説明

湿式排ガス処理装置

【課題】 複数の気液接触部を設けることがなく、装置全体が大型となることがなくて、安価に提供することができるのに加えて、広い設置場所を必要とすることなく、しかも処理効率が高くて有効的に排ガス処理を行うことができる湿式排ガス処理装置を提供すること。
【解決手段】 円筒形のケーシング1の内部に横向きの1個の横仕切板2を配置して、上部ケーシング3と下部ケーシング4とに仕切り、下部ケーシングに給気口6が、上部ケーシングに排気口7がそれぞれ設けられ、横仕切板に給気口から導入される気体を傾斜流として通過させる多数の同心円状のスリット8を設け、上部ケーシング壁に給水口9と排水口10とを設け、横仕切板のほぼ中央に上下部ケーシング内を縦方向に延びる閉鎖中空形の内部円筒11を取付け、この内部円筒の外周面と上部ケーシングの内周面との間に縦向の堰止板13を設け、給水口と排水口は堰止板を挟んでその両側に位置している。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、湿式排ガス処理装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来のこの種の湿式排ガス処理装置の典型的なものとしては、図14に示すようなものが周知となっており、これについて説明する。それはケーシング51の内部に横向きの充填材部52を配置して、上部ケーシング53と下部ケーシング54とに仕切り、下部ケーシング54に給気口56が、上部ケーシング53に排気口57がそれぞれ設けられ、また上部ケーシング壁に給水口58を、下部ケーシング54に排水口59をそれぞれ設け、充填材部52に給気口56から導入される気体、及び給水口58から導入される洗浄水を通過させる多数の貫通孔を設けたものである。
【0003】
このようなものにおいて、下部ケーシング54の給気口56から排ガスが下部ケーシング54内に給気され、充填材部52の貫通孔を上昇して、上部ケーシング53の排気口57から排気される。一方この間上部ケーシング53の給水口58からの給水される洗浄水は、充填材部52上を広がってその貫通孔中を流下し、下部ケーシング54の排水口59から排水され、このようにして排ガス及び洗浄水が充填材部52において気液接触をして排ガスの処理が行われる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
排ガスと洗浄水とが前記のような移動の際に、接触することによって排ガスが処理されるものであるが、両者は前記のような状態で接触することから、気液接触のために単一の充填材部しか設けられていないものでは、その接触時間が短いことから処理効率が低くて有効的に排ガス処理を行うことが困難であるという問題がある。そこでこのような問題を解消するには、図示のように複数の充填材部を設けなければならず、そのため装置全体が大型となって高価になるのに加えて、広い設置場所が必要になるという問題がある。
【0005】
そこでこの発明の目的は、前記のような従来の湿式排ガス処理装置のもつ問題を解消し、複数の気液接触部を設けることがなく、装置全体が大型となることがなくて、安価に提供することができるのに加えて、広い設置場所を必要とすることなく、しかも処理効率が高くて有効的に排ガス処理を行うことができる湿式排ガス処理装置を提供するにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
この発明は前記のような目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、湿式排ガス処理装置において、円筒形のケーシングの内部に横向きの1個の横仕切板を配置して、上部ケーシングと下部ケーシングとに仕切り、下部ケーシングに給気口が、上部ケーシングに排気口がそれぞれ設けられ、横仕切板に給気口から導入される気体を傾斜流として通過させる多数の同心円状のスリットを設け、上部ケーシング壁に給水口と排水口とを設け、横仕切板のほぼ中央に上下部ケーシング内を縦方向に延びる閉鎖中空形の内部円筒を取付け、この内部円筒の外周面と上部ケーシングの内周面との間に縦向の堰止板を設け、前記給水口と排水口は堰止板を挟んでその両側に位置していることを特徴とするものである。
【0007】
そしてこれらの請求項1以外に記載の発明は、これらの発明の変形にかかるものであり、全請求項に記載の発明について、その詳細を以降の実施の形態で明らかにする。
【発明の効果】
【0008】
