説明

液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挟持基板および液晶表示素子

【課題】 プラスチック基板に使用できる低温硬化可能で良好な配向性を示す液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、この組成物より得られる液晶配向膜、この配向膜を有する液晶挟持基板および液晶表示素子を提供する。
【解決手段】 融点が100℃以上200℃以下のテトラカルボン酸二無水物および/または融点が5℃以上10℃以下のジアミン化合物を反応させて得られるポリアミド酸を含有してなる液晶配向膜用組成物、液晶挟持基板の電極を形成した面上に、前記液晶配向膜用組成物を塗布後、乾燥、脱水閉環させてポリイミド層を形成し、ついでラビングする液晶配向膜の製造法、この液晶配向膜組成物より形成された液晶配向膜、この液晶配向膜を有する液晶挟持基板並びに液晶挟持基板上の液晶に面する側に電極を設け、該基板および電極上に前記液晶配向膜用組成物より得られる液晶配向膜を形成した液晶表示素子。

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挟持基板および液晶表示素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶表示素子用の配向膜として、例えばピロメリット酸二無水物と4,4′−ジアミノジフェニルエーテル縮合のポリイミド(特公昭55−1018号公報)をはじめとし、最近では表示素子の透明性あるいは液晶の高プレチルト角の要求から、これを目的とするポリイミドが提案されている(特開昭63−259515号、特開昭64−25126号公報)。しかし、最近の液晶表示素子の用途拡大に伴い、従来のガラス基板に比べ衝撃に強く軽量でフレキシビリティのあるプラスチック基板を使用できることが要求されるようになった。配向膜材料としては低温硬化可能な材料に改良することが要求されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技術の欠点を解決し、プラスチック基板に使用できる低温硬化可能で良好な配向性を示す液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、この組成物より得られる液晶配向膜、この配向膜を有する液晶挟持基板および液晶表示素子を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、次のものに関する。
(1)融点が100℃以上200℃以下のテトラカルボン酸二無水物および/または融点が50℃以上100℃以下のジアミン化合物を反応させて得られるポリアミド酸を含有してなる液晶配向膜用組成物。
(2)融点が100℃以上200℃以下の酸無水物および融点が50℃以上100℃以下のジアミン化合物のモル数の総計が、反応に用いられるモノマのモル数の10〜70%である項(1)記載の液晶配向膜用組成物。
【0005】(3)液晶挟持基板の電極を形成した面上に、項(1)又は(2)記載の液晶配向膜用組成物を塗布後、乾燥、脱水閉環させてポリイミド層を形成し、ついでラビングする液晶配向膜の製造法。
(4)項(1)又は(2)記載の液晶配向膜組成物より形成された液晶配向膜。
(5)項(4)記載の液晶配向膜を有する液晶挟持基板。
(6)液晶挟持基板上の液晶に面する側に電極を設け、該基板および電極上に項(1)又は(2)記載の液晶配向膜用組成物より得られる液晶配向膜を形成した液晶表示素子。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明に用いられる融点が100℃以上200℃以下のテトラカルボン酸二無水物と融点が50℃以上100℃以下のジアミン化合物とはそれぞれ一方のみ又は両方を用いても良いし、それぞれ2種以上を併用しても良い。
【0007】本発明では、低温硬化と良好な配向性を達成する必要があるため融点が100℃以上200℃以下のテトラカルボン酸二無水物および融点が5℃以上100℃以下のジアミン化合物のモル数の総計を反応に用いられるモノマのモル数の10〜70%の範囲で使用することが好ましい。
【0008】本発明に用いられる融点が100℃以上200℃以下のテトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−5−イソベンゾフランカルボン酸−1,6−ヘキサンジイルエステル(融点154℃)、1,3−ジヒドD−1,3−ジオキソ−5−イソベンゾフランカルボン酸−1,7−ヘプタンジイルエステル(融点103℃)、1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−5−イソベンゾフランカルボン酸−1,8−オクタンジイルエステル(融点132℃)、1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−5−イソベンゾフランカルボン酸−1,10−ヘキサンジイルエステル(融点134℃)などのアルキレン鎖を含む酸無水物やエチレンジアミン四酢酸二無水物(融点190℃)などの脂肪族/脂環式酸無水物などが挙げられ、これらは2種以上を併用することもできる。
