクター２１０を示している。また、図２１に、上記のシリサイド層を含む撮像レンズ２２１と、シリサイド層を含むカバーガラス２２２と、撮像レンズ２２１およびカバーガラス２２２を通して画像を取得するための撮像装置、たとえばＣＣＤ２２３とを備えたデジタルカメラ２２０を示している。また、図２２に、上記のシリサイド層として形成された透過層２３１と、光学的な方法により記録を読み書きできる記録層２３２とを備えた記録媒体、たとえばＤＶＤ２３０を示している。
【０１３３】
本発明の光学物品は、これらのシステムの光学物品、たとえば、レンズ、ガラス、プリズム、カバー層などとして多種多様な用途を備えている。また、上記に示したシステムは例示にすぎず、当業者が本発明を利用しうる光学物品およびシステムは、本発明に含まれるものである。
【符号の説明】
【０１３４】
１ レンズ基材、 ２ ハードコート層、 ３ 反射防止層、 ４ 防汚層、１０ レンズサンプル。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡レンズなどのレンズ、その他の光学材料あるいは製品に用いられる光学物品およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡レンズなどの光学物品は、種々の機能を果たすための基材（光学基材）の表面に、その基材の機能をさらに強化したり、保護したりするために種々の機能を備えた層（膜）が形成されている。たとえば、レンズ基材の耐久性を確保するためのハードコート層、ゴーストおよびちらつきを防止するための反射防止層などが公知である。反射防止層の典型的なものは、ハードコート層が積層されたレンズ基材の表面に異なる屈折率を持つ酸化膜を交互に積層してなるいわゆる多層反射防止層である。
【０００３】
引用文献１には、新規な、低耐熱性基材に好適な帯電防止性能を有する光学要素を提供することが記載されている。プラスチック製の光学基材上に複層構成の反射防止膜を備えた眼鏡レンズなどの光学要素において、反射防止膜が透明導電層を含み、該透明導電層をイオンアシスト真空蒸着により形成し、他の反射防止膜の構成層は、電子ビーム真空蒸着等により形成することが記載されている。導電層としては、インジウム、スズ、亜鉛等のいずれか、又は２種以上の複数を成分とする無機酸化物が挙げられており、特に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウムと酸化錫との混合物）が望ましいことが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３４１０５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基材の表面に形成される膜あるいは層に、帯電防止、電磁遮蔽などを目的として導電性を付与するために、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）層を挿入することが公知である。しかしながら、ＩＴＯ層は、透明性と帯電防止性に優れているものの、酸やアルカリなどの薬品により侵されやすい。このため、眼鏡レンズの表面に採用すると、人の汗は塩分を含んだ酸なので、ＩＴＯ層を含む反射防止層の耐久性が問題になる可能性がある。
【０００６】
一方、銀などの金属の層を薄く形成することで導電性を得ることが可能である。しかしながら、反射防止層、ハードコート層、防汚層などの光学物品の基材の表面に形成される層はシリコンを中心とする化合物あるいは酸化物が主成分であることが多く、それらとの相性が問題になる。例えば金は一般的に密着性が低く膜の剥れが発生する恐れがある。銀は酸化により導電性が低下することがある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様は、光学物品（光学素子）の製造方法であり、光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、第１の層の表面に、シリサイドを含む透光性薄膜を形成することとを有する。シリサイドは、遷移金属ケイ素化物であり、低抵抗であるとともにシリコンを中心とする化合物および／または酸化物、たとえば、酸化シリコン、有機ケイ素化合物との相性がよく、さらに、フッ酸以外の酸に対してはほぼ安定している。したがって、シート抵抗が低く、耐久性の高い光学物品を製造できる。このため、帯電防止機能および／または電磁波遮蔽機能などを備えた光学物品をいっそう容易に製造および提供できる。ここで、低抵抗とは電気的な抵抗がより低いことを示す。
【０００８】
さらに、シリサイドは低抵抗である。たとえば、チタンシリサイドの１つのＴｉＳｉ2の抵抗率は２×１０-5Ω・ｃｍであり、ＩＴＯの抵抗率が１０-3〜１０-4Ω・ｃｍなので、シリサイドの抵抗率はＩＴＯより小さい。したがって、シリサイド層を導電層として採用することにより薄膜であっても、基材の上に形成された層を十分に低抵抗にすることができる。このため、シリサイド膜の透光性を確保できるともに、既存の反射防止層の層構造を変えずに、または、ほとんど変えずに、シリサイドの薄膜を挿入できる。
【０００９】
シリサイド（遷移金属ケイ素化物）を含む透光性薄膜は、第１の層の表面にシリコンおよび金属を蒸着することにより形成できる。第１の層の表面に遷移金属ケイ素化物を蒸着してもよい。第１の層が金属酸化物を含む層の場合は、第１の層の表面にシリコンをイオンアシスト蒸着、スパッタなどにより打ち込んで第１の層の上にシリサイド層を形成してもよい。
【００１０】
第１の層の典型的なものは、光学基材の上にハードコート層、またはプライマー層およびハードコート層を介して積層された無機系または有機系の反射防止層に含まれる層である。この第１の層を形成することは、多層構造の反射防止層のいずれかの第１の層または複数の第１の層を形成することを含む。多層構造の反射防止層のシート抵抗を低減できる。第１の層は、無機系または有機系の反射防止層であってもよい。第１の層の上に、直にまたは他の層を介して防汚層を形成することをさらに有してもよい。
【００１１】
本発明の他の態様の１つは、光学基材と、光学基材の上に、直にまたは他の層を介して形成された透光性の第１の層と、第１の層の表面に形成された、シリサイドを含む透光性薄膜とを有する、光学物品である。第１の層の表面にシリサイドを含む透光性薄膜を形成することにより、その層およびその層を含み、光学基材の上に形成された膜あるいは層のシステムのシート抵抗を低減できる。したがって、基材の表面に形成された膜あるいは層に導電性を付与でき、帯電防止、電磁遮蔽などの機能を付与あるいはその機能を向上できる。さらに、シリサイドは、ＩＴＯと比較して、酸やアルカリなどの薬品に対して安定している。このため、耐久性の低下を抑制でき、帯電防止などが要望される身の回りの物品（素子、製品）、たとえば、眼鏡のレンズ、カメラのレンズ、情報端末の表示装置、ＤＶＤなどの多種多様な光学物品に適用できる。
【００１２】
第１の層の典型的なものは、無機系の反射防止層に含まれる層である。すなわち、光学物品が多層構造の反射防止層を有している場合は、第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であってよい。第１の層が反射防止層を構成する多層の複数の層であってもよい。第１の層は、有機系の反射防止層であってもよい。さらに、光学物品は、第１の層の上に、直にまたは他の層を介して形成された防汚層を有していてもよい。典型的な光学基材は、プラスチックレンズ基材であり、たとえば、眼鏡レンズである。
【００１３】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、眼鏡レンズと、眼鏡レンズが装着されたフレームとを有する眼鏡である。
【００１４】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品であって、一方の面が外界に面した光学物品を有し、光学物品を通して画像を透視するためのシステムである。このシステムの典型的なものは、時計、表示装置および表示装置を有する端末などの情報処理装置であり、表示装置の表面の帯電性を抑制でき、また、電磁波遮蔽能力を向上できる。
【００１５】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通して画像を投影させるための画像形成装置とを有するシステムである。このシステムの典型的なものはプロジェクターである。光学物品の典型的なものは、投射用のレンズ、ダイクロイックプリズム、カバーガラスなどである。本発明を、画像形成装置の１つであるＬＣＤ（液晶デバイス）などのライトバルブあるいはそれらに含まれる素子に適用してもよい。
【００１６】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通して画像を取得するための撮像装置とを有するシステムである。このシステムの典型的なものはカメラである。光学物品の典型的なものは、結像用のレンズ、カバーガラスなどである。本発明を、撮像装置の１つであるＣＣＤなどに適用してもよい。
【００１７】
本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通してアクセスする媒体とを有するシステムである。このシステムの典型的なものは、記録媒体を内蔵し、表面の帯電性が低いことが要望されるＤＶＤなどの情報記録装置、美的表現を発揮する媒体を内蔵した装飾品などである。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】Ａグループの層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図２】反射防止層の製造に用いる蒸着装置を模式的に示す図。
【図３】図３（Ａ）は、ＺｒＯ2層上にＴｉＯxが蒸着された様子を示す図、図３（Ｂ）は、Ｓｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着によりＴｉＯx層へ打ち込む（添加する）様子を示す図、図３（Ｃ）は、添加されたＳｉ（金属シリコン）によりシリサイド層が形成された様子を示す図。
【図４】Ａグループに関連する反射防止層の層構造およびシート抵抗を示す表。
【図５】図５（Ａ）は、シート抵抗を測定する様子を示す断面図、図５（Ｂ）は平面図。