この発明は前記のようであるので、複数の気液接触部を設ける必要がなくて、装置全体が大型となることがなく、安価に提供することができるのに加えて、広い設置場所を必要とすることなく、しかも処理効率が高くて有効的に排ガス処理を行うことができるという効果がある。
【0009】
請求項1ないし請求項10に記載の発明は、上部ケーシングと下部ケーシングとに仕切る横仕切板に給気口から導入される気体を傾斜流として通過させる多数の同心円状のスリットが設けられ、横仕切板のほぼ中央に上下部ケーシング内を縦方向に延びる閉鎖中空形の、内部円筒の外周面と上部ケーシングの内周面との間に設けられた縦向の堰止板の両側に、給水口と排水口が設けられているので、排ガスはスリットにおいて傾斜流となり、一方給水口から上部ケーシング内に供給された洗浄水は、内部円筒及び給水口と排水口との間に設立された堰止板によって環状流路が形成されていることから、仕切板上を給水口と排水口との間の直線状の短い距離を流れることなく、上部ケーシング内をほぼ一周して長い距離を流れ、このように傾斜流となって上昇する排ガスと、上部ケーシング内を長い距離にわたって流れる洗浄水とは、流動状態で激しくかつ大きな接触面積で接触し、高い効率をもって安定的に排ガス処理が遂行されるという効果がある。
【0010】
請求項3に記載の発明は、上部ケーシングの内部に複数の縦仕切板を設け、この縦仕切板はその上端縁が排水口の上方まで延びていて、下端縁が横仕切板より上位に位置している縦仕切板と、上端縁が排水口の下位に位置し、下端縁が横仕切板上に位置している縦仕切板とからなっているので、洗浄水が上部ケーシング内で流動する際、乱流状態となって撹拌作用をうけることから、洗浄水の濃度が均一になり、排ガスの洗浄が一様に行われるという効果がある。
【0011】
請求項4に記載の発明は、内部円筒が透明材料で形成され、内部円筒内に紫外線灯が設けられているので、洗浄水と紫外線との化学反応によって、排ガスの分解が効率良く行われるという効果がある。
【0012】
請求項7,8に記載の発明は、内部円筒はその上部が熱交換室内に位置し、下部が下部ケーシングの内部に位置し、内部円筒の内部にはヒートパイプが設置され、内部円筒の上部外周に放熱フィンが突設されており、横仕切板の上下面及びスリット面、上下部ケーシングの内周面及び内部円筒の外周面に、酸化チタンからなる光触媒物質皮膜を設けたので、洗浄水による排ガスの処理と排ガスの熱回収とが並行して行われ、各構成部材を格別の耐熱性材料によって構成する必要がなくて安価に構成することができ、また回収した熱を他の熱源として使用することができて、省エネ効果を上げることができるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【0013】
図面に示すこの発明の各実施形態において、各共通部分については、同一の符号を付して説明を省略し、主として異なる部分について説明する。
【0014】
図1,2に示す第1実施形態は、円筒形のケーシング1の内部に横向きの1個の横仕切板2を配置して、上部ケーシング3と下部ケーシング4とに仕切り、下部ケーシング4に給気口6が、上部ケーシング3に排気口7がそれぞれ設けられ、横仕切板2に給気口6から導入される気体を傾斜流として通過させる多数の外周面に向かって傾斜した同心円状のスリット8を設け、上部ケーシング3の上下部周壁に給水口9と排水口10とを設け、横仕切板2のほぼ中央に上下部ケーシング3,4内を縦方向に延びる閉鎖中空形の内部円筒11を取付け、この内部円筒11の外周面と上部ケーシング3の内周面との間に縦向の堰止板13を設け、給水口9と排水口10は堰止板13を挟んでその両側に位置している。堰止板13の下端は横仕切板2の上面と当接している。
【0015】
排気口7に連結された排気管15にはエリミネータ16と排気ファン17とが設置されている。そして上部ケーシング3及びエリミネータ16と下部ケーシング4とが復水管21,22で接続されている。下部ケーシング4には第1元給水管23が連結され、また下部ケーシング4と排水口9とは給水管24によって接続されている。
【0016】
このようなものによって排ガス処理を行うに際しては、下部ケーシング4内の洗浄水が給水管24を経て上部ケーシング3の給水口9から給水され、一部が上部ケーシング3の排水口10から排水されて復水管21を経て、他部は横仕切板2上を広がってスリット8中を流下してそれぞれ下部ケーシング4に還流する。一方この間下部ケーシング4の給気口6から排ガスが給気されてスリット8を通過して、排気ファン17に吸引されて上部ケーシング3中を上昇して排気口7から排気される。このようにして排ガスが給気口6から排気口7まで上昇する際、スリット8及び上部ケーシング3内において、洗浄水と気液接触することによって洗浄されることとなる。
