塗工用前処理物および塗工方法
【課題】塗膜終端部の液だれを抑制できる塗工用前処理物および方法を提供すること。
【解決手段】基材への間欠塗工において、基材に、基材の搬送方向下流側に純水に対する表面接触角が異なる値をとる表面処理域Ａ５、Ｂ６、Ｃ７を順に設け、それら以外の表面処理域（それらの両端側域を含め）を表面処理域Ｄ８として設け、かつ表面処理域Ａ〜Ｄの純水に対する接触角ａ、ｂ、ｃ、ｄをａ＜ｃ、ｂ＜ｃ、ｃ≒ｄとし、さらに純水に対する表面接触角が異なる表面処理域Ａ５、Ｂ６、Ｃ７のそれぞれの面積を、Ａ＞Ｃ＞Ｂとして設けることで、塗膜終端部の液だれを抑制、低減させることを特徴とする塗工用前処理物及び塗工方法。
【解決手段】基材への間欠塗工において、基材に、基材の搬送方向下流側に純水に対する表面接触角が異なる値をとる表面処理域Ａ５、Ｂ６、Ｃ７を順に設け、それら以外の表面処理域（それらの両端側域を含め）を表面処理域Ｄ８として設け、かつ表面処理域Ａ〜Ｄの純水に対する接触角ａ、ｂ、ｃ、ｄをａ＜ｃ、ｂ＜ｃ、ｃ≒ｄとし、さらに純水に対する表面接触角が異なる表面処理域Ａ５、Ｂ６、Ｃ７のそれぞれの面積を、Ａ＞Ｃ＞Ｂとして設けることで、塗膜終端部の液だれを抑制、低減させることを特徴とする塗工用前処理物及び塗工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布膜終端部の液だれを抑制する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に塗布膜になる液体状の材料、例えば印刷インキを各種の塗布方法、例えばスクリーン印刷法、マイクログラビア印刷法、グラビア印刷法、ブレード法、スロットダイ法、ロールコーティング法などによって基材上に印刷あるいは塗布して塗布膜を形成する。これらの塗工方法では、連続塗工を行うがどうしても基材と基材のつなぎ目が存在し、一時塗工を中断しなければならない場合がある。この時、塗工端部は塗液がたれる非定常部が発生するため、その非定常部が製品とならないため、歩留まりの悪化の一因となっている。
【０００３】
特に間欠塗工と呼ばれる塗布方法では、塗布終端部が連続塗工に比べ、増加するためこの歩留まりの悪化が顕著に現れる。
【０００４】
特許文献１は、機械的な手法によってこの問題を解決する方法が開示されている。しかしながら、機械的な手法では、塗工端部の非定常部の塗液挙動は制御できないという問題があった。
【０００５】
特許文献２では撥水剤等を用いて液だれを抑制することが挙げられているが、この方法では撥水領域に塗液が付着した場合、液がそこに液滴として安定化していまい、別の問題を発生させるため、液だれと同じように生産性を低下させる危険性がある
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−３４０３３８
【特許文献２】特開２００９−２８３２７０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、塗工物の塗工端部に発生する液だれの抑制できる塗工用前処理物および塗工方法を提供することを課題とした。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するため本発明の特徴を以下に示す。
【０００９】
第一の発明は、基材への間欠塗工において、基材に、基材の搬送方向下流側に純水に対する表面接触角が異なる値をとる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃを順に設け、それら以外の表面処理域（それらの両端側域を含め）を表面処理域Ｄとして設けてなることを特徴とする塗工用前処理物である。
【００１０】
第二の発明は、基材には、純水に対する表面接触角が異なる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃのそれぞれの面積を、Ａ＞Ｃ＞Ｂとして設けてなることを特徴とする塗工用前処理物であり、特に表面処理域Ｂが基材搬送方向下流側の表面処理域Ａの終端より処理域Ａの処理幅（基材搬送方向と直交方向への処理幅）と同幅で基材搬送方向下流方向に処理域Ａの終端より０．１ｍｍ〜１ｍｍの処理域）として設けてなることを特徴とする塗工用前処理物である。
