口臭を低減するためのシリカ材料
【解決手段】ここに開示するシリカ材料は、その表面の少なくとも一部に金属付加物を含む。シリカ材料は揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）を結合し、これにより口臭を低減することが可能である。また、シリカ材料を含む歯磨剤組成物および口臭ケア組成物、ならびにシリカ材料の製造方法および使用方法も開示する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願への相互参照）
本出願は、２０１０年２月１９日付け出願の米国特許仮出願第６１／３０５，９９８号の利益を主張し、その全ての開示内容をここに参照して援用する。
【背景技術】
【０００２】
（背景）
口の口腔内における細菌性の腐敗は、口臭や臭い息として既知の悪臭に寄与する鼻につく臭いの揮発性硫黄化合物（ＶＳＣ）の形成をもたらす場合がある。硫化水素、メチルメルカプタンおよび硫化ジメチルのようなＶＳＣは、口から生ずる腐敗臭の最も共通の給源であると信じられている。ＶＳＣ生成物は、細菌叢が主にグラム陽性から主にグラム陰性の嫌気性菌叢に転移する際に口腔内で発生する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
グラム陰性細菌への転移は、通常炭水化物の枯渇および約６．５未満から約７．２への唾液のｐＨレベルの上昇を伴う。炭水化物が枯渇すると、グラム陽性の菌叢は燃料源を失い始め、したがって抑制される一方、グラム陰性の菌叢が徐々により支配的になる。グラム陰性な菌叢は、グラム陽性な菌叢と異なり、タンパク質分解によりタンパク質を短ペプチドやアミノ酸に分解することができる。システインおよびメチオニン残留物を含むものような特定のタンパク質は、さらにＶＳＣに分解する場合がある。
【０００４】
口臭の解決には、洗口剤、チューインガム、ブレスストリップ（ｂｒｅａｔｈ ｓｔｒｉｐ）、トローチ、ミント、および歯磨き粉が挙げられる。不幸にも、これら製品の多くは、口臭を長期間低減または防止できない。さらに、これら製品のいくつかは、腐敗したＶＳＣの呼気をほとんど防止できない。それゆえ、口臭を低減するための新たな組成物や方法の必要性が存在する。この必要性およびその他の必要性は、本発明により充足される。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
（要約）
ここに開示するシリカ材料は、その表面の少なくとも一部に付加物を含む。該シリカ材料は、揮発性硫黄化合物（ＶＳＣ）を結合でき、それゆえ口臭を低減する。また、当該シリカ材料を含む歯磨剤組成物、口腔ケア組成物並びにシリカ材料の製造および使用方法も開示する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の利点は、部分的には本明細書のこの後で説明され、部分的には本明細書から明らかになり、あるいは後述する態様の実施によって理解できる。後述の利点は、以下に個々に説明する要素および組み合わせによって実現および達成される。前述の概要および以下の詳細な説明はともに、例示的および説明的なものに過ぎず、限定のためではないと理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は開示したシリカ材料を使用してメルカプタン吸収を測定するのに使用した試験装置の概略図である。
【図２】図２は比較例を用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係をプロットしたものである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図３】図３は比較例を用いて時間分析を繰り返して得た外れ値点を含むプロットである。プロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示す。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図４】図４は比較例を用いて時間分析を繰り返して得た外れ値点を含まないプロットである。プロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示す。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図５】図５は実施例１Ａを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図６】図６は実施例１Ａを用いて時間分析を繰り返して得たプロットである。プロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示す。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図７】図７は実施例１Ｂを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図８】図８は実施例１Ｃを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図９】図９は実施例１Ｄを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図１０】図１０は実施例１Ｅを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図１１】図１１は後述する実施例１Ａ〜Ｅおよび比較例での多重投与試験におけるヘッドスペースの回復率を示すプロットである。ヘッドスペースの回復率は以下のとおり。正方形記号−実施例１Ａ、ひし形記号−実施例１Ｂ、三角記号−実施例１Ｃ、Ｘ−実施例１Ｄ、アスタリスク（＊）−比較例、プラス記号（＋）−実施例１Ｅ。
【図１２】図１２は実施例１Ａ〜Ｅでの水溶性濃度対ｐＨのプロットである。試料は以下のとおり。ひし形記号−実施例１Ｂ、三角記号−実施例１Ｃ、Ｘ−実施例１Ｄ、プラス記号−実施例１Ｅ。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
（詳細な説明）
本発明の化合物、組成物、複合体、物品、装置および／または方法を開示し、説明する前に、以下に説明する態様は特定の化合物、組成物、複合体、物品、装置、方法または使用に限定されず、もちろん異なるものになってもよいことが理解される。また、ここで用いる用語は、特定の態様を説明する目的のためだけで、限定を意図するものではない。
【０００９】
本明細書において、以下の意味を持つものとして定義されるいくつかの用語が参照される。
【００１０】
本明細書の全体を通じて、文脈上他の意味に解すべき場合を除き、単語「含む」、または「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」もしくは「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」のような変化系は、述べられた要素（ｉｎｔｅｇｅｒ）またはステップ、または複数の要素またはステップの群の包括の意味であり、他の要素またはステップ、または他の複数の要素またはステップの群を除外する意味ではないと理解される。
【００１１】
本明細書および添付された特許請求の範囲において、文脈上明らかに他の意味を指すべき場合を除き、単冠詞「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」は複数指示対象を含むことに注意すべきである。したがって、例えば「シリカ材料」は２つまたはそれ以上の材料を合成したものへの指示を含み、他も同様である。
【００１２】
「任意の（ｏｐｔｉｏｎａｌ）」、または、「任意に（ｏｐｔｉｏｎａｌｌｙ）」、という表現は後に記述された事象又は状況が生ずることも有り得るし、生じないことも有り得ることを意味し、本明細書ではそのような事象又は状況が生じる場合（あるいは生じない場合）を適宜説明している。
【００１３】
本明細書では、範囲を一つの特定の値で「約」として、および／またはもう一つの特定の値で「約」として表現する場合がある。かかる範囲を表現する際に、別の実施形態はある特定の値から、および／または他の特定の値までを含む。同様に、値が概数として表現される場合は、「約」の先行詞を用いることにより、特定の値が別の実施形態を形成すると理解される。さらに、それぞれの範囲の終点はもう一つの終点との関連で共に意味があり、別の終点とは独立していると理解される。
【００１４】
本明細書には、本発明の方法及び組成物に使用できるか、それに関連して使用できるか、それに対する製造に使用できるか、またはその製品であるところ化合物、組成物および構成要素が開示されている。これらおよびその他の材料を本明細書に開示し、当該材料の組み合わせ、サブセット、相互作用物、群などが記載されている場合、個々の材料や組み合わされた材料が明記されていなかったり、その化合物の置換・変更が明記されていないとしても、当該明記されていない材料等も本明細書に記載されているものとする。例えば、多くの異なるシリカ粒子および付加物が開示・説明されている場合、当該シリカ粒子および付加物の組み合わせや置換の全ては本明細書に記載されたものとする（但し、それを否定する説明がある場合を除く）。従って、付加物Ａ、Ｂ、Ｃのクラスと付加物Ｄ、Ｅ、Ｆのクラスと組み合わせ付加物Ａ−Ｄとが記載されている場合、たとえ個々の付加物が記載されていなくても個々の付加物およびそれらの組み合わせは記載されているものとする。つまり、上記の例の場合、Ａ、Ｂ、ＣとＤ、Ｅ、Ｆが開示され且つＡ−Ｄの組み合わせが開示されているので、Ａ−Ｅの組み合わせ、 Ａ−Ｆの組み合わせ、Ｂ−Ｄの組み合わせ、Ｂ−Ｅの組み合わせ、Ｂ−Ｆの組み合わせ、Ｃ−Ｄの組み合わせ、Ｃ−Ｅの組み合わせおよびＣ−Ｆの組み合わせは記載されていると考える。同様に、これらのサブセットまたは組み合わせも記載されていると考える。つまり、上記の例の場合、例えば、Ａ−Ｅ、Ｂ−Ｆ、Ｃ−Ｅも記載されていると考える（やはり、Ａ、Ｂ、ＣとＤ、Ｅ、Ｆが開示され且つＡ−Ｄの組み合わせが開示されているので）。この考え方は本明細書の全ての記載に適用される。例えば、開示された組成物を製造したり使用したりする方法の各ステップに適用される。従って、追加できるステップがある場合、各追加工程は本明細書に開示された実施形態・実施例またはこれらの組み合わせにおいて実施することができるし、それらは本発明の範囲内のものと考えられる。
【００１５】
ここで用いる「平均粒径」とは、試料の５０％が型通りにより小さなサイズであり、試料の５０％が型通りにより大きなサイズである粒径を指す。
【００１６】
本発明は、遷移金属のような付加物を含み、ＶＳＣを吸収することができ、それゆえ口臭を低減するのに有用なシリカ材料に関する。本発明のシリカ材料は、口の口腔内に保持することができ、長期間にわたってＶＳＣの吸収を可能とする。
【００１７】
一態様では、シリカ材料が１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、その表面の少なくとも一部に存在する付加物を有する。付加物は、ＶＳＣと相互作用できるようにシリカ材料におけるシリカ粒子の表面に存在している、すなわち付加物は露出している。
【００１８】
別の態様では、シリカ材料のスラリは、ＶＳＣ吸収試験、すなわち後述する「ＶＳＣ吸収試験」および「多重投与調査」の表題下の実施例のセクションの試験におけるヘッドスペースで少なくとも３５％低減、４５％低減、または５０％の低減を示す。ヘッドスペース低減％（「回復」ともいう）を求めるための具体的な試験は、以下の「多重投与調査」の表題で述べる水性試験である。
【００１９】
一般に、本発明のシリカ材料は１〜１５ミクロンの平均粒径を有する。別の態様では、シリカ材料は５ミクロン超〜１５ミクロンの平均粒径、例えば８〜１５ミクロンの平均粒径を有する。好ましくは、本発明のシリカ材料の約２％未満が４４ミクロン超の粒径を有する。
【００２０】
シリカ材料に存在する付加物は、遷移金属またはポスト遷移金属のような金属付加物であるのが好ましい。適当な金属付加物の非限定的な例は、亜鉛、錫、銅、ストロンチウム、アルミニウムおよびそれらの混合物を含む。シリカ材料は、沈降シリカ材料の形成中に水溶性金属塩の形で付加物を添加することによって調製する。酸性条件で可溶性のあらゆる金属塩、例えば金属硝酸塩、金属塩化物、金属硫酸塩などが適している。
【００２１】
別の態様では、本発明のシリカ材料が１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、その表面の少なくとも一部に存在する第１および第２付加物を有し、ここで第１および第２付加物は異なる。かかるシリカ材料は、１〜５ミクロン、５ミクロン超〜１５ミクロンまたは８〜１５ミクロンの平均粒径を有することができる。かかるシリカ材料の例としては、限定しないが、アルミニウムおよび亜鉛、アルミニウムおよび銅、亜鉛および錫、ストロンチウムおよび銅または錫およびストロンチウム付加物を有するものが挙げられ、両者がシリカの表面の少なくとも一部に存在する。
【００２２】
