説明

合成ガスの製法および製造装置

【課題】天然ガスなどの軽質炭化水素類を含む原料ガスから接触部分酸化法により合成ガスを製造する際に、原料ガス中の炭素数2以上の炭化水素類に起因する自己燃焼が起こらないようにする。
【解決手段】軽質炭化水素類を含む原料ガス中の炭素数2以上の炭化水素類をメタンに変換する低温水蒸気改質反応器8と、この低温水蒸気改質反応器8からの生成ガスを一酸化炭素と水素を含む合成ガスとする接触部分酸化反応器15を備えた装置を用い、原料ガス中の炭素数2以上の炭化水素類を予めメタンに変換しておき、これを接触部分酸化反応させて合成ガスを製造する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、天然ガスなどの軽質炭化水素類を含む原料ガスを接触部分酸化して、一酸化炭素と水素を含む合成ガスを製造する方法および装置に関し、接触部分酸化工程における炭素数2以上の炭化水素類の自己燃焼を抑えるようにしたものである。
【背景技術】
【0002】
天然ガスなどの軽質炭化水素類を原料とし、これから一酸化炭素と水素を含む合成ガスを製造し、さらにこの合成ガスを原料として灯油、軽油、メタノールなどの燃料油を合成する技術(GTL技術)が研究、開発されている。
この際、軽質炭化水素類から合成ガスを製造する方法の一つとして、接触部分酸化法(CPO)が知られている。
【0003】
この接触部分酸化法は、メタンなどの軽質炭化水素類を含む天然ガスなどの原料ガスに酸素を添加して、反応器に送り込み、反応器内のニッケル、ルテニウム、ロジウム、白金などの触媒の作用によりメタン、エタンなどの軽質炭化水素類を一酸化炭素と水素とに変換して、合成ガスを製造する方法である。
+m/2O=mCO+n/2H
【0004】
しかしながら、天然ガスなどの原料ガスには、メタン以外に通常5〜20%程度のエタン、プロパン、ブタンなどの炭素数2以上の炭化水素類が含まれていることが多い。これらの炭素数2以上の炭化水素類は、メタンに比較して発火温度が低いため、酸素を混合して接触酸化する際に燃焼しやすく、接触部分酸化反応器の触媒層よりも上流に位置する酸素混合器や予熱部で自己燃焼する可能性がたかく、装置の設計上、安全上大きな障害となる。
【0005】
また、炭素数2以上の炭化水素類では、それぞれの炭化水素の発火温度、燃焼濃度範囲が異なり、これら炭素数2以上の炭化水素類の含有割合に応じて、原料ガスとしての自己燃焼温度が異なってしまい、反応制御が面倒にもなる。
このような不都合に対処するものとして、WO98/49095には、複数の混合ノズルを備えたインジェクターを接触部分酸化反応器の入口に取り付け、炭化水素ガスと酸素ガスを自己燃焼しないような高線速条件下で混合して、部分酸化反応器の触媒層に送るようにした発明が開示されている。
【特許文献1】国際公開第WO98/49095号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
よって、本発明における課題は、天然ガスなどの軽質炭化水素類を含む原料ガスから接触部分酸化法により合成ガスを製造する際に、原料ガス中の炭素数2以上の炭化水素類に起因する自己燃焼が起こらないようにすることにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
かかる課題を解決するため、
請求項1にかかる発明は、軽質炭化水素類を含む原料ガスに酸素を添加して接触部分酸化し、一酸化炭素と水素を含む合成ガスを製造する際に、上記原料ガスに水蒸気を加えて低温水蒸気改質を行い、原料ガス中の炭素数2以上の炭化水素類をメタンに変換した後、これを接触部分酸化することを特徴とする合成ガスの製法である。
【0008】
請求項2にかかる発明は、低温水蒸気改質のための反応器での操作条件を、圧力が常圧〜8MPa、入口温度が200〜500℃、出口温度が300〜600℃、水蒸気添加量が原料ガス中の炭素1モルに対して0.1〜3.0モルとすることを特徴とする請求項1記載の合成ガスの製法である。