【００１１】
第三の発明は、その基材の表面接触角の異なる表面処理域Ａ〜Ｄの純水に対する接触角ａ、ｂ、ｃ、ｄがａ＜ｃ、ｂ＜ｃ、ｃ≒ｄであることを特徴とする塗工用前処理物である。
【００１２】
第四の発明は、その基材の表面処理域Ｃの純水に対する接触角ｃが表面処理域Ａの純水に対する接触角ａの１１０％〜２５０％であることを特徴とする塗工用前処理物である。
【００１３】
第五の発明は、その基材へ塗布膜を塗布するために使用する塗布液の粘度が、せん断速度１（１／秒）の時、５、０００（ポイズ）以下であることを特徴とする本発明の塗工用前処理物への塗工方法である。
【発明の効果】
【００１４】
第一の発明は、基材への間欠塗工において、基材に、基材の搬送方向下流側に純水に対する表面接触角が異なる値をとる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃを順に設け、それら以外の表面処理域（それらの両端側域を含め）を表面処理域Ｄとして設けてなるものであり、表面処理域Ａ上に塗膜を形成する際、表面処理域Ａの搬送方向下流側の終端において、表面処理域ＢおよびＣへの塗液の液だれを抑制することができる長所を有するものである。
【００１５】
第二の発明は、基材には、純水に対する表面接触角が異なる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃのそれぞれの面積を、Ａ＞Ｃ＞Ｂとして設けてなるものであり、表面処理域Ａ上に塗膜を形成する際、表面処理域Ａの搬送方向下流側の終端において、表面処理域ＢおよびＣへの塗液の液だれを抑制することができる長所を有するものである。
特に表面処理域Ｂの処理域を基材搬送方向下流側の表面処理域Ａの終端より処理域Ａの処理幅（基材搬送方向と直交方向への処理幅）と同幅で基材搬送方向下流方向に処理域Ａの終端より０．１ｍｍ〜１ｍｍの処理域）として設けることによって、表面処理域ＢとＣの面積バランスにより、塗液の液だれが表面処理域ＢとＣに残留するのを抑制することができる長所を有するものである。
【００１６】
第三の発明は、その基材の表面接触角の異なる表面処理域Ａ〜Ｄの純水に対する接触角ａ、ｂ、ｃ、ｄがａ＜ｃ、ｂ＜ｃ、ｃ≒ｄであることを特徴とするものであり、特に表面処理域Ａ〜Ｄの純水に対する接触角ａ、ｂ、ｃのバランスにより、表面処理域Ａ上に塗膜を形成する際、表面処理域Ａの搬送方向下流側の終端において、表面処理域ＢおよびＣ上への塗液の球状または半球上の液だれ、残留を抑制することができる長所を有するものである。
【００１７】
第四の発明は、その基材の表面処理域Ｃの純水に対する接触角ｃが表面処理域Ａの純水に対する接触角ａの１１０％〜２５０％であることを特徴とするものであり、さらに表面処理域ＢおよびＣ上への塗液の球状または半球上の液だれ、残留を抑制することができる長所を有するものである。
【００１８】
第五の発明は、その基材へ塗布膜を塗布するために使用する塗布液の粘度を、せん断速度１（１／秒）の時、５、０００（ポイズ）以下であることすることにより、さらに表面処理域ＢおよびＣ上への塗液の球状または半球上の液だれ、残留を抑制することができる長所を有するものである。
【００１９】
本発明は、間欠塗工において塗工終端部に発生する液だれおよび非塗工部に残留する液滴を抑制することが可能であり、結果として歩留まりが良化することで生産性の向上が期待できる長所を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】従来の塗布膜の定常部と液だれのイメージの一例を示す平面図
【図２】基材の純水との接触角の違う表面処理域のパターン例を示す平面図
