磁気ガイド装置および放射線治療装置
【課題】着磁媒体の着磁パターンを離れた距離にある磁気センサーで検出すること。
【解決手段】軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層を交互に積層し、積層露出断面を磁気センサー４８への取り付け面およびリーフとの接触面に適合する形状に切断・加工して磁気ガイド９０を作成する。そして、磁気ガイド９０を磁気テープ４６と磁気センサー４８との間に配置する。磁気ガイド９０には、柱状の軟磁性領域と非磁性体領域から構成される材料を用いることもできる。
【解決手段】軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層を交互に積層し、積層露出断面を磁気センサー４８への取り付け面およびリーフとの接触面に適合する形状に切断・加工して磁気ガイド９０を作成する。そして、磁気ガイド９０を磁気テープ４６と磁気センサー４８との間に配置する。磁気ガイド９０には、柱状の軟磁性領域と非磁性体領域から構成される材料を用いることもできる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気テープや磁気シートなどの着磁媒体が発生する磁場パターンを磁気センサーで検出可能な位置まで引き出す技術、および放射線治療装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線治療装置では、放射線の照射領域を調整するために“マルチリーフコリメータ”（以下ＭＬＣと略す）が使用される。直線状にリーフを移動させる直動方式ＭＬＣではリーフのエッジ部分で半影を生じる欠点があるため、円弧形リーフを使う方式がある。円弧形リーフでは、リーフ移動のため、その下側面には歯が刻まれ、動力伝達機構を介してモータに繋がっている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
ＭＬＣは各リーフを独立に動かして放射線の照射領域を高精度に調整するため、各リーフ位置を全て独立にリアルタイムで、且つ高精度（数１０μｍ）に計測する必要がある。また、非常に強力な放射線が照射されるため、耐放射線性に優れた位置計測技術を使う必要がある。
【０００４】
そこで、例えば、動力伝達機構に使われる複数の伝達ギアのいずれかにエンコーダやポテンショメータ等の位置計測手段を設け、伝達ギアの回転を検出することによってリーフの位置計測が行われている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１９５６５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、動力伝達機構が複数の伝達ギアによって構成される場合には、複数のギアそれぞれにバックラッシュが発生する。複数の伝達ギアのいずれかの回転に基づきリーフの位置を計測する方式によると、計測したリーフの位置と実際の位置とにバックラッシュ分の誤差が生じる。そこで、円弧形をした各リーフの凹形端面部分に、等間隔に着磁した磁気テープを図７のように貼付し、この磁気テープに磁気センサーを密着して磁気パターン情報を検出しようとすると、概ね磁気センサーの形状が平坦であるため、どうしても隙間が生じるため、十分な感度で検出できないといった問題がある。
【０００７】
この発明は、上述した従来技術による課題を解消するためになされたものであり、リーフの位置を正確に計測することができる放射線治療装置および放射線治療装置がリーフの位置を正確に計測することを可能とする磁気ガイド装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、請求項１記載の本発明は、軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層が交互に積層され、着磁媒体に積層露出断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記積層露出断面の反対側の積層露出断面に引き出すことを特徴とする磁気ガイド装置である。
【０００９】
また、請求項２記載の本発明は、軟磁性粒子を含み中心軸が全て一定の方向を向き且つ２次元的に等間隔配置された複数本のまっすぐな柱状磁性領域と該柱状磁性領域間の隙間を満たす非磁性領域から構成され、着磁媒体に前記柱状磁性領域の中心軸横断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記中心軸横断面の反対側の中心軸横断面に引き出すことを特徴とする磁気ガイド装置である。