【0009】本発明に用いてもよいその他のテトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、メチルピロメリット酸二無水物、ジメチルピロメリット酸二無水物、ジ(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、3,3′、4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、5,5′−ジメチル−3,3戸、4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、p−(3,4−ジカルボキシフェニル)ベンゼンニ無水物、3,3′、4,4′−テトラカルボキシジフェニルェーテルニ無水物、2,3,3′、4′−テトラカルボキシジフェニルエーテルニ無水物、3,3′、4,4′−テトラカルボキシベンゾフェノンニ無水物、1,4,5,7−テトラカルボキシナフタレンニ無水物、1,2,5,6−テトラカルボキシナフタレンニ無水物、3,3′、4,4′−テトラカルボキシジフェニルメタンニ無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパンニ無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンニ無水物、3,3′、4,4′−テトラカルボキシジフェニルスルホンニ無水物、3,4,9,10−テトラカルボキシペリレンニ無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物などが挙げられ、これらは2種以上を併用することもできる。
【0010】また、本発明に用いられる融点が50℃以上100℃以下のジアミン化合物としては例えば1,8−ジアミノオクタン(融点52℃)、1,10−ジアミノデカン(融点63℃)、1,12−ジアミノドデカン(融点71℃)などの脂肪族ジアミン化合物、4,4′−ジアミノジフェニルメタン(融点90℃)、4,4′−メチレン−ビス−(2−エチル−6−メチルアニリン)(融点85℃)、4,4′−メチレン−ビス−(2,6−じエチルアニリン)(融点88℃)などのジアミノジフェニルメタンの誘導体などが挙げられ、これらは2種以上を併用することもできる。
【0011】本発明に用いてもよいその他のジアミン化合物としては、1,4−ジアミノベンゼン、1,2−ジアミノベンゼン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ジアミノ−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンなどが挙げられ、これらは2種以上を併用することもできる。
【0012】本発明は、融点が100℃以上200℃以下の酸無水物および/または融点が50℃以上100℃以下のジアミン化合物を用いてポリイミドを合成することにより、ポリイミドのガラス転移点を下げ、低温硬化可能とすることを目的としており、本発明に用いられる融点が100℃以上200℃以下の酸無水物および/または融点が50℃以上100℃以下のジアミン化合物のモル数の合計は、反応に用いられる全モノマのモル数の10%以上で使用することが好ましい。一方、ポリイミドのガラス転移点を低下させすぎると液晶表示素子作成後の熱的安定性を劣化させるので、本発明に用いられる融点が100℃以上200℃以下の酸無水物および/または融点が5ポC以上100℃以下のジアミン化合物のモル数の合計は、反応に用いられる全モノマのモル数の70%以下で使用することが好ましい。また、本発明に用いる酸無水物の融点が100℃未満であり、ジアミン化合物の融点が50℃未満であるとポリイミドのガラス転移点を低下させすぎるため液晶表示素子作成後の熱的安定性を劣化させてしまう。一方、本発明に用いる酸無水物の融点が200℃を超え、ジアミン化合物の融点が100℃を超えると充分ガラス転移点が下がらなくなり、低温硬化できなくなる。
【0013】本発明においては、ジアミン化合物のモル数の総和がテトラカルボン酸二無水物のモル数の総和に対して好ましくは90〜110%、特に好ましくは等モルにして反応させることが好ましい。
【0014】上記の酸無水物およびジアミン化合物は不活性溶媒に溶解され、反応させてポリアミド酸とされる。不活性溶媒としては、前記単量体の全てを溶解する必要はないが、生成するポリアミド酸を溶解し、プラスチック基板で使用するため沸点が200℃程度までのものが好ましく、例えば、N−メチル−2−ピロリドン(沸点202℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(沸点153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(沸点166℃)、ジメチルスルホキシド(沸点189℃)、1,4−ジオキサン(沸点101℃)などの1種または2種以上が用いられる。これらの溶媒以外に、ガラス基板への塗れ性をよくするための溶媒を、反応前または反応終了後に添加することもできる。これらの溶媒として例えばブチルセロソルブ(沸点170℃)、ブチルセロゾルブアセテート(沸点192℃)、エチルカルビトール(沸点202℃)などが用いられる。