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１は、従来の塗布膜２の定常部域３と液だれ４の一例を示す平面図である。基材表面の処理を行っていない場合、通常は図１のように、基材表面に塗布された塗布膜２の終端部（全面に塗工が行われている部分とそうでない部分の境界を呼んでいる。）から基材搬送方向下流側に液だれ４が存在し、このようになるのが通常である。
【００２２】
図２は、本発明になる基材の純水との接触角の違う領域パターン例を示す平面図である。
基材上の５は表面処理域Ａを示しており塗布膜が設けられる域である。６、７、８はそれぞれ表面処理域Ｂ、表面処理域Ｃ、表面処理域Ｄを示しており、液だれを防止するために設けられてある。
【００２３】
また、せん断速度が１（１／秒）の時の塗布液の粘度が５、０００（ポイズ）を超えると塗布液の流動性が低くなり過ぎて、表面処理を施したことによる効果が減滅してしまうため、５、０００（ポイズ）以下の粘度が適している。
【００２４】
表面処理の方法としては、前記のコロナ放電や大気圧プラズマを用いる方法以外
に、湿式の方法として鹸化処理を使用することができる。その他の表面改質が行われることに基づいている。従って、コロナ放電、大気圧プラズマ、鹸化に限定せず、同等の効果を持つ表面処理技術を適用できることは言うまでもない。
【００２５】
同様に撥水処理に関しても、表面粗さ等の物理的な処理や撥水剤等を用いた化学的な表面処理技術を使っても差し支えない。
【００２６】
さらに、純水に対する表面接触角の違う表面を同一基材上に3つ以上持っても問題ない。
【実施例】
【００２７】
次に本発明の実施例について記するが、ここに記載した内容に限定されるものではない。
【００２８】
＜実施例１＞
基材 ：ポリエチレンテレフタレートフィルム（75μｍ）
塗布液組成：シリカ粒子（トスパール１１１０、モメンティブ・パフォーマンス・マテ
リアルズ社製） ５０重量部
増粘剤（サンローズ、日本製紙ケミカル社製） １重量部
バインダー（ＳＢＲ、日本ゼオン社製） ９重量部
純水 ４０重量部
表面処理域Ａ作成
表面処理装置：コロナ放電処理装置（ＡＧＩ−０４３、春日電機社製）
表面処理条件：標準条件として２×１０４Ｊ／ｍ２
表面処理域Ｂの作成
表面処理装置：コロナ放電処理装置（ＡＧＩ−０４３、春日電機社製）
表面処理条件：標準条件として２×５０Ｊ／ｍ２
表面処理域Ｃの作成
撥水剤の塗布：撥水剤（ディフェンサＴＲ−３３０ ＤＩＣ製）。
【００２９】
上記の基材の表面は上記の表面処理を利用して、表面処理域Ａの純水に対する接触角を１００％とすると表面処理域Ｂは１５０％とし、塗膜の定常部終端部より０．５ｍｍに形成し、表面Cは２５０％となるように予め調整し、処理を行った。その後、表面処理から６０分以内に、上記の塗布液を、１５０ｍｍ×１５０ｍｍのサイズの正方形のパターンを図２に示す位置関係で、１０ｍｍのパターン間距離を置いて形成した。その後、１２０℃、６０分間、クリーンオーブンにて乾燥しサンプルを得た。
【００３０】
このサンプルの終端部をマイクロスコープで観察し、基材終端部の全面塗布された位置を基準点と基材上流方向に液だれの長さを測定する。
【００３１】
＜実施例２＞
基材の表面処理域Ａを上記のコロナ放電処理装置を使用して２×１０４Ｊ／ｍ２を標準条件として、表面処理域Ａの純水に対する接触角に対して表面処理域Ｂの接触角１２０％、表面処理域Ｃの接触角の１７０％になるように予め調整し処理した。それ以外の条件は実施例１と同じである。
【００３２】
＜実施例３＞
基材の表面処理域Ｂを上記のコロナ放電処理装置を使用して２×１０４Ｊ／ｍ２標準条件として、それより弱い条件にて、表面処理域Ａの純水に対する接触角１００％とし、表面処理域Ｂの純水に対する接触角の１１０％、表面処理域Ｃの純水に対する接触角が１２０％になるように予め調整し処理した。それ以外の条件は実施例１と同じである。
【００３３】
＜比較例１＞
次に、比較例について説明する。
基材前面を表面処理域Ａの純水に対する接触角と同等になるように予め調整し処理した。それ以外の条件は実施例１と同じである。
【００３４】
＜比較例２＞