【図６】図６（Ａ）は、ＺｒＯ2層上に、Ｓｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着により打ち込む（添加する）様子を示す図、図６（Ｂ）は、添加されたＳｉ（金属シリコン）によりシリサイド層が形成された様子を示す図。
【図７】Ａグループに関連する反射防止層の層構造を示す表。
【図８】Ａグループに関連するサンプルの評価結果を示す表。
【図９】図９（Ａ）は、耐薬品性試験の擦傷工程に使用される試験装置の外観を示す図、図９（Ｂ）は試験装置の内部構造を示す図。
【図１０】耐薬品性試験の擦傷工程に使用される試験装置を回転することを示す図。
【図１１】耐湿性試験におけるむくみを判定する装置の概略を示す図。
【図１２】図１２（Ａ）は、レンズ表面にむくみのない状態を模式的に示す図、図１２（Ｂ）はレンズ表面にむくみのある状態を模式的に示す図。
【図１３】Ｂグループの層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図１４】Ｂグループに関連する反射防止層の層構造を示す表。
【図１５】Ｂグループに関連するサンプルの評価結果を示す表。
【図１６】Ｃグループの層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。
【図１７】シート抵抗と、シート抵抗を低減するための蒸着時間との関係を示す図。
【図１８】シート抵抗の測定値と、光吸収損失との関係を示す図。
【図１９】眼鏡の概要を示す図。
【図２０】プロジェクターの概要を示す図。
【図２１】デジタルカメラの概要を示す図。
【図２２】記録媒体の概要を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明の幾つかの実施形態を説明する。以下では、光学物品として眼鏡用のレンズを例示して説明するが、本発明を適用可能な光学物品はこれに限定されるものではない。
【００２０】
図１に、典型的なレンズの構成を、基材を中心とした一方の面の側の断面図により示している。レンズ１０は、レンズ基材１と、レンズ基材１の表面に形成されたハードコート層２と、ハードコート層２の上に形成された透光性の反射防止層３と、反射防止層３の上に形成された防汚層４とを含む。
【００２１】
１． レンズの概要
１．１ レンズ基材
レンズ基材１は、特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂等を例示することができる。レンズ基材１の屈折率は、たとえば、１．６４〜１．７５程度である。この実施形態においては、屈折率は上記の範囲でも、上記の範囲から上下に離れていてもよい。
【００２２】
１．２ ハードコート層（プライマー層）
ハードコート層２は、耐擦傷性を向上するものである。ハードコート層２に使用される材料として、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等を挙げることができる。ハードコート層２の一例は、シリコーン系樹脂であり、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート層を形成できる。このコーティング組成物にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分が含まれていてもよい。
【００２３】
金属酸化物微粒子の具体例は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＣｅＯ2、Ｌａ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＷＯ3、ＺｒＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の金属酸化物からなる微粒子または２種以上の金属の金属酸化物からなる複合微粒子である。これらの微粒子を、分散媒たとえば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒にコロイド状に分散させたものをコーティング組成物に混合できる。
【００２４】
レンズ基材１とハードコート層２との密着性を確保するために、レンズ基材１とハードコート層２との間にプライマー層を設けてもよい。プライマー層は、高屈折率レンズ基材の欠点である耐衝撃性を改善するためにも有効である。プライマー層を形成するための樹脂としては、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等が挙げられる。密着性を持たせるためのプライマー層としてはウレタン系樹脂およびポリエステル系樹脂がよい。
【００２５】
ハードコート層２およびプライマー層の製造方法の典型的なものは、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法によりコーティング組成物を塗布し、その後、４０〜２００°Ｃの温度で数時間加熱乾燥する方法である。
【００２６】
１．３ 反射防止層
ハードコート層２の上に形成される反射防止層３の典型的なものは無機系の反射防止層と有機系の反射防止層である。無機系の反射防止層は多層膜で構成され、例えば、屈折率が１．３〜１．６である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．６である高屈折率層とを交互に積層して形成することができる。層数としては、５層あるいは７層程度が好ましい。反射防止層を構成する各層に使用される無機物の例としては、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＴｉＯ、Ｔｉ2Ｏ3、Ｔｉ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3、ＴａＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＮｄＯ2、ＮｂＯ、Ｎｂ2Ｏ3、ＮｂＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＣｅＯ2、ＭｇＯ、Ｙ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＭｇＦ2、ＷＯ3、ＨｆＯ2、Ｙ2Ｏ3などが挙げられる。これらの無機物は単独で用いるかもしくは２種以上を混合して用いる。
【００２７】
反射防止層３を形成する方法としては、乾式法、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などが挙げられる。真空蒸着法においては、蒸着中にイオンビームを同時に照射するイオンビームアシスト法を用いてもよい。
【００２８】
有機系の反射防止層３の製造方法の１つは湿式法である。例えば、内部空洞を有するシリカ系微粒子（以下、「中空シリカ系微粒子」ともいう）と、有機ケイ素化合物とを含んだ反射防止層形成用のコーティング組成物を、ハードコート層、プライマー層と同様の方法でコーティングして形成することもできる。中空シリカ系微粒子を用いるのは、内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶媒が包含されることによって、空洞のないシリカ系微粒子に比べてより屈折率が低減し、結果的に、優れた反射防止効果を付与できるからである。中空シリカ系微粒子は、特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている方法などで製造することができるが、平均粒子径が１〜１５０ｎｍの範囲にあり、かつ屈折率が１．１６〜１．３９の範囲にあるものを使用することが望ましい。この有機系の反射防止層の層厚は、５０〜１５０ｎｍの範囲が好ましい。この範囲より厚すぎたり薄すぎたりすると、十分な反射防止効果が得られないおそれがある。
【００２９】
１．４ 防汚層
反射防止層３の上に撥水膜、または親水性の防曇膜（防汚層）４を形成することが多い。防汚層４は、光学物品（レンズ）１０の表面の撥水撥油性能を向上させる目的で、反射防止層３の上に、フッ素を含有する有機ケイ素化合物からなる層を形成したものである。フッ素を含有する有機ケイ素化合物としては、例えば、特開２００５−３０１２０８号公報や特開２００６−１２６７８２号公報に記載されている含フッ素シラン化合物を好適に使用することができる。
【００３０】
含フッ素シラン化合物は、有機溶剤に溶解し、所定濃度に調整した撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）として用いることが好ましい。防汚層は、この撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を反射防止層上に塗布することにより形成することができる。塗布方法としては、ディッピング法、スピンコート法などを用いることができる。なお、撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を金属ペレットに充填した後、真空蒸着法などの乾式法を用いて、防汚層を形成することも可能である。
【００３１】
防汚層の層厚は、特に限定されないが、０．００１〜０．５μｍが好ましい。より好ましくは０．００１〜０．０３μｍである。防汚層の層厚が薄すぎると撥水撥油効果が乏しくなり、厚すぎると表面がべたつくので好ましくない。また、防汚層の厚さが０．０３μｍより厚くなると反射防止効果が低下する可能性がある。
【００３２】
２． サンプルの製造（Ａグループ）
２．１ 実施例１（サンプルＳ１）
２．１．１ レンズ基材の選択およびハードコート層の成膜
ハードコート層２を形成するための塗布液（コーティング液）を次のように調製した。エポキシ樹脂−シリカハイブリッド（商品名：コンポセランＥ１０２（荒川化学工業（株）製））２０重量部に、酸無水物系硬化剤（商品名：硬化剤液（Ｃ２）（荒川化学工業（株）製））４．４６重量部を混合、攪拌して塗布液（コーティング液）を得た。このコーティング液を所定の厚さになるようにスピンコーターを用いて基材１の上に塗布してハードコート層２を成膜した。
【００３３】
基材１としては、屈折率１．６７の眼鏡用のプラスチックレンズ基材（セイコーエプソン（株）製、商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ））を用いた。塗布後のレンズ基材を１２５°Ｃで２時間焼成した。
【００３４】
２．１．２ 反射防止層の成膜
２．１．２．１ 蒸着装置
