磁場中熱処理装置
中心に軸孔が形成された円板状の記録媒体１をチャンバー１０内に挿入して、この記録媒体１を磁場中で熱処理を行うための磁場中熱処理装置であって、チャンバー内に磁場を形成するための磁気回路が設けられ、この磁気回路は、軸孔の軸方向に沿って距離をおいて配置され、磁場の向きが対向する一対の磁石４，５と、この一対の磁石４，５の間に配置される第１強磁性体６とを備え、一対の磁石４，５が向かい合う中間位置に、軸孔に第１強磁性体６が挿通された状態で処理対象である記録媒体１が配置されるように構成した。好ましくは、記録媒体１の周囲にリング状の第２強磁性体７を配置する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
本発明は、中心に軸孔が形成された円板状の記録媒体をチャンバー内に挿入して、この記録媒体を磁場中で熱処理を行うための磁場中熱処理装置に関する。
【背景技術】
ハードディスク等の記録媒体にデータを記録するに際して、垂直磁気記録方式が知られている。垂直磁気記録方式は、長手方向記録方式に比べて記録密度を飛躍的に増大できる可能性があり注目されている技術である。垂直磁気記録方式において使用される磁気ヘッド及び記録媒体の関係の１つの具体例を図５に示す。図５において、記録媒体を挟むように主磁極２と補助磁極３が配置される。記録媒体１は、主磁極側から順に磁性膜１ａ、軟磁性膜１ｂ、基板１ｃにより構成される。データが実際に記録されるのは磁性膜１ａであり、図示しているように垂直方向（図の上下方向）に磁化される。また、磁気ヘッドによる読み取り性能を上げるために、磁性膜１ａと基板１ｃの間に軟磁性膜１ｂを設けている。この軟磁性膜１ｂにおける磁化方向は、磁性膜１ａにおける磁化方向に対して垂直（図５の水平方向）である。
かかる垂直磁気記録方式に用いられる記録媒体において、磁性膜１ａには、記録媒体の主面に垂直な方向（磁化方向）の磁気異方性が要求され、軟磁性膜１ｂには、記録媒体の主面に沿った方向の磁気異方性が要求される。そのために、記録媒体に対して磁場中で熱処理を行っている。そのための磁場中熱処理装置を図３に示す。
図３において、中央部にチャンバー１０が設けられ、このチャンバー内に記録媒体１が配置される。チャンバー１０の外側には、チャンバー１０を上下方向から挟むように一対の強磁性体２０と電磁コイル２１が配置される。チャンバー内に形成される磁場の方向は図示されている通りである。そのため、一対の強磁性体２０は、磁場の向きが対向するように電磁コイル２１に電圧印加がされる。磁場を形成した状態で、例えば５００℃程度の温度で磁場中熱処理を行う。その他、磁場中熱処理装置としては、特開昭６１−１７７６３０号公報に開示される磁気記録媒体の製造方法や、特開平１１−２５４２４号公報に開示される磁場印加装置等が例としてあげられる。
また、上述したように、磁性膜には垂直方向の、軟磁性膜には水平方向の磁気異方性が要求されるため、チャンバー内に形成される磁場についても、記録媒体１が配置される中央位置における磁場の方向は、できるだけ水平にすることが望ましい。
しかし、図３の装置構成では、磁気回路がチャンバー１０の外部に設けられるため、軟磁性膜が配置される位置における磁化方向の水平性の精度がよくない。さらに、磁気回路の構成要素をチャンバー１０の外側に配置しているため、装置が大型化するという問題点も有している。
そこで、図４に示すように、磁気回路を磁場の向きが対向するように一対の永久磁石２２を配置し、これらをチャンバー１０内に設置する構成が考えられる。電磁石ではなく永久磁石２２を用いることで、磁気回路をチャンバー内に容易に配置することができる。また、一対の永久磁石２２を近接させることができるので、磁化方向の水平性の精度が図３の構成に比較して改善される。さらに、チャンバー内に永久磁石２２を配置することで、磁気回路を小型化することもできる。
しかしながら、図４に示す磁気回路の構成でも、磁化方向の水平性の精度という点では、まだ不十分であった。
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、その課題は、磁性膜及び軟磁性膜を有する記録媒体を磁場中熱処理するにあたり、記録媒体が配置される位置での磁場方向の水平性の精度を改善した磁場中熱処理装置を提供することである。
【発明の開示】
上記課題を解決するため本発明に係る磁場中熱処理装置は、
中心に軸孔が形成された円板状の記録媒体をチャンバー内に挿入して、この記録媒体を磁場中で熱処理を行うための磁場中熱処理装置であって、