基材の表面処理域Ａの純水に対する接触角を１００％としたときに、表面処理域Ｂ及びＣが２５０％となるように予め調整し処理した。それ以外の条件は実施例１と同じである。
【００３５】
実施例１〜３、比較例１〜２の測定結果を表１にまとめて示した。液だれ部の長さについて評価し、液だれが０．５ｍｍ以下◎、１ｍｍ以下を○、１ｍｍ以上のものを×とした。
また備考は液だれ以外の問題点について記載する。
【００３６】
【表１】
【符号の説明】
【００３７】
１・・・基材
２・・・塗布膜
３・・・定常部
４・・・液だれ部
５・・・基材表面処理域Ａ
６・・・基材表面処理域Ｂ
７・・・基材表面処理域Ｃ
８・・・基材表面処理域Ｄ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布膜終端部の液だれを抑制する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に塗布膜になる液体状の材料、例えば印刷インキを各種の塗布方法、例えばスクリーン印刷法、マイクログラビア印刷法、グラビア印刷法、ブレード法、スロットダイ法、ロールコーティング法などによって基材上に印刷あるいは塗布して塗布膜を形成する。これらの塗工方法では、連続塗工を行うがどうしても基材と基材のつなぎ目が存在し、一時塗工を中断しなければならない場合がある。この時、塗工端部は塗液がたれる非定常部が発生するため、その非定常部が製品とならないため、歩留まりの悪化の一因となっている。
【０００３】
特に間欠塗工と呼ばれる塗布方法では、塗布終端部が連続塗工に比べ、増加するためこの歩留まりの悪化が顕著に現れる。
【０００４】
特許文献１は、機械的な手法によってこの問題を解決する方法が開示されている。しかしながら、機械的な手法では、塗工端部の非定常部の塗液挙動は制御できないという問題があった。
【０００５】
特許文献２では撥水剤等を用いて液だれを抑制することが挙げられているが、この方法では撥水領域に塗液が付着した場合、液がそこに液滴として安定化していまい、別の問題を発生させるため、液だれと同じように生産性を低下させる危険性がある
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−３４０３３８
【特許文献２】特開２００９−２８３２７０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、塗工物の塗工端部に発生する液だれの抑制できる塗工用前処理物および塗工方法を提供することを課題とした。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するため本発明の特徴を以下に示す。
【０００９】
第一の発明は、基材への間欠塗工において、基材に、基材の搬送方向下流側に純水に対する表面接触角が異なる値をとる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃを順に設け、それら以外の表面処理域（それらの両端側域を含め）を表面処理域Ｄとして設けてなることを特徴とする塗工用前処理物である。
【００１０】
第二の発明は、基材には、純水に対する表面接触角が異なる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃのそれぞれの面積を、Ａ＞Ｃ＞Ｂとして設けてなることを特徴とする塗工用前処理物であり、特に表面処理域Ｂが基材搬送方向下流側の表面処理域Ａの終端より処理域Ａの処理幅（基材搬送方向と直交方向への処理幅）と同幅で基材搬送方向下流方向に処理域Ａの終端より０．１ｍｍ〜１ｍｍの処理域）として設けてなることを特徴とする塗工用前処理物である。
【００１１】
第三の発明は、その基材の表面接触角の異なる表面処理域Ａ〜Ｄの純水に対する接触角ａ、ｂ、ｃ、ｄがａ＜ｃ、ｂ＜ｃ、ｃ≒ｄであることを特徴とする塗工用前処理物である。
【００１２】
第四の発明は、その基材の表面処理域Ｃの純水に対する接触角ｃが表面処理域Ａの純水に対する接触角ａの１１０％〜２５０％であることを特徴とする塗工用前処理物である。
