反射鏡
【課題】 ６００ｎｍ〜１０００ｎｍの波長域で９０％以上の反射率を有した反射鏡を安価に製造する。
【解決手段】 物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜、物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜を基板上に形成する。金膜が反射率を向上させ、アルミニウム膜によって安価に製造することができる。
【解決手段】 物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜、物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜を基板上に形成する。金膜が反射率を向上させ、アルミニウム膜によって安価に製造することができる。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カメラ、顕微鏡、バーコードリーダなどの光学機器に使用される反射鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学機器に用いられる反射鏡は、ガラスや樹脂などからなる基板の表面に、金やアルミニウムなどの反射性金属の反射膜を有することにより構成されている。従来の反射鏡としては、特開平８−５４５０４号公報、特開平５−２８１４０５号公報に記載されている。
【０００３】特開平８−５４５０４号公報記載の反射鏡は、クロムからなる下地層と、この下地層上に形成された物理的膜厚が１５０ｎｍ以上の金からなる反射層の二層構造となっている。一方、特開平５−２８１４０６号公報記載の反射鏡は、アルミニウムを用いるものであり、二酸化珪素からなる下地層と、この下地層上に形成されたアルミニウムからなる反射層と、この反射層上に形成された二酸化珪素からなる保護層の三層構造となっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】特開平８−５４５０４号公報の反射鏡は、高価な金を用いるだけでなく、その金を１５０ｎｍ以上の物理的膜厚で成膜しているため、反射鏡の製品コストが高価となる問題を有している。
【０００５】特開平５−２８１４０６号公報の反射鏡は、アルミニウムを用いるため、安価とすることができるが、金を用いた反射鏡と比較して、８００ｎｍ〜１０００ｎｍの波長域においては、反射率が９０％以下と低くなる問題を有している。例えば、波長８００ｎｍでは８６．０％の反射率であり、このような反射率では、実用性に欠けるものとなっている。
【０００６】本発明は、このような従来の問題点を考慮してなされたものであり、安価であり、しかも６００〜１０００ｎｍの波長域において９０％以上の高反射率を有した反射鏡を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため、請求項１の発明は、物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜、物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜が基板上に形成されていることを特徴とする。
【０００８】請求項２の発明は、光学系の光線入射方向から物理的膜厚５〜７０ｎｍの金膜、物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜が基板上に順に形成されていることを特徴とする。
【０００９】請求項３の発明は、光学系の光線入射方向から物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜、物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜が基板上に順に形成されていることを特徴とする。
【００１０】これらの発明では、金膜が存在するため、６００〜１０００ｎｍの波長域で９０％以上の反射率となる。また、アルミニウム膜が積層されているため、金膜の膜厚を厚くする必要がなくなり、金の使用量を削減することができる。さらに、６００ｎｍ未満の波長域では、金膜だけの場合に比べて反射率が高くなっているため、６００ｎｍ未満の波長域においても実用的となっている。
【００１１】これらの発明において、金膜の物理的膜厚は１〜７０ｎｍである。金膜の物理的膜厚が１ｎｍ未満の場合には、光線に対する反射率が低下するため、好ましくなく、７０ｎｍを越える場合には、金の使用量が多くなって、コストが高騰するため好ましくない。この金膜としては、物理的膜厚が７〜４０ｎｍの範囲がさらに良好である。
【００１２】アルミニウム膜は基板と金膜との間に介在して金膜を支持するか、金膜の上に施されて金膜を保護するために用いられる。これらのいずれの場合においても、アルミニウム膜の物理的膜厚は１０ｎｍ以上である。１０ｎｍ未満の膜厚を金膜の支持層として形成した場合、金膜の良好な支持を行うことができないため、好ましくない。一方、１０ｎｍ未満の膜厚を金膜の保護層として形成した場合、金膜の確実な保護を行うことができないため、好ましくない。この場合、アルミニウム膜の膜厚としては、１０ｎｍ以上で且つ６０ｎｍ以下が特に良好である。