次に、図２に示す蒸着装置１００により無機系の反射防止層３を製造（成膜）した。例示した蒸着装置１００は電子ビーム蒸着装置であり、真空容器１１０、排気装置１２０およびガス供給装置１３０を備えている。真空容器１１０は、ハードコート層２までが形成されたレンズサンプル１０が載置されるサンプル支持台１１５と、サンプル支持台１１５にセットされたレンズサンプル１０を加熱するための基材加熱用ヒーター１１６と、熱電子を発生するフィラメント１１７とを備えており、電子銃（不図示）により熱電子を加速して蒸発源（るつぼ）１１２および１１３にセットされた蒸着材料に熱電子を照射し蒸発させ、レンズサンプル１０に材料を蒸着する。
【００３５】
さらに、この蒸着装置１００は、イオンアシスト蒸着を可能とするために、容器１１０の内部に導入したガスをイオン化して加速し、レンズサンプル１０に照射するためのイオン銃１１８を備えている。また、真空容器１１０には、残留した水分を除去するためのコールドトラップや、層厚を管理するための装置等をさらに設けることができる。層厚を管理する装置としては、例えば、反射型の光学膜厚計や水晶振動子膜厚計などがある。
【００３６】
真空容器１１０の内部は、排気装置１２０に含まれるターボ分子ポンプまたはクライオポンプ１２１および圧力調整バルブ１２２により高真空、たとえば１×１０-4Ｐａに保持できる。一方、真空容器１１０の内部は、ガス供給装置１３０により所定のガス雰囲気することも可能である。たとえば、ガス容器１３１には、アルゴン（Ａｒ）、窒素（Ｎ2）、酸素（Ｏ2）などが用意される。ガスの流量は流量制御装置１３２により制御でき、真空容器１１０の内圧は圧力計１３５により制御できる。
【００３７】
基材加熱用ヒーター１１６は、例えば赤外線ランプであり、レンズサンプル１０を加熱することによりガス出しあるいは水分とばしを行い、レンズサンプル１０の表面に形成される層の密着性を確保する。
【００３８】
したがって、この蒸着装置１００における主な蒸着条件は、蒸着材料、電子銃の加速電圧および電流値、イオンアシストの有無である。イオンアシストを利用する場合の条件は、イオンの種類（真空容器１１０の雰囲気）と、イオン銃１１８の電圧値および電流値とにより与えられる。以下において、特に記載しないかぎり、電子銃の加速電圧は５〜１０ｋＶの範囲、電流値は５０〜５００ｍＡの範囲の中で成膜レートなどをもとに選択される。また、イオンアシストを利用する場合は、イオン銃１１８が電圧値２００Ｖ〜１ｋＶの範囲、電流値が１００〜５００ｍＡの範囲で成膜レートなどをもとに選択される。
【００３９】
２．１．２．２ 低屈折率層、高屈折率層およびシリサイド層の成膜
ハードコート層２が形成されたレンズサンプル１０をアセトンにて洗浄し、真空容器１１０の内部にて約７０°Ｃの加熱処理を行い、レンズサンプル１０に付着した水分を蒸発させる。次に、レンズサンプル１０の表面にイオンクリーニングを実施した。具体的には、イオン銃１１８を用いて酸素イオンビームを数百ｅＶのエネルギーでレンズサンプル１０の表面に照射し、レンズサンプル１０の表面に付着した有機物の除去を行った。この方法により、レンズサンプル１０の表面に形成する膜の付着力を強固なものとすることができる。なお、酸素イオンの代わりに不活性ガス、例えばＡｒ、キセノン（Ｘｅ）、Ｎ2を用いて同様の処理を行ってもよいし、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射してもよい。
【００４０】
真空容器１１０の内部を十分に真空排気した後、電子ビーム真空蒸着法により、低屈折率層３１および高屈折率層３２を交互に積層して反射防止層３を製造した。
【００４１】
実施例１のレンズサンプルＳ１（以降では、各々の実施例のサンプルはサンプルＳ１と呼び、共通するサンプルについてはサンプル１０と呼ぶ）には、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を低屈折率層３１として形成し、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）層を高屈折率層３２として形成した。
【００４２】
（低屈折率層）
図１に示すように、第１層および第３層が低屈折率層３１であり、イオンアシストは行わず、真空蒸着によりＳｉＯ２層を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとした。
【００４３】
（高屈折率層）
第２層および第４層が高屈折率層３２であり、タブレット状のＺｒＯ2焼結体材料を電子ビームで加熱蒸発させＺｒＯ2層として成膜した。成膜レートは０．８ｎｍ／ｓｅｃとした。
【００４４】
（シリサイド層）
レンズサンプル１０上に第１層３１、第２層３２、第３層３１および第４層３２を成膜した後、図３に示すように、蒸着装置１００を用い、シリサイド層（導電層、シリサイド層：ＴｉＳｉ）３３を第５層として成膜した。シリサイド層３３は、ＴｉＯx焼結体材料を電子ビームで加熱蒸発し、ＴｉＯxを、イオンアシストを行わず真空蒸着により成膜した（図３（Ａ））。そして、そのＴｉＯxの層に上からＳｉ（金属シリコン）を、アルゴンイオンを用いたイオンアシスト蒸着により打ち込んだ（図３（Ｂ））。Ｓｉ（金属シリコン）原子は、アルゴンイオンを用いたイオンアシスト蒸着により、あらかじめ、蒸着されたＴｉＯx層中でミキシングされて化学反応し、シリサイド層（ＴｉＳｉ）３３が形成される（図３（Ｃ））。なお、この実施例１において、シリサイド層（ＴｉＳｉ）の厚さは３ｎｍになるよう設定された。なお上記ではＴｉＯxを用いた例で説明したが、ＴｉＯxの代わりにＴｉＯ2を用いてもよい。
【００４５】
Ｓｉ（金属シリコン）を成膜する時のイオンアシスト蒸着の条件は、イオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は２００ｍＡであり、蒸着時間は１０秒である。
【００４６】
（低屈折率層）
シリサイド層３３の上に、第１および第３層と同様の条件で、ＳｉＯ2層を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとし、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は１００ｍＡとした。
【００４７】
これらの工程において、第１〜第６層の膜厚は、それぞれ、１５０ｎｍ、３０ｎｍ、２１ｎｍ、５５ｎｍ、３ｎｍ、８５ｎｍに管理した。これら６層からなる層構造、すなわち、第１層、第３層および第６層がＳｉＯ２層の低屈折率層３１、第２層および第４層がＺｒＯ2層の高屈折率層３２、そして、第５層がシリサイド層３３の層構造をタイプＡ１の層構造と呼ぶことにする。
【００４８】
２．１．３ 防汚層の成膜
反射防止層３を形成した後、酸素プラズマ処理を施し、真空容器１１０内で、分子量の大きなフッ素含有有機ケイ素化合物を含む「ＫＹ−１３０」（商品名、信越化学工業（株）製）を含有させたペレット材料を蒸着源として、約５００°Ｃで加熱し、ＫＹ−１３０を蒸発させて、防汚層４を成膜した。蒸着時間は、３分間程度とした。酸素プラズマ処理を施こすことにより最終のＳｉＯ2層の表面にシラノール基を生成できるので、反射防止層３と防汚層４との化学的密着性（化学結合）を向上できる。蒸着終了後、真空蒸着装置１００からレンズサンプル１０を取り出し、反転して再び投入し、上記の２．１．２〜２．１．３の工程を同じ手順で繰り返し、反射防止層の成膜、シリサイド層および防汚層の成膜を行った。その後、レンズサンプル１０を真空蒸着装置１００から取り出した。これにより、レンズ基材１の両面にハードコート層２、シリサイド層を層内に含むタイプＡ１の反射防止層３、および防汚層４を備えた実施例１のレンズサンプルＳ１が得られた。
【００４９】
２．２ 実施例２（サンプルＳ２）
サンプルＳ２として、上記と同じレンズ基材１を用い、同じ条件でハードコート層２を形成し、その表面にタイプＡ１の反射防止層３が形成されたサンプルＳ２を製造した。低屈折率層３１および高屈折率層３２の成膜方法は、実施例１と同じ条件（２．１．２．２）である。ただし、シリサイド層（第５層）３３には、蒸着源としてＴｉＳｉ化合物を採用し、イオンアシストを用いない真空蒸着によりシリサイド層３３を成膜した。ここで、サンプルＳ２のシリサイド層３３の膜厚は１ｎｍに設定された。そして、反射防止層３を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。
【００５０】
２．３ 比較例１（サンプルＲ１）
サンプルＲ１として、実施例１と同じレンズ基材１を用い、同じ条件でハードコート層２が成膜され、さらに、その表面に反射防止層３が形成されたサンプルＲ１を製造した。低屈折率層３１および高屈折率層３２は、上記の２．１．２と同じ条件で成膜した。
【００５１】
さらに、第５層（導電層）として、Ｓｉ（金属シリコン）のみを、イオンアシストを用いずに３ｎｍだけ蒸着した。すなわち、第４層（ＺｒＯ2層）を成膜後、Ｓｉ（金属シリコン）を真空蒸着により成膜し、アモルファスシリコンの層を形成した。したがって、反射防止層３は、アモルファスシリコン層を含む６層構造になる。この６層構造で、アモルファスシリコン層を含むタイプの層構造をタイプＡ３と呼ぶことにする。
【００５２】
反射防止層３を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。したがって、比較例１により製造されたレンズサンプルＲ１は、プラスチックレンズ基材１と、ハードコート層２と、第５層（導電層）３３にアモルファスシリコン層を含むタイプＡ３の反射防止層３と、防汚層４とを含む。
【００５３】
２．４ 比較例２（サンプルＲ２）
サンプルＲ２として、実施例１と同じレンズ基材１を用い、同じ条件でハードコート層２が成膜され、さらに、その表面に反射防止層３が形成されたサンプルＲ２を製造した。低屈折率層３１および高屈折率層３２は、上記の２．１．２と同じ条件で成膜した。
【００５４】
さらに、第５層（導電層）として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）をイオンアシスト真空蒸着により成膜した。すなわち、第４層（ＺｒＯ2層）３２を成膜後、ＩＴＯをイオンアシスト真空蒸着により３ｎｍ成膜し、第５層（導電層）３３としてＩＴＯ層を形成した。ＩＴＯ層の成膜の際は、電子銃の加速電圧を７ｋＶ、電流値を５０ｍＡとし、ＩＴＯ膜の酸化を促進させるために真空容器内に毎分１５ミリリットルの酸素ガスを導入し、酸素雰囲気とした。また、イオン銃へは毎分３５ミリリットルの酸素ガスを導入し、電圧値を５００Ｖ、電流値を２５０ｍＡとして酸素イオンビームを照射した。そして、その上に第６層として、ＳｉＯ２層を形成した。したがって、ＩＴＯ層を含む反射防止層３は６層構
