【課題】表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、低コストで、外光反射を効果的に抑制しつつ、色味の発生をも十分に抑制しうる手段を提供する。
【解決手段】表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、円偏光板として、視認側から、表面反射抑止層と、偏光子と、λ／４板と、がこの順に積層されてなる構成を有するものを用い、表示装置の視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が、下記数式１を満たすように表示装置を構成する。


（式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ０（λ１）およびＲ０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の正面反射率である。） （もっと読む）

【課題】 所望する機能層そのものを直接所望する箇所に転写することが出来る転写材、及び該転写材を用いた機能性積層体の製造方法、及び該製造方法により得られる機能性積層体を提供する。
【解決手段】 基材フィルムの表面に、離型層と、機能性層と支持層と、をこの順に積層してなる機能性転写フィルムであって、前記機能性層が、単層又は複数層で構成されてなり、前記離型層が、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂にシリコーン系レベリング剤を添加したものにより形成されてなる機能性転写フィルムとした。 （もっと読む）

【課題】ＡＲ膜とＮＤ膜を重ねることで生じる不具合を回避し、良好な低反射性を有するＮＤフィルタを提供する。
【解決手段】ＮＤフィルタ１は、光透過性を有する基材１０と、基材１０の表面に形成されて光の反射を調節するＡＲ膜２０と、ＡＲ膜２０の上に形成されて可視光の透過光量を調節するＮＤ膜３０と、を備え、ＡＲ膜２０は、可視光領域における屈折率が基材１０よりも低い低屈折率層２２と、可視光領域における屈折率が低屈折率層２２よりも高い高屈折率層２４と、を有し、高屈折率層２４は、低屈折率層２２よりも基材１０側に位置している。 （もっと読む）

【課題】より外光の反射を軽減できる反射防止機能を有した視認性の優れた表示装置である。
【解決手段】表示装置において、表示画面表面に複数の凸部と、凸部間を埋めるように保護層とを有する反射防止膜を具備する。外光の反射光は凸部界面が平面ではないので視認側に反射せず隣接する他の凸部に反射する。つまり表示装置に入射する外光のうち、反射防止膜に入射する回数が増加するので、反射防止膜に透過する量が増える。よって、視認側に反射する外光が軽減され、写り込みなどの視認性を低下させる原因を防ぐことができる。さらに複数の凸部間は保護層によって覆われているため、ゴミの侵入を防ぎ、反射防止膜の物理的強度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルの外観性を向上させるタッチパネルの積み重ね構造およびタッチパネルの積み重ね構造を基板上に形成する方法を提供すること。
【解決手段】タッチパネルの積み重ね構造は、導電層１２と、第１の屈折率層１４と、第２の屈折率層１６と、を備える。タッチパネルの積み重ね構造を基板上に形成する方法は、基板１０上に導電層を形成するステップと、第１の屈折率層１４を導電層１２上に付着するステップと、第２の屈折率層１６を付着して第１の屈折率１４を覆うステップと、光学的に透明な接着剤を第２の屈折率層１６上に積層するステップと、を備える。第１の屈折率層１４の屈折率は導電層１２の屈折率より低く、かつ、第２の屈折率層１６の屈折率は第１の屈折率層１４の屈折率より高い。 （もっと読む）

【課題】ハフニウムおよび／もしくはジルコニウムオキシヒドロキシ化合物を備える薄膜または積層構造体を有する装置およびかかる装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ハフニウムおよびジルコニウム化合物は、通常ランタンのような他の金属でドープすることができる。電子装置またはそれを作製し得る構成材の例には、限定することなく、絶縁体、トランジスタおよびコンデンサがある。ポジ型もしくはネガ型レジストまたは装置の機能的構成材としての材料を用いて装置をパターン化する方法、例えば、インプリントリソグラフィー用のマスタープレートを作製することができ、腐食バリアを有する装置の製造方法の実施形態。光学基板およびコーティングを備える光学的装置の実施形態であり、電子顕微鏡を用いて寸法を正確に測定する物理的ルーラーの実施形態。 （もっと読む）

【課題】短波長かつ大出力のレーザ素子を利用した光学モジュールにおいて、気密封止されない光学部品の汚染を防止する。
【解決手段】光学部品（１０、２０、３０、４０、５０）は、波長４６０ｎｍ以下のレーザ光αを出射もしくは透過させるものであって、その表面上には少なくとも一部に誘電体膜からなる第１のコーティングＡが施されており、第１のコーティングＡ上には、貴金属もしくは白金族元素を含有した誘電体膜からなる第２のコーティングＢが施されている。 （もっと読む）