【００１３】
第五の発明は、その基材へ塗布膜を塗布するために使用する塗布液の粘度が、せん断速度１（１／秒）の時、５、０００（ポイズ）以下であることを特徴とする本発明の塗工用前処理物への塗工方法である。
【発明の効果】
【００１４】
第一の発明は、基材への間欠塗工において、基材に、基材の搬送方向下流側に純水に対する表面接触角が異なる値をとる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃを順に設け、それら以外の表面処理域（それらの両端側域を含め）を表面処理域Ｄとして設けてなるものであり、表面処理域Ａ上に塗膜を形成する際、表面処理域Ａの搬送方向下流側の終端において、表面処理域ＢおよびＣへの塗液の液だれを抑制することができる長所を有するものである。
【００１５】
第二の発明は、基材には、純水に対する表面接触角が異なる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃのそれぞれの面積を、Ａ＞Ｃ＞Ｂとして設けてなるものであり、表面処理域Ａ上に塗膜を形成する際、表面処理域Ａの搬送方向下流側の終端において、表面処理域ＢおよびＣへの塗液の液だれを抑制することができる長所を有するものである。
特に表面処理域Ｂの処理域を基材搬送方向下流側の表面処理域Ａの終端より処理域Ａの処理幅（基材搬送方向と直交方向への処理幅）と同幅で基材搬送方向下流方向に処理域Ａの終端より０．１ｍｍ〜１ｍｍの処理域）として設けることによって、表面処理域ＢとＣの面積バランスにより、塗液の液だれが表面処理域ＢとＣに残留するのを抑制することができる長所を有するものである。
【００１６】
第三の発明は、その基材の表面接触角の異なる表面処理域Ａ〜Ｄの純水に対する接触角ａ、ｂ、ｃ、ｄがａ＜ｃ、ｂ＜ｃ、ｃ≒ｄであることを特徴とするものであり、特に表面処理域Ａ〜Ｄの純水に対する接触角ａ、ｂ、ｃのバランスにより、表面処理域Ａ上に塗膜を形成する際、表面処理域Ａの搬送方向下流側の終端において、表面処理域ＢおよびＣ上への塗液の球状または半球上の液だれ、残留を抑制することができる長所を有するものである。
【００１７】
第四の発明は、その基材の表面処理域Ｃの純水に対する接触角ｃが表面処理域Ａの純水に対する接触角ａの１１０％〜２５０％であることを特徴とするものであり、さらに表面処理域ＢおよびＣ上への塗液の球状または半球上の液だれ、残留を抑制することができる長所を有するものである。
【００１８】
第五の発明は、その基材へ塗布膜を塗布するために使用する塗布液の粘度を、せん断速度１（１／秒）の時、５、０００（ポイズ）以下であることすることにより、さらに表面処理域ＢおよびＣ上への塗液の球状または半球上の液だれ、残留を抑制することができる長所を有するものである。
【００１９】
本発明は、間欠塗工において塗工終端部に発生する液だれおよび非塗工部に残留する液滴を抑制することが可能であり、結果として歩留まりが良化することで生産性の向上が期待できる長所を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】従来の塗布膜の定常部と液だれのイメージの一例を示す平面図
【図２】基材の純水との接触角の違う表面処理域のパターン例を示す平面図
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１は、従来の塗布膜２の定常部域３と液だれ４の一例を示す平面図である。基材表面の処理を行っていない場合、通常は図１のように、基材表面に塗布された塗布膜２の終端部（全面に塗工が行われている部分とそうでない部分の境界を呼んでいる。）から基材搬送方向下流側に液だれ４が存在し、このようになるのが通常である。
【００２２】
図２は、本発明になる基材の純水との接触角の違う領域パターン例を示す平面図である。
基材上の５は表面処理域Ａを示しており塗布膜が設けられる域である。６、７、８はそれぞれ表面処理域Ｂ、表面処理域Ｃ、表面処理域Ｄを示しており、液だれを防止するために設けられてある。