【００１０】
また、請求項６記載の本発明は、放射線の照射領域を調整するマルチリーフコリメータと、前記マルチリーフコリメータを構成する円弧状の各リーフの上端部に貼り付けられる着磁媒体と、前記着磁媒体が発生する磁場パターンを検出する磁気センサーと、前記着磁媒体と磁気センサーの間に配置され該着磁媒体が発生する磁場パターンを磁気センサーが検出可能なように引き出す磁気ガイド装置を備え、前記磁気ガイド装置は、軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層が交互に積層され、前記着磁媒体に積層露出断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記積層露出断面の反対側の積層露出断面に引き出して前記磁気センサーが検出可能とすることを特徴とする放射線治療装置である。
【００１１】
また、請求項７記載の本発明は、放射線の照射領域を調整するマルチリーフコリメータと、前記マルチリーフコリメータを構成する円弧状の各リーフの上端部に貼り付けられる着磁媒体と、前記着磁媒体が発生する磁場パターンを検出する磁気センサーと、前記着磁媒体と磁気センサーの間に配置され該着磁媒体が発生する磁場パターンを磁気センサーが検出可能なように引き出す磁気ガイド装置を備え、前記磁気ガイド装置は、軟磁性粒子を含み中心軸が全て一定の方向を向き且つ２次元的に等間隔配置された複数本のまっすぐな柱状磁性領域と該柱状磁性領域間の隙間を満たす非磁性領域から構成され、前記着磁媒体に前記柱状磁性領域の中心軸横断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記中心軸横断面の反対側の中心軸横断面に引き出して前記磁気センサーが検出可能とすることを特徴とする放射線治療装置である。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１または２記載の本発明によれば、着磁媒体が発生する磁場パターンを離れた位置にある磁場センサーが検出することができる。
【００１３】
請求項６または７記載の本発明によれば、磁気センサーを着磁媒体から離して配置することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に添付図面を参照して、この発明に係る磁気ガイド装置および放射線治療装置の好適な実施例を詳細に説明する。
【実施例】
【００１５】
まず、本実施例に係る放射線治療装置の構成について説明する。図１は、本実施例に係る放射線治療装置の構成を示す概要図である。放射線治療装置１は、被検体の患部を治療するための装置である。放射線を発生させ、被検体の患部に曝射することで、患部を治療する。
【００１６】
この放射線治療装置１は、被検体が載置される治療台２、放射線を曝射する回転架台３、および該回転架台３を回動可能に支持する回転支持台４から構成されている。
【００１７】
治療台２は、被検体の体軸方向（図１中矢印Ａの方向）に移動可能とされた天板２ａが備えられているとともに、上下動（図１中矢印Ｂの方向）が可能である。また、この治療台２は、天板２ａの面が放射線治療装置１の設置面と平行な関係を保つ回転動（図１中矢印Ｃ）が可能となっている。
【００１８】
回転支持台４は、装置設置面に固定されており、回転架台３を回動軸４ａを介して支持している。回転支持台４は、回動軸４ａを回転させることで、回転架台３を軸回り（図１中矢印Ｄ）の方向に回転可能とする。
【００１９】
回転架台３は、その断面が略Ｌ字状の立体形状を有している。略Ｌ字状の立体形状のうち、片腕３ａが回転支持台４に支持されており、他方の片腕３ｂに照射ヘッド５を備えている。照射ヘッド５は、治療台２と対向して配置される。
【００２０】
照射ヘッド５には、放射線源Ｓが内設されており、放射線を被検体に対して曝射する。放射線源Ｓは、電子加速器や対電子線ターゲット等で構成されており、電子加速器で電子を加速させ、対電子線ターゲットに衝突させることで放射線を発生させる。発生する放射線は、Ｘ線、γ線などであり、この他に加速された電子をターゲットに衝突させずに、直接患者の体表面に照射するといった使われ方もある。
【００２１】
この放射線治療装置１は、天板２ａに被検体を載置して、放射線が照射される患部が回動軸４ａの軸線（図中一点鎖線）と照射ヘッド５の軸線（図中同じく一点鎖線）とが交差するアイソセンタに位置するように、治療台２の被検体の体軸方向への移動や上下動並びに回転動、および回転架台３の軸回り方向への回転を行う。