さらに別の態様では、本発明のシリカ材料が１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、その表面の少なくとも一部に存在する付加物を有し、ここで付加物はシリカ材料全体の重量に対し０．０２５％〜１０％の量で存在する、すなわちかかる量は金属付加物の重量／（金属付加物重量＋シリカ重量）である。別の態様では、付加物がシリカ材料の重量に対し０．０２５％〜５％、０．０２５％〜３％、０．０２５％〜２％、または０．０２５％〜１％の量で存在する。他の態様では、付加物がシリカ材料の重量に対し０．１％〜１０％もしくは０．３５％〜５％または１％〜３％の量で存在する。
【００２３】
シリカ材料は、沈降シリカ、ヒュームドシリカ、シリカゲル等を含むさまざまな種類のシリカを含むことができる。ある特定の態様において、シリカ材料は沈降シリカを含み、以下のプロセスに従って調製する。ケイ酸ナトリウムのようなアルカリケイ酸塩の水溶液を、均質な混合物を確実にするに適した混合手段を備えた反応器に投入する。反応器内のアルカリケイ酸塩溶液を、約室温〜約１３０℃、好ましくは約５０〜１００℃、より好ましくは約６５℃〜約１００℃または約６０℃〜約９０℃の温度に予熱する。アルカリケイ酸塩溶液は、約８．０〜約３５重量％、例えば約８．０〜２０重量％のアルカリケイ酸塩濃度を有することができる。アルカリケイ酸塩は、約１〜約３．５、例えば約２．４〜３．４のＳｉＯ２：Ｎａ２Ｏ比を有するケイ酸ナトリウムとすることができる。反応器に投入したアルカリケイ酸塩の量は、バッチで用いる全ケイ酸塩の約５重量％〜１００重量％である。硫酸ナトリウム溶液または硫酸アルミニウム（ミョウバン）溶液のような電解質を反応媒体に随意に添加することができる。さらに、この混合を所望に応じて高剪断条件下で行うことができる。
【００２４】
次いで、反応器に以下のものを同時に加える：（１）硫酸のような酸性化剤または酸の水溶液および（２）追加量の反応器中にあるものと同種のケイ酸アルカリを含有する水溶液で、約６５℃〜約１００℃の温度まで予熱した水溶液。酸性化剤溶液の反応器中への導入前に、付加化合物を酸性化剤溶液に添加する。付加化合物と、酸性化剤溶液とを約０．００２〜約０．１８５、好適には約０．０７４〜約０．１５０とした付加化合物の酸性化剤溶液のＬに対するモル濃度で予備混合する。より高い付加物濃度が付加物で処理した沈降シリカ材料において要求される場合、付加化合物の水溶液を酸の代わりに随意に用いることができる。
【００２５】
付加化合物は、亜鉛（ＩＩ）の塩、スズ（ＩＩ）の塩、鉄（ＩＩＩ）の塩、銅（ＩＩ）の塩およびミョウバンのような金属塩を含む種々の金属化合物とすることができる。具体例としては、塩化亜鉛（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＩ）、硝酸鉄（ＩＩＩ）、硝酸銅（ＩＩ）および水和硫酸アルミニウムカリウムが挙げられる。
【００２６】
酸性化剤溶液は、約６〜３５重量％、例えば約９．０〜２０重量％の酸性化剤濃度を有するのが好ましい。しばらくすると、アルカリケイ酸塩溶液の流入を止め、所望のｐＨに達するまで酸性化剤溶液を流すことができる。
【００２７】
反応器バッチを一定ｐＨで維持しつつ、該反応器バッチを一定の温浸温度で５分〜３０分間熟成または「温浸」することができる。温浸の完了後、反応バッチを濾過し、シリカの濾塊からの洗浄水が約２０００μｍｈｏ未満の伝導率を得るまで水洗して過剰副生成無機塩を除去する。シリカ濾液の伝導率が濾塊中の無機塩副生成物濃度に比例するので、濾液の伝導率を２０００μｍｈｏ未満に維持することにより、Ｎａ２ＳＯ４のような無機塩の所望の低濃度を濾塊中に得ることができる。シリカ濾塊を水中でスラリーにした後、噴霧乾燥のような任意の従来の乾燥技術により乾燥して、約３重量％〜約５０重量％の水分を含有する付加物処理沈降シリカ材料を生成する。次いで、付加物処理沈降シリカ材料を粉砕して、約１μｍ〜１５μｍ、１μｍ〜５μｍ、５μｍ超〜１５μｍまたは８μｍ〜１５μｍの所望の粒径を得ることができる。
【００２８】
本発明はまた、開示したシリカ材料を含む歯磨剤に関する。ここで用いる「歯磨剤組成物」は、例えば歯の接触可能表面を洗浄することにより口腔衛生を維持するのに使用し得る組成物を指す。例として、練り歯磨き、液体歯磨き、歯磨きペースト、パウダー歯磨き剤などが挙げられる。
【００２９】
歯磨剤の例は、成分として本発明のシリカ材料に加えて、水、洗剤、保湿剤、結合剤、香味剤、粉末研磨剤またはこれらの組み合わせを含む。歯磨剤製剤はまた、歯磨剤製剤に組み込む前に溶解しなければならない成分（例えばフッ化ナトリウムのような抗虫歯剤、リン酸ナトリウム、サッカリンのような香味剤）を含むことができる。
【００３０】
本発明のシリカ材料は、全歯磨剤組成物の重量に対し一般に０．０１〜５０％、０．０１〜３０％または０．０１〜２５％の量で歯磨剤組成物に存在することができる。本発明のシリカ材料が事実上研磨剤であれば、その量は０．０５〜約１５重量％とすることができる。付加物処理沈降シリカ材料が粘度調整剤（増粘剤）である場合、その量は０．０５〜約１０重量％とすることができる。しかしながら、本発明のシリカ材料は口臭を低減するための有用な薬剤として存在することができる。そのようなものとして、量が歯磨剤製剤内で上述した範囲内とすることができるが、材料は歯磨剤に関知できる程度の増粘または研磨を付与しないが、口臭の削減効果を付与する。かかる製剤は、所要に応じて適当な他の脱感作材料、一例として硝酸カリウム塩を含んでもよい。
【００３１】
さらなる態様では、歯磨剤組成物は、付加物処理沈降シリカ材料以外の研磨剤のような少なくとも一つの他の成分、付加物処理沈降シリカ材料以外の少なくとも一つの増粘剤、少なくとも一つの溶媒、少なくとも１種の防腐剤、少なくとも一つの界面活性剤またはそれらの組み合わせを含み、ここで本発明のシリカ材料は、歯磨剤中に研磨剤、増粘剤またはその両方として存在する。
【００３２】
一態様では、開示されたシリカ材料は、歯磨剤組成物における研磨剤として単独で、若しくはここに開示するかまたは当業界で既知な他の研磨材料との添加剤または共研磨剤として利用できる。他の従来型の研磨添加物のいくらでも、本発明の歯磨剤組成物中に存在することができる。かかる他の研磨粒子としては、例えば、沈降炭酸カルシウム（ＰＣＣ）、重質炭酸カルシウム（ＧＣＣ）、チョーク、ベントナイト、第二リン酸カルシウムまたはその二水和物、シリカゲル（それだけで、および任意の構造のもの）、沈降シリカ、非晶質沈降シリカ（同様にそれだけで、および任意の構造のもの）、パーライト、二酸化チタン、第二リン酸カルシウム、ピロリン酸カルシウム、アルミナ、アルミナ水和物、仮焼アルミナ、ケイ酸アルミニウム、不溶性メタリン酸ナトリウム、不溶性メタリン酸カリウム、不溶性炭酸マグネシウム、ケイ酸ジルコニウム、粒状熱硬化性樹脂および他の適当な研磨材料が挙げられる。かかる材料を歯磨剤組成物に導入してターゲット製剤の研磨特性を調整することができる。
【００３３】
研磨成分に加えて、歯磨剤は一つ以上の感覚刺激性の増強剤を含むこともできる。感覚刺激性の増強剤としては、保湿剤、甘味料、界面活性剤、香味剤、着色剤および増粘剤（ときには結合材、ガムまたは安定剤としても既知）が挙げられる。
【００３４】
保湿剤は、乾燥から歯磨剤を防ぐほかに、体や「口の質感」を歯磨剤に加えるのに役立つ。適当な保湿剤としては、ポリエチレングリコール（様々な異なる分子量）、プロピレングリコール、グリセリン（グリセロール）、エリスリトール、キシリトール、ソルビトール、マンニトール、ラクチトール、水素化デンプン加水分解物およびその混合物が挙げられる。具体例では、保湿剤が歯磨剤組成物の約２０〜５０質量％、例えば４０％の量で存在する。
【００３５】
甘味料を歯磨剤組成物（例えば歯磨き粉）に加えて、満足のいく味を生成物に授けることができる。適当な甘味料としては、サッカリン（サッカリンナトリウム、サッカリンカリウムまたはサッカリンカルシウムとして）、シクラミン酸塩（ナトリウム塩、カリウム塩またはカルシウム塩として）、アセスルファムカリウム、ソーマチン、ネオヘスペリジンジヒドロカルコン、アンモニア化グリシルヒジン、Ｄ型グルコース、果糖、スクロース、マンノースおよびグルコースが挙げられる。
【００３６】
界面活性剤を本発明の歯磨剤組成物に用いて、該組成物をより美容上許容できるようにすることができる。界面活性剤は、組成物に洗浄および発泡特性を付与する洗浄材料であるのが好ましい。適当な界面活性剤は、ラウリル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウロイルサルコシン酸塩、ミリストイルサルコシン酸塩、パルミトイルサルコシン酸塩、ステアロイルサルコシン酸塩およびオレオイルサルコシン酸塩のアルカリ金属またはアンモニウム塩、ポリオキシエチレンソルビタンのモノステアレート、イソステアレートおよびラウレート、ラウリルスルホ酢酸ナトリウム、Ｎ−ラウロイルサルコシン、Ｎ−ラウロイルサルコシン、Ｎ−ミリストイルサルコシンまたはＮ−パルミトイルサルコシンのナトリウム、カリウムおよびエタノールアミン塩、アルキルフェノールのポリエチレン・オキシド凝縮物、ココアミドプロピルベタイン、ラウラミドプロピルベタイン、パルミチルベタインなどのような安全かつ有効量のアニオン、カチオン、非イオン、双性イオン、両性およびベタインの界面活性剤である。ラウリル硫酸ナトリウムが好適な界面活性剤である。界面活性剤は、通常本発明の口腔ケア組成物中に約０．１〜１５質量％、好ましくは約０．３〜５質量％、例えば約０．３〜２．５質量％の量で存在する。
【００３７】
香味剤も歯磨剤組成物に加えることができる。適当な香味剤としては、限定しないが、冬緑油、ペパーミント油、スペアミント油、サッサフラス油、クローブの油、シナモン、アネトール、メンソール、チモール、オイゲノール、オイカリプトール、レモン、オレンジおよびフルーツの香りやスパイスの香りなどを付与する他のかかる香味化合物が挙げられる。これら香味剤は、一般にアルデヒド、ケトン、エステル、フェノール、酸ならびに脂肪族、芳香族および他のアルコールの混合物を含む。
【００３８】
着色剤を加えて生成物の美的外観を改善することができる。適当な着色剤としては、限定しないが、ＦＤＡのような適切な規制機関によって認可されている着色剤、および欧州食品医薬品指令にリストされているものが挙げられ、またTiO2のような顔料やFD&CおよびD&C染料のような色素を含む。
【００３９】
増粘剤は、練り歯磨きを相分離に対して安定化させるゼラチン構造を提供するため、歯磨剤組成物に有用である。適当な増粘剤としては、シリカ増粘剤；デンプン；デンプンのグリセライト；カラヤガム（ステルクリアガム）、トラガカントガム、アラビアガム、ガティガム、アカシアガム、キサンタンガム、グアガムおよびセルロースガムのようなガム；ケイ酸アルミニウムマグネシウム（Ｖｅｅｇｕｍ）；カラギーナン；アルギン酸ナトリウム；寒天；ペクチン；ゼラチン；セルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルカルボキシプロピルセルロース、メチルセルロース、エチルセルロースおよび硫酸化セルロースのようなセルロース化合物；ヘクトライトクレイのような天然および合成クレイ；並びにこれらの混合物が挙げられる。増粘剤又は結合剤の典型的な量は、練り歯磨き組成物の約０〜１５重量％である。
【００４０】
歯磨き粉組成物での利用に有用なシリカ増粘剤は、例えば非限定的な例として、ＺＥＯＤＥＮＴ１６５シリカのような非晶質シリカ沈殿物を含む。他の好適な（限定しないが）シリカ増粘剤は、ＺＥＯＤＥＮＴ１５３，１６３および／または１６７、およびＺＥＯＦＲＥＥ１７７および／または２６５シリカ生成物を含み、全てジェイ・エム・フーバー・コーポレーション（Ｊ． Ｍ． Ｈｕｂｅｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入手可能である。
【００４１】
治療薬を組成物に用いて、虫歯、歯周病および温度感受性の予防および治療を提供することができる。治療薬の例としては、限定しないが、フッ化ナトリウム、モノフルオロリン酸ナトリウム、モノフルオロリン酸カリウム、フッ化スズ、フッ化カリウム、フルオロケイ酸ナトリウム、フルオロケイ酸アンモニウムなどのようなフッ化物源；ピロリン酸四ナトリウム、ピロリン酸四カリウム、ピロリン酸二水素二ナトリウム、ピロリン酸一水素三ナトリウムのような縮合リン酸塩；トリポリホスフェート、ヘキサメタホスフェート、トリメタホスフェートおよびピロホスフェート；トリクロサン、ビスグアニド、アレキシジン、クロルヘキシジンおよびグルコン酸クロルヘキシジンのような抗微生物剤；パパイン、ブロメライン、グルコアミラーゼ、アミラーゼ、デキストラナーゼ、ムタナーゼ、リパーゼ、ペクチナーゼ、タンナーゼおよびプロテアーゼのような酵素；塩化ベンザルコニウム（ＢＺＫ）、塩化ベンゼトニウム（ＢＺＴ）、塩化セチルピリジニウム（ＣＰＣ）および臭化ドミフェンのような第四級アンモニウム化合物；クエン酸亜鉛、塩化亜鉛およびフッ化スズのような金属塩；サンギナリアエキスおよびサンギナリン；ユーカリプトール、メントール、チモールおよびサリチル酸メチルのような精油；フッ化アミン；過酸化物などが挙げられる。治療薬は、歯磨剤に単独で又は組み合わせて治療上安全かつ有効なレベルで使用し得る。
【００４２】
保存剤も本発明の組成物に加えて、細菌増殖を防止することができる。メチルパラベン、プロピルパラベンおよび安息香酸ナトリウムのような口腔組成物用に承認された適当な保存剤を安全かつ有効量で加えることができる。
【００４３】