【課題】炭酸ガスレーザーのような高出力のレーザー照射に適する炭酸ガスレーザー光を透過させる光学素子および反射防止膜を提供する。
【解決手段】光学素子１は、物理膜厚が２０７５〜２２９３ｎｍのＧｅ基板２と、Ｇｅ基板２上に形成される、物理膜厚が２１〜２３ｎｍのＹ_２Ｏ_３からなる第１層３と、第１層３上に形成される、物理膜厚が２６５〜２９３ｎｍのＺｎＳからなる第２層４と、第２層４上に形成される、物理膜厚が１５７〜１７３ｎｍのＧｅからなる第３層５と、第３層５上に形成される、物理膜厚が５８８〜６５０ｎｍのＺｎＳからなる第４層６と、第４層６上に形成される、物理膜厚が８６１〜９５２ｎｍのＹＦ_３からなる第５層７と、第５層７上に形成される、物理膜厚が１６１〜１７８ｎｍのＺｎＳからなる第６層８と、第６層８上に形成される、物理膜厚が２１〜２３ｎｍのＹ_２Ｏ_３からなる第７層９と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】可視光から近赤外域までの帯域を持つ反射防止膜を提供する。
【解決手段】屈折率ｎＨが１．９５〜２．３２の高屈折率物質と屈折率ｎＬが１．３５〜１．４６の低屈折率物質を交互に積層させた１２層の積層体を有し、波長範囲４００ｎｍ〜６８０ｎｍの反射率が１．５％以下であり、かつ、波長範囲６８０ｎｍ〜１３５０ｎｍの反射率が２．０％以下である。この積層体が形成される基板側から順に、第１、第３、第５、第７、第９、及び第１１層が高屈折率層であり、第２、第４、第６、第８、第１０、及び第１２層が低屈折率層であり、積層体の各層において、屈折率と物理膜厚ｄの積である光学膜厚が、所定の式を満足する。 （もっと読む）

【課題】再現性よく光取り出し効率を向上させることができる半導体発光素子、ウェーハ、および窒化物半導体結晶層の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施態様によれば、第１半導体層と、発光層と、第２半導体層と、低屈折率層と、を備えた半導体発光素子が提供される。前記第１半導体層は、光取り出し面を形成する。前記発光層は、前記第１半導体層の上に設けられ活性層を有する。前記第２半導体層は、前記発光層の上に設けられている。前記低屈折率層は、前記第１半導体層の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記光取り出し面を部分的に覆う。 （もっと読む）

【課題】耐候性がよい高屈折率ハードコート層を形成するためのハードコート組成物及びそのようなハードコート層を備えたプラスチック光学製品を提供すること。
【解決手段】プラスチック製光学基材表面にハードコート層を形成するためのハードコート組成物であって、テトラエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等の有機シラン化合物、酸化チタンを主体として更に酸化ジルコニウム及び酸化シリコン等からなる複合微粒子、ジシアンジアミド、イタコン酸並びにＣｏ（ＩＩ）のアセチルアセトネート化合物を主成分とするハードコート液をプラスチック製眼鏡レンズの表面に塗布し、硬化させてハードコート層を形成させる。このような成分のハードコート層とすることによってハードコート層の耐候性を良好に維持することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】少なくとも一部に曲面を有する基材の全面反射防止又は基材の特定部の反射防止を図れる光学部材、及び膜厚の制御が容易であり、膜密着性が高く、少なくとも一部に曲面を有する基材等の液相反応をさせにくい構造でも容易に形成が可能である光学部材の製造方法の提供。
【解決手段】少なくとも一部に曲面を有する基材と、該基材上に、アルミニウム単体、及びアルミニウムを含む化合物の少なくともいずれかを気相成膜した層を水熱処理して最表面に凹凸構造を有してなり、前記基材と前記凹凸構造の間に、気相成膜により形成された誘電体層を有する光学部材である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、１度の塗布工程で２層以上の多層構造を形成することにより製造効率を向上させることができる反射防止フィルムの製造方法、該製造方法により得られる反射率、密着性、耐擦傷性、面状故障の改良の観点で優れた反射防止フィルム、並びに前記多層構造を形成するために用いられる塗布組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を混合してなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。
（Ａ）含フッ素炭化水素構造またはポリシロキサン構造から選ばれる少なくとも１種の構造と少なくとも１つの塩基性官能基を有する化合物
（Ｂ）無機微粒子
（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダー
（Ｄ）溶剤
但し、[（Ａ）成分＋（Ｂ）成分]／[（Ｃ）成分]の質量比率が１／１９９〜６０／４０である。 （もっと読む）