【００２２】
患部がアイソセンタに位置すると、照射野Ｆ等を調整して放射線源から放射線を患部へ照射する。照射野Ｆは、放射線を照射する領域であり、患部形状に合わせて形成される。照射ヘッド５には、原体絞り装置（マルチリーフコリメータ）６が内設され、原体絞り装置６により照射野Ｆが形成される。
【００２３】
図２は、原体絞り装置６と放射線源との位置関係をあらわした側面から見た原理図である。図２に示すように、原体絞り装置６は、放射線源Ｓから照射される放射線の曝射軸上に設置されている。この原体絞り装置６は、マルチリーフ部分を備え、各リーフは、放射線の曝射方向軸を挟んで対向する板状のリーフ１０１Ａおよび１０１Ｂを備える。リーフ１０１Ａおよび１０１Ｂは、その断面がテーパ状とされるとともに、その上端面が短周長のアーチ状となっている。
【００２４】
このリーフ１０１Ａおよび１０１Ｂは、放射線の放射範囲に位置して放射範囲を絞ることで、患部形状に合致した照射野Ｆを形成して患部以外の組織への無用な照射を防止する。マルチリーフ部分は、リーフ１０１Ａおよび１０１Ｂの対からなり、その側面が互いに接する又は近接するように複数対が並置させられた構造となっている。
【００２５】
リーフ１０１Ａおよび１０１Ｂの対は、それぞれ独立して放射線源Ｓを中心とした同一円弧軌道に沿って接近又は離反移動する。それぞれのリーフ１０１Ａおよび１０１Ｂの対の接近または離反移動により、マルチリーフ部分は全体として適切な照射野Ｆを形成する。図３に、従来の原体しぼり装置６における各リーフを駆動するための動力伝達系の模式図を示す。同図に示すように、モータ３１の回転は、ウォームギア３２、ウォームホイール３３、アイドラギア３４、シャフト３５、駆動ギア３６を介してリーフ３７に伝達される。
【００２６】
次に、本実施例に係る放射線治療装置１によるリーフ位置計測方法について説明する。一般的に、光を検出する“光半導体”は放射線があたることで生ずる「光電効果」や「コンプトン散乱」による誤動作、半導体部分の劣化、プラスチックレンズの曇りといった問題を起こす可能性が高く、センサーとして使用できなくなる等といった欠点が考えられる。
【００２７】
そこで、本実施例に係る放射線治療装置１では、直接または間接的に放射線が当たった場合でも、誤動作や劣化が生じにくいとされている“磁気センサー”を使用する。即ち、本実施例に係る放射線治療装置１では、リーフ位置を計測するために、“着磁した磁気テープ”とその磁気パターンを高感度に検出できる“磁気センサー”を使うものとする。
【００２８】
図４は、本実施例に係る放射線治療装置１によるリーフ位置計測方法を説明するための側面図である。図４において、加速された電子は電子線４１に示すようにベンディング・マグネット４２により方向が曲げられ、ターゲット４３に衝突し、放射線４４を放射する。放射線４４の照射野を制御するマルチリーフコリメータの円弧状のリーフ３７は、下側面に歯が刻まれ、ギヤからなる動力伝達機構４５を介してモータに接続される。
【００２９】
このように、リーフ３７の下部端面は駆動ギアと嵌合するように“歯”が切られており、しかも複数枚あるリーフ３７は放射線が極力漏れないように、互いに数十μｍの間隙を隔てて摺動する構造になっている。そこで、本実施例に係る放射線治療装置１では、各リーフ３７の上端面に一定ピッチで着磁した磁気テープ４６を取り付け、リーフ３７の移動をガイドするフレーム４７に磁気センサー４８を取り付けるものとする。そして、リーフ３７の移動に合わせて磁気センサー４８が出力する電圧パルス数をカウントすることによって各リーフ３７の位置を高精度で計測することができる。
【００３０】
磁気センサー４８としては、感度が高いＧＭＲセンサー（＝巨大磁気抵抗センサー）が望ましいが、すだれ形ＡＭＲセンサー（＝異方向性磁気抵抗センサー）を使用するものであってもよい。図５−１にＧＭＲセンサーの外観斜視図を示す。通常、このＧＭＲセンサー５１は、平坦なガラス基板上に作成され、磁気テープ５２が発生する磁気パターンを検出するといった動作をする。図５−２に磁気テープ５２の外観図、図５−３にＧＭＲセンサー５１の上面拡大図、図５−４にＧＭＲセンサー５１の底面拡大図を示す。
【００３１】
図６にＧＭＲセンサー６１と磁気テープ６２との典型的な組合せ使用例を示す。図６では、着磁された磁気テープ６２が平らな対象物６３に貼付され、その上をＧＭＲセンサー６１が摺動することでパルス信号を検出する。