前記チャンバー内に磁場を形成するための磁気回路が設けられ、
この磁気回路は、
前記軸孔の軸方向に沿って距離をおいて配置され、磁場の向きが対向する一対の磁石と、
この一対の磁石の間に配置される第１強磁性体とを備え、
前記一対の磁石が向かい合う中間位置に、前記軸孔に前記第１強磁性体が挿通された状態で処理対象である記録媒体が配置されるように構成したことを特徴とするものである。
この構成による磁場中熱処理装置の作用・効果は、以下の通りである。まず、チャンバー内に磁気回路を構成する構成要素としての一対の磁石が配置され、これらは磁場の向きが対向するように配置されている。そして、これら一対の磁石の間に第１強磁性体が配置される。記録媒体は中心に軸孔が形成された円板状であり、この軸孔に第１強磁性体が挿通された状態で磁場中熱処理が行われる。一対の磁石から出る磁力線は、お互いに反発しあうので、一対の磁石が向かい合う中間位置では、磁場（磁力線）の向きは水平方向になるように作用する。そして、第１強磁性体を配置することで、一対の磁石から出てきた磁力線の多くは、第１強磁性体の内部を通過する方向に作用する。従って、中間位置における磁化方向は、より水平な方向になるように仕向けられる。その結果、磁性膜及び軟磁性膜を有する記録媒体を磁場中熱処理するにあたり、記録媒体が配置される位置での磁場方向の水平性の精度を改善した磁場中熱処理装置を提供することができる。
上記の構成において、前記配置される記録媒体の外周にリング状の第２強磁性体を配置することが好ましい。
かかる第２強磁性体を配置することで、更に、磁化方向の水平性を改善することができる。
前記磁石は、組成にＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｔｉを含むものが好ましい。熱処理を行うに際してチャンバー内は高温になるが、上記組成の磁石は、かかる高温雰囲気中でも磁気特性を維持することができる。
また、前記第１強磁性体は、飽和磁化が１．５Ｔ（テスラ）以上、２．４Ｔ以下であることが好ましい。これにより、磁化方向の水平性を改善することができる。１．５Ｔ未満では、要求される磁気異方性を得ることができない。
前述のリング状部材を形成するにあたり、前記第２強磁性体が異方性磁石であることが好ましい。
永久磁石とすることで、磁化方向の水平成分を更に増大させることができる。永久磁石としては、特性的な面からアルニコ磁石を使用することが好ましい。
また、熱処理温度が２５℃〜３００℃程度の場合、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系に代表されるＲ−Ｔ−Ｂ系磁石やＳｍ−Ｃｏ磁石を用いてもよい。
リング状部材を形成する場合、単一の部材として形成しても良いが、製造の容易さ等を考慮して、複数のセグメントをリング状に並べて配置することで形成しても良い。
セグメントをリング状に並べて配置する方法としては、ステンレス鋼のような非磁性のリング状容器にセグメントを置く部屋を設け、そのセグメントを部屋に載置し、非磁性材（ステンレス鋼）にて部屋を封止する方法を用いることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
図１は、第１実施形態に係る磁場中熱処理装置の構成を示す概念図
図２は、第２実施形態に係る磁場中熱処理装置の構成を示す概念図
図３は、従来技術に係る磁場中熱処理装置の構成を示す図
図４は、従来技術の改善例を示す
図５は、磁気ヘッド及び記録媒体の関係を示す図
図６は、セグメントをリング状に配置する構成例を示す図
【発明を実施するための最良の形態】
本発明に係る磁場中熱処理装置の好適な実施形態を図面を用いて説明する。図１は、第１実施形態に係る磁場中熱処理装置の構成を示す概念図である。
＜第１実施形態の構成＞
図１において、チャンバー１０内に一対の永久磁石４，５が磁場の向き（矢印で図示）が対向するように配置されている。永久磁石４，５は、円筒形を有している。また、一対の永久磁石４，５の間には、同じ円筒形の第１強磁性体６が配置されている。永久磁石４，５の各端面（Ｎ極側）と、第１強磁性体６の両端面とは密着した状態となるように配置される。また、永久磁石４，５と第１強磁性体６の円筒軸方向は一致しており、外径寸法も同じにしている。これにより、漏れ磁束が極力少なくなるようにしている。