【0017】
前記のような排ガス処理の際、排ガスはスリット8において傾斜流となり、一方給水口9から上部ケーシング3内に供給された洗浄水は、内部円筒11及び給水口9と排水口10との間に設立された堰止板13によって環状流路が形成されていることから、横仕切板2上を給水口9と排水口10との間の直線状の短い距離を流れることなく、上部ケーシング3内をほぼ一周して長い距離を流れることとなる。このように傾斜流となって上昇する排ガスと、上部ケーシング3内を長い距離にわたって流れる洗浄水とは、流動状態で激しくかつ大きな接触面積で接触し、高い効率をもつ安定的な排ガス処理が遂行されることとなる。
【0018】
図3に示す第2実施形態は、円筒形のケーシング1の内部に横向きの2個の横仕切板2−1,2−2を配置して、上部ケーシング3−1,3−2と下部ケーシング4とに仕切り、下部ケーシング4に給気口6を、上部ケーシング3−1,3−2に排気口7をそれぞれ設け、上部ケーシング3−1,3−2の上下部周壁にそれぞれ給水口9−1,9−2及び排水口10−1,10−2を設け、横仕切板2−1,2−2に下部から導入される気体を傾斜流として通過させる多数の中心に向かって傾斜した同心円状のスリット8を設け、横仕切板2−1,2−2のほぼ中央に上部ケーシング3−1,3−2及び下部ケーシング4内を縦方向に延びる閉鎖中空形の内部円筒11を取付け、この内部円筒11の外周面と上部ケーシング3−1,3−2の内周面との間に縦向の堰止板13を設け、給水口9−1,9−2と排水口10−1,10−2は堰止板13を挟んでその両側に位置しており、堰止板13の下端は横仕切板2の上面と当接している。
【0019】
この第2実施形態の上部ケーシング3−1,3−2においては、第1実施形態における上部ケーシング3と同様な要領で排ガスの処理が行われることとなるが、より洗浄度の高い処理が行われることとなる。なおこの実施形態では上部ケーシングは、2個の上部ケーシング3−1,3−2となっているが、必要に応じてもっと多くの数としてもよい。
【0020】
図4,5に示す第3実施形態は、図1,2に示す第1実施形態において、内部円筒11の外周面と上部ケーシング3の内周面との間に放射状の縦仕切板25を設け、この縦仕切板25はその上端縁が排水口10の上方まで延びており、下端縁が横仕切板より上位に位置している縦仕切板25−1と、上端縁が排水口10の下位に位置し、下端縁が横仕切板2上に位置している縦仕切板25−2とが所定の角度をもって交互に配置されている点で、第1実施形態とその構成が相違するものである。
【0021】
このようなものにあっては、洗浄水が上部ケーシング3内で流動する際、乱流状態となって撹拌作用をうけることから、洗浄水の濃度が均一になり、排ガスの洗浄が一様に行われることとなる。
【0022】
図6に示す第4実施形態は、図3に示す第2実施形態において、上部ケーシング3−1,3−2を、図4,5に示す第3実施形態の両上部ケーシング3−1,3−2と同様に、内部円筒11の外周面と上部ケーシング3−1,3−2の内周面との間に放射状の縦仕切板25を設け、この縦仕切板25はその上端縁が排水口10−1,10−2の上方まで延びており、下端縁が横仕切板2−1,2−2より上位に位置している縦仕切板25−1と、上端縁が両排水口10−1,10−2の下位に位置し、下端縁が横仕切板2−1,2−2上に位置している縦仕切板25−2とが所定の角度をもって交互に配置されているものである。このようなものは第2,3実施形態と同様の作用をすることとなる。
【0023】
図7に示す第5実施形態は、図1,2に示す第1実施形態において、内部円筒11が透明材料で形成され、内部円筒11内に紫外線灯26が設けられているものである。このようなものにあっては、洗浄水と紫外線との化学反応によって、排ガスの分解が効率よく行われる。
【0024】
図8に示す第6実施形態は、図7に示す第5実施形態において、上下部ケーシング3,4が透明材料で形成され、横仕切板2の上下面、上下部ケーシング3,4内周面及び内部円筒11の外周面に、酸化チタンからなる光触媒物質皮膜27を設けたものである。
【0025】
図9に示す第7実施形態は、図8に示す第6実施形態において、上下部ケーシング3,4の外部に紫外線灯26を設けたものであって、第6実施形態と同様の機能を発揮する。