造になる。
【００５５】
この６層構造で、ＩＴＯ層を含むタイプの層構造をタイプＡ４と呼ぶことにする。また、反射防止層３を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。したがって、比較例２により製造されたレンズサンプルＲ２は、プラスチックレンズ基材１と、ハードコート層２と、ＩＴＯ層を含むタイプＡ４の反射防止層３と、防汚層４とを含む。
【００５６】
これら実施例１、実施例２、比較例１および２の層構造を図４に纏めて示している。なお、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）からなる低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは１．４６２である。また、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）からなる高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．０５である。ＩＴＯ層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．１である。またアモルファスシリコンは純粋なSiだけで構成されていなくてもよく、多少は酸化されていてもよい。
【００５７】
２．５ サンプルの評価
上記により製造されたサンプルＳ１、Ｓ２、Ｒ１およびＲ２のシート抵抗を測定した。測定結果を図４に纏めて示している。
【００５８】
２．５．１ シート抵抗
図５（Ａ）および（Ｂ）に、各サンプルのシート抵抗を測定する様子を示している。この例では、測定対象、たとえば、レンズサンプル１０の表面１０Ａにリングプローブ６１を接触し、レンズサンプル１０の表面１０Ａのシート抵抗を測定した。測定装置６０は、三菱化学（株）製高抵抗抵抗率計ハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０型を使用した。使用したリングプローブ６１は、ＵＲＳタイプであり、２つの電極を有し、外側のリング電極６１Ａは外径１８ｍｍ、内径１０ｍｍであり、内側の円形電極６１Ｂは直径７ｍｍである。それらの電極間に１０〜１ｋＶの電圧を印加し、各サンプルのシート抵抗を計測した。
【００５９】
２．６ 考察
図４に測定結果を示している。反射防止層３にシリサイド層を含めたレンズサンプルＳ１およびＳ２のシート抵抗は７×１０9[Ω／□]および１×１０10[Ω／□]であった。反射防止層３にＳｉ（金属シリコン）層を含めたレンズサンプルＲ１および反射防止層３にＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ２のシート抵抗は９×１０12[Ω／□]および２×１０12[Ω／□]であった。レンズサンプルＳ１およびＳ２のシート抵抗は、レンズサンプルＲ１およびＲ２のシート抵抗と比較して、２桁〜３桁（１０2〜１０3）程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が１／１０2〜１／１０3になる。したがって、シリサイド層３３を含めることにより反射防止層３のシート抵抗を大幅に低減でき、３ｎｍ程度以下、さらには、１ｎｍ程度の厚みのシリサイド層３３が反射防止層２を含めた光学基材の表面の導電性を向上することに有効であることが分かった。
【００６０】
光学物品のシート抵抗を低減することにより幾つかの効果が得られる。典型的な効果は、帯電防止、および電磁遮蔽である。眼鏡用のレンズにおいて帯電防止性の有無の目安は、シート抵抗が１×１０12[Ω／□]以下であると考えられている。使用上の安全性などを考慮すると、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下であることがいっそう好ましい。サンプルＳ１およびＳ２は、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下、さらに、１×１０10[Ω／□]以下であり、非常に優れた帯電防止性を備えていることが分かる。
【００６１】
図３（Ｂ）に示すように、ＴｉＯx層の表面にＳｉ（金属シリコン）を適当なエネルギーのイオンアシスト蒸着することにより、図３（Ａ）に示すように、ＴｉＯx層の表面だけではなく、ＴｉＯx層の表面から若干、たとえば、１ｎｍ前後程度あるいはそれ以上の部分にＳｉ（金属シリコン）原子が注入（添加）されＴｉＯxとミキシングされる。すなわち、ＴｉＯx層にＳｉ（金属シリコン）原子が叩き込まれ（打ち込まれ）、下地の材料であるＴｉＯxと化学反応を起こし、表面の近傍が改質される。その結果、ＴｉＯX層のＴｉ原子とＳｉ（金属シリコン）原子とが反応し金属間化合物であるＴｉＳｉ、ＴｉＳｉ2などのチタンシリサイドが形成されると考えられる。チタンシリサイド（たとえば、ＴｉＳｉ2）の抵抗率は１５〜２０μΩ・ｃｍ（シート抵抗（２０ｎｍ）は１２〜１８Ω／□）と低く、ＨＦ以外には溶けにくいという耐薬品性も高い。さらに、酸化膜（ＳｉＯ2）との反応性があり、ＺｒＯ2層に積層される他の酸化膜との密着性も確保できる。
【００６２】
したがって、ＺｒＯ2層の表面全体に、あるいは部分的にチタンシリサイドが存在すればよく、また、チタンシリサイドの酸化物という状態でシリサイドが存在してもよい。シリサイド層３３が存在することにより反射防止層３のシート抵抗を低減でき、導電性を向上できると考えられる。このため、シリサイド層３３は、６層構造の５層目に限定されることはなく、いずれかの層でよく、さらに、複数の層上にシリサイド層を形成してもよい。
【００６３】
チタンシリサイドに限らず、遷移金属ケイ素化物は一般に低抵抗であり、シリコンあるいは含有シリコン化合物が多く用いられる反射防止層との親和性もよい。したがって、ＺｒＯ2層およびＴｉＯ2層に限らずに、他の金属酸化物の層にＳｉ（金属シリコン）原子をイオンアシスト蒸着あるいは他の方法、たとえば、通常の真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等を用いて導入・混合し、シリサイド層を形成することは有効である。また、Ｓｉ層またはＳｉＯ2層を形成し、さらには低屈折率のＳｉＯ2層の表面にＴｉ原子などの遷移金属原子をイオンアシスト蒸着などの方法により導入・混合してシリサイド層３３を形成してもよい。さらに、上記に示した実施例２と同様に、ＴｉＳｉ2などのシリサイド自身を蒸着などの方法により層の表面に導入・混合してシリサイド層を形成することも可能である。
【００６４】
シリサイドの他の例としては、ＺｒＳｉ、ＣｏＳｉ、ＷＳｉ、ＭｏＳｉ、ＮｉＳｉ、ＴａＳｉ、ＮｄＳｉ、Ｔｉ3Ｓｉ、Ｔｉ5Ｓｉ3、Ｔｉ5Ｓｉ4、ＴｉＳｉ、ＴｉＳｉ2、Ｚｒ3Ｓｉ、Ｚｒ2Ｓｉ、Ｚｒ5Ｓｉ3、Ｚｒ3Ｓｉ2、Ｚｒ5Ｓｉ4、Ｚｒ6Ｓｉ5、ＺｒＳｉ2、Ｈｆ2Ｓｉ、Ｈｆ5Ｓｉ３、Ｈｆ3Ｓｉ2、Ｈｆ4Ｓｉ3、Ｈｆ5Ｓｉ4、ＨｆＳｉ、ＨｆＳｉ2、Ｖ3Ｓｉ、Ｖ5Ｓｉ3、Ｖ5Ｓｉ4、ＶＳｉ2、Ｎｂ4Ｓｉ、Ｎｂ3Ｓｉ、Ｎｂ5Ｓｉ3、ＮｂＳｉ2、Ｔａ4.5Ｓｉ、Ｔａ4Ｓｉ、Ｔａ3Ｓｉ、Ｔａ2Ｓｉ、Ｔａ5Ｓｉ3、ＴａＳｉ2、Ｃｒ3Ｓｉ、Ｃｒ2Ｓｉ、Ｃｒ5Ｓｉ3、Ｃｒ3Ｓｉ2、ＣｒＳｉ、ＣｒＳｉ2、Ｍｏ3Ｓｉ、Ｍｏ5Ｓｉ3、Ｍｏ3Ｓｉ2、ＭｏＳｉ2、Ｗ3Ｓｉ、Ｗ5Ｓｉ3、Ｗ3Ｓｉ2、ＷＳｉ2、Ｍｎ6Ｓｉ、Ｍｎ3Ｓｉ、Ｍｎ5Ｓｉ2、Ｍｎ5Ｓｉ3、ＭｎＳｉ、Ｍｎ11Ｓｉ19、Ｍｎ4Ｓｉ7、ＭｎＳｉ2、Ｔｃ4Ｓｉ、Ｔｃ3Ｓｉ、Ｔｃ5Ｓｉ3、ＴｃＳｉ、ＴｃＳｉ2、Ｒｅ3Ｓｉ、Ｒｅ5Ｓｉ3、ＲｅＳｉ、ＲｅＳｉ2、Ｆｅ3Ｓｉ、Ｆｅ5Ｓｉ3、ＦｅＳｉ、ＦｅＳｉ2、Ｒｕ2Ｓｉ、ＲｕＳｉ、Ｒｕ2Ｓｉ3、ＯｓＳｉ、Ｏｓ2Ｓｉ3、ＯｓＳｉ2、ＯｓＳｉ1.8、ＯｓＳｉ3、Ｃｏ3Ｓｉ、Ｃｏ2Ｓｉ、ＣｏＳｉ2、Ｒｈ2Ｓｉ、Ｒｈ5Ｓｉ3、Ｒｈ3Ｓｉ2、ＲｈＳｉ、Ｒｈ4Ｓｉ5、Ｒｈ3Ｓｉ4、ＲｈＳｉ2、Ｉｒ3Ｓｉ、Ｉｒ2Ｓｉ、Ｉｒ3Ｓｉ2、ＩｒＳｉ、Ｉｒ2Ｓｉ3、ＩｒＳｉ1.75、ＩｒＳｉ2、ＩｒＳｉ3、Ｎｉ3Ｓｉ、Ｎｉ5Ｓｉ2、Ｎｉ2Ｓｉ、Ｎｉ3Ｓｉ2、ＮｉＳｉ2、Ｐｄ5Ｓｉ、Ｐｄ9Ｓｉ2、Ｐｄ4Ｓｉ、Ｐｄ3Ｓｉ、Ｐｄ9Ｓｉ4、Ｐｄ2Ｓｉ、ＰｄＳｉ、Ｐｔ4Ｓｉ、Ｐｔ3Ｓｉ、Ｐｔ5Ｓｉ2、Ｐｔ12Ｓｉ5、Ｐｔ7Ｓｉ3、Ｐｔ2Ｓｉ、Ｐｔ6Ｓｉ5、ＰｔＳｉを挙げることができる。
【００６５】
これらの中で、チタンシリサイドに加え、反射防止層の高屈折率層として使用されることが多い、ジルコニウム（Ｚｒ）系のシリサイド、タンタル（Ｔａ）系のシリサイド、ネオジム（Ｎｄ）系のシリサイド、ニオブ（Ｎｂ）系のシリサイドなどは有用である。また、チタンシリサイドと同様に非常に抵抗率の低いシリサイド、たとえば、コバルト系、ニッケル系のシリサイドも有用である。
【００６６】
シリサイド層を導入することにより表面抵抗率を低減できることが上記の実験でわかった。以下では、さらに、幾つかのサンプルを製造し、耐久性などの確認を行った。
【００６７】
３． 他のサンプル（Ａグループ）
３．１ 実施例３（サンプルＳ３）
実施例３として、光学基材１としてカバーガラスを用い、その表面に反射防止層３が形成されたサンプルＳ３を製造した。このカバーガラスのサンプル（ガラスサンプル）Ｓ３は、光学基材１として透明な白板ガラス（Ｂ２７０）を採用し、この光学基材１の上に、ハードコート層を成膜せず、直に反射防止層３を成膜した。反射防止層は、６層構造のタイプＡ１である。すなわち、第１層、第３層および第６層がＳｉＯ2層の低屈折率層３１、第２層および第４層がＺｒＯ2層の高屈折率層３２、そして、第５層がシリサイド層３３である。ＳｉＯ2層の低屈折率層３１およびＺｒＯ2層の高屈折率層３２は、実施例１と同じ条件（２．１．２．２）で成膜した。一方、シリサイド層３３は、実施例２と同じ条件（２．２）で成膜した。したがって、このガラスサンプルＳ３は、タイプＡ１の反射防止層３を備えている。また、反射防止層３の上に防汚層４を形成した。
【００６８】
３．２ 実施例４〜９（サンプルＳ４〜Ｓ９）
レンズ基材を用いたレンズサンプルと、カバーガラスを用いたガラスサンプルとについて、実施例１（２．１．２．２）のシリサイド層の成膜条件を変えた幾つかのサンプルＳ４〜Ｓ９を製造した。これらのサンプルは、第５層としてシリサイド層３３を備えており、シリサイド層３３の成膜条件を除き、レンズサンプルは実施例１と同様に、ガラスサンプルは実施例３と同様に製造した。