開示された歯磨剤には、様々な追加成分、例えば脱感作薬、治療薬、その他の虫歯予防剤、キレート剤／封鎖剤、ビタミン、アミノ酸、タンパク質、その他の歯垢防止／歯石防止剤、乳白剤、抗生物質、抗酵素、酵素、ｐＨ調整剤、酸化剤、抗酸化剤なども加えることができる。
【００４４】
一般に、上述の添加剤のほかに水が組成物のバランスを付与する。水は好ましくは脱イオン水で、不純物が無い。歯磨剤は、通常約５重量％〜約７０重量％の水を含み、例えば５重量％〜３５重量％、具体的には１１重量％の水を含む。
【００４５】
本発明のシリカ材料はまた、ブレスストリップ、チューインガムのようなガム、うがい薬、口内洗浄剤、糖菓（例えば、トローチ、プレス成形錠剤、硬い飴など）、可食性フィルム、口臭スプレーおよび歯のホワイトニングストリップを含む他の様々な口腔ケア組成物に組み込むことができる、
【００４６】
また、ＶＳＣ含有雰囲気を開示したシリカ材料または歯磨剤組成物と接触させて該雰囲気中のＶＳＣレベルを低減することによるＶＳＣ含有雰囲気下でのメルカプタンのようなＶＳＣの量を低減する方法を開示する。具体例は、ヒトのような被検体中の口臭を低減する方法であり、シリカ材料や歯磨剤を被検体の口腔に投与して被検体の口臭を低減する。上述したように、開示した材料および歯磨剤は、雰囲気中のＶＳＣレベルを低減するのに有効であり（下記の実施例を参照）、したがって、ＶＳＣが口臭を引き起こすことを考えれば、口臭を減らすのに効果的である。一態様では、本発明のシリカ材料または歯磨剤を受け入れる被検体（例えば、ヒト）は処置の必要性がある、すなわち、被検体は口臭を有する。他の態様においては、シリカ材料や歯磨剤を予防的処置に用いることができる、すなわち、投与時に必ずしも口臭に悩まされないヒトのような被検体に付与することができる。
【００４７】
被検体における口臭の低減を試験するために、後述する表題「水性条件下での多重投与調査」の試験を用いてかかる低減を示すことができる、すなわち、被検体の口腔から収集したガス試料を用いた。或いはまた、被検体からの口腔ガス試料を投与前後で評価する臭気テストのような従来既知の方法を用いて口臭の減少を示すこともできる。
【００４８】
さらなる態様では、（ａ）開示したシリカ材料を含む経口投与に適した組成物を提供するステップと、（ｂ）該組成物を口の中に存在するＶＳＣを有する被検体に投与し、これにより組成物のシリカ材料がＶＳＣを吸収するのを可能にし、順に被検体の口臭を低減するステップとを備える口臭を低減する方法を開示する。
【実施例】
【００４９】
（実施例）
以下の実施例は、当該分野の当業者に、ここに請求する化合物、組成物、物品、装置および／または方法がいかになされ、評価されるかの完全な開示および説明を提供するために出され、純粋に本発明の実施態様を意図したもので、発明者らが発明とみなす範囲を限定することを意図するものではない。数（例えば、量、温度など）に関して正確性を確保するための努力をしてきたが、いくらかの誤差や偏差は認められるべきである。特に断りのない限り、部は重量部であり、温度は摂氏または室温であり、圧力は大気圧であるかそれに近い圧力である。
【００５０】
（シリカ材料）
実施例１Ａ
４１０ｍＬのケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２モル比（ＭＲ））を２ガロンの反応器に加え、３００ｒｐｍで攪拌しながら８５℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸／塩化亜鉛（ＩＩ）溶液（１１．４％、酸１Ｌ当たり０．０７７モルのＺｎＣｌ２を含む１．０７８ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ８２．４ｍＬ／分および２４．８ｍＬ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを９０℃で１０分間温浸し、反応器から取り出した。これを濾過し、脱イオン水で２回洗浄した。試料を１０５℃で一晩乾燥した。上記バッチを３とおり作成し、組み合わせ、約３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。実施例１Ａの材料を用いて図５および図６を得た。
【００５１】
実施例１Ｂ
４１０ｍＬのケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）を２ガロンの反応器に加え、３００ｒｐｍで攪拌しながら８５℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸／塩化錫（ＩＩ）溶液（１１．４％、酸１Ｌ当たり０．０４２モルのＳｎＣｌ２・２Ｈ２Ｏを含む１．０７８ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ８２．４ｍＬ／分および２４．８ｍＬ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを９０℃で１０分間温浸し、反応器から取り出した。これを濾過し、脱イオン水で２回洗浄した。試料を１０５℃で一晩乾燥した。上記バッチを３とおり作成し、組み合わせ、約３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。実施例１Ｂの材料を用いて図７を得た。
【００５２】
実施例１Ｃ
４１０ｍＬのケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）を２ガロンの反応器に加え、３００ｒｐｍで攪拌しながら８５℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸／硝酸鉄（ＩＩＩ）溶液（１１．４％、酸１Ｌ当たり０．０８９モルのＦｅ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏを含む１．０７８ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ８２．４ｍＬ／分および２４．８ｍＬ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを９０℃で１０分間温浸し、反応器から取り出した。これを濾過し、脱イオン水で２回洗浄した。試料を１０５℃で一晩乾燥した。上記バッチを３とおり作成し、組み合わせ、約３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。実施例１Ｃの材料を用いて図８を得た。
【００５３】
実施例１Ｄ
４１０ｍＬのケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）を２ガロンの反応器に加え、３００ｒｐｍで攪拌しながら８５℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸／硝酸銅（ＩＩ）溶液（１１．４％、酸１Ｌ当たり０．０７７モルのＣｕ（ＮＯ３）２・２．５Ｈ２Ｏを含む１．０７８ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ８２．４ｍＬ／分および２４．８ｍＬ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを９０℃で１０分間温浸し、反応器から取り出した。これを濾過し、脱イオン水で２回洗浄した。試料を１０５℃で一晩乾燥した。上記バッチを３とおり作成し、組み合わせ、約３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。実施例１Ｄの材料を用いて図９を得た。
【００５４】
実施例１Ｅ
６７Ｌのケイ酸塩（１９．５％、１．１８０ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および１６７Ｌの水を４００ガロンの反応器に加え、３０Ｈｚで再循環し、６０ｒｐｍで攪拌しながら８７℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１９．５％、１．１８０ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸／ミョウバン溶液（１７．１％、酸１Ｌ当たり０．２２モルのミョウバンを含む１．１２ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ１２．８Ｌ／分および３．９Ｌ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを１０分間温浸した後、取り出した。それを濾過し、〜１５００μＳの導電率まで洗浄し、噴霧乾燥した。次いで、このバッチの一部を〜３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。実施例１Ｅの材料を用いて図１０を得た。
【００５５】
比較例（金属付加物なしのシリカ）
４１０ｍＬのケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）を２ガロンの反応器に加え、３００ｒｐｍで攪拌しながら８５℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸（１１．４％、１．０７８ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ８２．４ｍＬ／分および２４．８ｍＬ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを９０℃で１０分間温浸した後、取り出した。これを濾過し、脱イオン水で２回洗浄した。試料を１０５℃で一晩乾燥した。上記バッチを３とおり作成し、組み合わせ、約３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。比較例の材料を用いて図２〜４を得た。
【００５６】
メジアン粒径は、ペンシルバニア州ブースウィンのホリバ・インスツルメンツ社から入手可能な型番ＬＡ−９３０（またはＬＡ−３００若しくは同等物）のレーザ光散乱装置を用いて求めることができる。
【００５７】
実施例１Ａ〜１Ｅおよび比較例を元素分析によって金属含有量について分析した。その結果を表１に示す。
【００５８】
表１ 実施例１Ａ〜１Ｅの金属分析
【表１】
【００５９】
実施例１Ａ〜１Ｅおよび比較例の物理的特性についても評価した。結果を表２に示す。
【００６０】
表２ 実施例１Ａ〜１Ｅの物理的特性
【表２】
【００６１】
吸水量値を、C.W.Brabender Instrument,Inc製の吸収計「Ｃ」トルクレオメータによって求める。およそシリカ（またはケイ酸塩）の１／３カップを吸収計の混合室に移し、１５０ｒｐｍで混合する。次いで、水を６ｍｌ／分の速度で加え、粉末の混合に必要なトルクを記録する。水が粉末により吸収されると、粉末が自由流動粉末からペーストに変形するので、トルクが最大値に達する。次いで、最大トルクを達成した際に加えた水の全体積を、１００ｇの粉末によって吸収され得る水の量に標準化する。粉末を受け入れたままの基準（予め乾燥していない）で用いるので、水分の無い粉末の値を用いて、以下の方程式により「水分補正水AbC値」を計算する。
【数１】
【００６２】
上述したような５％のｐＨを含むシリカ材料のｐＨを、あらゆる従来のｐＨ感応電極により求めることができる。
【００６３】
（ＶＳＣ吸収試験）
実施例１Ａ〜１Ｅおよび比較例を、図１に示す装置を用いてメルカプタン（ＣＨ３ＳＨ）の吸収能力について評価した。
【００６４】
この方法は、１セットのフラスコ（２５０ｍＬ）を並行して排気し、これらに所望の試験ガス、ここではメチルメルカプタン（ＣＨ３ＳＨ、１．０９ｐｐｍ、残余：Ｎ２，Ａｉｒ Ｌｉｑｕｉｄｅ Ａｍｅｒｉｃａ製、Ｐ／Ｎ０１０２０００２４００ＴＣＬ）を充填することを含む。フラスコ１は興味ある材料を含有し、フラスコ２は窒素の充填物（Ａｉｒｇａｓ社、ガス採取注射器をパージするために用いるＵＨＰＧ）を含み、フラスコ３は空白対照基準である。
【００６５】
典型的な実験では、フラスコ１に２００ｍｇの所望のシリカ材料を充填し、すべてのストップコックを全開にした。ボール弁１を閉鎖し、真空ポンプをオンにした。オフ位置の試験ガス制御弁を用いて、ボール弁１をゆっくりと開き、系全体を２分間排気した。２分後、ボール弁１を閉じ、試験ガス制御弁を窒素ガスシリンダーに対し開き、系を２ｐｓｉの窒素で充填した。次いで、試験ガス制御弁をオフ位置に戻し、この連続動作をさらに２回繰り返し、合計３回排気と窒素パージを行った。３回目の窒素パージ後、フラスコ２上のストップコックを閉鎖し、窒素パージフラスコを作成した。試験ガス制御弁をオフ位置に戻し、ボール弁１を開放し、系をさらに２分間排気した。この時、フラスコ１および３のストップコックを真空側で閉鎖し、続いてボール弁１を閉鎖した。次いで、試験ガス制御弁を試験ガスシリンダーに対し開放し、系を２ｐｓｉの試験ガスで充填した。その後、フラスコ１および３の試験ガス側のストップコックを閉鎖し、続いて試験ガス制御弁を閉鎖した。系をついに試験ガスで充填し、評価を始めることができる。
【００６６】