【００３２】
一方、本実施例に係る放射線治療装置１では、図７に示すように、リーフ３７の上部側面は凹形であるため、磁気センサー４８と磁気テープ４６との間に距離が生じ、この距離が、図８の典型的な磁気センサー（ＧＭＲセンサー）の特性図に示す使用ギャップを超えてしまう。図８において、ギャップは磁気センサー４８の表面（保護膜面）と磁気テープ４６の表面（保護膜面）との距離を示し、使用ギャップは許容できる距離を示す。
【００３３】
そこで、本実施例に係る放射線治療装置１では、図９に示すような軟磁性層８１と非磁性層８２が交互に積層された複合材料部品（以下「磁気ガイド」と呼ぶ）を磁気センサー４８と磁気テープ４６との間に配置する。
【００３４】
図１０は、磁気センサー４８と磁気テープ４６との間に配置された磁気ガイド９０を示す図である。構造を分かりやすくするため、磁気ガイド９０は誇張して描かれている。図１０には、磁気ガイド９０と磁気テープ４６との接触面の一部を拡大した図も示す。磁気ガイド９０は、磁気テープ４６が発生する磁場パターンを磁気センサー４８へ引き出し、磁気センサー４８が磁場パターンを検出することを可能とする。この磁気ガイド９０が、磁気テープ４６が発生する磁場パターンを磁気センサー４８へ引き出すことによって、磁気センサー４８を磁気テープ４６から離して配置することができる。
【００３５】
図１０に示すように、磁気ガイド９０が磁気テープ４６と接触する面はリーフ３７の上部凹形側面に対応した凸面であり、磁気ガイド９０が磁気センサー４８と接触する面は平面である。また、磁気ガイド９０は磁気センサー４８に取り付けられる。
【００３６】
次に、磁気テープ４６が発生する磁場パターンの磁気ガイド９０による磁気センサー４８への引き出しについて説明する。磁気回路に関しても電気回路と類似の法則が成立することが知られている。即ち、マグネットの起磁力をＦ、全磁束をΦt、回路の磁気抵抗(＝リラクタンス)をＲとすれば、その相互関係は式（１）で表される。
Φt＝Ｆ／Ｒ （１）
【００３７】
この磁気低抗Ｒは、透磁率をμ、回路の磁路長をＬ、磁路の断面積をＡとすると、式（２）のように表される。ただし、真空の透磁率はμ＝４π×１０-7〔H/m〕である。
Ｒ＝Ｌ/（μ・Ａ） （２）
【００３８】
磁気テープ４６と磁気センサー４８の位置関係がどのような場合でも、磁気テープ４６の着磁パターンが正しく磁気センサー４８に伝達されるために、図１０に示すように磁気テープ４６の着磁ピッチをλ、磁気ガイド９０の積層ピッチをλ′とおくとき、λとλ′は式（３）の関係を満たすことが必要とされる。ここで、軟磁性層８１の厚みをｔ１、非磁性層８２の厚みをｔ２としたとき、積層ピッチλ′はｔ１とｔ２の和に相当する。
λ／２＝ｎ・λ′ （３）
（但し、λ′＝ｔ１＋ｔ２，ｎは１以上の自然数）
【００３９】
さらに非磁性層の透磁率をμ、軟磁性層の透磁率をμ′とし、式（４）の関係を満たすように材料を選択する。
μ≪μ′ （４）
【００４０】
このとき、磁気テープ４６から出る磁力線８３は、透磁率が大きな層を通過しやすいため、図１１に示すように磁気テープ４６と接していない側の磁気ガイド端面まで到達し、リターンパスを経由して戻ってくることになる。磁気センサー４８は数ｋＨｚでの周波数応答があれば十分なので、軟磁性層８１を構成する軟磁性材料としては透磁率が数１０００のものが使え、且つ非磁性層の比透磁率はほぼ１に近いので、例えば磁気テープ４６の着磁ピッチが１００μｍの場合には、数ｍｍ程度までの距離まで着磁パターンを引き出すことが可能となる。
【００４１】
なお、図１０では、ｎ＝１（λ／２＝λ′）の場合を示したが、ｎ＝２（λ／２＝２λ′）の場合とｎ＝３（λ／２＝３λ′）の場合をそれぞれ図１２と図１３に示す。
【００４２】
また、磁気ガイド９０の製造方法の一例を図１４に示す。磁気テープ４６の着磁ピッチより十分小さな直径の軟磁性粒子粉末を耐放射線性樹脂、例えばＰＥＥＫ、ポリイミドなど、と十分混合させ、一様な厚みの軟磁性シートに加工する。同じ耐放射線樹脂を同じ厚みの非磁性シートに加工する。
【００４３】
そして、図１４に示すように、これら軟磁性シート９１と非磁性シート９２を必要な枚数だけ交互に積層し、加熱しながら徐々にローラ９３で圧延していく。積層ピッチが所望の距離λ′となった時点で圧延をストップし、磁気センサー４８とリーフ３７に適合する形状に切断・加工することで磁気ガイド９０を作成することができる。
【００４４】