【００６９】
３．２．１ 実施例４および５（レンズサンプルＳ４およびガラスサンプルＳ５）
シリサイド層３３を成膜するために、第４層（ＺｒＯ2層）を成膜後、Ｓｉ（金属シリコン）を、アルゴンイオンを用いてイオンアシスト蒸着して第４層（ＺｒＯ2層）の表層をシリサイド化し、シリサイド層（この例では、ＺｒＳｉ）３３を形成した。イオンアシスト蒸着の条件は、イオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、イオンアシスト蒸着の時間は１０秒である。
【００７０】
図６（Ａ）に示すように、第４層（ＺｒＯ2）３２上に、アルゴンイオンを用いたイオンアシスト蒸着により、Ｓｉ（金属シリコン）を蒸着することにより、図６（Ｂ）に示すようにＳｉ（金属シリコン）原子は、ミキシング効果により、ＺｒＯ2層のある領域においてＺｒと化学反応しシリサイド（ＺｒＳｉ）層３３が形成される。下地層のＺｒとＳｉ（金属シリコン）とが化学反応したジルコニアシリサイドとしてはＺｒＳｉ、Ｚｒ3Ｓｉ、Ｚｒ2Ｓｉ、Ｚｒ5Ｓｉ3、Ｚｒ3Ｓｉ2、Ｚｒ5Ｓｉ4、Ｚｒ6Ｓｉ5、ＺｒＳｉ2のいずれか、または複数が形成されていると考えられる。
【００７１】
３．２．２ 実施例６および７（レンズサンプルＳ６およびガラスサンプルＳ７）
シリサイド層３３を成膜するために、通常の真空蒸着工程により、第４層（ＺｒＯ2層）の表面に厚さ１ｎｍ程度に達するＴｉＯx層を作成して下地処理した。その後、Ｓｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着して添加してシリサイド化した。イオンアシスト蒸着の条件は、イオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は５００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、蒸着時間（イオンアシスト蒸着の時間）を１０秒とした。
【００７２】
３．２．３ 実施例８および９（レンズサンプルＳ８およびガラスサンプルＳ９）
シリサイド層３３を成膜するために、通常の真空蒸着工程により、第４層（ＺｒＯ2層）の表面に厚さ１ｎｍ程度に達するＴｉＯx層を作成して下地処理した。その後、Ｓｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着して添加してシリサイド化した。イオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴンと酸素の１対１、イオンアシスト電圧は２５０ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、蒸着時間を１０秒とした。
【００７３】
３．３ 比較例３（サンプルＲ３）
上述した比較例１および２（レンズサンプルＲ１およびＲ２）に加え、上記の実施例により得られたガラスサンプルと比較するために、シリサイド層を有しないガラスサンプルＲ３を製造した。それ以外は、実施例３と同様にガラスサンプルＲ３を製造した。すなわち、比較例３により製造されたガラスサンプルＲ３は、ガラス基材１と、シリサイド層を含まない５層（ＳｉＯ2層、ＺｒＯ2層、ＳｉＯ2層、ＺｒＯ2層およびＳｉＯ2層、以降ではタイプＡ２）の反射防止層３とを含む。また、反射防止層３の上に防汚層４を形成している。
【００７４】
これらの層構造を、サンプルＳ１、サンプルＳ２、サンプルＲ１およびサンプルＲ２とともに図７に纏めて示している。
【００７５】
３．４ サンプルの評価
上記により製造されたサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ３について、シート抵抗、ごみの付着試験、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。それらの評価結果を図８に纏めて示している。
【００７６】
３．４．１ シート抵抗
上記の２．５．１に示した測定方法により、各サンプルのシート抵抗を測定した。シート抵抗については、サンプルＲ３の測定結果が示すように、従来のガラスサンプルではシート抵抗は５×１０14[Ω／□]である。これに対し、反射防止層３の１つの層としてシリサイド層を形成したサンプルＳ１〜Ｓ９においては、シート抵抗が２×１０9[Ω／□]〜８×１０11[Ω／□]となり、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、３桁〜５桁（１０3〜１０5）程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が１／１０3〜１／１０5になり、導電率が向上している。したがって、シリサイド層を形成することにより大幅にシート抵抗が低下し、導電率が向上することが確認された。また、これらのサンプルＳ１〜Ｓ９は上述した測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０12[Ω／□]以下であり、良好な帯電防止性を備えている。
【００７７】
一方、反射防止層３にアモルファスシリコン層あるいはＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ１およびＲ２では、図８に示すようにシート抵抗は、それぞれ９×１０12Ω、２×１０12Ωであり、良好な帯電防止性能が得られるというほど低下していない。
【００７８】
３．４．２ ごみの付着試験
プラスチックレンズの表面上で、眼鏡レンズ用拭き布を１ｋｇの垂直荷重にて１０往復こすりつけ、このときに発生した静電気によるごみの付着の有無を調べた。ここで、ごみとしては、発泡スチロールを粒子径２〜３ｍｍの大きさに砕いたものを使用した。判断基準は以下の通りである。
○：ゴミの付着が認められなかった。
△：ゴミが数個付着していることが認められた。
×：数多くのゴミが付着していることが認められた。
【００７９】
ごみの付着がない場合は帯電防止効果に優れ、ごみの付着がある場合は帯電防止効果が劣っている。図８に示すように、シリサイド層を形成したサンプルＳ１〜Ｓ９の評価はすべて○であり、帯電防止効果に優れていることがわかった。また、アモルファスシリコン層を備えたサンプルＲ１および導電層を形成しないサンプルＲ３は×であり帯電防止効果が劣っていることがわかった。また、ＩＴＯ層を備えたサンプルＲ２は、△であった。
【００８０】
３．４．３ 吸収損失
光の吸収損失を測定した。光の吸収損失は、表面が湾曲していたりすると測定が難しい。このため、上記のサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ３のうち、ガラスサンプルＳ３、Ｓ５、Ｓ７およびＳ９について吸収損失を測定し、ガラスサンプルＲ３の吸収損失と比較した。
【００８１】
光の吸収損失は、測定には、日立製分光光度計Ｕ−４１００を使用した。分光光度計を用いて反射率と透過率を測定し、（Ａ）式にて吸収率を算出した。
吸収率（吸収損失）＝１００％−透過率−反射率 ・・・・（Ａ）
以下、吸収率は波長５５０ｎｍ付近の吸収率を記している。
【００８２】
光の吸収損失については、シリサイド層を形成することにより若干吸収損失が上昇する傾向がみられる。しかしながら、最大でも１．２％程度であり、眼鏡用のレンズとしての許容範囲である透光性を備えている。また、帯電防止を考慮するのであれば、吸収損失が０．４％のサンプルＳ９または０．５％のサンプルＳ３により、シート抵抗が３×１０10[Ω／□]以下までシート抵抗を小さくできる。したがって、シリサイド層を形成することにより、従来とほぼ同等の吸収損失で、透光性および帯電防止性能の優れた光学物品を提供できることが分かる。
【００８３】
３．４．４ 耐薬品性
各サンプルの表面に傷をつけ、その後、薬液浸漬を行い、反射防止層の剥がれの有無を観察して耐薬品性を評価した。
【００８４】
（１）擦傷工程
図９（Ａ）に示す容器（ドラム）７１の内壁に図９（Ｂ）に示すように評価用のサンプル１０を４つ貼り付け、擦傷用として不織布７３とオガクズ７４を入れる。そして、蓋をした後、図１０に示すようにドラム７１を３０ｒｐｍで３０分間回転させる。
【００８５】
（２）薬液浸漬工程
人の汗を模した薬液（純水に乳酸を５０ｇ／Ｌ、塩を１００ｇ／Ｌ溶解した溶液）を用意した。（１）の擦傷工程を経たサンプル１０を、５０°Ｃに保持した薬液に１００時間浸漬した。
【００８６】
（３）評価
上記の工程を経た各サンプルを従来のサンプルであるサンプルＲ３を基準に目視により評価した。判断基準は以下の通りである。
○：基準のサンプルと比較し、傷がほとんど見えず、同等の透明性がある。
△：基準のサンプルに対して傷が見え、透明性が劣る。
×：基準のサンプルに対して層の剥離および多数の傷が見え、透明性が著しく低下した。
【００８７】
耐薬品性については、シリサイド層を含むサンプルＳ１〜Ｓ９の評価はすべて○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ２の評価は×であった。
【００８８】
３．４．５ むくみの発生（耐湿性）の評価
（１）恒温恒湿度環境試験
各サンプルを恒温恒湿度環境（６０°Ｃ、９８％ＲＨ）で８日間放置した。
【００８９】
（２）むくみの判定方法
上記の恒温恒湿度環境試験を経た各サンプルの表面または裏面の表面反射光を観察し、むくみの有無を判断した。具体的には、図１１に示すように、サンプル１０の凸面１０Ａにおける蛍光灯７５の反射光を観察した。図１２（Ａ）に示すように、蛍光灯７５の反射光７６の像の輪郭がくっきりと明瞭に観察できる場合は「むくみ無し」と判定した。一方、図１２（Ｂ）に示すように、蛍光灯７５の反射光７７の像の輪郭がぼやけている、またはかすれて観察できるときは「むくみ有り」と判定した。
【００９０】
シリサイド層を含むサンプルＳ１〜Ｓ９も含め、すべてのサンプルについてむくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。
【００９１】
３．５ 考察
以上の各評価より、反射防止層３にシリサイド層を含むサンプルＳ１〜Ｓ９については、シート抵抗が大幅に低下し、その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。したがって優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能を備えた光学物品を提供できることが分かった。