【００１３】これらの金膜、アルミニウム膜の成膜は、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の適宜の手段によって行うことができる。また、これらの発明では、基板上に下地膜を成膜した後にアルミニウム膜や金膜を成膜しても良く、基板上に成膜したアルミニウム膜や金膜の上に保護膜を成膜しても良い。これらの下地膜、保護膜の材質しては、ＳｉＯ２等の無機酸化物を使用することができる。
【００１４】以上の発明において、金膜、アルミニウム膜が成膜される基板としては、各種光学部品に応じて使用されているものを使用することができる。例えば、ガラス基板、ポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂などの樹脂基板を選択することができる。このようにガラス基板や樹脂基板を用いる場合には、光学部品としての反射鏡として有用となる。又、以上の発明においては、金膜、アルミニウム膜が形成されていない基板の裏面から光線を入射させても良く、この場合にも、上述した波長域で９０％以上の反射率を有しているため、光線を確実に反射することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】（実施の形態１）表１に示すように、この実施の形態では、ＢＫ７（ショット（社）製）からなるガラス基板上に、アルミニウム膜を３０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、このアルミニウム膜上に３０ｎｍの物理的膜厚で金膜を成膜した。成膜は基板を加熱し、真空蒸着法により行った。なお、これらの薄膜の形成は、金属酸化物などの無機物質を成膜するイオンプレーティングやスパッタリングなどによっても行うことができる。
【００１６】なお、表１に示すように、比較例１として、ＢＫ７からなる基板上にアルミニウム膜を物理的膜厚１００ｎｍで成膜し、比較例２として、ＢＫ７からなる基板上に金膜膜を物理的膜厚１００ｎｍで成膜した。これらの成膜は実施の形態１と同様にして行った。
【００１７】
【表１】
【００１８】図１は、この実施の形態及び比較例の分光反射率特性を示し、特性曲線ａはこの実施の形態、特性曲線ｂは比較例１、特性曲線ｃは比較例２である。この実施の形態では、波長６００ｎｍで９２．６％、波長８００ｎｍで９５．３％と高い反射率となっており、６００〜１０００ｎｍの波長域において、９０％以上の高い反射率を得ることが可能となっている。
【００１９】これに対し、比較例１の反射率特性は波長５００ｎｍで９２．１％、波長６００ｎｍで９１．０％、波長８００ｎｍで８６．４％であり、アルミニウム膜と金膜とによって構成された実施の形態１はアルミニウム膜のみの比較例１と比較して６００ｎｍ以上の波長領域で高い反射率となっている。一方、比較例２の反射率特性は、波長５００ｎｍで５０．９％、波長６００ｎｍで９１．４％、波長８００ｎｍで９７．３％であり、アルミニウム膜と金膜とからなる実施の形態１は金膜のみからなる比較例２と比較しても、６００ｎｍ以上の波長領域で同程度の高い反射率が得られ、また、比較例２と比較した場合、金の使用量が少ないため、安価に生産することができ、光学部品として広範囲に使用することができる。なお、図示を省略したが、実施の形態１では、基板の裏面から光線を入射させても、特性曲線ａと略同等の反射率を有していた。
【００２０】（実施の形態２）表２に示すように、この実施の形態では、ＢＫ７（ショット（社）製）からなるガラス基板上に、金膜を３０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この金膜上に３０ｎｍの物理的膜厚でアルミニウム膜を成膜した。成膜は基板を加熱し、真空蒸着法により行った。これらの薄膜の形成は、金属酸化物などの無機物質を成膜するイオンプレーティングやスパッタリングなどによっても行うことができる。なお、基板に対する金膜の密着性をさらに向上させる必要がある場合には、クロム（Ｃｒ）などのコンタクトメタルを基板と金膜との間に成膜することにより可能となる。
【００２１】表２に示すように、比較例３として、ＢＫ７からなる基板上にアルミニウム膜を物理的膜厚１００ｎｍで成膜し、比較例４として、ＢＫ７からなる基板上に金膜膜を物理的膜厚１００ｎｍで成膜した。これらの成膜は実施の形態２と同様にして行った。
【００２２】
【表２】
【００２３】図２は、この実施の形態及び比較例の分光反射率特性を示し、特性曲線ｄはこの実施の形態、特性曲線ｅは比較例３、特性曲線ｆは比較例４である。この実施の形態では、波長６００ｎｍで９０．０％、波長８００ｎｍで９３．３％と高い反射率となっており、６００〜１０００ｎｍの波長域において、９０％以上の高い反射率を得ることが可能となっている。
【００２４】これに対し、比較例３の反射率特性は波長５００ｎｍで８８．１％、波長６００ｎｍで９１．０％、波長８００ｎｍで８０．８％であり、アルミニウム膜と金膜とによって構成された実施の形態２はアルミニウム膜のみの比較例３と比較して６００ｎｍ以上の波長領域で高い反射率となっている。一方、比較例４の反射率特性は、波長５００ｎｍで４４．８％、波長６００ｎｍで８８．７％、波長８００ｎｍで９６．２％であり、アルミニウム膜と金膜とからなる実施の形態２は金膜のみからなる比較例４と比較しても、６００ｎｍ以上の波長領域で同程度の高い反射率が得られ、また、比較例４と比較した場合、金の使用量が少ないため、安価に生産することができ、光学部品として広範囲に使用することができる。さらに、実施の形態２においても、基板の裏面から光線を入射させても、特性曲線ｄと略同等の反射率を有していた。