上述してきたように、本実施例では、軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層８１と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層８２を交互に積層し、積層露出断面を磁気センサー４８への取り付け面およびリーフ３７との接触面に適合する形状に切断・加工して磁気ガイド９０を作成する。そして、磁気ガイド９０を磁気テープ４６と磁気センサー４８との間に配置することで、リーフ３７の上部側面が凹形であることに起因して磁気テープ４６と磁気センサー４８との間に生じるギャップによる磁場パターンの検出感度低下を防ぐことができる。また、磁気センサー４８と磁気テープ４６との直接的な接触をなくすことができ、磁気センサー４８自体の磨耗や破損を防ぐことができる。
【００４５】
なお、上記実施例では、軟磁性層８１と非磁性層８２を交互に積層して磁気ガイド９０を作成する場合について説明したが、柱状の軟磁性領域を有する材料を用いて磁気ガイド９０を作成することもできる。
【００４６】
図１５は、柱状の軟磁性領域９６と非磁性体領域９７から構成される材料を示す図である。また、図１５には、軟磁性領域９６の中心軸９８の横断面を磁気テープに接触させた際に、磁気テープが発生する磁場パターンを反対側の中心軸横断面に引き出す磁力線８３も示す。
【００４７】
図１５において、軟磁性領域の柱は、直線状で全てが概平行である。柱の断面形状はどんな形状であっても構わないが、その柱の中心軸間のピッチλ″と、磁気テープの着磁ピッチλとの関係は式（５）を満たすように作成される。ここで軟磁性領域の柱の外径をｔ１′、隣り合う軟磁性領域の柱間の距離（＝非磁性領域の厚み）をｔ２′としたとき、積層ピッチλ″はｔ１′とｔ２′の和に相当する。
λ／２＝ｎ′・λ″ （５）
（但し、λ″＝ｔ１′＋ｔ２′，ｎ′は１以上の自然数）
【００４８】
図１５に示した材料を用いた磁気ガイド９０は例えば以下のようにして作成することができる。まず、耐放射線性樹脂のブロックを作成し、エキシマレーザー等を使って貫通する孔を所望の形状となるように規則的にあける。そして、加工した樹脂ブロックを、軟磁性材料を溶かし込んだ溶液に浸し、“フェライトめっき”として知られている技術等によって、低温（２４°Ｃ〜１００°Ｃ）の条件下でこの貫通孔に軟磁性材料をめっきする。こうして出来た樹脂ブロックを所望の仕上がり形状に切断・加工することで、磁気ガイド９０を作成することができる。
【００４９】
なお、本実施例では、放射線治療装置１においてマルチリーフコリメータの各リーフ３７の位置を磁気センサー４８および磁気ガイド９０を用いて計測する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、着磁媒体の着磁パターンを離れた位置から磁気センサー４８および磁気ガイド９０を用いて計測する場合にも同様に適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
以上のように、本発明は、位置計測などで着磁媒体の着磁パターンを離れた位置から磁気センサーを用いて検出する場合に有用であり、特に、放射線が使われる環境下での位置計測に適している。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本実施例に係る放射線治療装置の構成を示す概要図である。
【図２】原体絞り装置と放射線源との位置関係をあらわした側面から見た原理図である。
【図３】リーフを駆動するための動力伝達系の模式図である。
【図４】本実施例に係る放射線治療装置によるリーフ位置計測方法を説明するための側面図である。
【図５−１】ＧＭＲセンサーの外観斜視図である。
【図５−２】磁気テープの外観図である。
【図５−３】ＧＭＲセンサーの上面拡大図である。
【図５−４】ＧＭＲセンサーの底面拡大図である。
【図６】磁気シートと磁気テープとの典型的な組合せ使用例を示す図である。
【図７】磁気センサーと磁気テープとの間に生じるギャップを示す図である。
【図８】磁気センサーの特性図である。
【図９】軟磁性層と非磁性層が交互に積層された複合材料部品を示す図である。
【図１０】磁気センサーと磁気テープとの間に配置された磁気ガイドを示す図である。
【図１１】磁気ガイドを通過する磁力線を示す図である。
【図１２】ｎ＝２の磁気ガイドを示す図である。
【図１３】ｎ＝３の磁気ガイドを示す図である。
【図１４】磁気ガイドの製造方法の一例を示す図である。
【図１５】磁気ガイド製造に用いられる他の材料を示す図である。
【符号の説明】
【００５２】