【００９２】
上記では、ＴｉＯx層を酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）層上に蒸着し、その後、Ｓｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着による方法、直にＴｉＳｉ化合物を酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）層上に蒸着する方法、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）層にＳｉ（金属シリコン）をイオンアシスト蒸着により打ち込む方法によりシリサイド層を形成しているが、シリサイド層の成膜方法はこれらに限定されることはない。また、反射防止層の構造もＺｒＯ2層を含むものにかぎらない。
【００９３】
次では、他のシリサイドの例として、低屈折率層にＳｉＯ2層、高屈折率層にＴｉＯ2層を用いた反射防止層３内に形成したチタンシリサイド（ＴｉＳｉ）層を備えたサンプルについて説明する。
【００９４】
４． ＳｉＯ2−ＴｉＯ2系の反射防止層を備えたサンプル（Ｂグループ）
４．１ 実施例１０（サンプルＳ１０）
４．１．１ サンプルＳ１０の製造
上記の実施例１と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。さらに、実施例１と同様の蒸着装置１００を用いて以下の反射防止層３を成膜した。実施例１０のレンズサンプルＳ１０には、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を低屈折率層３１として形成し、酸化チタン（ＴｉＯ2）層を高屈折率層３２として形成した。
【００９５】
（低屈折率層）
図１３に示すように、第１層、第３層および第５層が低屈折率層３１であり、ＳｉＯ2をイオンアシストは行わず、真空蒸着によりＳｉＯ2層を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとし、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は１００ｍＡとした。
【００９６】
（高屈折率層）
第２層、第４層および第６層が高屈折率層３２であり、ＴｉＯ2を酸素ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着を行い、ＴｉＯ2層を成膜した。成膜レートは０．４ｎｍ／ｓｅｃとし、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は３６０ｍＡとした。
【００９７】
（シリサイド層）
第６層（ＴｉＯ2層）を成膜後、Ｓｉ（金属シリコン）を、アルゴンイオンを用いてイオンアシスト蒸着してシリサイド層３３を第７層として形成した。イオンアシスト蒸着の条件は、イオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、イオンアシスト蒸着の時間は１０秒である。電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は４００ｍＡとした。
【００９８】
（低屈折率層）
シリサイド層３３の上に、第１層、第３層および第５層と同じ条件でＳｉＯ2を真空蒸着し低屈折率層３１を成膜した。
【００９９】
第１〜第６層および第８層の膜厚は、４４ｎｍ、１０ｎｍ、５７ｎｍ、３６ｎｍ、２５ｎｍ、３６ｎｍ、１０１ｎｍに管理した。シリサイド層３３の膜厚は、蒸着時間により管理した。シリサイド層３３の膜厚は、１〜５ｎｍ程度であると予想される。
【０１００】
この８層からなる層構造、すなわち、第１層、第３層、第５層および第８層がＳｉＯ2層、第２層、第４層および第６層がＴｉＯ2層、そして第７層がシリサイド層（ＴｉＳｉ）の層構造をタイプＢ１の層構造と呼ぶことにする。反射防止層３を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。
【０１０１】
４．２ 実施例１１（サンプルＳ１１）
レンズ以外の光学物品の実施例として、光学基材１としてカバーガラスを用い、その表面に反射防止層３が形成されたガラスサンプルＳ１１を製造した。このガラスサンプルＳ１１では、光学基材１は、透明な白板ガラス（Ｂ２７０）である。この光学基材１の上に、ハードコート層を成膜せず、直に反射防止層３を成膜した。成膜方法は、上記の４．１．１と同じである。さらに、第７層として上記の４．１．１と同様にシリサイド層を形成した。したがって、このサンプルＳ１１は、タイプＢ１の反射防止層３を備えている。また、反射防止層３の上に、防汚層４を形成した。
【０１０２】
４．３ 実施例１２〜１７（サンプルＳ１２〜Ｓ１７）
レンズサンプルＳ１０と、カバーガラスのサンプル（ガラスサンプル）Ｓ１１とについて、上記４．１．１のシリサイド層形成のための処理条件を変えた幾つかのサンプルＳ１２〜Ｓ１７を製造した。レンズサンプルＳ１２およびガラスサンプルＳ１３は、シリサイド層形成時のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は１０００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、イオンアシスト蒸着による蒸着時間を５秒とした。レンズサンプルＳ１４およびガラスサンプルＳ１５は、シリサイド層形成時のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は５００ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、蒸着時間を１０秒とした。レンズサンプルＳ１６およびガラスサンプルＳ１７は、シリサイド層形成時のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴンと酸素の１対１、イオンアシスト電圧は２５０ｅＶ、電流は１５０ｍＡ、蒸着時間を５秒とした。
【０１０３】
４．４ 比較例４、５（サンプルＲ４、Ｒ５）
上記の実施例により得られたレンズサンプルおよびガラスサンプルと比較するために、実施例１０および実施例１１と同様にレンズサンプルＲ４およびガラスサンプルＲ５を製造した。ただし、シリサイド層の形成（４．１．１）は行わなかった。すなわち、比較例４により製造されたレンズサンプルＲ４は、レンズ基材１と、ハードコート層２と、シリサイド層を含まないタイプＢ２の反射防止層３と、防汚層４とを含む。比較例５により製造されたガラスサンプルＲ５は、ガラス基材１と、シリサイド層を含まないタイプＢ２の反射防止層３とを含む。また、反射防止層３の上に防汚層４を形成している。
【０１０４】
４．５ 比較例６〜１１（サンプルＲ６〜Ｒ１１）
上記の実施例により得られたレンズサンプルと比較するために、透明な導電層としてＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層を備えたレンズサンプルＲ６〜Ｒ１１を製造した。これらのレンズサンプルＲ６〜Ｒ１１は、上記の実施例１０と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。第１〜第６層および第８層までは、実施例１０と同様に、低屈折率層３１にＳｉＯ2層、高屈折率層３２にＴｉＯ2層を用いた。ただし、第１〜第６層および第８層の膜厚は、図１４に示す。たとえば、比較例６は、２８．４、６．７、２０４．３、２３．２、３５．７、２６．７、９９．５ｎｍである。
【０１０５】
そして、第６層（ＴｉＯ2層）を成膜後、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）をイオンアシスト真空蒸着により成膜した。ＩＴＯ層の成膜の際は、電子銃の加速電圧を７ｋＶ、電流値を５０ｍＡとし、ＩＴＯ膜の酸化を促進させるために真空容器内に毎分１５ミリリットルの酸素ガスを導入し、酸素雰囲気とした。また、イオン銃へは毎分３５ミリリットルの酸素ガスを導入し、電圧値を５００Ｖ、電流値を２５０ｍＡとして酸素イオンビームを照射した。また、ＩＴＯ層の成膜レートは０．１ｎｍ／ｓｅｃとした。ＩＴＯ層の膜厚は、図１４に示すように、サンプルＲ６〜Ｒ１１で２．５、３．５、５、７、１０および１５ｎｍと変えた。したがって、ＩＴＯ層を含むと反射防止層３は８層構造になる。この８層構造で、ＩＴＯ層を含むタイプの層構造をタイプＢ３と呼ぶことにする。
【０１０６】
さらに、この比較例６〜１１においては、膜厚の異なるＩＴＯ層を挟むことにより、反射防止層３の膜設計が変わり、ＳｉＯ2層およびＴｉＯ2層の膜厚が異なり、タイプＢ３−１〜Ｂ３−６としている。サンプルＲ６〜Ｒ１１の反射防止層３の層構造を、上述したサンプルＳ１０〜Ｓ１７、Ｒ４およびＲ５とともに図１４に示している。
【０１０７】
４．６ サンプル評価
上記３．４と同様に、サンプルＳ１０〜Ｓ１７およびＲ４〜Ｒ１１について、シート抵抗、ごみの付着試験、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。それらの評価結果を図１５に纏めて示している。
【０１０８】
サンプルＲ４およびＲ５の測定結果が示すように、従来のレンズサンプルおよびガラスサンプルではシート抵抗は５×１０13[Ω／□]である。シート抵抗を低減するために反射防止層３にＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ６〜Ｒ１１では、ＩＴＯ層の厚みに依存するが、シート抵抗は１．５×１０11[Ω／□]〜２×１０13[Ω／□]に低下する。
【０１０９】
これに対し、反射防止層３の１つの層としてシリサイド層を形成したサンプルＳ１０〜Ｓ１７においては、シート抵抗が５×１０7[Ω／□]〜１×１０10[Ω／□]となり、シート抵抗が従来のサンプルと比較し、３桁〜６桁（１０3〜１０6）程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が１／１０3〜１／１０6になる。したがって、シリサイド層を形成することにより大幅にシート抵抗が低下することが分かる。
【０１１０】
また、反射防止層３を８層構造にしてＩＴＯ層を含めたサンプルＲ６〜Ｒ１１と比較しても、シート抵抗は１桁〜６桁（１０1〜１０6）程度小さくなり、シート抵抗が１／１０〜１／１０6になる。したがって、ＩＴＯ層を含めたサンプルよりも、シリサイド層を形成することによりシート抵抗が大幅に低下することが分かる。