【００２５】（実施の形態３）表３に示すように、この実施の形態では、商品名ＺＥＯＮＥＸ（日本ゼオン（社）製）からなる樹脂基板上に、下地層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上にアルミニウム膜を３０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、このアルミニウム膜上に３０ｎｍの物理的膜厚で金膜を成膜した。成膜は基板を加熱することなく、真空蒸着法により行った。なお、これらの薄膜の形成は、金属酸化物などの無機物質を成膜するイオンプレーティングやスパッタリングなどによっても行うことができる。
【００２６】表３に示すように、比較例５として、ＺＥＯＮＥＸからなる樹脂基板上に、下地層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上にアルミニウム膜を１００ｎｍの物理的膜厚で成膜した。また、比較例６として、ＺＥＯＮＥＸからなる樹脂基板上に、下地層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上に金膜を１００ｎｍの物理的膜厚で成膜した。これらの成膜は実施の形態３と同様にして行った。なお、比較例６の場合には、ＳｉＯ２膜と金膜との間に、クロム等のコンタクトメタルを形成してある。
【００２７】
【表３】
【００２８】図３は、この実施の形態及び比較例の分光反射率特性を示し、特性曲線ｇはこの実施の形態、特性曲線ｈは比較例５、特性曲線ｉは比較例６である。この実施の形態では、波長６００ｎｍで９０．０％、波長８００ｎｍで９５．０％と高い反射率となっており、６００〜１０００ｎｍの波長域において、９０％以上の高い反射率を得ることが可能となっている。また、この実施の形態では、膜の密着性強度の試験を行った。密着性強度試験は、セロテープ（ＮＩＣＨＩＢＡＮ（社）製）を膜の表面に貼り付けた後、セロテープ（登録商標）を真上方向に引き剥がして膜の剥がれ具合を観察するものであり、観察の結果、剥がれは全く発生することがなかった。
【００２９】これに対し、比較例５の反射率特性は波長５００ｎｍで９２．１％、波長６００ｎｍで９１．０％、波長８００ｎｍで８６．４％であり、実施の形態３は比較例５と比較して６００ｎｍ以上の波長領域で高い反射率となっている。一方、比較例６の反射率特性は、波長５００ｎｍで５０．９％、波長６００ｎｍで９１．４％、波長８００ｎｍで９７．３％であり、実施の形態３は比較例６と比較しても、６００ｎｍ以上の波長領域で同程度の高い反射率が得られている。しかも、比較例６と比較した場合、金の使用量が少ないため、安価に生産することができ、光学部品として広範囲に使用することができる。
【００３０】（実施の形態４）表４に示すように、この実施の形態では、商品名ＺＥＯＮＥＸ（日本ゼオン（社）製）からなる樹脂基板上に、金膜を３０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上にアルミニウム膜を３０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、このアルミニウム膜上に保護層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜した。成膜は基板を加熱することなく、真空蒸着法により行った。なお、これらの薄膜の形成は、金属酸化物などの無機物質を成膜するイオンプレーティングやスパッタリングなどによっても行うことができる。この場合、基板に対する金膜の密着性をさらに向上させる必要がある場合には、クロム（Ｃｒ）などのコンタクトメタルを基板と金膜との間に成膜することにより可能となる。なお、比較例８の場合には、ＳｉＯ２膜と金膜との間に、クロム等のコンタクトメタルを形成してある。
【００３１】表４に示すように、比較例７として、ＺＥＯＮＥＸからなる樹脂基板上に、アルミニウム膜を１００ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上に保護層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜した。また、比較例６として、ＺＥＯＮＥＸからなる樹脂基板上に、金膜を１００ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上に保護層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜した。なお、これらの成膜は実施の形態４と同様にして行った。
【００３２】
【表４】
【００３３】図４は、この実施の形態及び比較例の分光反射率特性を示し、特性曲線ｋはこの実施の形態、特性曲線ｍは比較例７、特性曲線ｎは比較例８である。この実施の形態では、波長６００ｎｍで９０．０％、波長８００ｎｍで９３．３％と高い反射率となっており、６００〜１０００ｎｍの波長域において、９０％以上の高い反射率を得ることが可能となっている。