Ｇｅｒｓｔｅｌの２．５ｍＬヘッドスペース−ＨＴシリンジ（Ｐ／Ｎ００９９８０−０５５−００）を用いて初期試験ガス充填の３０秒後、窒素を用いてフラスコ２のパージを実施した。その後、１．５ｍＬのヘッドスペースガスをフラスコ１から引き出し、レステックＲＴＸ−２００ＭＳカラム（３０ｍ×０．３２ｍｍ内径（ＩＤ）×１μｍ膜厚（ｄｆ）、カタログ番号＃１５６５４）および５９７２シリーズ質量選択検出器を取り付けたヒューレットパッカード５８９０シリーズＩＩのＧＣオーブンに注入した。検出器をｍ／ｚ４８、４７、４５でスキャンするＳＩＭモードで実行した。すべての他の関連するＧＣ／ＭＳ情報は表３にある。初期試験ガス注入後、パージおよび引き出しサイクルを対照物（フラスコ３）に対し後で２分間繰り返した。この交互繰り返しを調査の期間中行った。次いで、これらヘッドスペース濃度を利用してメチルメルカプタン対時間の曲線を生成し、平衡点を用いては最大生産量をもたらすことができる。調査終了時に、すべてのストップコックを開放し、続いてボール弁１を解放し、系を５分間排気した。
【００６７】
表３ ＧＣ／ＭＳ実行条件
【表３】
【００６８】
（メルカプタン吸収結果）
上述のメルカプタン吸収試験を用いて、実施例１Ａ〜１Ｅおよび比較例を評価した。図２〜１０は、時間の経過による各試料で得た減少曲線を示す。図１は、開示したシリカ材料を用いてメルカプタンの吸収を測定するのに使用した試験装置の概略図である。図２は、比較例を用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係をプロットしたもので、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図３は、比較例を用いて時間分析を繰り返して得た外れ値点を含むプロットである。このプロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示し、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図４は、比較例を用いて別の時間分析を繰り返して得た外れ値点を含まないプロットである。このプロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示し、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図５は、実施例１Ａを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットで、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図６は、実施例１Ａを用いて時間分析を繰り返して得たプロットである。このプロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示し、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図７は、実施例１Ｂを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットで、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図８は、実施例１Ｃを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットで、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図９は、実施例１Ｄを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットで、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図１０は、実施例１Ｅを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットで、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【００６９】
図２〜１０を参照すると、実施例１Ａおよび実施例１Ｄの試料はそれぞれ〜９０％および１００％削減でメチルメルカプタンの最大の低減を有することが分かる。残りのサンプルは、以下のメチルメルカプタンの低減率を有する：実施例１Ｃ（〜６５％）、実施例１Ｂ（〜５４％）、実施例１Ｅ（〜４０％）、比較例（〜２５％）。データを表４に示す。
【００７０】
表４ メチルメルカプタンの低減データ
【表４−１】
【表４−２】
【００７１】
（水性条件下での多重投与調査）
以下の調査は、本明細書および特許請求の範囲に記載したヘッドスペースの低減（回復）率を測定するために行った。それぞれ液相とシリカによるメチルメルカプタンの吸収および吸着間の区別を可能にする方法で水性の調査を行った。試料スラリーの繰り返し投与がメチルメルカプタンでの完全飽和を可能とする多重投与手順を用いた。各投与後および６０分の平衡後に得られたヘッドスペースの形成を測定することによって、当該試料の吸着能力を間接的に測定することができる。
【００７２】
図１に示したのと同じ装置を用いて、一致しないフラスコの体積、不規則な排気および／または試験ガスの投与に起因する誤差の原因を減らすように試験方法を変更した。空白対照物として動作する３番目のフラスコで、一度に二つの試料を評価し、試料をローテーションで行った。例えば、フラスコ１は試験スラリー１を含み、フラスコ２は試験スラリー２を含み、フラスコ３は空白を含む。試験後、装置をリセットして、フラスコ１が空白を含み、フラスコ２が試験スラリー１を含み、フラスコ３が試験スラリー２を含む。最後のローテーションでは、フラスコ１が試験スラリー２を含み、フラスコ２が空白を含み、フラスコ３が試験スラリー１を含む。試料と対照物のピーク面積とを、試験の信頼性を監視するために計算した標準偏差および相対標準偏差（ＲＳＤ）を用いてすべてのローテーションにわたって平均した。
【００７３】
この方法を用いて、以下の試料（２００ｍｇの試料、８００μＬの蒸留、脱イオン水）を評価した：実施例１Ａ、実施例１Ｂ、実施例１Ｃ、実施例１Ｄ、比較例および実施例１Ｅ。図１１は、メチルメルカプタンの繰り返し投与で生成した各試料のヘッドスペース回復曲線を示す。
【００７４】
このデータに基づくと、実施例１Ｄは、６回投与でヘッドスペース形成を防止することから、メチルメルカプタンの最大の吸着能力を有する。実施例１Ａ、１Ｂおよび１Ｅは、実施例１Ｃおよび比較例が合体する前の２回の投与で次によい能力を示す。個々のデータポイントを表５に記載する。
【００７５】
表５ 多重投与調査のデータ
【表５】
【００７６】
（ｐＨ段階調査）
メチルメルカプタンの吸着および水溶性金属種の関係を観察した。リリースがいつ、どの程度の量かを測定するために、ｐＨの段階調査を行った。本方法は、所望の実施例のスラリーのｐＨを、特定のｐＨに調整し、平衡を可能にし、分析することを含む。
【００７７】
典型的な実験では、１グラムの所望の実施例の材料を所望の基質内で懸濁、攪拌し、生成した溶液のｐＨを０．１ＭのＨＣｌまたは０．１ＭのＮａＯＨのどちらかを使用して調整した。所望のｐＨに達した後、スラリーを１時間平衡にすることができる。次いで、スラリーを１２，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離し、上澄み液をデカントした。ＩＣＰ−ＯＥＳを用いて適切な金属について上澄み液を試験した。
【００７８】
実施例１Ａ〜Ｅを、この手順を用いて評価し、その結果を図１２に示す。
【００７９】
これらサンプルの５％ｐＨが全てｐＨ＞８．０であることを考えると、溶液中に存在する不溶性の金属イオンはほとんどない。しかし、ｐＨ５．０付近で実施例１Ａおよび実施例１Ｄでは可溶性金属イオンの顕著な放出がある。これはまた、初期炭水化物導入後の経時的な口腔内のｐＨを描くステファン（Ｓｔｅｐｈｅｎ）曲線の低い点に対応する。実施例１Ａを用いることで、口腔への突入の後のＺｎイオンの放出を可能とし、それゆえ細菌増殖を抑制し、抗微生物剤として作用を可能にする。
【００８０】
ここに開示した化合物、複合体、キット、物品、装置、組成物および方法には、種々の修正および変形が可能である。ここに説明した化合物、複合体、キット、物品、装置、組成物および方法の他の態様は、ここに開示した化合物、複合体、キット、物品、装置、組成物および方法の開示内容と実践への考察から明らかになるであろう。明細書および実施例は例示のみを目的としている。
【技術分野】
【０００１】
（関連出願への相互参照）
本出願は、２０１０年２月１９日付け出願の米国特許仮出願第６１／３０５，９９８号の利益を主張し、その全ての開示内容をここに参照して援用する。
【背景技術】
【０００２】
（背景）
口の口腔内における細菌性の腐敗は、口臭や臭い息として既知の悪臭に寄与する鼻につく臭いの揮発性硫黄化合物（ＶＳＣ）の形成をもたらす場合がある。硫化水素、メチルメルカプタンおよび硫化ジメチルのようなＶＳＣは、口から生ずる腐敗臭の最も共通の給源であると信じられている。ＶＳＣ生成物は、細菌叢が主にグラム陽性から主にグラム陰性の嫌気性菌叢に転移する際に口腔内で発生する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
グラム陰性細菌への転移は、通常炭水化物の枯渇および約６．５未満から約７．２への唾液のｐＨレベルの上昇を伴う。炭水化物が枯渇すると、グラム陽性の菌叢は燃料源を失い始め、したがって抑制される一方、グラム陰性の菌叢が徐々により支配的になる。グラム陰性な菌叢は、グラム陽性な菌叢と異なり、タンパク質分解によりタンパク質を短ペプチドやアミノ酸に分解することができる。システインおよびメチオニン残留物を含むものような特定のタンパク質は、さらにＶＳＣに分解する場合がある。
【０００４】
口臭の解決には、洗口剤、チューインガム、ブレスストリップ（ｂｒｅａｔｈ ｓｔｒｉｐ）、トローチ、ミント、および歯磨き粉が挙げられる。不幸にも、これら製品の多くは、口臭を長期間低減または防止できない。さらに、これら製品のいくつかは、腐敗したＶＳＣの呼気をほとんど防止できない。それゆえ、口臭を低減するための新たな組成物や方法の必要性が存在する。この必要性およびその他の必要性は、本発明により充足される。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
（要約）
ここに開示するシリカ材料は、その表面の少なくとも一部に付加物を含む。該シリカ材料は、揮発性硫黄化合物（ＶＳＣ）を結合でき、それゆえ口臭を低減する。また、当該シリカ材料を含む歯磨剤組成物、口腔ケア組成物並びにシリカ材料の製造および使用方法も開示する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の利点は、部分的には本明細書のこの後で説明され、部分的には本明細書から明らかになり、あるいは後述する態様の実施によって理解できる。後述の利点は、以下に個々に説明する要素および組み合わせによって実現および達成される。前述の概要および以下の詳細な説明はともに、例示的および説明的なものに過ぎず、限定のためではないと理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は開示したシリカ材料を使用してメルカプタン吸収を測定するのに使用した試験装置の概略図である。
【図２】図２は比較例を用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係をプロットしたものである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図３】図３は比較例を用いて時間分析を繰り返して得た外れ値点を含むプロットである。プロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示す。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図４】図４は比較例を用いて時間分析を繰り返して得た外れ値点を含まないプロットである。プロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示す。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図５】図５は実施例１Ａを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図６】図６は実施例１Ａを用いて時間分析を繰り返して得たプロットである。プロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示す。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図７】図７は実施例１Ｂを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図８】図８は実施例１Ｃを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図９】図９は実施例１Ｄを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図１０】図１０は実施例１Ｅを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットである。ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【図１１】図１１は後述する実施例１Ａ〜Ｅおよび比較例での多重投与試験におけるヘッドスペースの回復率を示すプロットである。ヘッドスペースの回復率は以下のとおり。正方形記号−実施例１Ａ、ひし形記号−実施例１Ｂ、三角記号−実施例１Ｃ、Ｘ−実施例１Ｄ、アスタリスク（＊）−比較例、プラス記号（＋）−実施例１Ｅ。