【０１１１】
上記に示した様に、レンズ、カバーガラスなどの光学物品のシート抵抗を低減することにより幾つかの効果が得られる。典型的な効果は、帯電防止、および電磁遮蔽である。眼鏡用のレンズにおいて帯電防止性の有無の目安は、シート抵抗が１×１０12[Ω／□]以下であると考えられている。上記と同時に確認されたごみの付着試験では、図１５に示すように、シリサイド層を形成したサンプルＳ１０〜サンプルＳ１７の評価はすべて○であり、帯電防止効果に優れていることがわかった。また、ＩＴＯ層を形成した幾つかのサンプルＲ８〜Ｒ１１は○であり、ある程度の帯電防止効果を示している。しかしながら、ＩＴＯ層を形成したサンプルＲ７は△であり、ＩＴＯ層を形成したサンプルＲ６（シート抵抗が２×１０13[Ω／□]）および何も導電的な膜を形成していないサンプルＲ４およびＲ５（シート抵抗が５×１０13[Ω／□]）はいずれも×であり、帯電防止効果が劣っていることがわかった。
【０１１２】
さらに、使用上の安全性などを考慮すると、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下であることがいっそう好ましい。サンプルＳ１０〜Ｓ１７は、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０11[Ω／□]以下、さらに、１×１０10[Ω／□]以下であり、非常に優れた帯電防止性を備えていることが分かる。
【０１１３】
また、シリサイド層を形成することにより若干吸収損失が上昇する傾向がみられる。しかしながら、最大でも３％程度であり、十分に透光性は高く、反射防止層３の透光性に大きな影響を与えるほど光吸収損失は増加していない。したがって、シリサイド層を含む層構造Ｂ１の反射防止層３は眼鏡用のレンズとして十分に使用できる。また、帯電防止を考慮するのであれば、吸収損失が０．５％のサンプルＳ１７程度で十分にシート抵抗が小さい。したがって、シリサイド層を形成することにより、従来とほぼ同等の吸収損失で、透光性であり（透明であり）、帯電防止性能の優れた光学物品を提供できることが分かる。
【０１１４】
耐薬品性においては、図１５に示すようにシリサイド層を含むサンプルＳ１０〜Ｓ１７の評価はすべて○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ６〜Ｒ１１の評価はすべて×であり、ＩＴＯ層を成膜することによりサンプルの耐薬品性が低下していることが分かる。
【０１１５】
むくみの発生（耐湿性）の評価においては、図１５に示すようにシリサイド層を含むサンプルＳ１０〜Ｓ１７についてはむくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ６〜Ｒ１１については、ＩＴＯ層の膜厚が厚くなるとむくみの発生がみられ、ＩＴＯ層を成膜することによりサンプルの耐湿性が低下する可能性があることを示している。
【０１１６】
４．７ 考察
以上の各評価より、反射防止層３の１つの層として、シリサイド層を形成したサンプルＳ１０〜Ｓ１７については、シート抵抗が大幅に低下し、その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。シリサイド層を形成することにより、若干の吸収損失の増加が観測される。しかしながら、帯電防止および電磁波遮断などの他の目的に応じた適切な導電性が得られる程度にシリサイド層を形成することにより、吸収損失の影響は光学物品としてほとんど無視できる程度のものを提供できる。このため、反射防止層３の１つの層として、シリサイド層を形成することにより、良好な透光性と、さらに、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能とを備えた光学物品を提供できる。
【０１１７】
５． 有機系の反射防止層を備えたサンプル（Ｃグループ）
５．１ 実施例１８（サンプルＳ１８）
５．１．１ サンプルＳ１８の製造
図１６に示すように有機系反射防止層３５を備えたレンズサンプルＳ１８を製造した。まず、上記の実施例１と同様にレンズ基材１を選択し、ハードコート層２を成膜した（２．１．１参照）。このハードコート層２の表面に有機系の層３５により反射防止層３を形成した。
【０１１８】
（反射防止層）
化学式 （ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ−Ｃ2Ｈ4−Ｃ6Ｆ12−Ｃ2Ｈ4−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3で表されるフッ素含有シラン化合物４７．８重量部（０．０８モル）に、有機溶剤としてメタノール３１２．４重量部、フッ素を含有しないシラン化合物であるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン４．７重量部（０．０２モル）を加え、さらに０．１規定の塩酸水溶液３６重量部を加えて混合した。その後、設定温度が２５°Ｃの恒温槽内で２時間攪拌して、固形分比率が１０重量％のシリコーンレジンを得た。
【０１１９】
このシリコーンレジンに、内部に空洞を有するシリカ微粒子として、中空シリカ−イソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業（株）製、固形分比率：２０重量％、平均粒子径：３５ｎｍ、外殻厚み：８ｎｍ）を、シリコーンレジンと中空シリカの固形分比率が７０：３０となるように配合した。さらに、分散媒として、プロピレングリコールモノメチルエーテル９３５重量部を加えて希釈し、固形分が３重量％の組成物を得た。
【０１２０】
そして、この組成物に、アルミニウム（Ａｌ（III））を中心金属とする金属錯塩として、アルミニウムのアセチルアセトン（Ａｌ（ａｃａｃ）3）を、最終組成物（有機系反射防止層を形成するコーティング組成物）に対する固形分比率が３重量％となるように加えた後、４時間攪拌した。これにより、有機系反射防止層を形成するコーティング組成物としての反射防止処理液を得た。
【０１２１】
ハードコート層２が形成されたレンズサンプル１０を、大気プラズマによりプラズマ処理した。その後、上記で得られた反射防止処理液を、ハードコート層２の表面に、乾燥膜厚が１００ｎｍとなるように、スピナー法を用いて塗布した。そして、温度１２５°Ｃに保たれた恒温槽内に２時間投入して、塗布された反射防止処理液の硬化を行った。これにより、ハードコート層２の上に有機系反射防止層３５を形成した。
【０１２２】
（シリサイド層）
有機系反射防止層３５を成膜後、有機系反射防止層３５上に、イオンアシスト蒸着ではなく、通常の真空蒸着工程により、有機系反射防止層３５上に厚さ２ｎｍ程度のＴｉＯ2層を作る下地処理を行い、Ｓｉ（金属シリコン）原子をイオンアシスト蒸着により添加した。この処理により有機系の反射防止層３５上にシリサイド層３６を形成した。イオンアシスト蒸着の条件はイオン種がアルゴンおよび酸素、イオンアシスト電圧は２５０ｅＶ、電流は１５０ｍＡであり、イオンアシスト蒸着時間は５秒である。
【０１２３】
（防汚層）
シリサイド層３６を形成した後、実施例１と同様に防汚層４を成膜した（２．１．３参照）。このようにして、プラスチック基材１、ハードコート層２、有機系の反射防止層３５、シリサイド層３６、防汚層４を含むレンズサンプルＳ１８を得た（図１６）。
【０１２４】
５．２ サンプルの評価
上記３．４と同様に、サンプルＳ１８について、シート抵抗、吸収損失、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）について評価した。シート抵抗は、２×１０10[Ω／□]であり、優れた帯電防止性能が得られた。光の吸収損失は、０．６％程度であり、眼鏡レンズとして問題のない値であり、十分な透光性を備えている。また、耐薬品性は○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。むくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。
【０１２５】
５．３ 考察
以上の各評価より、有機系の反射防止層３５においても、シリサイド層３６を形成することによりシート抵抗を低下できる。その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。したがって、無機系の層に限らず、有機系の層においても、表面にシリサイド層を形成することにより、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能を備えた光学物品を提供できることがわかった。
【０１２６】
６． まとめ
図１７に、上記のサンプルＳ１〜Ｓ１７およびＲ６〜Ｒ１１において測定されたシート抵抗を、シリサイド層を形成する際のシリコンの蒸着時間と、ＩＴＯ層を成膜するための蒸着時間の関数で示している。
【０１２７】
この図からわかるように、反射防止層３を形成する酸化物層上にシリサイド層を形成することにより簡単にシート抵抗を下げることができる。したがって、帯電防止性能を得るなどの目的で、耐薬品性および耐湿性の劣化の要因になるＩＴＯ層を形成する必要はない。また、シリサイド層は、シリサイドを蒸着したり、金属酸化膜（層）を蒸着し、その表面にＳｉ（金属シリコン）を蒸着することなどにより形成できる。したがって、従来の反射防止層の構成、材料および蒸着プロセスをほとんど変えずに、シート抵抗が低く、導電性の高いレンズなどの光学物品を提供できる。
【０１２８】
さらに、シリサイド層を形成するのに要する材料は、従来の反射防止層を成膜するための材料とほぼ同じであり、低コストで製造できる。また、従来の反射防止層と同系列の材料でシリサイド層を成膜できるので、無機系および有機系の反射防止層、ハードコート層、防汚層との相性（マッチング）もよく、上述したように薬品、湿度などに対する耐久性も優れている。
【０１２９】
なお、シリサイド層を形成する方法は、Ｓｉ（金属シリコン）のイオンアシスト蒸着に限らず、スパッタなどの他のある程度のエネルギーを供給できる方法、シリサイド自体を蒸着する方法などであってもよいことは上述した通りである。
【０１３０】