【００２３】
また、せん断速度が１（１／秒）の時の塗布液の粘度が５、０００（ポイズ）を超えると塗布液の流動性が低くなり過ぎて、表面処理を施したことによる効果が減滅してしまうため、５、０００（ポイズ）以下の粘度が適している。
【００２４】
表面処理の方法としては、前記のコロナ放電や大気圧プラズマを用いる方法以外
に、湿式の方法として鹸化処理を使用することができる。その他の表面改質が行われることに基づいている。従って、コロナ放電、大気圧プラズマ、鹸化に限定せず、同等の効果を持つ表面処理技術を適用できることは言うまでもない。
【００２５】
同様に撥水処理に関しても、表面粗さ等の物理的な処理や撥水剤等を用いた化学的な表面処理技術を使っても差し支えない。
【００２６】
さらに、純水に対する表面接触角の違う表面を同一基材上に3つ以上持っても問題ない。
【実施例】
【００２７】
次に本発明の実施例について記するが、ここに記載した内容に限定されるものではない。
【００２８】
＜実施例１＞
基材 ：ポリエチレンテレフタレートフィルム（75μｍ）
塗布液組成：シリカ粒子（トスパール１１１０、モメンティブ・パフォーマンス・マテ
リアルズ社製） ５０重量部
増粘剤（サンローズ、日本製紙ケミカル社製） １重量部
バインダー（ＳＢＲ、日本ゼオン社製） ９重量部
純水 ４０重量部
表面処理域Ａ作成
表面処理装置：コロナ放電処理装置（ＡＧＩ−０４３、春日電機社製）
表面処理条件：標準条件として２×１０４Ｊ／ｍ２
表面処理域Ｂの作成
表面処理装置：コロナ放電処理装置（ＡＧＩ−０４３、春日電機社製）
表面処理条件：標準条件として２×５０Ｊ／ｍ２
表面処理域Ｃの作成
撥水剤の塗布：撥水剤（ディフェンサＴＲ−３３０ ＤＩＣ製）。
【００２９】
上記の基材の表面は上記の表面処理を利用して、表面処理域Ａの純水に対する接触角を１００％とすると表面処理域Ｂは１５０％とし、塗膜の定常部終端部より０．５ｍｍに形成し、表面Cは２５０％となるように予め調整し、処理を行った。その後、表面処理から６０分以内に、上記の塗布液を、１５０ｍｍ×１５０ｍｍのサイズの正方形のパターンを図２に示す位置関係で、１０ｍｍのパターン間距離を置いて形成した。その後、１２０℃、６０分間、クリーンオーブンにて乾燥しサンプルを得た。
【００３０】
このサンプルの終端部をマイクロスコープで観察し、基材終端部の全面塗布された位置を基準点と基材上流方向に液だれの長さを測定する。
【００３１】
＜実施例２＞
基材の表面処理域Ａを上記のコロナ放電処理装置を使用して２×１０４Ｊ／ｍ２を標準条件として、表面処理域Ａの純水に対する接触角に対して表面処理域Ｂの接触角１２０％、表面処理域Ｃの接触角の１７０％になるように予め調整し処理した。それ以外の条件は実施例１と同じである。
【００３２】
＜実施例３＞
基材の表面処理域Ｂを上記のコロナ放電処理装置を使用して２×１０４Ｊ／ｍ２標準条件として、それより弱い条件にて、表面処理域Ａの純水に対する接触角１００％とし、表面処理域Ｂの純水に対する接触角の１１０％、表面処理域Ｃの純水に対する接触角が１２０％になるように予め調整し処理した。それ以外の条件は実施例１と同じである。
【００３３】
＜比較例１＞
次に、比較例について説明する。
基材前面を表面処理域Ａの純水に対する接触角と同等になるように予め調整し処理した。それ以外の条件は実施例１と同じである。
【００３４】
＜比較例２＞
基材の表面処理域Ａの純水に対する接触角を１００％としたときに、表面処理域Ｂ及びＣが２５０％となるように予め調整し処理した。それ以外の条件は実施例１と同じである。
【００３５】
実施例１〜３、比較例１〜２の測定結果を表１にまとめて示した。液だれ部の長さについて評価し、液だれが０．５ｍｍ以下◎、１ｍｍ以下を○、１ｍｍ以上のものを×とした。
また備考は液だれ以外の問題点について記載する。
【００３６】
【表１】
【符号の説明】
【００３７】
１・・・基材
２・・・塗布膜
３・・・定常部
４・・・液だれ部