【図１２】図１２は実施例１Ａ〜Ｅでの水溶性濃度対ｐＨのプロットである。試料は以下のとおり。ひし形記号−実施例１Ｂ、三角記号−実施例１Ｃ、Ｘ−実施例１Ｄ、プラス記号−実施例１Ｅ。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
（詳細な説明）
本発明の化合物、組成物、複合体、物品、装置および／または方法を開示し、説明する前に、以下に説明する態様は特定の化合物、組成物、複合体、物品、装置、方法または使用に限定されず、もちろん異なるものになってもよいことが理解される。また、ここで用いる用語は、特定の態様を説明する目的のためだけで、限定を意図するものではない。
【０００９】
本明細書において、以下の意味を持つものとして定義されるいくつかの用語が参照される。
【００１０】
本明細書の全体を通じて、文脈上他の意味に解すべき場合を除き、単語「含む」、または「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」もしくは「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」のような変化系は、述べられた要素（ｉｎｔｅｇｅｒ）またはステップ、または複数の要素またはステップの群の包括の意味であり、他の要素またはステップ、または他の複数の要素またはステップの群を除外する意味ではないと理解される。
【００１１】
本明細書および添付された特許請求の範囲において、文脈上明らかに他の意味を指すべき場合を除き、単冠詞「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」は複数指示対象を含むことに注意すべきである。したがって、例えば「シリカ材料」は２つまたはそれ以上の材料を合成したものへの指示を含み、他も同様である。
【００１２】
「任意の（ｏｐｔｉｏｎａｌ）」、または、「任意に（ｏｐｔｉｏｎａｌｌｙ）」、という表現は後に記述された事象又は状況が生ずることも有り得るし、生じないことも有り得ることを意味し、本明細書ではそのような事象又は状況が生じる場合（あるいは生じない場合）を適宜説明している。
【００１３】
本明細書では、範囲を一つの特定の値で「約」として、および／またはもう一つの特定の値で「約」として表現する場合がある。かかる範囲を表現する際に、別の実施形態はある特定の値から、および／または他の特定の値までを含む。同様に、値が概数として表現される場合は、「約」の先行詞を用いることにより、特定の値が別の実施形態を形成すると理解される。さらに、それぞれの範囲の終点はもう一つの終点との関連で共に意味があり、別の終点とは独立していると理解される。
【００１４】
本明細書には、本発明の方法及び組成物に使用できるか、それに関連して使用できるか、それに対する製造に使用できるか、またはその製品であるところ化合物、組成物および構成要素が開示されている。これらおよびその他の材料を本明細書に開示し、当該材料の組み合わせ、サブセット、相互作用物、群などが記載されている場合、個々の材料や組み合わされた材料が明記されていなかったり、その化合物の置換・変更が明記されていないとしても、当該明記されていない材料等も本明細書に記載されているものとする。例えば、多くの異なるシリカ粒子および付加物が開示・説明されている場合、当該シリカ粒子および付加物の組み合わせや置換の全ては本明細書に記載されたものとする（但し、それを否定する説明がある場合を除く）。従って、付加物Ａ、Ｂ、Ｃのクラスと付加物Ｄ、Ｅ、Ｆのクラスと組み合わせ付加物Ａ−Ｄとが記載されている場合、たとえ個々の付加物が記載されていなくても個々の付加物およびそれらの組み合わせは記載されているものとする。つまり、上記の例の場合、Ａ、Ｂ、ＣとＤ、Ｅ、Ｆが開示され且つＡ−Ｄの組み合わせが開示されているので、Ａ−Ｅの組み合わせ、 Ａ−Ｆの組み合わせ、Ｂ−Ｄの組み合わせ、Ｂ−Ｅの組み合わせ、Ｂ−Ｆの組み合わせ、Ｃ−Ｄの組み合わせ、Ｃ−Ｅの組み合わせおよびＣ−Ｆの組み合わせは記載されていると考える。同様に、これらのサブセットまたは組み合わせも記載されていると考える。つまり、上記の例の場合、例えば、Ａ−Ｅ、Ｂ−Ｆ、Ｃ−Ｅも記載されていると考える（やはり、Ａ、Ｂ、ＣとＤ、Ｅ、Ｆが開示され且つＡ−Ｄの組み合わせが開示されているので）。この考え方は本明細書の全ての記載に適用される。例えば、開示された組成物を製造したり使用したりする方法の各ステップに適用される。従って、追加できるステップがある場合、各追加工程は本明細書に開示された実施形態・実施例またはこれらの組み合わせにおいて実施することができるし、それらは本発明の範囲内のものと考えられる。
【００１５】
ここで用いる「平均粒径」とは、試料の５０％が型通りにより小さなサイズであり、試料の５０％が型通りにより大きなサイズである粒径を指す。
【００１６】
本発明は、遷移金属のような付加物を含み、ＶＳＣを吸収することができ、それゆえ口臭を低減するのに有用なシリカ材料に関する。本発明のシリカ材料は、口の口腔内に保持することができ、長期間にわたってＶＳＣの吸収を可能とする。
【００１７】
一態様では、シリカ材料が１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、その表面の少なくとも一部に存在する付加物を有する。付加物は、ＶＳＣと相互作用できるようにシリカ材料におけるシリカ粒子の表面に存在している、すなわち付加物は露出している。
【００１８】
別の態様では、シリカ材料のスラリは、ＶＳＣ吸収試験、すなわち後述する「ＶＳＣ吸収試験」および「多重投与調査」の表題下の実施例のセクションの試験におけるヘッドスペースで少なくとも３５％低減、４５％低減、または５０％の低減を示す。ヘッドスペース低減％（「回復」ともいう）を求めるための具体的な試験は、以下の「多重投与調査」の表題で述べる水性試験である。
【００１９】
一般に、本発明のシリカ材料は１〜１５ミクロンの平均粒径を有する。別の態様では、シリカ材料は５ミクロン超〜１５ミクロンの平均粒径、例えば８〜１５ミクロンの平均粒径を有する。好ましくは、本発明のシリカ材料の約２％未満が４４ミクロン超の粒径を有する。
【００２０】
シリカ材料に存在する付加物は、遷移金属またはポスト遷移金属のような金属付加物であるのが好ましい。適当な金属付加物の非限定的な例は、亜鉛、錫、銅、ストロンチウム、アルミニウムおよびそれらの混合物を含む。シリカ材料は、沈降シリカ材料の形成中に水溶性金属塩の形で付加物を添加することによって調製する。酸性条件で可溶性のあらゆる金属塩、例えば金属硝酸塩、金属塩化物、金属硫酸塩などが適している。
【００２１】
別の態様では、本発明のシリカ材料が１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、その表面の少なくとも一部に存在する第１および第２付加物を有し、ここで第１および第２付加物は異なる。かかるシリカ材料は、１〜５ミクロン、５ミクロン超〜１５ミクロンまたは８〜１５ミクロンの平均粒径を有することができる。かかるシリカ材料の例としては、限定しないが、アルミニウムおよび亜鉛、アルミニウムおよび銅、亜鉛および錫、ストロンチウムおよび銅または錫およびストロンチウム付加物を有するものが挙げられ、両者がシリカの表面の少なくとも一部に存在する。
【００２２】
さらに別の態様では、本発明のシリカ材料が１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、その表面の少なくとも一部に存在する付加物を有し、ここで付加物はシリカ材料全体の重量に対し０．０２５％〜１０％の量で存在する、すなわちかかる量は金属付加物の重量／（金属付加物重量＋シリカ重量）である。別の態様では、付加物がシリカ材料の重量に対し０．０２５％〜５％、０．０２５％〜３％、０．０２５％〜２％、または０．０２５％〜１％の量で存在する。他の態様では、付加物がシリカ材料の重量に対し０．１％〜１０％もしくは０．３５％〜５％または１％〜３％の量で存在する。
【００２３】
シリカ材料は、沈降シリカ、ヒュームドシリカ、シリカゲル等を含むさまざまな種類のシリカを含むことができる。ある特定の態様において、シリカ材料は沈降シリカを含み、以下のプロセスに従って調製する。ケイ酸ナトリウムのようなアルカリケイ酸塩の水溶液を、均質な混合物を確実にするに適した混合手段を備えた反応器に投入する。反応器内のアルカリケイ酸塩溶液を、約室温〜約１３０℃、好ましくは約５０〜１００℃、より好ましくは約６５℃〜約１００℃または約６０℃〜約９０℃の温度に予熱する。アルカリケイ酸塩溶液は、約８．０〜約３５重量％、例えば約８．０〜２０重量％のアルカリケイ酸塩濃度を有することができる。アルカリケイ酸塩は、約１〜約３．５、例えば約２．４〜３．４のＳｉＯ２：Ｎａ２Ｏ比を有するケイ酸ナトリウムとすることができる。反応器に投入したアルカリケイ酸塩の量は、バッチで用いる全ケイ酸塩の約５重量％〜１００重量％である。硫酸ナトリウム溶液または硫酸アルミニウム（ミョウバン）溶液のような電解質を反応媒体に随意に添加することができる。さらに、この混合を所望に応じて高剪断条件下で行うことができる。
【００２４】
次いで、反応器に以下のものを同時に加える：（１）硫酸のような酸性化剤または酸の水溶液および（２）追加量の反応器中にあるものと同種のケイ酸アルカリを含有する水溶液で、約６５℃〜約１００℃の温度まで予熱した水溶液。酸性化剤溶液の反応器中への導入前に、付加化合物を酸性化剤溶液に添加する。付加化合物と、酸性化剤溶液とを約０．００２〜約０．１８５、好適には約０．０７４〜約０．１５０とした付加化合物の酸性化剤溶液のＬに対するモル濃度で予備混合する。より高い付加物濃度が付加物で処理した沈降シリカ材料において要求される場合、付加化合物の水溶液を酸の代わりに随意に用いることができる。
【００２５】
付加化合物は、亜鉛（ＩＩ）の塩、スズ（ＩＩ）の塩、鉄（ＩＩＩ）の塩、銅（ＩＩ）の塩およびミョウバンのような金属塩を含む種々の金属化合物とすることができる。具体例としては、塩化亜鉛（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＩ）、硝酸鉄（ＩＩＩ）、硝酸銅（ＩＩ）および水和硫酸アルミニウムカリウムが挙げられる。
【００２６】
酸性化剤溶液は、約６〜３５重量％、例えば約９．０〜２０重量％の酸性化剤濃度を有するのが好ましい。しばらくすると、アルカリケイ酸塩溶液の流入を止め、所望のｐＨに達するまで酸性化剤溶液を流すことができる。
【００２７】
反応器バッチを一定ｐＨで維持しつつ、該反応器バッチを一定の温浸温度で５分〜３０分間熟成または「温浸」することができる。温浸の完了後、反応バッチを濾過し、シリカの濾塊からの洗浄水が約２０００μｍｈｏ未満の伝導率を得るまで水洗して過剰副生成無機塩を除去する。シリカ濾液の伝導率が濾塊中の無機塩副生成物濃度に比例するので、濾液の伝導率を２０００μｍｈｏ未満に維持することにより、Ｎａ２ＳＯ４のような無機塩の所望の低濃度を濾塊中に得ることができる。シリカ濾塊を水中でスラリーにした後、噴霧乾燥のような任意の従来の乾燥技術により乾燥して、約３重量％〜約５０重量％の水分を含有する付加物処理沈降シリカ材料を生成する。次いで、付加物処理沈降シリカ材料を粉砕して、約１μｍ〜１５μｍ、１μｍ〜５μｍ、５μｍ超〜１５μｍまたは８μｍ〜１５μｍの所望の粒径を得ることができる。
【００２８】
本発明はまた、開示したシリカ材料を含む歯磨剤に関する。ここで用いる「歯磨剤組成物」は、例えば歯の接触可能表面を洗浄することにより口腔衛生を維持するのに使用し得る組成物を指す。例として、練り歯磨き、液体歯磨き、歯磨きペースト、パウダー歯磨き剤などが挙げられる。
【００２９】
歯磨剤の例は、成分として本発明のシリカ材料に加えて、水、洗剤、保湿剤、結合剤、香味剤、粉末研磨剤またはこれらの組み合わせを含む。歯磨剤製剤はまた、歯磨剤製剤に組み込む前に溶解しなければならない成分（例えばフッ化ナトリウムのような抗虫歯剤、リン酸ナトリウム、サッカリンのような香味剤）を含むことができる。
【００３０】
本発明のシリカ材料は、全歯磨剤組成物の重量に対し一般に０．０１〜５０％、０．０１〜３０％または０．０１〜２５％の量で歯磨剤組成物に存在することができる。本発明のシリカ材料が事実上研磨剤であれば、その量は０．０５〜約１５重量％とすることができる。付加物処理沈降シリカ材料が粘度調整剤（増粘剤）である場合、その量は０．０５〜約１０重量％とすることができる。しかしながら、本発明のシリカ材料は口臭を低減するための有用な薬剤として存在することができる。そのようなものとして、量が歯磨剤製剤内で上述した範囲内とすることができるが、材料は歯磨剤に関知できる程度の増粘または研磨を付与しないが、口臭の削減効果を付与する。かかる製剤は、所要に応じて適当な他の脱感作材料、一例として硝酸カリウム塩を含んでもよい。
【００３１】
さらなる態様では、歯磨剤組成物は、付加物処理沈降シリカ材料以外の研磨剤のような少なくとも一つの他の成分、付加物処理沈降シリカ材料以外の少なくとも一つの増粘剤、少なくとも一つの溶媒、少なくとも１種の防腐剤、少なくとも一つの界面活性剤またはそれらの組み合わせを含み、ここで本発明のシリカ材料は、歯磨剤中に研磨剤、増粘剤またはその両方として存在する。