処理対象である記録媒体１は、図１に想像線で示している。記録媒体１は円板状であり、その中心に軸孔が形成されている。この軸孔に、第１強磁性体６が挿通された状態となっている。記録媒体１の代表的な構造は図５に示した通りである。すなわち、基板と軟磁性膜と磁性膜により構成されている。なお、記録面は片面に限らず両面であってもよい。記録媒体１の軟磁性膜が、一対の永久磁石４，５が向かい合う中間位置に配置されるように設定される。具体的には、Ｎ極同士が向かい合っている中間位置に配置される。この中間位置では、磁力線が反発しあい、磁場の方向が水平になるからである。すなわち、Ｎ極の近傍では磁場の方向は垂直（記録面に対して直角）であり、これが徐々に曲げられて、記録媒体１の軟磁性膜の位置では水平（記録面に対して平行）となる（図３参照）。磁場の方向も、できるだけ急峻に曲げられる方が好ましい。これにより、記録媒体の軟磁性膜については磁化方向の水平性、磁性膜については磁化方向の垂直性を持たせることができる。
一対の永久磁石４，５は、組成にＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｔｉを含む材料で形成することが好ましい。例えば、アルニコ磁石を使用することができる。磁場中熱処理では、チャンバー１０内の温度は磁性膜の材質によって２５℃〜５００℃の範囲となるが、かかる温度範囲においてもアルニコ磁石では磁気特性が低下することがない。その他に、サマリウム・コバルト磁石を使用しても良い。以上のような永久磁石を使用することで、チャンバー内に磁石を設置することができる。
また、磁場中熱処理温度が３００℃以下の場合、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系に代表されるＲ−Ｔ−Ｂ系磁石を用いてもよい。Ｒ−Ｔ−Ｂ系磁石は磁束密度も高く、磁気回路がより小型化される。Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系希土類磁石の組成及び製造方法は、例えば、米国特許第４，７７０，７２３号及び米国特許第４，７９２，３６８号に記載されている。
また、第１強磁性体６として、ＳＳ４００やＳ１５Ｃ等の材料を使用することができる。
一対の永久磁石４，５の間に配置される第１強磁性体６の軸方向の厚みは、記録媒体１の磁性膜１ａの厚みや軟磁性膜１ｂの厚みに対して３５倍〜４５倍にするのがよい。この第１強磁性体６により、漏洩磁束を所定の磁界空間へ集中させることができ、中間位置における磁化方向の水平成分を増大させることができる。また、第１強磁性体６の飽和磁化は１．５Ｔ以上、２．４Ｔ以下のものを使用することが好ましい。
＜第２実施形態の構成＞
次に、第２実施形態に係る磁場中熱処理装置の構成を図２により説明する。図１の構成と異なる点は、記録媒体１の外周位置（円板の端面の外側）にリング状の第２強磁性体７が配置されていることである。その他の構成は、第１実施形態と同じである。第２強磁性体７は、第１強磁性体６と同じ材料を使用することができる。また、第２強磁性体７の厚みは、第１強磁性体６の厚みよりも薄くし、第１強磁性体６に対して１／１．５〜１／８程度にすることが好ましい。このリング状の第２強磁性体７により、漏洩磁束を所定の磁場空間内に更に集中させることができる。これにより、中間位置における磁化方向の水平成分を更に増大させることができる。
以上のような構成により、記録媒体１に形成された磁性膜１ａの磁気異方性を垂直方向とし、軟磁性膜１ｂの磁気異方性を水平方向とすることができる。
図１，２，４に示す各構成について、磁界強度を理論計算し比較した。磁界強度Ｂは、中間位置（原点）におけるＸＹ平面内方向の強度である。ＸＹＺ軸の原点は、記録媒体１が配置される中間位置にある。磁界強度Ｂｚは中間位置（原点）におけるＺ軸方向（記録媒体の軸方向でもある）の強度である。
比較例（図４）・・・Ｂ＝１２５Ｇ（ガウス）
Ｂｚ＝６．６Ｇ
第１実施形態（図１）・・・Ｂ＝２１０Ｇ
Ｂｚ＝１．７Ｇ
第２実施形態（図２）・・・Ｂ＝２７８Ｇ
Ｂｚ＝１．４Ｇ
第１実施形態では、比較例に対してＢの値が大きくなり、かつ、Ｂｚの値がかなり少なくなっている。これにより、中間位置における磁化方向の水平性が高まっていることが分かる。また、中間位置においては、垂直成分Ｂｚがかなり減少している。第２実施形態の場合は、更にその傾向が顕著になる。すなわち、第１強磁性体６や第２強磁性体７を配置することで、磁場特性を改善することが確かめられた。
＜作用＞