【0009】
請求項3にかかる発明は、接触部分酸化のための反応器での入口温度を300℃以上、酸素の添加量をガス中の炭素1モルに対して0.2モル以上とすることを特徴とする請求項1記載の合成ガスの製法である。
請求項4にかかる発明は、原料ガスが天然ガス、ナフサまたは液化石油ガスであることを特徴とする請求項1記載の合成ガスの製法である。
【0010】
請求項5にかかる発明は、軽質炭化水素類を含む原料ガス中の炭素数2以上の炭化水素類をメタンに変換する低温水蒸気改質反応器と、この低温水蒸気改質反応器からの生成ガスを一酸化炭素と水素を含む合成ガスとする接触部分酸化反応器を備えたことを特徴とする合成ガスの製造装置である。
【0011】
請求項6にかかる発明は、低温水蒸気改質反応器と接触部分酸化反応器との間に、低温水蒸気改質反応器からのガスを加熱する熱交換器を設けたことを特徴とする請求項5記載の合成ガスの製造装置である。
請求項7にかかる発明は、低温水蒸気改質反応器の前段に脱硫反応器を設け、この脱硫反応器と低温水蒸気改質反応器との間に、脱硫反応器からのガスを加熱する熱交換器を設けたことを特徴とする請求項5記載の合成ガスの製造装置である。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、天然ガス、ナフサなどの軽質炭化水素類に含まれる炭素数2以上の炭化水素類は、低温水蒸気改質によりメタンに変換される。このため、次段の接触部分酸化工程において原料ガスの自己燃焼が生じることがなくなる。
したがって、接触部分酸化での操業の安全性が向上する。また、原料ガスの組成が変化した時の対応が容易となる。
また、自己燃焼が抑えられることから、接触部分酸化反応器に送り込むガスの温度を従来の方法に比べて、200℃程度高くすることができるので、接触部分酸化反応に要する酸素量を低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0013】
以下、本発明をその具体例に基づいて詳しく説明する。
図1は、この発明の合成ガス製造装置の一例を示すものである。
天然ガスなどの軽質炭化水素類を含む原料ガスは、管1から脱硫反応器2に送り込まれる。この時、管3から水素添加用の水素が同時に脱硫反応器2に供給される。
【0014】
ここでの脱硫反応器2としては、例えば原料ガス中の硫黄化合物を水素で還元して硫化水素とし、この硫化水素を吸着除去する吸着器などが用いられる。
脱硫処理された原料ガスは、管4から導出され、管5からの水蒸気がこれに混合されたうえ、第1熱交換器6に送り込まれ、ここで200〜500℃に加熱されたのち、管7を経て、低温水蒸気改質反応器8に送り込まれる。
【0015】
この低温水蒸気改質反応器8は、その内部にニッケル、ルテニウムのいずれかもしくはこれらの両方の金属を酸化アルミニウムなどの担体に担持してなる触媒が充填された触媒床が備えられたものであり、この反応器8では、原料ガス中の炭素数2以上の炭化水素類が触媒の作用により水蒸気と反応してメタンに変換され、酸素が副生成物として副生される。
【0016】
この低温水蒸気改質反応器8における操作条件は、圧力が常圧〜8MPa、好ましくは1〜4MPaとされ、入口温度が200〜500℃、好ましくは300〜400℃とされ、出口温度が300〜600℃、好ましくは400〜550℃とされ、水蒸気添加量は、原料ガス中の炭素1モルに対して、0.1〜3.0モル、好ましくは0.3〜1.0モルとされる。
【0017】
低温水蒸気改質反応器8からのメタンと酸素を含む生成ガスは、管9から管10からの水蒸気とともに第2熱交換器11に送られ、ここで300〜550℃に加熱された後、混合器12に送られる。