【００３２】
一態様では、開示されたシリカ材料は、歯磨剤組成物における研磨剤として単独で、若しくはここに開示するかまたは当業界で既知な他の研磨材料との添加剤または共研磨剤として利用できる。他の従来型の研磨添加物のいくらでも、本発明の歯磨剤組成物中に存在することができる。かかる他の研磨粒子としては、例えば、沈降炭酸カルシウム（ＰＣＣ）、重質炭酸カルシウム（ＧＣＣ）、チョーク、ベントナイト、第二リン酸カルシウムまたはその二水和物、シリカゲル（それだけで、および任意の構造のもの）、沈降シリカ、非晶質沈降シリカ（同様にそれだけで、および任意の構造のもの）、パーライト、二酸化チタン、第二リン酸カルシウム、ピロリン酸カルシウム、アルミナ、アルミナ水和物、仮焼アルミナ、ケイ酸アルミニウム、不溶性メタリン酸ナトリウム、不溶性メタリン酸カリウム、不溶性炭酸マグネシウム、ケイ酸ジルコニウム、粒状熱硬化性樹脂および他の適当な研磨材料が挙げられる。かかる材料を歯磨剤組成物に導入してターゲット製剤の研磨特性を調整することができる。
【００３３】
研磨成分に加えて、歯磨剤は一つ以上の感覚刺激性の増強剤を含むこともできる。感覚刺激性の増強剤としては、保湿剤、甘味料、界面活性剤、香味剤、着色剤および増粘剤（ときには結合材、ガムまたは安定剤としても既知）が挙げられる。
【００３４】
保湿剤は、乾燥から歯磨剤を防ぐほかに、体や「口の質感」を歯磨剤に加えるのに役立つ。適当な保湿剤としては、ポリエチレングリコール（様々な異なる分子量）、プロピレングリコール、グリセリン（グリセロール）、エリスリトール、キシリトール、ソルビトール、マンニトール、ラクチトール、水素化デンプン加水分解物およびその混合物が挙げられる。具体例では、保湿剤が歯磨剤組成物の約２０〜５０質量％、例えば４０％の量で存在する。
【００３５】
甘味料を歯磨剤組成物（例えば歯磨き粉）に加えて、満足のいく味を生成物に授けることができる。適当な甘味料としては、サッカリン（サッカリンナトリウム、サッカリンカリウムまたはサッカリンカルシウムとして）、シクラミン酸塩（ナトリウム塩、カリウム塩またはカルシウム塩として）、アセスルファムカリウム、ソーマチン、ネオヘスペリジンジヒドロカルコン、アンモニア化グリシルヒジン、Ｄ型グルコース、果糖、スクロース、マンノースおよびグルコースが挙げられる。
【００３６】
界面活性剤を本発明の歯磨剤組成物に用いて、該組成物をより美容上許容できるようにすることができる。界面活性剤は、組成物に洗浄および発泡特性を付与する洗浄材料であるのが好ましい。適当な界面活性剤は、ラウリル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウロイルサルコシン酸塩、ミリストイルサルコシン酸塩、パルミトイルサルコシン酸塩、ステアロイルサルコシン酸塩およびオレオイルサルコシン酸塩のアルカリ金属またはアンモニウム塩、ポリオキシエチレンソルビタンのモノステアレート、イソステアレートおよびラウレート、ラウリルスルホ酢酸ナトリウム、Ｎ−ラウロイルサルコシン、Ｎ−ラウロイルサルコシン、Ｎ−ミリストイルサルコシンまたはＮ−パルミトイルサルコシンのナトリウム、カリウムおよびエタノールアミン塩、アルキルフェノールのポリエチレン・オキシド凝縮物、ココアミドプロピルベタイン、ラウラミドプロピルベタイン、パルミチルベタインなどのような安全かつ有効量のアニオン、カチオン、非イオン、双性イオン、両性およびベタインの界面活性剤である。ラウリル硫酸ナトリウムが好適な界面活性剤である。界面活性剤は、通常本発明の口腔ケア組成物中に約０．１〜１５質量％、好ましくは約０．３〜５質量％、例えば約０．３〜２．５質量％の量で存在する。
【００３７】
香味剤も歯磨剤組成物に加えることができる。適当な香味剤としては、限定しないが、冬緑油、ペパーミント油、スペアミント油、サッサフラス油、クローブの油、シナモン、アネトール、メンソール、チモール、オイゲノール、オイカリプトール、レモン、オレンジおよびフルーツの香りやスパイスの香りなどを付与する他のかかる香味化合物が挙げられる。これら香味剤は、一般にアルデヒド、ケトン、エステル、フェノール、酸ならびに脂肪族、芳香族および他のアルコールの混合物を含む。
【００３８】
着色剤を加えて生成物の美的外観を改善することができる。適当な着色剤としては、限定しないが、ＦＤＡのような適切な規制機関によって認可されている着色剤、および欧州食品医薬品指令にリストされているものが挙げられ、またTiO2のような顔料やFD&CおよびD&C染料のような色素を含む。
【００３９】
増粘剤は、練り歯磨きを相分離に対して安定化させるゼラチン構造を提供するため、歯磨剤組成物に有用である。適当な増粘剤としては、シリカ増粘剤；デンプン；デンプンのグリセライト；カラヤガム（ステルクリアガム）、トラガカントガム、アラビアガム、ガティガム、アカシアガム、キサンタンガム、グアガムおよびセルロースガムのようなガム；ケイ酸アルミニウムマグネシウム（Ｖｅｅｇｕｍ）；カラギーナン；アルギン酸ナトリウム；寒天；ペクチン；ゼラチン；セルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルカルボキシプロピルセルロース、メチルセルロース、エチルセルロースおよび硫酸化セルロースのようなセルロース化合物；ヘクトライトクレイのような天然および合成クレイ；並びにこれらの混合物が挙げられる。増粘剤又は結合剤の典型的な量は、練り歯磨き組成物の約０〜１５重量％である。
【００４０】
歯磨き粉組成物での利用に有用なシリカ増粘剤は、例えば非限定的な例として、ＺＥＯＤＥＮＴ１６５シリカのような非晶質シリカ沈殿物を含む。他の好適な（限定しないが）シリカ増粘剤は、ＺＥＯＤＥＮＴ１５３，１６３および／または１６７、およびＺＥＯＦＲＥＥ１７７および／または２６５シリカ生成物を含み、全てジェイ・エム・フーバー・コーポレーション（Ｊ． Ｍ． Ｈｕｂｅｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入手可能である。
【００４１】
治療薬を組成物に用いて、虫歯、歯周病および温度感受性の予防および治療を提供することができる。治療薬の例としては、限定しないが、フッ化ナトリウム、モノフルオロリン酸ナトリウム、モノフルオロリン酸カリウム、フッ化スズ、フッ化カリウム、フルオロケイ酸ナトリウム、フルオロケイ酸アンモニウムなどのようなフッ化物源；ピロリン酸四ナトリウム、ピロリン酸四カリウム、ピロリン酸二水素二ナトリウム、ピロリン酸一水素三ナトリウムのような縮合リン酸塩；トリポリホスフェート、ヘキサメタホスフェート、トリメタホスフェートおよびピロホスフェート；トリクロサン、ビスグアニド、アレキシジン、クロルヘキシジンおよびグルコン酸クロルヘキシジンのような抗微生物剤；パパイン、ブロメライン、グルコアミラーゼ、アミラーゼ、デキストラナーゼ、ムタナーゼ、リパーゼ、ペクチナーゼ、タンナーゼおよびプロテアーゼのような酵素；塩化ベンザルコニウム（ＢＺＫ）、塩化ベンゼトニウム（ＢＺＴ）、塩化セチルピリジニウム（ＣＰＣ）および臭化ドミフェンのような第四級アンモニウム化合物；クエン酸亜鉛、塩化亜鉛およびフッ化スズのような金属塩；サンギナリアエキスおよびサンギナリン；ユーカリプトール、メントール、チモールおよびサリチル酸メチルのような精油；フッ化アミン；過酸化物などが挙げられる。治療薬は、歯磨剤に単独で又は組み合わせて治療上安全かつ有効なレベルで使用し得る。
【００４２】
保存剤も本発明の組成物に加えて、細菌増殖を防止することができる。メチルパラベン、プロピルパラベンおよび安息香酸ナトリウムのような口腔組成物用に承認された適当な保存剤を安全かつ有効量で加えることができる。
【００４３】
開示された歯磨剤には、様々な追加成分、例えば脱感作薬、治療薬、その他の虫歯予防剤、キレート剤／封鎖剤、ビタミン、アミノ酸、タンパク質、その他の歯垢防止／歯石防止剤、乳白剤、抗生物質、抗酵素、酵素、ｐＨ調整剤、酸化剤、抗酸化剤なども加えることができる。
【００４４】
一般に、上述の添加剤のほかに水が組成物のバランスを付与する。水は好ましくは脱イオン水で、不純物が無い。歯磨剤は、通常約５重量％〜約７０重量％の水を含み、例えば５重量％〜３５重量％、具体的には１１重量％の水を含む。
【００４５】
本発明のシリカ材料はまた、ブレスストリップ、チューインガムのようなガム、うがい薬、口内洗浄剤、糖菓（例えば、トローチ、プレス成形錠剤、硬い飴など）、可食性フィルム、口臭スプレーおよび歯のホワイトニングストリップを含む他の様々な口腔ケア組成物に組み込むことができる、
【００４６】
また、ＶＳＣ含有雰囲気を開示したシリカ材料または歯磨剤組成物と接触させて該雰囲気中のＶＳＣレベルを低減することによるＶＳＣ含有雰囲気下でのメルカプタンのようなＶＳＣの量を低減する方法を開示する。具体例は、ヒトのような被検体中の口臭を低減する方法であり、シリカ材料や歯磨剤を被検体の口腔に投与して被検体の口臭を低減する。上述したように、開示した材料および歯磨剤は、雰囲気中のＶＳＣレベルを低減するのに有効であり（下記の実施例を参照）、したがって、ＶＳＣが口臭を引き起こすことを考えれば、口臭を減らすのに効果的である。一態様では、本発明のシリカ材料または歯磨剤を受け入れる被検体（例えば、ヒト）は処置の必要性がある、すなわち、被検体は口臭を有する。他の態様においては、シリカ材料や歯磨剤を予防的処置に用いることができる、すなわち、投与時に必ずしも口臭に悩まされないヒトのような被検体に付与することができる。
【００４７】
被検体における口臭の低減を試験するために、後述する表題「水性条件下での多重投与調査」の試験を用いてかかる低減を示すことができる、すなわち、被検体の口腔から収集したガス試料を用いた。或いはまた、被検体からの口腔ガス試料を投与前後で評価する臭気テストのような従来既知の方法を用いて口臭の減少を示すこともできる。
【００４８】
さらなる態様では、（ａ）開示したシリカ材料を含む経口投与に適した組成物を提供するステップと、（ｂ）該組成物を口の中に存在するＶＳＣを有する被検体に投与し、これにより組成物のシリカ材料がＶＳＣを吸収するのを可能にし、順に被検体の口臭を低減するステップとを備える口臭を低減する方法を開示する。
【実施例】
【００４９】
（実施例）
以下の実施例は、当該分野の当業者に、ここに請求する化合物、組成物、物品、装置および／または方法がいかになされ、評価されるかの完全な開示および説明を提供するために出され、純粋に本発明の実施態様を意図したもので、発明者らが発明とみなす範囲を限定することを意図するものではない。数（例えば、量、温度など）に関して正確性を確保するための努力をしてきたが、いくらかの誤差や偏差は認められるべきである。特に断りのない限り、部は重量部であり、温度は摂氏または室温であり、圧力は大気圧であるかそれに近い圧力である。
【００５０】
（シリカ材料）
実施例１Ａ
４１０ｍＬのケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２モル比（ＭＲ））を２ガロンの反応器に加え、３００ｒｐｍで攪拌しながら８５℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸／塩化亜鉛（ＩＩ）溶液（１１．４％、酸１Ｌ当たり０．０７７モルのＺｎＣｌ２を含む１．０７８ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ８２．４ｍＬ／分および２４．８ｍＬ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを９０℃で１０分間温浸し、反応器から取り出した。これを濾過し、脱イオン水で２回洗浄した。試料を１０５℃で一晩乾燥した。上記バッチを３とおり作成し、組み合わせ、約３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。実施例１Ａの材料を用いて図５および図６を得た。
【００５１】
実施例１Ｂ
４１０ｍＬのケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）を２ガロンの反応器に加え、３００ｒｐｍで攪拌しながら８５℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸／塩化錫（ＩＩ）溶液（１１．４％、酸１Ｌ当たり０．０４２モルのＳｎＣｌ２・２Ｈ２Ｏを含む１．０７８ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ８２．４ｍＬ／分および２４．８ｍＬ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを９０℃で１０分間温浸し、反応器から取り出した。これを濾過し、脱イオン水で２回洗浄した。試料を１０５℃で一晩乾燥した。上記バッチを３とおり作成し、組み合わせ、約３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。実施例１Ｂの材料を用いて図７を得た。
【００５２】
実施例１Ｃ