本発明に係る磁場中熱処理装置を用いて記録媒体を製造する場合の工程を簡単に説明する。まず、基板１ｃの上に磁性膜１ａと軟磁性膜１ｂを形成した記録媒体１を磁場中熱処理装置内の所定位置に設置する。記録媒体１の中心には軸孔が形成されていおり、図１又は図２の磁気回路を予め記録媒体１に対してセットした状態にして、装置内に挿入する。リング状の第２強磁性体７を用いる場合は、記録媒体１の主面と同一水平面上になるように、記録媒体１の外周にセットする。磁場中熱処理装置内に設置した後、装置内の温度を例えば５００℃とし、磁性膜１ａの磁化方向が所定の方向になるように熱処理を行う。所定時間経過後、冷却することで磁気異方性が固定される。
＜別実施形態＞
前記の第２実施形態では、リング状の第２強磁性体７を第１強磁性体６と同じ材料とする構成を説明したが、このリング状部材を磁石（永久磁石）で形成しても良い。永久磁石とすることで、軟磁性膜１ｂの磁化方向の水平成分を増大させることができる。永久磁石を用いる場合、アルニコ磁石を使用することが好ましい。リング状部材を形成する場合には、単一（一体型）の部材ではなく、多数のセグメントをリング状に並べて配置することで形成しても良い。
また、磁場中熱処理の温度が低い場合は、Ｓｍ−Ｃｏ磁石やＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石を用いても良い。
リング状部材を永久磁石で形成する場合は、第１強磁性体６から第２強磁性体７へと向う磁力線が、記録媒体１の中心から放射方向へ向かう方向となるようにリング状部材の磁極が形成される。
ここでセグメントにした磁石をリング状に並べて配置する方法としては、図６に示すように、オーステナイト系ステンレスのような非磁性のリング状容器３０にセグメント３１を置く部屋３０ａを設け、そのセグメント３１を部屋３０ａに載置し、非磁性の蓋材３２にて部屋を封止する方法を用いるのが好ましい。なお図中矢印は、磁化方向を示す。
本実施形態では、永久磁石のＮ極同士を対向させているが、Ｓ極同士を対向させても良い。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【技術分野】
本発明は、中心に軸孔が形成された円板状の記録媒体をチャンバー内に挿入して、この記録媒体を磁場中で熱処理を行うための磁場中熱処理装置に関する。
【背景技術】
ハードディスク等の記録媒体にデータを記録するに際して、垂直磁気記録方式が知られている。垂直磁気記録方式は、長手方向記録方式に比べて記録密度を飛躍的に増大できる可能性があり注目されている技術である。垂直磁気記録方式において使用される磁気ヘッド及び記録媒体の関係の１つの具体例を図５に示す。図５において、記録媒体を挟むように主磁極２と補助磁極３が配置される。記録媒体１は、主磁極側から順に磁性膜１ａ、軟磁性膜１ｂ、基板１ｃにより構成される。データが実際に記録されるのは磁性膜１ａであり、図示しているように垂直方向（図の上下方向）に磁化される。また、磁気ヘッドによる読み取り性能を上げるために、磁性膜１ａと基板１ｃの間に軟磁性膜１ｂを設けている。この軟磁性膜１ｂにおける磁化方向は、磁性膜１ａにおける磁化方向に対して垂直（図５の水平方向）である。
かかる垂直磁気記録方式に用いられる記録媒体において、磁性膜１ａには、記録媒体の主面に垂直な方向（磁化方向）の磁気異方性が要求され、軟磁性膜１ｂには、記録媒体の主面に沿った方向の磁気異方性が要求される。そのために、記録媒体に対して磁場中で熱処理を行っている。そのための磁場中熱処理装置を図３に示す。
図３において、中央部にチャンバー１０が設けられ、このチャンバー内に記録媒体１が配置される。チャンバー１０の外側には、チャンバー１０を上下方向から挟むように一対の強磁性体２０と電磁コイル２１が配置される。チャンバー内に形成される磁場の方向は図示されている通りである。そのため、一対の強磁性体２０は、磁場の向きが対向するように電磁コイル２１に電圧印加がされる。磁場を形成した状態で、例えば５００℃程度の温度で磁場中熱処理を行う。その他、磁場中熱処理装置としては、特開昭６１−１７７６３０号公報に開示される磁気記録媒体の製造方法や、特開平１１−２５４２４号公報に開示される磁場印加装置等が例としてあげられる。
また、上述したように、磁性膜には垂直方向の、軟磁性膜には水平方向の磁気異方性が要求されるため、チャンバー内に形成される磁場についても、記録媒体１が配置される中央位置における磁場の方向は、できるだけ水平にすることが望ましい。