【0026】
図10に示す第8実施形態は、図9に示す第7実施形態において、上下部ケーシング3,4を図3に示す第2実施形態と同様に、上部ケーシング3−1,3−2とし、下部ケーシング4に給気口6を、上部ケーシング3−1,3−2に排気口7をそれぞれ設け、上部ケーシング3−1,3−2の上下周壁にそれぞれ給水口9−1,9−2及び排水口10−1,10−2を設けたものであり、その他は第7実施形態と同様になっている。
【0027】
前記のような第6,7,8実施形態にあっては、光触媒物質皮膜27によって、排ガス中の有害化学物質、かび、細菌、ウイルス、粉塵等の有害物質の分離、分解、殺菌、脱臭等の処理が行われ、またこれらによるスリット8の目詰まり、各部の表面に対する汚れの付着等が防止される。
【0028】
図11に示す第9実施形態は、図1,2に示す第1実施形態において、上部ケーシング3の上部に熱交換室28が設けられ、内部円筒11はその上部が熱交換室28内に位置し、また下部が下部ケーシング4の内部に位置し、内部円筒11の内部にはヒートパイプ29が設置され、内部円筒11の上部外周に放熱フィン31が突設されているものである。
【0029】
図12に示す第10実施形態は、図11に示す第9実施形態において、図8に示す第6実施形態と同様に、横仕切板2の上下面及びスリット面、上下部ケーシング3,4内周面及び内部円筒11の外周面に、酸化チタンからなる光触媒物質皮膜27を設けたものである。
【0030】
前記のような第9,10実施形態にあっては、洗浄水による排ガスの処理と排ガスの熱回収とが並行して行われ、ケーシングをはじめとする各構成部材を格別の耐熱性材料によって構成する必要がなくて安価に構成することができ、また回収した熱を他の熱源として使用することができて、省エネ効果をあげることができる。
【0031】
図13に示す第11実施形態は、図1,2に示す第1実施形態において、給気口6に連結された給気管36と、排気口7に連結された排気管15とが、環気管38で接続されている。この実施形態では、排気管15に排出された1次処理された排ガスを再度給気口6に環流し、処理効率を高めることとなる。なお39は第2元給気管36、排気管15、環気管38に設けられた電磁作動式の開閉弁で、前記排ガスの環流はこの開閉弁39の制御によって行われることとなる。
【図面の簡単な説明】
【0032】
【図1】この発明の第1実施形態の図2の線1−1による一部切欠縦断正面図である。
【図2】同上を線2−2により切断し、矢示方向にみた断縦面図である。
【図3】同第2実施形態の要部の縦断正面図である。
【図4】同第3実施形態の要部の縦断正面図である。
【図5】同上を線5−5により切断し、矢示方向にみた断縦面図である。
【図6】同第4実施形態の要部の縦断正面図である。
【図7】同第5実施形態の要部の縦断面図である。
【図8】同第6実施形態の要部の縦断正面図である。
【図9】同第7実施形態の要部の縦断正面図である。
【図10】同第8実施形態の要部の縦断正面図である。
【図11】同第9実施形態の要部の縦断正面図である。
【図12】同第10実施形態の要部の縦断正面図である。
【図13】同第11実施形態の要部の縦断面図である。
【図14】この発明と同種の従来の湿式排ガス処理装置の縦断正面図である。
【符号の説明】
【0033】
1 ケーシング 2 横仕切板
3 上部ケーシング 4 下部ケーシング
6 給気口 7 排気口
8 スリット 9 給水口
10 排水口 11 内部円筒
13 堰止板 15 排気管
16 エリミネータ 17 排気ファン
21 復水管 22 復水管
23 第1元給水管 24 給水管
25 縦仕切板 26 紫外線灯
27 光触媒物質皮膜 28 熱交換室
29 ヒートパイプ 31 放熱フィン
36 給気管 38 環気管
39 開閉弁

【特許請求の範囲】
【請求項1】
円筒形のケーシングの内部に横向きの1個の横仕切板を配置して、上部ケーシングと下部ケーシングとに仕切り、下部ケーシングに給気口が、上部ケーシングに排気口がそれぞれ設けられ、横仕切板に給気口から導入される気体を傾斜流として通過させる多数の同心円状のスリットを設け、上部ケーシング壁に給水口と排水口とを設け、横仕切板のほぼ中央に上下部ケーシング内を縦方向に延びる閉鎖中空形の内部円筒を取付け、この内部円筒の外周面と上部ケーシングの内周面との間に縦向の堰止板を設け、前記給水口と排水口は堰止板を挟んでその両側に位置していることを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項2】