４１０ｍＬのケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）を２ガロンの反応器に加え、３００ｒｐｍで攪拌しながら８５℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸／硝酸鉄（ＩＩＩ）溶液（１１．４％、酸１Ｌ当たり０．０８９モルのＦｅ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏを含む１．０７８ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ８２．４ｍＬ／分および２４．８ｍＬ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを９０℃で１０分間温浸し、反応器から取り出した。これを濾過し、脱イオン水で２回洗浄した。試料を１０５℃で一晩乾燥した。上記バッチを３とおり作成し、組み合わせ、約３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。実施例１Ｃの材料を用いて図８を得た。
【００５３】
実施例１Ｄ
４１０ｍＬのケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）を２ガロンの反応器に加え、３００ｒｐｍで攪拌しながら８５℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸／硝酸銅（ＩＩ）溶液（１１．４％、酸１Ｌ当たり０．０７７モルのＣｕ（ＮＯ３）２・２．５Ｈ２Ｏを含む１．０７８ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ８２．４ｍＬ／分および２４．８ｍＬ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを９０℃で１０分間温浸し、反応器から取り出した。これを濾過し、脱イオン水で２回洗浄した。試料を１０５℃で一晩乾燥した。上記バッチを３とおり作成し、組み合わせ、約３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。実施例１Ｄの材料を用いて図９を得た。
【００５４】
実施例１Ｅ
６７Ｌのケイ酸塩（１９．５％、１．１８０ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および１６７Ｌの水を４００ガロンの反応器に加え、３０Ｈｚで再循環し、６０ｒｐｍで攪拌しながら８７℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１９．５％、１．１８０ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸／ミョウバン溶液（１７．１％、酸１Ｌ当たり０．２２モルのミョウバンを含む１．１２ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ１２．８Ｌ／分および３．９Ｌ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを１０分間温浸した後、取り出した。それを濾過し、〜１５００μＳの導電率まで洗浄し、噴霧乾燥した。次いで、このバッチの一部を〜３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。実施例１Ｅの材料を用いて図１０を得た。
【００５５】
比較例（金属付加物なしのシリカ）
４１０ｍＬのケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）を２ガロンの反応器に加え、３００ｒｐｍで攪拌しながら８５℃に加熱した。次いで、ケイ酸塩（１３．３％、１．１１２ｇ／ｍＬ、３．３２ＭＲ）および硫酸（１１．４％、１．０７８ｇ／ｍＬの硫酸）を同時にそれぞれ８２．４ｍＬ／分および２４．８ｍＬ／分で４７分間添加した。４７分後、ケイ酸塩の流れを止め、酸を継続的に流してｐＨを５．５に調整した。ｐＨが５．５に達すると、バッチを９０℃で１０分間温浸した後、取り出した。これを濾過し、脱イオン水で２回洗浄した。試料を１０５℃で一晩乾燥した。上記バッチを３とおり作成し、組み合わせ、約３．０μｍの平均粒径までエアー微粉砕した。比較例の材料を用いて図２〜４を得た。
【００５６】
メジアン粒径は、ペンシルバニア州ブースウィンのホリバ・インスツルメンツ社から入手可能な型番ＬＡ−９３０（またはＬＡ−３００若しくは同等物）のレーザ光散乱装置を用いて求めることができる。
【００５７】
実施例１Ａ〜１Ｅおよび比較例を元素分析によって金属含有量について分析した。その結果を表１に示す。
【００５８】
表１ 実施例１Ａ〜１Ｅの金属分析
【表１】
【００５９】
実施例１Ａ〜１Ｅおよび比較例の物理的特性についても評価した。結果を表２に示す。
【００６０】
表２ 実施例１Ａ〜１Ｅの物理的特性
【表２】
【００６１】
吸水量値を、C.W.Brabender Instrument,Inc製の吸収計「Ｃ」トルクレオメータによって求める。およそシリカ（またはケイ酸塩）の１／３カップを吸収計の混合室に移し、１５０ｒｐｍで混合する。次いで、水を６ｍｌ／分の速度で加え、粉末の混合に必要なトルクを記録する。水が粉末により吸収されると、粉末が自由流動粉末からペーストに変形するので、トルクが最大値に達する。次いで、最大トルクを達成した際に加えた水の全体積を、１００ｇの粉末によって吸収され得る水の量に標準化する。粉末を受け入れたままの基準（予め乾燥していない）で用いるので、水分の無い粉末の値を用いて、以下の方程式により「水分補正水AbC値」を計算する。
【数１】
【００６２】
上述したような５％のｐＨを含むシリカ材料のｐＨを、あらゆる従来のｐＨ感応電極により求めることができる。
【００６３】
（ＶＳＣ吸収試験）
実施例１Ａ〜１Ｅおよび比較例を、図１に示す装置を用いてメルカプタン（ＣＨ３ＳＨ）の吸収能力について評価した。
【００６４】
この方法は、１セットのフラスコ（２５０ｍＬ）を並行して排気し、これらに所望の試験ガス、ここではメチルメルカプタン（ＣＨ３ＳＨ、１．０９ｐｐｍ、残余：Ｎ２，Ａｉｒ Ｌｉｑｕｉｄｅ Ａｍｅｒｉｃａ製、Ｐ／Ｎ０１０２０００２４００ＴＣＬ）を充填することを含む。フラスコ１は興味ある材料を含有し、フラスコ２は窒素の充填物（Ａｉｒｇａｓ社、ガス採取注射器をパージするために用いるＵＨＰＧ）を含み、フラスコ３は空白対照基準である。
【００６５】
典型的な実験では、フラスコ１に２００ｍｇの所望のシリカ材料を充填し、すべてのストップコックを全開にした。ボール弁１を閉鎖し、真空ポンプをオンにした。オフ位置の試験ガス制御弁を用いて、ボール弁１をゆっくりと開き、系全体を２分間排気した。２分後、ボール弁１を閉じ、試験ガス制御弁を窒素ガスシリンダーに対し開き、系を２ｐｓｉの窒素で充填した。次いで、試験ガス制御弁をオフ位置に戻し、この連続動作をさらに２回繰り返し、合計３回排気と窒素パージを行った。３回目の窒素パージ後、フラスコ２上のストップコックを閉鎖し、窒素パージフラスコを作成した。試験ガス制御弁をオフ位置に戻し、ボール弁１を開放し、系をさらに２分間排気した。この時、フラスコ１および３のストップコックを真空側で閉鎖し、続いてボール弁１を閉鎖した。次いで、試験ガス制御弁を試験ガスシリンダーに対し開放し、系を２ｐｓｉの試験ガスで充填した。その後、フラスコ１および３の試験ガス側のストップコックを閉鎖し、続いて試験ガス制御弁を閉鎖した。系をついに試験ガスで充填し、評価を始めることができる。
【００６６】
Ｇｅｒｓｔｅｌの２．５ｍＬヘッドスペース−ＨＴシリンジ（Ｐ／Ｎ００９９８０−０５５−００）を用いて初期試験ガス充填の３０秒後、窒素を用いてフラスコ２のパージを実施した。その後、１．５ｍＬのヘッドスペースガスをフラスコ１から引き出し、レステックＲＴＸ−２００ＭＳカラム（３０ｍ×０．３２ｍｍ内径（ＩＤ）×１μｍ膜厚（ｄｆ）、カタログ番号＃１５６５４）および５９７２シリーズ質量選択検出器を取り付けたヒューレットパッカード５８９０シリーズＩＩのＧＣオーブンに注入した。検出器をｍ／ｚ４８、４７、４５でスキャンするＳＩＭモードで実行した。すべての他の関連するＧＣ／ＭＳ情報は表３にある。初期試験ガス注入後、パージおよび引き出しサイクルを対照物（フラスコ３）に対し後で２分間繰り返した。この交互繰り返しを調査の期間中行った。次いで、これらヘッドスペース濃度を利用してメチルメルカプタン対時間の曲線を生成し、平衡点を用いては最大生産量をもたらすことができる。調査終了時に、すべてのストップコックを開放し、続いてボール弁１を解放し、系を５分間排気した。
【００６７】
表３ ＧＣ／ＭＳ実行条件
【表３】
【００６８】
（メルカプタン吸収結果）
上述のメルカプタン吸収試験を用いて、実施例１Ａ〜１Ｅおよび比較例を評価した。図２〜１０は、時間の経過による各試料で得た減少曲線を示す。図１は、開示したシリカ材料を用いてメルカプタンの吸収を測定するのに使用した試験装置の概略図である。図２は、比較例を用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係をプロットしたもので、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図３は、比較例を用いて時間分析を繰り返して得た外れ値点を含むプロットである。このプロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示し、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図４は、比較例を用いて別の時間分析を繰り返して得た外れ値点を含まないプロットである。このプロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示し、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図５は、実施例１Ａを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットで、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図６は、実施例１Ａを用いて時間分析を繰り返して得たプロットである。このプロットは、メチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示し、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図７は、実施例１Ｂを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットで、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図８は、実施例１Ｃを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットで、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図９は、実施例１Ｄを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットで、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。図１０は、実施例１Ｅを用いて得たメチルメルカプタンのピーク面積と時間の関係を示すプロットで、ひし形記号は残りの割合を表し、正方形記号は低減した割合を表す。
【００６９】
図２〜１０を参照すると、実施例１Ａおよび実施例１Ｄの試料はそれぞれ〜９０％および１００％削減でメチルメルカプタンの最大の低減を有することが分かる。残りのサンプルは、以下のメチルメルカプタンの低減率を有する：実施例１Ｃ（〜６５％）、実施例１Ｂ（〜５４％）、実施例１Ｅ（〜４０％）、比較例（〜２５％）。データを表４に示す。
【００７０】
表４ メチルメルカプタンの低減データ
【表４−１】
【表４−２】
【００７１】
（水性条件下での多重投与調査）
以下の調査は、本明細書および特許請求の範囲に記載したヘッドスペースの低減（回復）率を測定するために行った。それぞれ液相とシリカによるメチルメルカプタンの吸収および吸着間の区別を可能にする方法で水性の調査を行った。試料スラリーの繰り返し投与がメチルメルカプタンでの完全飽和を可能とする多重投与手順を用いた。各投与後および６０分の平衡後に得られたヘッドスペースの形成を測定することによって、当該試料の吸着能力を間接的に測定することができる。
【００７２】
図１に示したのと同じ装置を用いて、一致しないフラスコの体積、不規則な排気および／または試験ガスの投与に起因する誤差の原因を減らすように試験方法を変更した。空白対照物として動作する３番目のフラスコで、一度に二つの試料を評価し、試料をローテーションで行った。例えば、フラスコ１は試験スラリー１を含み、フラスコ２は試験スラリー２を含み、フラスコ３は空白を含む。試験後、装置をリセットして、フラスコ１が空白を含み、フラスコ２が試験スラリー１を含み、フラスコ３が試験スラリー２を含む。最後のローテーションでは、フラスコ１が試験スラリー２を含み、フラスコ２が空白を含み、フラスコ３が試験スラリー１を含む。試料と対照物のピーク面積とを、試験の信頼性を監視するために計算した標準偏差および相対標準偏差（ＲＳＤ）を用いてすべてのローテーションにわたって平均した。
【００７３】