しかし、図３の装置構成では、磁気回路がチャンバー１０の外部に設けられるため、軟磁性膜が配置される位置における磁化方向の水平性の精度がよくない。さらに、磁気回路の構成要素をチャンバー１０の外側に配置しているため、装置が大型化するという問題点も有している。
そこで、図４に示すように、磁気回路を磁場の向きが対向するように一対の永久磁石２２を配置し、これらをチャンバー１０内に設置する構成が考えられる。電磁石ではなく永久磁石２２を用いることで、磁気回路をチャンバー内に容易に配置することができる。また、一対の永久磁石２２を近接させることができるので、磁化方向の水平性の精度が図３の構成に比較して改善される。さらに、チャンバー内に永久磁石２２を配置することで、磁気回路を小型化することもできる。
しかしながら、図４に示す磁気回路の構成でも、磁化方向の水平性の精度という点では、まだ不十分であった。
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、その課題は、磁性膜及び軟磁性膜を有する記録媒体を磁場中熱処理するにあたり、記録媒体が配置される位置での磁場方向の水平性の精度を改善した磁場中熱処理装置を提供することである。
【発明の開示】
上記課題を解決するため本発明に係る磁場中熱処理装置は、
中心に軸孔が形成された円板状の記録媒体をチャンバー内に挿入して、この記録媒体を磁場中で熱処理を行うための磁場中熱処理装置であって、
前記チャンバー内に磁場を形成するための磁気回路が設けられ、
この磁気回路は、
前記軸孔の軸方向に沿って距離をおいて配置され、磁場の向きが対向する一対の磁石と、
この一対の磁石の間に配置される第１強磁性体とを備え、
前記一対の磁石が向かい合う中間位置に、前記軸孔に前記第１強磁性体が挿通された状態で処理対象である記録媒体が配置されるように構成したことを特徴とするものである。
この構成による磁場中熱処理装置の作用・効果は、以下の通りである。まず、チャンバー内に磁気回路を構成する構成要素としての一対の磁石が配置され、これらは磁場の向きが対向するように配置されている。そして、これら一対の磁石の間に第１強磁性体が配置される。記録媒体は中心に軸孔が形成された円板状であり、この軸孔に第１強磁性体が挿通された状態で磁場中熱処理が行われる。一対の磁石から出る磁力線は、お互いに反発しあうので、一対の磁石が向かい合う中間位置では、磁場（磁力線）の向きは水平方向になるように作用する。そして、第１強磁性体を配置することで、一対の磁石から出てきた磁力線の多くは、第１強磁性体の内部を通過する方向に作用する。従って、中間位置における磁化方向は、より水平な方向になるように仕向けられる。その結果、磁性膜及び軟磁性膜を有する記録媒体を磁場中熱処理するにあたり、記録媒体が配置される位置での磁場方向の水平性の精度を改善した磁場中熱処理装置を提供することができる。
上記の構成において、前記配置される記録媒体の外周にリング状の第２強磁性体を配置することが好ましい。
かかる第２強磁性体を配置することで、更に、磁化方向の水平性を改善することができる。
前記磁石は、組成にＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｔｉを含むものが好ましい。熱処理を行うに際してチャンバー内は高温になるが、上記組成の磁石は、かかる高温雰囲気中でも磁気特性を維持することができる。
また、前記第１強磁性体は、飽和磁化が１．５Ｔ（テスラ）以上、２．４Ｔ以下であることが好ましい。これにより、磁化方向の水平性を改善することができる。１．５Ｔ未満では、要求される磁気異方性を得ることができない。
前述のリング状部材を形成するにあたり、前記第２強磁性体が異方性磁石であることが好ましい。
永久磁石とすることで、磁化方向の水平成分を更に増大させることができる。永久磁石としては、特性的な面からアルニコ磁石を使用することが好ましい。
また、熱処理温度が２５℃〜３００℃程度の場合、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系に代表されるＲ−Ｔ−Ｂ系磁石やＳｍ−Ｃｏ磁石を用いてもよい。
リング状部材を形成する場合、単一の部材として形成しても良いが、製造の容易さ等を考慮して、複数のセグメントをリング状に並べて配置することで形成しても良い。
セグメントをリング状に並べて配置する方法としては、ステンレス鋼のような非磁性のリング状容器にセグメントを置く部屋を設け、そのセグメントを部屋に載置し、非磁性材（ステンレス鋼）にて部屋を封止する方法を用いることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