５・・・基材表面処理域Ａ
６・・・基材表面処理域Ｂ
７・・・基材表面処理域Ｃ
８・・・基材表面処理域Ｄ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材への間欠塗工に用いられ、基材に、基材の搬送方向下流側に純水に対する表面接触角が異なる値をとる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃを順に設け、それら以外の表面処理域（それらの両端側域を含め）を表面処理域Ｄとして設けてなることを特徴とする塗工用前処理物。
【請求項２】
基材には、純水に対する表面接触角が異なる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃのそれぞれの面積を、Ａ＞Ｃ＞Ｂとして設けてなることを特徴とする請求項１に記載の塗工用前処理物。
【請求項３】
基材の表面接触角の異なる表面処理域Ａ〜Ｄの純水に対する接触角ａ、ｂ、ｃ、ｄがａ＜ｃ、ｂ＜ｃ、ｃ≒ｄであることを特徴とする請求項１または２に記載の塗工用前処理物。
【請求項４】
表面処理域Ｃの純水に対する接触角が表面処理域Ａの純水に対する接触角の１１０％〜２５０％であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塗工用前処理物。
【請求項５】
基材の表面処理域Ａ上に塗布膜を塗布するために使用する塗布液の粘度が、せん断速度１（１／秒）の時、５、０００（ポイズ）以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の塗工用前処理物を用いた塗工方法。
【請求項１】
基材への間欠塗工に用いられ、基材に、基材の搬送方向下流側に純水に対する表面接触角が異なる値をとる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃを順に設け、それら以外の表面処理域（それらの両端側域を含め）を表面処理域Ｄとして設けてなることを特徴とする塗工用前処理物。
【請求項２】
基材には、純水に対する表面接触角が異なる表面処理域Ａ、Ｂ、Ｃのそれぞれの面積を、Ａ＞Ｃ＞Ｂとして設けてなることを特徴とする請求項１に記載の塗工用前処理物。
【請求項３】
基材の表面接触角の異なる表面処理域Ａ〜Ｄの純水に対する接触角ａ、ｂ、ｃ、ｄがａ＜ｃ、ｂ＜ｃ、ｃ≒ｄであることを特徴とする請求項１または２に記載の塗工用前処理物。
【請求項４】
表面処理域Ｃの純水に対する接触角が表面処理域Ａの純水に対する接触角の１１０％〜２５０％であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塗工用前処理物。
【請求項５】
基材の表面処理域Ａ上に塗布膜を塗布するために使用する塗布液の粘度が、せん断速度１（１／秒）の時、５、０００（ポイズ）以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の塗工用前処理物を用いた塗工方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１２−５５８６６（Ｐ２０１２−５５８６６Ａ）
【公開日】平成２４年３月２２日（２０１２．３．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２０４０１０（Ｐ２０１０−２０４０１０）
【出願日】平成２２年９月１３日（２０１０．９．１３）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月２２日（２０１２．３．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月１３日（２０１０．９．１３）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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