この方法を用いて、以下の試料（２００ｍｇの試料、８００μＬの蒸留、脱イオン水）を評価した：実施例１Ａ、実施例１Ｂ、実施例１Ｃ、実施例１Ｄ、比較例および実施例１Ｅ。図１１は、メチルメルカプタンの繰り返し投与で生成した各試料のヘッドスペース回復曲線を示す。
【００７４】
このデータに基づくと、実施例１Ｄは、６回投与でヘッドスペース形成を防止することから、メチルメルカプタンの最大の吸着能力を有する。実施例１Ａ、１Ｂおよび１Ｅは、実施例１Ｃおよび比較例が合体する前の２回の投与で次によい能力を示す。個々のデータポイントを表５に記載する。
【００７５】
表５ 多重投与調査のデータ
【表５】
【００７６】
（ｐＨ段階調査）
メチルメルカプタンの吸着および水溶性金属種の関係を観察した。リリースがいつ、どの程度の量かを測定するために、ｐＨの段階調査を行った。本方法は、所望の実施例のスラリーのｐＨを、特定のｐＨに調整し、平衡を可能にし、分析することを含む。
【００７７】
典型的な実験では、１グラムの所望の実施例の材料を所望の基質内で懸濁、攪拌し、生成した溶液のｐＨを０．１ＭのＨＣｌまたは０．１ＭのＮａＯＨのどちらかを使用して調整した。所望のｐＨに達した後、スラリーを１時間平衡にすることができる。次いで、スラリーを１２，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離し、上澄み液をデカントした。ＩＣＰ−ＯＥＳを用いて適切な金属について上澄み液を試験した。
【００７８】
実施例１Ａ〜Ｅを、この手順を用いて評価し、その結果を図１２に示す。
【００７９】
これらサンプルの５％ｐＨが全てｐＨ＞８．０であることを考えると、溶液中に存在する不溶性の金属イオンはほとんどない。しかし、ｐＨ５．０付近で実施例１Ａおよび実施例１Ｄでは可溶性金属イオンの顕著な放出がある。これはまた、初期炭水化物導入後の経時的な口腔内のｐＨを描くステファン（Ｓｔｅｐｈｅｎ）曲線の低い点に対応する。実施例１Ａを用いることで、口腔への突入の後のＺｎイオンの放出を可能とし、それゆえ細菌増殖を抑制し、抗微生物剤として作用を可能にする。
【００８０】
ここに開示した化合物、複合体、キット、物品、装置、組成物および方法には、種々の修正および変形が可能である。ここに説明した化合物、複合体、キット、物品、装置、組成物および方法の他の態様は、ここに開示した化合物、複合体、キット、物品、装置、組成物および方法の開示内容と実践への考察から明らかになるであろう。明細書および実施例は例示のみを目的としている。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、表面の少なくとも一部に存在する金属付加物を含む沈降シリカ材料の有効量を哺乳類の口腔へ投与し、これにより口臭を低減する工程を備える口臭低減方法。
【請求項２】
前記沈降シリカ材料は、揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも３５％のヘッドスペースの低減を示す請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記沈降シリカ材料は、揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも５０％のヘッドスペースの低減を示す請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記金属付加物は、アルミニウム、亜鉛、錫、ストロンチウム、鉄、銅またはそれらの混合物を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記金属付加物は、亜鉛又は銅の付加物である請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記金属付加物は、沈降シリカ材料の重量に対し約１％〜約３％の量で存在する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記哺乳類は、ヒトである請求項１に記載の方法。
【請求項８】
（ａ）１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、少なくとも表面の一部に存在する金属付加物を含み、揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも３５％のヘッドスペースの低減を示す沈降シリカ材料と、
（ｂ）前記沈降シリカ材料以外の少なくとも一つの研磨剤、前記沈降シリカ材料以外の少なくとも一つの増粘剤、少なくとも一つの溶剤、少なくとも一つの防腐剤および少なくとも一つの界面活性剤からなる群から選択した少なくとも一つの随意的な他の構成材を含む歯磨剤であって、前記沈降シリカ材料が歯磨剤内で研磨剤または増粘剤若しくはその両方として存在することを特徴とする歯磨剤。
【請求項９】
前記沈降シリカ材料は、揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも５０％のヘッドスペースの低減を示す請求項８に記載の歯磨剤。
【請求項１０】
前記金属付加物は、アルミニウム、亜鉛、錫、ストロンチウム、鉄、銅およびそれらの混合物からなる群から選択した金属を含む請求項８に記載の歯磨剤。
【請求項１１】
前記金属付加物は、亜鉛または銅の付加物からなる請求項８に記載の歯磨剤。
【請求項１２】
前記金属付加物は、沈降シリカ材料の重量に対し１％〜３％の量で存在する請求項８に記載の歯磨剤。
【請求項１３】
ケイ酸塩を酸性化剤および金属塩と液状媒質中大気温から約１３０℃までの温度で反応させて反応生成物を液状媒質内に得る工程と、前記液状媒質のｐＨを低減させてシリカ材料を液状媒質から沈降させる工程とを備え、前記金属塩が亜鉛（II）塩化物、錫（II）塩化物、鉄（III）塩化物、銅（II）塩化物またはそれらの混合物を含む方法により調製した沈降シリカ材料。
【請求項１４】
前記金属塩が、塩化亜鉛（II）、塩化錫（II）、硝酸鉄（III）、硝酸銅（II）またはそれらの混合物を含む請求項１３に記載の沈降シリカ材料。
【請求項１５】
前記金属塩が、塩化亜鉛（II）、硝酸銅（II）またはそれらの混合物を含む請求項１３に記載の沈降シリカ材料。
【請求項１６】
１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、表面の少なくとも一部に存在する金属付加物を含み、揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも３５％のヘッドスペースの低減を示す沈降シリカ材料。
【請求項１７】
前記揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも５０％のヘッドスペースの低減を示す請求項１６に記載の沈降シリカ材料。
【請求項１８】
前記金属付加物は、アルミニウム、亜鉛、錫、ストロンチウム、鉄、銅またはそれらの混合物を含む請求項１６に記載の沈降シリカ材料。
【請求項１９】
前記金属付加物は、亜鉛または銅の付加物を含む請求項１６に記載の沈殿シリカ材料。
【請求項２０】
前記金属付加物は、沈降シリカ材料の重量に対し約１％〜約３％の量で存在する請求項１６に記載の沈降シリカ材料。
【請求項１】
１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、表面の少なくとも一部に存在する金属付加物を含む沈降シリカ材料の有効量を哺乳類の口腔へ投与し、これにより口臭を低減する工程を備える口臭低減方法。
【請求項２】
前記沈降シリカ材料は、揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも３５％のヘッドスペースの低減を示す請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記沈降シリカ材料は、揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも５０％のヘッドスペースの低減を示す請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記金属付加物は、アルミニウム、亜鉛、錫、ストロンチウム、鉄、銅またはそれらの混合物を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記金属付加物は、亜鉛又は銅の付加物である請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記金属付加物は、沈降シリカ材料の重量に対し約１％〜約３％の量で存在する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記哺乳類は、ヒトである請求項１に記載の方法。
【請求項８】
（ａ）１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、少なくとも表面の一部に存在する金属付加物を含み、揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも３５％のヘッドスペースの低減を示す沈降シリカ材料と、
（ｂ）前記沈降シリカ材料以外の少なくとも一つの研磨剤、前記沈降シリカ材料以外の少なくとも一つの増粘剤、少なくとも一つの溶剤、少なくとも一つの防腐剤および少なくとも一つの界面活性剤からなる群から選択した少なくとも一つの随意的な他の構成材を含む歯磨剤であって、前記沈降シリカ材料が歯磨剤内で研磨剤または増粘剤若しくはその両方として存在することを特徴とする歯磨剤。
【請求項９】
前記沈降シリカ材料は、揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも５０％のヘッドスペースの低減を示す請求項８に記載の歯磨剤。
【請求項１０】
前記金属付加物は、アルミニウム、亜鉛、錫、ストロンチウム、鉄、銅およびそれらの混合物からなる群から選択した金属を含む請求項８に記載の歯磨剤。
【請求項１１】
前記金属付加物は、亜鉛または銅の付加物からなる請求項８に記載の歯磨剤。
【請求項１２】
前記金属付加物は、沈降シリカ材料の重量に対し１％〜３％の量で存在する請求項８に記載の歯磨剤。
【請求項１３】
ケイ酸塩を酸性化剤および金属塩と液状媒質中大気温から約１３０℃までの温度で反応させて反応生成物を液状媒質内に得る工程と、前記液状媒質のｐＨを低減させてシリカ材料を液状媒質から沈降させる工程とを備え、前記金属塩が亜鉛（II）塩化物、錫（II）塩化物、鉄（III）塩化物、銅（II）塩化物またはそれらの混合物を含む方法により調製した沈降シリカ材料。
【請求項１４】
前記金属塩が、塩化亜鉛（II）、塩化錫（II）、硝酸鉄（III）、硝酸銅（II）またはそれらの混合物を含む請求項１３に記載の沈降シリカ材料。
【請求項１５】
前記金属塩が、塩化亜鉛（II）、硝酸銅（II）またはそれらの混合物を含む請求項１３に記載の沈降シリカ材料。
【請求項１６】
１〜１５ミクロンの平均粒径を有し、表面の少なくとも一部に存在する金属付加物を含み、揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも３５％のヘッドスペースの低減を示す沈降シリカ材料。
【請求項１７】
前記揮発性の硫黄化合物（ＶＳＣ）吸収試験で少なくとも５０％のヘッドスペースの低減を示す請求項１６に記載の沈降シリカ材料。
【請求項１８】
前記金属付加物は、アルミニウム、亜鉛、錫、ストロンチウム、鉄、銅またはそれらの混合物を含む請求項１６に記載の沈降シリカ材料。
【請求項１９】
前記金属付加物は、亜鉛または銅の付加物を含む請求項１６に記載の沈殿シリカ材料。
【請求項２０】
前記金属付加物は、沈降シリカ材料の重量に対し約１％〜約３％の量で存在する請求項１６に記載の沈降シリカ材料。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公表番号】特表２０１３−５２０４３０（Ｐ２０１３−５２０４３０Ａ）
【公表日】平成２５年６月６日（２０１３．６．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５５４０１１（Ｐ２０１２−５５４０１１）
【出願日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２０１１／０２５１４１
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／１０３２２６
【国際公開日】平成２３年８月２５日（２０１１．８．２５）
【出願人】（５０１４４９８１６）ジェイ・エム・フーバー・コーポレーション (7)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２５年６月６日（２０１３．６．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２０１１／０２５１４１
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／１０３２２６
【国際公開日】平成２３年８月２５日（２０１１．８．２５）
【出願人】（５０１４４９８１６）ジェイ・エム・フーバー・コーポレーション (7)
【Ｆターム（参考）】
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