図１は、第１実施形態に係る磁場中熱処理装置の構成を示す概念図
図２は、第２実施形態に係る磁場中熱処理装置の構成を示す概念図
図３は、従来技術に係る磁場中熱処理装置の構成を示す図
図４は、従来技術の改善例を示す
図５は、磁気ヘッド及び記録媒体の関係を示す図
図６は、セグメントをリング状に配置する構成例を示す図
【発明を実施するための最良の形態】
本発明に係る磁場中熱処理装置の好適な実施形態を図面を用いて説明する。図１は、第１実施形態に係る磁場中熱処理装置の構成を示す概念図である。
＜第１実施形態の構成＞
図１において、チャンバー１０内に一対の永久磁石４，５が磁場の向き（矢印で図示）が対向するように配置されている。永久磁石４，５は、円筒形を有している。また、一対の永久磁石４，５の間には、同じ円筒形の第１強磁性体６が配置されている。永久磁石４，５の各端面（Ｎ極側）と、第１強磁性体６の両端面とは密着した状態となるように配置される。また、永久磁石４，５と第１強磁性体６の円筒軸方向は一致しており、外径寸法も同じにしている。これにより、漏れ磁束が極力少なくなるようにしている。
処理対象である記録媒体１は、図１に想像線で示している。記録媒体１は円板状であり、その中心に軸孔が形成されている。この軸孔に、第１強磁性体６が挿通された状態となっている。記録媒体１の代表的な構造は図５に示した通りである。すなわち、基板と軟磁性膜と磁性膜により構成されている。なお、記録面は片面に限らず両面であってもよい。記録媒体１の軟磁性膜が、一対の永久磁石４，５が向かい合う中間位置に配置されるように設定される。具体的には、Ｎ極同士が向かい合っている中間位置に配置される。この中間位置では、磁力線が反発しあい、磁場の方向が水平になるからである。すなわち、Ｎ極の近傍では磁場の方向は垂直（記録面に対して直角）であり、これが徐々に曲げられて、記録媒体１の軟磁性膜の位置では水平（記録面に対して平行）となる（図３参照）。磁場の方向も、できるだけ急峻に曲げられる方が好ましい。これにより、記録媒体の軟磁性膜については磁化方向の水平性、磁性膜については磁化方向の垂直性を持たせることができる。
一対の永久磁石４，５は、組成にＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｔｉを含む材料で形成することが好ましい。例えば、アルニコ磁石を使用することができる。磁場中熱処理では、チャンバー１０内の温度は磁性膜の材質によって２５℃〜５００℃の範囲となるが、かかる温度範囲においてもアルニコ磁石では磁気特性が低下することがない。その他に、サマリウム・コバルト磁石を使用しても良い。以上のような永久磁石を使用することで、チャンバー内に磁石を設置することができる。
また、磁場中熱処理温度が３００℃以下の場合、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系に代表されるＲ−Ｔ−Ｂ系磁石を用いてもよい。Ｒ−Ｔ−Ｂ系磁石は磁束密度も高く、磁気回路がより小型化される。Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系希土類磁石の組成及び製造方法は、例えば、米国特許第４，７７０，７２３号及び米国特許第４，７９２，３６８号に記載されている。
また、第１強磁性体６として、ＳＳ４００やＳ１５Ｃ等の材料を使用することができる。
一対の永久磁石４，５の間に配置される第１強磁性体６の軸方向の厚みは、記録媒体１の磁性膜１ａの厚みや軟磁性膜１ｂの厚みに対して３５倍〜４５倍にするのがよい。この第１強磁性体６により、漏洩磁束を所定の磁界空間へ集中させることができ、中間位置における磁化方向の水平成分を増大させることができる。また、第１強磁性体６の飽和磁化は１．５Ｔ以上、２．４Ｔ以下のものを使用することが好ましい。
＜第２実施形態の構成＞
次に、第２実施形態に係る磁場中熱処理装置の構成を図２により説明する。図１の構成と異なる点は、記録媒体１の外周位置（円板の端面の外側）にリング状の第２強磁性体７が配置されていることである。その他の構成は、第１実施形態と同じである。第２強磁性体７は、第１強磁性体６と同じ材料を使用することができる。また、第２強磁性体７の厚みは、第１強磁性体６の厚みよりも薄くし、第１強磁性体６に対して１／１．５〜１／８程度にすることが好ましい。このリング状の第２強磁性体７により、漏洩磁束を所定の磁場空間内に更に集中させることができる。これにより、中間位置における磁化方向の水平成分を更に増大させることができる。