【００３４】これに対し、比較例７の反射率特性は波長５００ｎｍで８８．１％、波長６００ｎｍで９１．０％、波長８００ｎｍで８０．８％であり、実施の形態４は比較例７と比較して６００ｎｍ以上の波長領域で高い反射率となっている。一方、比較例８の反射率特性は、波長５００ｎｍで４４．８％、波長６００ｎｍで８８．７％、波長８００ｎｍで９６．２％であり、実施の形態４は比較例８と比較しても、６００ｎｍ以上の波長領域で同程度の高い反射率が得られている。しかも、比較例８と比較した場合、金の使用量が少ないため、安価に生産することができ、光学部品として広範囲に使用することができる。
【００３５】以上の実施の形態１〜４においては、図１〜図４に示すように、６００ｎｍ未満の波長域において、金膜だけの場合に比べて反射率が高くなっている。このため、実施の形態１〜４では、６００ｎｍ未満の波長域においても実用的となっている。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１〜３のいずれの発明においても、６００ｎｍ〜１０００ｎｍの波長域において９０％以上の高い反射率とすることができると共に、安価に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態１、比較例１，比較例２の分光反射率特性図である。
【図２】実施の形態２、比較例３，比較例４の分光反射率特性図である。
【図３】実施の形態３、比較例５，比較例６の分光反射率特性図である。
【図４】実施の形態４、比較例７，比較例８の分光反射率特性図である。
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カメラ、顕微鏡、バーコードリーダなどの光学機器に使用される反射鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学機器に用いられる反射鏡は、ガラスや樹脂などからなる基板の表面に、金やアルミニウムなどの反射性金属の反射膜を有することにより構成されている。従来の反射鏡としては、特開平８−５４５０４号公報、特開平５−２８１４０５号公報に記載されている。
【０００３】特開平８−５４５０４号公報記載の反射鏡は、クロムからなる下地層と、この下地層上に形成された物理的膜厚が１５０ｎｍ以上の金からなる反射層の二層構造となっている。一方、特開平５−２８１４０６号公報記載の反射鏡は、アルミニウムを用いるものであり、二酸化珪素からなる下地層と、この下地層上に形成されたアルミニウムからなる反射層と、この反射層上に形成された二酸化珪素からなる保護層の三層構造となっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】特開平８−５４５０４号公報の反射鏡は、高価な金を用いるだけでなく、その金を１５０ｎｍ以上の物理的膜厚で成膜しているため、反射鏡の製品コストが高価となる問題を有している。
【０００５】特開平５−２８１４０６号公報の反射鏡は、アルミニウムを用いるため、安価とすることができるが、金を用いた反射鏡と比較して、８００ｎｍ〜１０００ｎｍの波長域においては、反射率が９０％以下と低くなる問題を有している。例えば、波長８００ｎｍでは８６．０％の反射率であり、このような反射率では、実用性に欠けるものとなっている。
【０００６】本発明は、このような従来の問題点を考慮してなされたものであり、安価であり、しかも６００〜１０００ｎｍの波長域において９０％以上の高反射率を有した反射鏡を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため、請求項１の発明は、物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜、物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜が基板上に形成されていることを特徴とする。
【０００８】請求項２の発明は、光学系の光線入射方向から物理的膜厚５〜７０ｎｍの金膜、物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜が基板上に順に形成されていることを特徴とする。
【０００９】請求項３の発明は、光学系の光線入射方向から物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜、物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜が基板上に順に形成されていることを特徴とする。
【００１０】これらの発明では、金膜が存在するため、６００〜１０００ｎｍの波長域で９０％以上の反射率となる。また、アルミニウム膜が積層されているため、金膜の膜厚を厚くする必要がなくなり、金の使用量を削減することができる。さらに、６００ｎｍ未満の波長域では、金膜だけの場合に比べて反射率が高くなっているため、６００ｎｍ未満の波長域においても実用的となっている。
【００１１】これらの発明において、金膜の物理的膜厚は１〜７０ｎｍである。金膜の物理的膜厚が１ｎｍ未満の場合には、光線に対する反射率が低下するため、好ましくなく、７０ｎｍを越える場合には、金の使用量が多くなって、コストが高騰するため好ましくない。この金膜としては、物理的膜厚が７〜４０ｎｍの範囲がさらに良好である。