この混合器12には、別途管13からの酸素が供給され、ここで酸素が上記生成ガスと水蒸気との混合ガスに混合される。ここで添加される水蒸気は、接触部分酸化反応器15の触媒のコーキングを防ぐためのものである。
【0018】
この混合器12での酸素の添加量は、混合器12の出口においての酸素含有量として、ガス中の炭素1モルに対して、0.2〜1.0モル、好ましくは0.3〜0.8モルの範囲となるように調整され、従来方法での酸素含有量よりも多くすることができる。これは、次段での接触部分酸化反応工程での自己燃焼が生じにくいことによる。
混合器12からのガスは、管14を経て接触部分酸化反応器15に送り込まれる。
【0019】
接触部分酸化反応器15は、その内部にニッケル、ルテニウム、ロジウム、白金からなる群から選ばれる1種以上の金属をアルミナ、シリカなどの担体に担持してなる触媒が充填された触媒床が備えられたものであり、ここに導入されたガス中のメタンと酸素とが反応し、一酸化炭素と水素を含む合成ガスが得られるようになっている。
この接触部分酸化反応器15における操作条件は、圧力が常圧〜8MPaとされ、入口温度が300〜550℃、出口温度が700〜1200℃とされる。
接触部分酸化反応器15で生成された合成ガスは、管16から導出され、次工程に送られる。
【0020】
このような合成ガスの製法にあっては、接触部分酸化反応器15の前段に低温水蒸気改質反応器8を設け、この低温水蒸気改質反応器8において、原料ガス中の炭素数2以上の炭化水素類を予めメタンに変換し、これを接触部分酸化反応器15に導くようにしているので、接触部分酸化反応器15には炭素数2以上の炭化水素類が流れ込むことがないので、混合器12から接触部分酸化反応器15の触媒層上流までの間で炭素数2以上の炭化水素類の自己燃焼が抑えられる。
【0021】
表1は、原料としての天然ガスを例として、低温水蒸気改質反応器8における入口と出口でのガスの組成変化の一例を示すもので、反応器8の出口では、炭素数2以上のエタン、プロパン等がほとんど含まれない組成に変換されていることが解る。
【0022】
【表1】

【0023】
また、低温で燃焼する炭素数2以上の炭化水素類がほとんど含まれなくなるので、低温水蒸気改質反応器8からの生成ガスの着火温度が高くなるため、接触部分酸化反応器15に送り込むガスの温度を高くすることができ、接触部分酸化反応に要する酸素量を低減することができる。例えば、低温水蒸気改質反応器8の入口での原料ガスの着火温度は、その組成によって異なるが約250〜350℃であるが、これの出口での生成ガスの着火温度は約450〜530℃となる。
【0024】
さらに、低温水蒸気改質反応において使用される触媒は、ニッケルなどの比較的安価なものを用いることができ、この安価な触媒を多量に用いて原料ガス中の残留硫黄を被毒させて捕集することにより、接触部分酸化反応器15での触媒の硫黄劣化を低減することができる。
【0025】
以下、具体例を示す。
【0026】
(従来例1)
脱硫器に通して硫黄含有量10ppb以下まで脱硫した天然ガス(メタン:エタン:プロパン:ノルマルブタン:イソブタン:水素=87:7:2.8:0.6:0.6:2(モル%))1.73Nm/時に、水蒸気を0.95kg/時混合し、これを加熱器で300℃に加熱し、さらに加熱された酸素を混合し、接触部分酸化反応器に供給した。酸素混合器での混合ガスの温度は、約290℃であった。
【0027】
この接触部分酸化反応器は、長さ1m、内径22mmの管状反応器で、その内部には、ロジウムとニッケルをアルミナに担持した触媒からなる触媒床が形成され、この触媒床の上部には長さ10cmの空間部が形成され、この空間部に径3mmのセラミックボールが充填されているものである。
【0028】
天然ガスに対する酸素の混合量を徐々に増加し、酸素量を炭素1モルに対して0.4モルにしたところ、触媒床上の空間部で無触媒下での自己燃焼が生じ、空間部内の温度が1000℃を越えてしまった。そのため、酸素混合量を減量して反応を停止した。この時の酸素混合器での混合ガス温度は280℃で、反応器内の圧力は4MPaであった。