以上のような構成により、記録媒体１に形成された磁性膜１ａの磁気異方性を垂直方向とし、軟磁性膜１ｂの磁気異方性を水平方向とすることができる。
図１，２，４に示す各構成について、磁界強度を理論計算し比較した。磁界強度Ｂは、中間位置（原点）におけるＸＹ平面内方向の強度である。ＸＹＺ軸の原点は、記録媒体１が配置される中間位置にある。磁界強度Ｂｚは中間位置（原点）におけるＺ軸方向（記録媒体の軸方向でもある）の強度である。
比較例（図４）・・・Ｂ＝１２５Ｇ（ガウス）
Ｂｚ＝６．６Ｇ
第１実施形態（図１）・・・Ｂ＝２１０Ｇ
Ｂｚ＝１．７Ｇ
第２実施形態（図２）・・・Ｂ＝２７８Ｇ
Ｂｚ＝１．４Ｇ
第１実施形態では、比較例に対してＢの値が大きくなり、かつ、Ｂｚの値がかなり少なくなっている。これにより、中間位置における磁化方向の水平性が高まっていることが分かる。また、中間位置においては、垂直成分Ｂｚがかなり減少している。第２実施形態の場合は、更にその傾向が顕著になる。すなわち、第１強磁性体６や第２強磁性体７を配置することで、磁場特性を改善することが確かめられた。
＜作用＞
本発明に係る磁場中熱処理装置を用いて記録媒体を製造する場合の工程を簡単に説明する。まず、基板１ｃの上に磁性膜１ａと軟磁性膜１ｂを形成した記録媒体１を磁場中熱処理装置内の所定位置に設置する。記録媒体１の中心には軸孔が形成されていおり、図１又は図２の磁気回路を予め記録媒体１に対してセットした状態にして、装置内に挿入する。リング状の第２強磁性体７を用いる場合は、記録媒体１の主面と同一水平面上になるように、記録媒体１の外周にセットする。磁場中熱処理装置内に設置した後、装置内の温度を例えば５００℃とし、磁性膜１ａの磁化方向が所定の方向になるように熱処理を行う。所定時間経過後、冷却することで磁気異方性が固定される。
＜別実施形態＞
前記の第２実施形態では、リング状の第２強磁性体７を第１強磁性体６と同じ材料とする構成を説明したが、このリング状部材を磁石（永久磁石）で形成しても良い。永久磁石とすることで、軟磁性膜１ｂの磁化方向の水平成分を増大させることができる。永久磁石を用いる場合、アルニコ磁石を使用することが好ましい。リング状部材を形成する場合には、単一（一体型）の部材ではなく、多数のセグメントをリング状に並べて配置することで形成しても良い。
また、磁場中熱処理の温度が低い場合は、Ｓｍ−Ｃｏ磁石やＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石を用いても良い。
リング状部材を永久磁石で形成する場合は、第１強磁性体６から第２強磁性体７へと向う磁力線が、記録媒体１の中心から放射方向へ向かう方向となるようにリング状部材の磁極が形成される。
ここでセグメントにした磁石をリング状に並べて配置する方法としては、図６に示すように、オーステナイト系ステンレスのような非磁性のリング状容器３０にセグメント３１を置く部屋３０ａを設け、そのセグメント３１を部屋３０ａに載置し、非磁性の蓋材３２にて部屋を封止する方法を用いるのが好ましい。なお図中矢印は、磁化方向を示す。
本実施形態では、永久磁石のＮ極同士を対向させているが、Ｓ極同士を対向させても良い。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に軸孔が形成された円板状の記録媒体をチャンバー内に挿入して、この記録媒体を磁場中で熱処理を行うための磁場中熱処理装置であって、
前記チャンバー内に磁場を形成するための磁気回路が設けられ、
この磁気回路は、
前記軸孔の軸方向に沿って距離をおいて配置され、磁場の向きが対向する一対の磁石と、
この一対の磁石の間に配置される第１強磁性体とを備え、
前記一対の磁石が向かい合う中間位置に、前記軸孔に前記第１強磁性体が挿通された状態で処理対象である記録媒体が配置されるように構成したことを特徴とする磁場中熱処理装置。
【請求項２】
前記配置される記録媒体の外周にリング状の第２強磁性体を配置したことを特徴とする請求項１に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項３】
前記磁石は、組成にＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｔｉを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項４】