【００１２】アルミニウム膜は基板と金膜との間に介在して金膜を支持するか、金膜の上に施されて金膜を保護するために用いられる。これらのいずれの場合においても、アルミニウム膜の物理的膜厚は１０ｎｍ以上である。１０ｎｍ未満の膜厚を金膜の支持層として形成した場合、金膜の良好な支持を行うことができないため、好ましくない。一方、１０ｎｍ未満の膜厚を金膜の保護層として形成した場合、金膜の確実な保護を行うことができないため、好ましくない。この場合、アルミニウム膜の膜厚としては、１０ｎｍ以上で且つ６０ｎｍ以下が特に良好である。
【００１３】これらの金膜、アルミニウム膜の成膜は、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の適宜の手段によって行うことができる。また、これらの発明では、基板上に下地膜を成膜した後にアルミニウム膜や金膜を成膜しても良く、基板上に成膜したアルミニウム膜や金膜の上に保護膜を成膜しても良い。これらの下地膜、保護膜の材質しては、ＳｉＯ２等の無機酸化物を使用することができる。
【００１４】以上の発明において、金膜、アルミニウム膜が成膜される基板としては、各種光学部品に応じて使用されているものを使用することができる。例えば、ガラス基板、ポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂などの樹脂基板を選択することができる。このようにガラス基板や樹脂基板を用いる場合には、光学部品としての反射鏡として有用となる。又、以上の発明においては、金膜、アルミニウム膜が形成されていない基板の裏面から光線を入射させても良く、この場合にも、上述した波長域で９０％以上の反射率を有しているため、光線を確実に反射することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】（実施の形態１）表１に示すように、この実施の形態では、ＢＫ７（ショット（社）製）からなるガラス基板上に、アルミニウム膜を３０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、このアルミニウム膜上に３０ｎｍの物理的膜厚で金膜を成膜した。成膜は基板を加熱し、真空蒸着法により行った。なお、これらの薄膜の形成は、金属酸化物などの無機物質を成膜するイオンプレーティングやスパッタリングなどによっても行うことができる。
【００１６】なお、表１に示すように、比較例１として、ＢＫ７からなる基板上にアルミニウム膜を物理的膜厚１００ｎｍで成膜し、比較例２として、ＢＫ７からなる基板上に金膜膜を物理的膜厚１００ｎｍで成膜した。これらの成膜は実施の形態１と同様にして行った。
【００１７】
【表１】
【００１８】図１は、この実施の形態及び比較例の分光反射率特性を示し、特性曲線ａはこの実施の形態、特性曲線ｂは比較例１、特性曲線ｃは比較例２である。この実施の形態では、波長６００ｎｍで９２．６％、波長８００ｎｍで９５．３％と高い反射率となっており、６００〜１０００ｎｍの波長域において、９０％以上の高い反射率を得ることが可能となっている。
【００１９】これに対し、比較例１の反射率特性は波長５００ｎｍで９２．１％、波長６００ｎｍで９１．０％、波長８００ｎｍで８６．４％であり、アルミニウム膜と金膜とによって構成された実施の形態１はアルミニウム膜のみの比較例１と比較して６００ｎｍ以上の波長領域で高い反射率となっている。一方、比較例２の反射率特性は、波長５００ｎｍで５０．９％、波長６００ｎｍで９１．４％、波長８００ｎｍで９７．３％であり、アルミニウム膜と金膜とからなる実施の形態１は金膜のみからなる比較例２と比較しても、６００ｎｍ以上の波長領域で同程度の高い反射率が得られ、また、比較例２と比較した場合、金の使用量が少ないため、安価に生産することができ、光学部品として広範囲に使用することができる。なお、図示を省略したが、実施の形態１では、基板の裏面から光線を入射させても、特性曲線ａと略同等の反射率を有していた。
【００２０】（実施の形態２）表２に示すように、この実施の形態では、ＢＫ７（ショット（社）製）からなるガラス基板上に、金膜を３０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この金膜上に３０ｎｍの物理的膜厚でアルミニウム膜を成膜した。成膜は基板を加熱し、真空蒸着法により行った。これらの薄膜の形成は、金属酸化物などの無機物質を成膜するイオンプレーティングやスパッタリングなどによっても行うことができる。なお、基板に対する金膜の密着性をさらに向上させる必要がある場合には、クロム（Ｃｒ）などのコンタクトメタルを基板と金膜との間に成膜することにより可能となる。
【００２１】表２に示すように、比較例３として、ＢＫ７からなる基板上にアルミニウム膜を物理的膜厚１００ｎｍで成膜し、比較例４として、ＢＫ７からなる基板上に金膜膜を物理的膜厚１００ｎｍで成膜した。これらの成膜は実施の形態２と同様にして行った。
【００２２】
【表２】
【００２３】図２は、この実施の形態及び比較例の分光反射率特性を示し、特性曲線ｄはこの実施の形態、特性曲線ｅは比較例３、特性曲線ｆは比較例４である。この実施の形態では、波長６００ｎｍで９０．０％、波長８００ｎｍで９３．３％と高い反射率となっており、６００〜１０００ｎｍの波長域において、９０％以上の高い反射率を得ることが可能となっている。