【課題】 高い反射防止性を維持しながら完全反射条件下での白曇り現象を改善できる光学用部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基材上に、中間層と、表面に酸化アルミニウムの結晶による凸凹構造を有する酸化アルミニウム層がこの順序で積層された光学用部材において、前記中間層は基材表面に対して傾斜している複数の柱状構造体で形成され、かつ前記複数の柱状構造体の間隙に空孔を有する光学用部材。基材表面に斜方蒸着により複数の柱状構造体からなる中間層を形成する工程と、前記中間層の上に少なくともアルミニウム化合物を含有する溶液を塗布して皮膜を形成し、前記皮膜を温水処理して前記皮膜の表面に酸化アルミニウムの結晶による凸凹構造を有する酸化アルミニウム層を形成する工程を有する光学用部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】入射光の利用効率を向上する光電変換装置を提供する。
【解決手段】光路部材２２０は、中心部分２２２と、中心部分２２２の屈折率よりも低い屈折率を有する周辺部分２２１と、を含んでおり、光電変換部１１０の受光面１１１に平行な第５平面１００５内、および受光面１１１に平行で第５平面１００５よりも受光面１１１に近い第６平面１００６内において、周辺部分２２１が中心部分２２２に連続して中心部分２２２を囲み、かつ、周辺部分２２１の屈折率が絶縁膜２００の屈折率よりも高く、第５平面１００５内における周辺部分２２１の厚みＴＨ２よりも、第６平面１００６内における周辺部分２２１の厚みＴＨ４が小さい。 （もっと読む）

【課題】基体上に低反射膜を形成するための、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、コロイダルシリカに対して、酸化物換算で５質量％以上、４０質量％以下のタンタル化合物を含む分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。長径５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の棒状コロイダルシリカ、粒径５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ、およびタンタル化合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】不要な光反射を抑制し、光学特性の向上に寄与すること。
【解決手段】枠付反射防止ガラス（光デバイス用キャップ１０）は、平板状のガラス１３の少なくとも一方の面Ｓ２に反射防止膜１４が形成された平板状部材１２と、該平板状部材の一面側の周囲部に接合されたシリコンの枠状部材１８とを有する。反射防止膜１４は、組成の異なる２つの部分の膜１５，１６からなり、１つの部分の膜は、光吸収性を有する膜１６である。２つの部分の膜１５，１６は、ガラス１３上に連続的に形成され、各部分の膜１５，１６の表面は同一面上にある。ガラス１３と枠状部材（シリコン）１８は、陽極接合によって接合される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、反射防止膜の中間屈折率膜として用いられる、屈折率１．５〜２．０を示す酸窒化ケイ素膜を形成する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、スパッタリング法により、基材上に希ガス及び反応性ガスからなる混合ガス雰囲気の真空チャンバー内で酸窒化ケイ素膜を形成する方法であり、前記反応性ガスに酸素及び窒素を含む時の放電電圧Ｖ_Ｘと、前記反応性ガスに窒素を含み酸素を含まない時の放電電圧Ｖ_０とが、（Ｖ_Ｘ／Ｖ_０）＞０．９となるように、前記混合ガスに含まれる希ガスを５０〜７０体積％とし、屈折率が１．５〜２．０の酸窒化ケイ素膜を得ることを特徴とする酸窒化ケイ素膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】Ｂｌｕ−Ｒａｙ Ｄｉｓｃ等の大容量の記録媒体への情報の記録及び再生を行うことができる光情報記録再生装置の対物レンズとして好適に用いることができ、中央部から周辺部にかけて一定量以上の透過光量が確保でき、容易に製造可能な反射防止膜を有するレンズを提供すること。
【解決手段】光入射側レンズ面が、光入射側に凸で、かつ入射光の入射角が該レンズ面の中央部で略０°有効径の周辺部で６０°以上となるレンズにおいて、光入射側レンズ面に反射防止膜を設け、光入射側レンズ面への入射角が０°の光の反射率が極小値となる波長が８００〜１２００ｎｍの範囲にあるように設定し、波長４００〜４１０ｎｍの入射光の光入射側レンズ面への入射角が０°〜６０°の範囲において該入射光の透過率を９３％以上とする。 （もっと読む）

【課題】レンズ形成の工程数を低減して製造プロセスを簡略化することができると共に、所望の高屈折率レンズ形状を容易に形成しかつ高屈折率レンズ間のレンズ形状のバラツキをも抑えて安定したレンズ形状にする。
【解決手段】下地膜としての層間絶縁膜１１上に高屈折率膜のＳｉＮ膜１２ａを形成する高屈折率膜形成工程と、ＳｉＮ膜１２ａ上に感光性レジスト膜を成膜し、透過率階調マスクを用いて照射光量を平面的に制御して、感光性レジスト膜１７のレンズ形状に形成するレジストレンズ形状形成工程と、レンズ形状の感光性レジスト膜１７とＳｉＮ膜１２ａとを同時にエッチングすることにより、感光性レジスト膜１７のレンズ形状を反映した同じ高屈折率レンズ形状の層内レンズ１２に形成する高屈折率膜レンズ形状形成工程とを有している。 （もっと読む）