円筒形のケーシングの内部に横向きの複数の横仕切板を配置して、複数の上部ケーシングと単数の下部ケーシングとに仕切り、下部ケーシングに給気口を、最上部ケーシングに排気口をそれぞれ設け、両上部ケーシングの周壁にそれぞれ給水口及び排水口を設け、各横仕切板に下部から導入される気体を傾斜流として通過させる多数の外周面に向かって傾斜した同心円状のスリットを設け、各横仕切板のほぼ中央に両上部ケーシング及び下部ケーシング内を縦方向に延びる閉鎖中空形の内部円筒を取付け、この内部円筒の外周面と両上部ケーシングの内周面との間に縦向の堰止板を設け、両給水口と両排水口とは堰止板を挟んでその両側に位置していることを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項3】
請求項1又は2に記載の湿式排ガス処理装置において、内部円筒の外周面と上部ケーシングの内周面との間に放射状の縦仕切板を設け、この縦仕切板はその上端縁が排水口の上方まで延びており、下端縁が横仕切板より上位に位置している縦仕切板と、上端縁が排水口の下位に位置し、下端縁が横仕切板上に位置している縦仕切板とが所定の角度をもって交互に配置されていることを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項4】
請求項1ないし3のいずれかに記載の湿式排ガス処理装置において、内部円筒が透明材料で形成され、内部円筒内に紫外線灯が設けられていることを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項5】
請求項4に記載の湿式排ガス処理装置において、上下部ケーシングが透明材料で形成され、横仕切板の上下面及びスリット面、上下部ケーシングの内周面及び内部円筒の外周面に、酸化チタンからなる光触媒物質皮膜を設けたことを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項6】
請求項5に記載の湿式排ガス処理装置において、上下部ケーシングの外部に紫外線灯を設けたことを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項7】
請求項1ないし3のいずれかに記載の湿式排ガス処理装置において、上部ケーシングの上部に熱交換室が設けられ、内部円筒はその上部が熱交換室内に位置し、また下部が下部ケーシングの内部に位置し、内部円筒の内部にはヒートパイプが設置され、内部円筒の上部外周に放熱フィンが突設されていることを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項8】
請求項7に記載の湿式排ガス処理装置において、横仕切板の上下面、上下部ケーシングの内周面及び内部円筒の外周面に、酸化チタンからなる光触媒物質皮膜を設けたことを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項9】
請求項7又は8に記載の湿式排ガス処理装置において、給気口に連結された給気管と、排気口に連結された排気管とが、環気管で接続されていることを特徴とする湿式排ガス処理装置。
【請求項10】
請求項9に記載の湿式排ガス処理装置において、排気管にエリミネータ及び排気ファンを設けたことを特徴とする湿式排ガス処理装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【図12】
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【図13】
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【図14】
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【公開番号】特開2008−86994(P2008−86994A)
【公開日】平成20年4月17日(2008.4.17)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−280270(P2007−280270)
【出願日】平成19年10月29日(2007.10.29)
【分割の表示】特願平10−289069の分割
【原出願日】平成10年10月12日(1998.10.12)
【出願人】(596159197)
【Fターム(参考)】