【0029】
(従来例2)
酸素添加量を増加するため、水蒸気混合天然ガスの温度、添加酸素の温度を下げて、酸素混合器での混合ガス温度が250℃となるようにし、酸素を徐々に供給し、接触部分酸化反応器に導入した。天然ガス中の炭素1モルに対して酸素0.6モルでも触媒床上のセラミックボール充填部での自己燃焼が発生せず、本来の接触部分酸化反応を維持できた。
【0030】
10時間反応を継続した後、接触部分酸化反応器からのガスの分析結果は以下の通りであった。
メタン:水素:一酸化炭素:二酸化炭素:水分=0.7:51.0:24.2:4.3:19.8(モル%)であり、合成ガス原料である水素と一酸化炭素との合計生成量は5.1Nm/時であった。水素と一酸化炭素との比率は約2.1であり、合成ガス原料として適切であった。
【0031】
(実施例)
従来例での装置に、水蒸気混合原料ガスの加熱器と酸素混合器との間に低温水蒸気改質反応器および第2加熱器を設置した。低温水蒸気改質反応器は、長さ2m、内径50mmの管状の反応器であって、その内部には、ニッケルをアルミナに担持した触媒からなる触媒床が形成されているものである。
【0032】
従来例と同一流量の水蒸気混合天然ガスを300℃に加熱して低温水蒸気改質反応器に供給し、低温水蒸気改質反応を行った。低温水蒸気改質反応器からの改質ガスの分析結果は以下の通りであった。
メタン:水素:二酸化炭素:水分=62.1:1.5:2.4:34.0(モル%)。
この改質ガス中には、メタン以外の炭化水素および一酸化炭素は実質的に認められなかった。
【0033】
この改質ガスを第2加熱器で加熱し、これに加熱された酸素をガス中の炭素1モル当たり0.53モル加えて、接触部分酸化反応器に送った。このときの酸素混合器でのガスの温度は、500℃であったが、酸素混合器から接触部分酸化反応器上流側までの間で自己燃焼は起こらず、所定の接触部分酸化反応が維持された。
10時間反応を継続した後、接触部分酸化反応器からのガスの分析結果は以下の通りであった。
【0034】
メタン:水素:一酸化炭素:二酸化炭素:水分=1.7:52.4:24.5:4.0:17.4(モル%)であり、合成ガス原料である水素と一酸化炭素との合計生成量は5.1Nm/時であった。水素と一酸化炭素との比率は約2.1であり、合成ガス原料として適切であった。
【0035】
この実施例は、水蒸気改質反応器の出口ガスには、炭素数2以上の炭化水素が含まれないことから、酸素を混合する際の加熱温度を高くすることができ、結果として、同一の合成ガス製造量を得るために必要な酸素供給量を低減できることを示している。すなわち、従来例2では、必要な炭素1モル当たりの酸素量は0.6モルであったのに対して、実施例では0.53モルまで低減できた。
【0036】
(比較例)
実施例を終了後、低温水蒸気改質反応器の触媒を接触部分酸化用触媒に交換し低温部分酸化反応器に変更するとともに、水蒸気混合天然ガスの加熱器の直前に酸素を供給できるようにした。すなわち、接触部分酸化反応を低温と高温との2段で行う装置構成とした。
【0037】
従来例、実施例と同じ脱硫した天然ガス1.73Nm/時に、水蒸気を0.95kg/時混合し、さらにこれに加熱された酸素を炭素1モル当たり0.06モル添加して250℃に調節した混合ガスを低温部分酸化反応器に供給した。
【0038】
酸素混合器から低温部分酸化反応器の触媒床上までの間で自己燃焼が起こらなかったので、反応を維持しつつ、さらに低温部分酸化反応器からの生成ガスに炭素1モル当たり0.54モルの酸素を追加して、500℃に調節して高温部分酸化反応器に供給した。したがって、合計酸素添加量は炭素1モル当たり0.6モルである。高温部分酸化反応器上流での自己燃焼は観察されなかった。
【0039】
10時間反応後の低温部分酸化反応器からの生成ガスの分析結果は以下の通りであった。