図１８に、上記のガラスサンプルＳ３、Ｓ５、Ｓ７、Ｓ９、Ｓ１１、Ｓ１３、Ｓ１５およびＳ１７、Ｒ３およびＲ５の光吸収損失とシート抵抗とを示している。この図からわかるように、シリサイド層を形成することによって、シート抵抗が下がると、光吸収損失は微小ながら増大する傾向がある。特に、上記の測定方法により測定されたシート抵抗が１×１０9〜１×１０10[Ω／□]近傍より低下すると、光吸収損失の増加傾向が増す。また、ごみの付着現象はシート抵抗が５×１０12[Ω／□]以下になると改善することが分かっている。したがって、光吸収損失が大きく性能に影響を及ぼす光学物品においては、シリサイド層の形成によりシート抵抗が１×１０9〜５×１０12[Ω／□]である光学物品が好ましい。さらに、シリサイド層の形成によりシート抵抗が１×１０10〜１×１０12[Ω／□]である光学物品がいっそう好ましい。
【０１３１】
なお、上記の実施例で示した反射防止層の層構造は幾つかの例にすぎず、本発明がそれらの層構造に限定されることはない。たとえば、３層以下、あるいは９層以上の反射防止層に適用することも可能であり、シリサイド層は１つに限定されない。また、高屈折率層と低屈折率層の組み合わせは、ＺｒＯ2／ＳｉＯ2、ＴｉＯ2／ＳｉＯ2に限定されることはなく、Ｔａ2Ｏ5／ＳｉＯ2、ＮｄＯ2／ＳｉＯ2、ＨｆＯ2／ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3／ＳｉＯ2などの系のいずれかの層の表面にシリサイド層を形成することが可能である。
【０１３２】
図１９に、上記のシリサイド層を含む眼鏡レンズ１０と、眼鏡レンズ１０が装着されたフレーム２０１とを含む眼鏡２００を示している。また、図２０に、上記のシリサイド層を含むレンズ２１１と、シリサイド層を含むカバーガラス２１２と、投射レンズ２１１およびカバーガラス２１２とを通して投影する光を生成する画像形成装置、たとえばＬＣＤ２１３とを備えたプロジェクター２１０を示している。また、図２１に、上記のシリサイド層を含む撮像レンズ２２１と、シリサイド層を含むカバーガラス２２２と、撮像レンズ２２１およびカバーガラス２２２を通して画像を取得するための撮像装置、たとえばＣＣＤ２２３とを備えたデジタルカメラ２２０を示している。また、図２２に、上記のシリサイド層として形成された透過層２３１と、光学的な方法により記録を読み書きできる記録層２３２とを備えた記録媒体、たとえばＤＶＤ２３０を示している。
【０１３３】
本発明の光学物品は、これらのシステムの光学物品、たとえば、レンズ、ガラス、プリズム、カバー層などとして多種多様な用途を備えている。また、上記に示したシステムは例示にすぎず、当業者が本発明を利用しうる光学物品およびシステムは、本発明に含まれるものである。
【符号の説明】
【０１３４】
１ レンズ基材、 ２ ハードコート層、 ３ 反射防止層、 ４ 防汚層、１０ レンズサンプル。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、
前記第１の層の表面に、シリサイドを含む透光性薄膜を形成することとを有する、光学物品の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記シリサイドを含む透光性薄膜を形成することは、前記第１の層の表面にシリコンおよび金属を蒸着することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項３】
請求項１において、前記シリサイドを含む透光性薄膜を形成することは、前記第１の層の表面に遷移金属ケイ素化物を蒸着することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項４】
請求項２または３において、前記第１の層は、無機系または有機系の反射防止層に含まれる層である、光学物品の製造方法。
【請求項５】
請求項１において、前記第１の層は金属酸化物を含む層であり、
前記シリサイドを含む透光性薄膜を形成することは、前記第１の層の表面にシリコンを打ち込むことを含む、光学物品の製造方法。
【請求項６】
請求項５において、前記第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であり、
前記第１の層を形成することは、前記多層構造の反射防止層の前記第１の層を形成することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項７】
請求項２ないし６のいずれかにおいて、前記シリサイドを含む透光性薄膜の上に、直にまたは他の層を介して防汚層を形成することをさらに有する光学物品の製造方法。
【請求項８】
光学基材と、
前記光学基材の上に、直にまたは他の層を介して形成された透光性の第１の層と、
前記第１の層の表面に形成された、シリサイドを含む透光性薄膜とを有する、光学物品。
【請求項９】
請求項８において、前記第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であり、
前記第１の層および前記シリサイドを含む透光性薄膜を備えた前記反射防止層を有する、光学物品。
【請求項１０】
請求項９において、前記第１の層は、無機系または有機系の反射防止層に含まれる層である、光学物品。
【請求項１１】
請求項９または１０において、前記シリサイドを含む透光性薄膜の上に、直にまたは他の層を介して形成された防汚層をさらに有する光学物品。
【請求項１２】
請求項８ないし１１のいずれかにおいて、前記光学基材は、プラスチックレンズ基材である、光学物品。
【請求項１３】
請求項１２において、当該光学物品は眼鏡レンズである、光学物品。
【請求項１４】
請求項１３に記載の眼鏡レンズと、
前記眼鏡レンズが装着されたフレームとを有する眼鏡。
【請求項１５】
請求項８ないし１１のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通して画像を投影させるための画像形成装置とを有するシステム。
【請求項１６】
請求項８ないし１１のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通して画像を取得するための撮像装置とを有するシステム。
【請求項１７】
請求項８ないし１１のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通してアクセスする媒体とを有するシステム。
【請求項１】
光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、
前記第１の層の表面に、シリサイドを含む透光性薄膜を形成することとを有する、光学物品の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記シリサイドを含む透光性薄膜を形成することは、前記第１の層の表面にシリコンおよび金属を蒸着することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項３】
請求項１において、前記シリサイドを含む透光性薄膜を形成することは、前記第１の層の表面に遷移金属ケイ素化物を蒸着することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項４】
請求項２または３において、前記第１の層は、無機系または有機系の反射防止層に含まれる層である、光学物品の製造方法。
【請求項５】
請求項１において、前記第１の層は金属酸化物を含む層であり、
前記シリサイドを含む透光性薄膜を形成することは、前記第１の層の表面にシリコンを打ち込むことを含む、光学物品の製造方法。
【請求項６】
請求項５において、前記第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であり、
前記第１の層を形成することは、前記多層構造の反射防止層の前記第１の層を形成することを含む、光学物品の製造方法。
【請求項７】
請求項２ないし６のいずれかにおいて、前記シリサイドを含む透光性薄膜の上に、直にまたは他の層を介して防汚層を形成することをさらに有する光学物品の製造方法。
【請求項８】
光学基材と、
前記光学基材の上に、直にまたは他の層を介して形成された透光性の第１の層と、
前記第１の層の表面に形成された、シリサイドを含む透光性薄膜とを有する、光学物品。
【請求項９】
請求項８において、前記第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であり、
前記第１の層および前記シリサイドを含む透光性薄膜を備えた前記反射防止層を有する、光学物品。
【請求項１０】
請求項９において、前記第１の層は、無機系または有機系の反射防止層に含まれる層である、光学物品。
【請求項１１】
請求項９または１０において、前記シリサイドを含む透光性薄膜の上に、直にまたは他の層を介して形成された防汚層をさらに有する光学物品。
【請求項１２】
請求項８ないし１１のいずれかにおいて、前記光学基材は、プラスチックレンズ基材である、光学物品。
【請求項１３】
請求項１２において、当該光学物品は眼鏡レンズである、光学物品。
【請求項１４】
請求項１３に記載の眼鏡レンズと、
前記眼鏡レンズが装着されたフレームとを有する眼鏡。
【請求項１５】
請求項８ないし１１のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通して画像を投影させるための画像形成装置とを有するシステム。
【請求項１６】
請求項８ないし１１のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通して画像を取得するための撮像装置とを有するシステム。
【請求項１７】
請求項８ないし１１のいずれかに記載の光学物品と、
前記光学物品を通してアクセスする媒体とを有するシステム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【公開番号】特開２０１０−１８６１６０（Ｐ２０１０−１８６１６０Ａ）
【公開日】平成２２年８月２６日（２０１０．８．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１９７７８７（Ｐ２００９−１９７７８７）
【出願日】平成２１年８月２８日（２００９．８．２８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年８月２６日（２０１０．８．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年８月２８日（２００９．８．２８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]