【0015】本反応で得られたポリアミド酸は100〜200℃で熱することおよび/または無水酢酸などの脱水剤で化学処理することによりポリイミドとされる。液晶挟持基板上の液晶に面する側に電極を設け、該基板および電極上に液晶配向膜組成物より得られる液晶配向膜を形成して液晶表示素子とされる。
【0016】本発明のポリイミド層の液晶基板上の形成は上記の反応で生成したポリアミド酸の溶液を、予め例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透明電極が形成されたガラス基板上に塗布した後、乾燥、脱水閉環させてポリイミド層とすることにより行われる。塗布方法としては、浸漬法、印刷法、吹き付け法等が用いられる。脱水閉環温度は100〜200℃、好ましくは120〜180℃の範囲で任意に選択することができる。また加熱時間は1分〜6時間、このましくは3分〜3時間とされる。
【0017】このようにして形成されたポリイミド層は、表面をラビングすることによって液晶配向膜として用いられる。液晶配向膜を有する液晶表示基板を用いて公知の方法により液晶表示素子を得ることができる。
【0018】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。
実施例1P−フェニレンジアミン(融点141℃)10.8g(0.1モル)にN−メチル−2−ピロリドン326gを添加し、充分撹拌した後、1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−5−イソペンゾフランカルボン酸−1,6−ヘキサンジイルエステル(融点15ぺC)46,6g(0.1モル)を加え、50℃で5時間反応させたところ、淡黄色の粘穐な液体となった。この溶液を粘度調整し2枚の640×200ドットになるようにITO透明電極が形成されたガラス基板上に塗布し、150℃で2時間加熱し、溶媒の除去およびポリアミド酸の脱水閉環を行い、60nmのポリイミド層を形成した。2枚のガラス基板上のこの層の表面をラビング処理して液晶配向膜として液晶挟持基板を得、これをラビング方向がアンチパラレルになるように2枚のポリイミド層を対向させて組み合せ、周りをエポキシ系シール剤EN−1000(日立化成工業株式会社製商品名)で射止しセルを組み立てて、液晶ZLI−2293(メルク社製商品名)を封入し、液晶セルを形成し、プレチルト角を測定したところ、プレチルト角は3.5°であった。
【0019】次に前記と同様の方法で液晶配向膜を形成し、90°ツイストになるように2枚のポリイミド層を対向させて組み合わせ、周りをエポキシ系シール剤EN−1000(日立化成工業株式会社製商品名)で射止しセルを組み立てて、内部にカイラル剤CB−15(メルク社製商品名)を添加した液晶ZLI−2293(メルク社製商品名)を封入し、液晶表示素子を作成した後130℃で1時間エージング処理したところ該液晶表示素子は良好な配向を示した。
【0020】実施例21,12−ジアミノドデカン(融点71℃)20.0g(0.1モル)にN,N−ジメチルアセトアミド280gを添加し、充分撹拌した後、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(融点299℃以上)29.4g(0.1モル)を加え、60℃で3時間反応させたところ、透明で粘穂な液体となった。この溶液を用いて実施例1と同様の方法で160℃で1時間硬化してプレチルト角を測定したところ5.0°であった。また、同様の方法で90°ツイストの液晶表示素子を形成した後130℃で1時間エージング処理したところ該液晶表示素子は良好な配向を示した。
【0021】実施例34,4′−ジアミノジフェニルメタン(融点90℃)13.9g(0.07モル)およびP−フェニレンジアミン(融点141℃)3.2g(0.03モル)にN−メチル−2−ピロリドン316gを添加し、充分撹拌した後、1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−5−イソペンゾフランカルボン酸−1,6−ヘキサンジイルエステル(融点154℃)32.6g(0.07モル)および1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物(融点200℃以上)5.9g(0.03モル)を加え、50℃で6時間反応させたところ、淡黄色の粘穂な液体となった。この溶液を用いて実施例1と同様の方法で150℃で2時間硬化してプレチルト角を測定したところ5.2°であった。また、同様の方法で9ポツイストの液晶表示素子を形成した後130℃で1時間エージング処理したところ良好な配向を示した。