前記第１強磁性体は、飽和磁化が１．５Ｔ以上２．４Ｔ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項５】
前記第２強磁性体が異方性磁石であることを特徴とする請求項２に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項６】
前記２強磁性体がアルニコ磁石であることを特徴とする請求項５に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項７】
前記リング状部材は、複数のセグメントをリング状に並べて配置したものであることを特徴とする請求項５又は６に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項８】
前記複数のセグメントは、リング状の非磁性材からなる容器に収容されていることを特徴とする請求項７に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項１】
中心に軸孔が形成された円板状の記録媒体をチャンバー内に挿入して、この記録媒体を磁場中で熱処理を行うための磁場中熱処理装置であって、
前記チャンバー内に磁場を形成するための磁気回路が設けられ、
この磁気回路は、
前記軸孔の軸方向に沿って距離をおいて配置され、磁場の向きが対向する一対の磁石と、
この一対の磁石の間に配置される第１強磁性体とを備え、
前記一対の磁石が向かい合う中間位置に、前記軸孔に前記第１強磁性体が挿通された状態で処理対象である記録媒体が配置されるように構成したことを特徴とする磁場中熱処理装置。
【請求項２】
前記配置される記録媒体の外周にリング状の第２強磁性体を配置したことを特徴とする請求項１に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項３】
前記磁石は、組成にＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｔｉを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項４】
前記第１強磁性体は、飽和磁化が１．５Ｔ以上２．４Ｔ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項５】
前記第２強磁性体が異方性磁石であることを特徴とする請求項２に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項６】
前記２強磁性体がアルニコ磁石であることを特徴とする請求項５に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項７】
前記リング状部材は、複数のセグメントをリング状に並べて配置したものであることを特徴とする請求項５又は６に記載の磁場中熱処理装置。
【請求項８】
前記複数のセグメントは、リング状の非磁性材からなる容器に収容されていることを特徴とする請求項７に記載の磁場中熱処理装置。
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０７７４１３
【国際公開日】平成１６年９月１０日（２００４．９．１０）
【発行日】平成１８年６月８日（２００６．６．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−５０２８３９（Ｐ２００５−５０２８３９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／００１８１３
【国際出願日】平成１６年２月１８日（２００４．２．１８）
【出願人】（０００１８３４１７）株式会社ＮＥＯＭＡＸ (121)
【出願人】（３０２０４２３７９）株式会社東栄科学産業 (2)
【Ｆターム（参考）】
【国際公開日】平成１６年９月１０日（２００４．９．１０）
【発行日】平成１８年６月８日（２００６．６．８）
【国際特許分類】
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／００１８１３
【国際出願日】平成１６年２月１８日（２００４．２．１８）
【出願人】（０００１８３４１７）株式会社ＮＥＯＭＡＸ (121)
【出願人】（３０２０４２３７９）株式会社東栄科学産業 (2)
【Ｆターム（参考）】
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