【００２４】これに対し、比較例３の反射率特性は波長５００ｎｍで８８．１％、波長６００ｎｍで９１．０％、波長８００ｎｍで８０．８％であり、アルミニウム膜と金膜とによって構成された実施の形態２はアルミニウム膜のみの比較例３と比較して６００ｎｍ以上の波長領域で高い反射率となっている。一方、比較例４の反射率特性は、波長５００ｎｍで４４．８％、波長６００ｎｍで８８．７％、波長８００ｎｍで９６．２％であり、アルミニウム膜と金膜とからなる実施の形態２は金膜のみからなる比較例４と比較しても、６００ｎｍ以上の波長領域で同程度の高い反射率が得られ、また、比較例４と比較した場合、金の使用量が少ないため、安価に生産することができ、光学部品として広範囲に使用することができる。さらに、実施の形態２においても、基板の裏面から光線を入射させても、特性曲線ｄと略同等の反射率を有していた。
【００２５】（実施の形態３）表３に示すように、この実施の形態では、商品名ＺＥＯＮＥＸ（日本ゼオン（社）製）からなる樹脂基板上に、下地層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上にアルミニウム膜を３０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、このアルミニウム膜上に３０ｎｍの物理的膜厚で金膜を成膜した。成膜は基板を加熱することなく、真空蒸着法により行った。なお、これらの薄膜の形成は、金属酸化物などの無機物質を成膜するイオンプレーティングやスパッタリングなどによっても行うことができる。
【００２６】表３に示すように、比較例５として、ＺＥＯＮＥＸからなる樹脂基板上に、下地層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上にアルミニウム膜を１００ｎｍの物理的膜厚で成膜した。また、比較例６として、ＺＥＯＮＥＸからなる樹脂基板上に、下地層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上に金膜を１００ｎｍの物理的膜厚で成膜した。これらの成膜は実施の形態３と同様にして行った。なお、比較例６の場合には、ＳｉＯ２膜と金膜との間に、クロム等のコンタクトメタルを形成してある。
【００２７】
【表３】
【００２８】図３は、この実施の形態及び比較例の分光反射率特性を示し、特性曲線ｇはこの実施の形態、特性曲線ｈは比較例５、特性曲線ｉは比較例６である。この実施の形態では、波長６００ｎｍで９０．０％、波長８００ｎｍで９５．０％と高い反射率となっており、６００〜１０００ｎｍの波長域において、９０％以上の高い反射率を得ることが可能となっている。また、この実施の形態では、膜の密着性強度の試験を行った。密着性強度試験は、セロテープ（ＮＩＣＨＩＢＡＮ（社）製）を膜の表面に貼り付けた後、セロテープ（登録商標）を真上方向に引き剥がして膜の剥がれ具合を観察するものであり、観察の結果、剥がれは全く発生することがなかった。
【００２９】これに対し、比較例５の反射率特性は波長５００ｎｍで９２．１％、波長６００ｎｍで９１．０％、波長８００ｎｍで８６．４％であり、実施の形態３は比較例５と比較して６００ｎｍ以上の波長領域で高い反射率となっている。一方、比較例６の反射率特性は、波長５００ｎｍで５０．９％、波長６００ｎｍで９１．４％、波長８００ｎｍで９７．３％であり、実施の形態３は比較例６と比較しても、６００ｎｍ以上の波長領域で同程度の高い反射率が得られている。しかも、比較例６と比較した場合、金の使用量が少ないため、安価に生産することができ、光学部品として広範囲に使用することができる。
【００３０】（実施の形態４）表４に示すように、この実施の形態では、商品名ＺＥＯＮＥＸ（日本ゼオン（社）製）からなる樹脂基板上に、金膜を３０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上にアルミニウム膜を３０ｎｍの物理的膜厚で成膜し、このアルミニウム膜上に保護層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜した。成膜は基板を加熱することなく、真空蒸着法により行った。なお、これらの薄膜の形成は、金属酸化物などの無機物質を成膜するイオンプレーティングやスパッタリングなどによっても行うことができる。この場合、基板に対する金膜の密着性をさらに向上させる必要がある場合には、クロム（Ｃｒ）などのコンタクトメタルを基板と金膜との間に成膜することにより可能となる。なお、比較例８の場合には、ＳｉＯ２膜と金膜との間に、クロム等のコンタクトメタルを形成してある。
【００３１】表４に示すように、比較例７として、ＺＥＯＮＥＸからなる樹脂基板上に、アルミニウム膜を１００ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上に保護層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜した。また、比較例６として、ＺＥＯＮＥＸからなる樹脂基板上に、金膜を１００ｎｍの物理的膜厚で成膜し、この上に保護層としてＳｉＯ２膜を１０ｎｍの物理的膜厚で成膜した。なお、これらの成膜は実施の形態４と同様にして行った。
【００３２】
【表４】