【0022】比較例11,12−ジアミノドデカン(融点71℃)2.0g(0.01モル)およびp−フェニレンジアミン(融点141℃)9.7g(0.09モル)にN−メチル−2−ピロリドン233gを添加し、充分撹拌した後、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(融点299℃以上)29.4g(0.1モル)を加え、20℃で8時間反応させたところ、淡黄色の粘租な液体となった。この溶液を用いて実施例1と同様の方法で150℃で2時間硬化してプレチルト角を測定したところ0.8°であった。また、同様の方法で90°ツイストの液晶表示素子を形成した後130℃で1時間エージング処理したところ一部配向不良が発生した。
【0023】比較例2P−フェニレンジアミン(融点141℃)10.8g(0.1モル)にN−メチル−2−ピロリドン189gを添加し、充分撹拌した後、1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−5−イソペンゾフランカルボン酸−1,6−ヘキサンジイルエステル(融点154℃)4.7g(0.01モル)および1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物(融点200℃以上)17.8g(0.09モル)を加え、50℃で5時間反応させたところ、淡黄色の粘掘な液体となった。この溶液を用いて実施例1と同様の方法で150℃で2時間硬化してプレチルト角を測定したところ0.3°であった。また、同様の方法で90°ツイストの液晶表示素子を形成した後130℃で1時間エージング処理したところ一部配向不良が発生した。
【0024】比較例31,12−ジアミノドデカン(融点71℃)20.0g(0.1モル)にN−メチル−2−ピロリドン378gを添加し、充分撹拌した後、1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−5−イソペンゾフランカルボン酸−1,6−ヘキサンジイルエステル(融点154℃)46.6g(0.1モル)を加え、50℃で5時間反応させたところ、淡黄色の粘租な液体となった。この溶液を用いて実施例1と同様の方法で160℃で1時間硬化してプレチルト角を測定したところ7.0°であった。また、同様の方法で90°ツイストの液晶表示素子を形成した後130℃で1時間エージング処理したところ全面に配向不良が発生した。
【0025】比較例41,9−ジアミノノナン(融点38℃)15.8g(0.1モル)にN−メチル−2−ピロリドン354gを添加し、充分撹拌した後、1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−5−イソペンゾフランカルボン酸−1,6−ヘキサンジイルエステル(融点154℃)46.6g(0.1モル)を加え、50℃で5時間反応させたところ、淡黄色の粘穂な液体となった。この溶液を用いて実施例1と同様の方法で160℃で1時間硬化してプレチルト角を測定したところ0.5°であった。また、同様の方法で90°ツイストの液晶表示素子を形成した後130℃で1時間エージング処理したところ全面に配向不良が発生した。
【0026】
【発明の効果】本発明の液晶配向膜用組成物によって液晶配向膜を形成し、この液晶配向膜を有する液晶挟持基板を使用して液晶表示素子を作成した場合、低温硬化可能となるため、特にプラスチック基板等の高コントラスト液晶表示素子を得ることができるため、本発明の液晶配向膜用組成物は、高表示品質で軽量な液晶表示素子に用いることが好ましい。

【特許請求の範囲】
【請求項1】 融点が100℃以上200℃以下のテトラカルボン酸二無水物および/または融点が5℃以上10℃以下のジアミン化合物を反応させて得られるポリアミド酸を含有してなる液晶配向膜用組成物。
【請求項2】 融点が100℃以上200℃以下の酸無水物および融点が50℃以上100℃以下のジアミン化合物のモル数の総計が、反応に用いられるモノマのモル数の10〜70%である請求項1記載の液晶配向膜用組成物。
【請求項3】 液晶挟持基板の電極を形成した面上に、請求項1又は2記載の液晶配向膜用組成物を塗布後、乾燥、脱水閉環させてポリイミド層を形成し、ついでラビングする液晶配向膜の製造法。
【請求項4】 請求項1又は2記載の液晶配向膜組成物より形成された液晶配向膜。
【請求項5】 請求項4記載の液晶配向膜を有する液晶挟持基板。
【請求項6】 液晶挟持基板上の液晶に面する側に電極を設け、該基板および電極上に請求項1又は2記載の液晶配向膜用組成物より得られる液晶配向膜を形成した液晶表示素子。

【公開番号】特開2000−214468(P2000−214468A)
【公開日】平成12年8月4日(2000.8.4)
【国際特許分類】
【出願番号】特願平11−18232
【出願日】平成11年1月27日(1999.1.27)
【出願人】(000004455)日立化成工業株式会社 (4,649)
【Fターム(参考)】