メタン:水素:一酸化炭素:二酸化炭素:水分=54.0:8.5:0.3:5.5:31.7(モル%)。
【0040】
また、高温部分酸化反応器からの生成ガスの分析結果は以下の通りであった。
メタン:水素:一酸化炭素:二酸化炭素:水分=0.6:51.2:24.4:4.1:19.7(モル%)であった。合成ガス原料である水素と一酸化炭素との合計生成量は5.1Nm/時であった。水素と一酸化炭素との比率は約2.1であり、合成ガス原料に適切であった。
この比較例から、接触部分酸化反応を2段に組み合わせても、同一量の合成ガス製造量を得るために必要な酸素量を低減する効果がないことがわかる。
【0041】
なお、本発明にあっては、これをナフサ、LPG(液化石油ガス)などから合成ガスを製造する場合にも応用することができる。
また、図1に示した装置における脱硫反応器2、第1熱交換器6、第2熱交換器11、混合器12は必須ではなく、省略することもできる。また、接触部分酸化反応器は1段ではなく、2段以上の多段であってもよく、また接触部分酸化反応とオートサーマルリフォーミング反応(ATR)とを組み合わせた反応器であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【0042】
【図1】本発明の合成ガスの製造装置の一例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【0043】
8・・・低温水蒸気改質反応器、12・・・混合器、15・・・接触部分酸化反応器

【特許請求の範囲】
【請求項1】
軽質炭化水素類を含む原料ガスに酸素を添加して接触部分酸化し、一酸化炭素と水素を含む合成ガスを製造する際に、上記原料ガスに水蒸気を加えて低温水蒸気改質を行い、原料ガス中の炭素数2以上の炭化水素類をメタンに変換した後、これを接触部分酸化することを特徴とする合成ガスの製法。
【請求項2】
低温水蒸気改質のための反応器での操作条件を、圧力が常圧〜8MPa、入口温度が200〜500℃、出口温度が300〜600℃、水蒸気添加量が原料ガス中の炭素1モルに対して0.1〜3.0モルとすることを特徴とする請求項1記載の合成ガスの製法。
【請求項3】
接触部分酸化のための反応器での入口温度を300℃以上、酸素の添加量をガス中の炭素1モルに対して0.2モル以上とすることを特徴とする請求項1記載の合成ガスの製法。
【請求項4】
原料ガスが、天然ガス、ナフサまたは液化石油ガスであることを特徴とする請求項1記載の合成ガスの製法。
【請求項5】
軽質炭化水素類を含む原料ガス中の炭素数2以上の炭化水素類をメタンに変換する低温水蒸気改質反応器と、この低温水蒸気改質反応器からの生成ガスを一酸化炭素と水素を含む合成ガスとする接触部分酸化反応器を備えたことを特徴とする合成ガスの製造装置。
【請求項6】
低温水蒸気改質反応器と接触部分酸化反応器との間に、低温水蒸気改質反応器からのガスを加熱する熱交換器を設けたことを特徴とする請求項5記載の合成ガスの製造装置。
【請求項7】
低温水蒸気改質反応器の前段に脱硫反応器を設け、この脱硫反応器と低温水蒸気改質反応器との間に、脱硫反応器からのガスを加熱する熱交換器を設けたことを特徴とする請求項5記載の合成ガスの製造装置。


【図1】
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【公開番号】特開2006−111477(P2006−111477A)
【公開日】平成18年4月27日(2006.4.27)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2004−298971(P2004−298971)
【出願日】平成16年10月13日(2004.10.13)
【出願人】(000004411)日揮株式会社 (94)
【出願人】(000000284)大阪瓦斯株式会社 (2,453)
【Fターム(参考)】