【００３３】図４は、この実施の形態及び比較例の分光反射率特性を示し、特性曲線ｋはこの実施の形態、特性曲線ｍは比較例７、特性曲線ｎは比較例８である。この実施の形態では、波長６００ｎｍで９０．０％、波長８００ｎｍで９３．３％と高い反射率となっており、６００〜１０００ｎｍの波長域において、９０％以上の高い反射率を得ることが可能となっている。
【００３４】これに対し、比較例７の反射率特性は波長５００ｎｍで８８．１％、波長６００ｎｍで９１．０％、波長８００ｎｍで８０．８％であり、実施の形態４は比較例７と比較して６００ｎｍ以上の波長領域で高い反射率となっている。一方、比較例８の反射率特性は、波長５００ｎｍで４４．８％、波長６００ｎｍで８８．７％、波長８００ｎｍで９６．２％であり、実施の形態４は比較例８と比較しても、６００ｎｍ以上の波長領域で同程度の高い反射率が得られている。しかも、比較例８と比較した場合、金の使用量が少ないため、安価に生産することができ、光学部品として広範囲に使用することができる。
【００３５】以上の実施の形態１〜４においては、図１〜図４に示すように、６００ｎｍ未満の波長域において、金膜だけの場合に比べて反射率が高くなっている。このため、実施の形態１〜４では、６００ｎｍ未満の波長域においても実用的となっている。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１〜３のいずれの発明においても、６００ｎｍ〜１０００ｎｍの波長域において９０％以上の高い反射率とすることができると共に、安価に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態１、比較例１，比較例２の分光反射率特性図である。
【図２】実施の形態２、比較例３，比較例４の分光反射率特性図である。
【図３】実施の形態３、比較例５，比較例６の分光反射率特性図である。
【図４】実施の形態４、比較例７，比較例８の分光反射率特性図である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】 物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜、物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜が基板上に形成されていることを特徴とする反射鏡。
【請求項２】 光学系の光線入射方向から物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜、物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜が基板上に順に形成されていることを特徴とする反射鏡。
【請求項３】 光学系の光線入射方向から物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜、物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜が基板上に順に形成されていることを特徴とする反射鏡。
【請求項１】 物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜、物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜が基板上に形成されていることを特徴とする反射鏡。
【請求項２】 光学系の光線入射方向から物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜、物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜が基板上に順に形成されていることを特徴とする反射鏡。
【請求項３】 光学系の光線入射方向から物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜、物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜が基板上に順に形成されていることを特徴とする反射鏡。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００１−２６４５２３（Ｐ２００１−２６４５２３Ａ）
【公開日】平成１３年９月２６日（２００１．９．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０００−７２６７０（Ｐ２０００−７２６７０）
【出願日】平成１２年３月１５日（２０００．３．１５）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス光学工業株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１３年９月２６日（２００１．９．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１２年３月１５日（２０００．３．１５）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス光学工業株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
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