１ 放射線治療装置
２ 治療台
２ａ 天板
３ 回転架台
３ａ 片腕
３ｂ 片腕
４ 回転支持台
４ａ 回動軸
５ 照射ヘッド
６ 原体絞り装置
３１ モータ
３２ ウォームギア
３３ ウォームホイール
３４ アイドラギア
３５ シャフト
３６ 駆動ギア
３７，１０１Ａ，１０１Ｂ リーフ
４１ 電子線
４２ ベンディング・マグネット
４３ ターゲット
４４ 放射線
４５ 動力伝達機構
４６，５２，６２ 磁気テープ
４７ フレーム
４８ 磁気センサー
５１，６１ ＧＭＲセンサー
６３ 対象物
８１ 軟磁性層
８２ 非磁性層
８３ 磁力線
９０ 磁気ガイド
９１ 軟磁性シート
９２ 非磁性シート
９３ ローラ
９６ 柱状の軟磁性領域
９７ 非磁性体領域
９８ 柱状の軟磁性領域の中心軸
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気テープや磁気シートなどの着磁媒体が発生する磁場パターンを磁気センサーで検出可能な位置まで引き出す技術、および放射線治療装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線治療装置では、放射線の照射領域を調整するために“マルチリーフコリメータ”（以下ＭＬＣと略す）が使用される。直線状にリーフを移動させる直動方式ＭＬＣではリーフのエッジ部分で半影を生じる欠点があるため、円弧形リーフを使う方式がある。円弧形リーフでは、リーフ移動のため、その下側面には歯が刻まれ、動力伝達機構を介してモータに繋がっている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
ＭＬＣは各リーフを独立に動かして放射線の照射領域を高精度に調整するため、各リーフ位置を全て独立にリアルタイムで、且つ高精度（数１０μｍ）に計測する必要がある。また、非常に強力な放射線が照射されるため、耐放射線性に優れた位置計測技術を使う必要がある。
【０００４】
そこで、例えば、動力伝達機構に使われる複数の伝達ギアのいずれかにエンコーダやポテンショメータ等の位置計測手段を設け、伝達ギアの回転を検出することによってリーフの位置計測が行われている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１９５６５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、動力伝達機構が複数の伝達ギアによって構成される場合には、複数のギアそれぞれにバックラッシュが発生する。複数の伝達ギアのいずれかの回転に基づきリーフの位置を計測する方式によると、計測したリーフの位置と実際の位置とにバックラッシュ分の誤差が生じる。そこで、円弧形をした各リーフの凹形端面部分に、等間隔に着磁した磁気テープを図７のように貼付し、この磁気テープに磁気センサーを密着して磁気パターン情報を検出しようとすると、概ね磁気センサーの形状が平坦であるため、どうしても隙間が生じるため、十分な感度で検出できないといった問題がある。
【０００７】
この発明は、上述した従来技術による課題を解消するためになされたものであり、リーフの位置を正確に計測することができる放射線治療装置および放射線治療装置がリーフの位置を正確に計測することを可能とする磁気ガイド装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、請求項１記載の本発明は、軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層が交互に積層され、着磁媒体に積層露出断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記積層露出断面の反対側の積層露出断面に引き出すことを特徴とする磁気ガイド装置である。
【０００９】
また、請求項２記載の本発明は、軟磁性粒子を含み中心軸が全て一定の方向を向き且つ２次元的に等間隔配置された複数本のまっすぐな柱状磁性領域と該柱状磁性領域間の隙間を満たす非磁性領域から構成され、着磁媒体に前記柱状磁性領域の中心軸横断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記中心軸横断面の反対側の中心軸横断面に引き出すことを特徴とする磁気ガイド装置である。
【００１０】
また、請求項６記載の本発明は、放射線の照射領域を調整するマルチリーフコリメータと、前記マルチリーフコリメータを構成する円弧状の各リーフの上端部に貼り付けられる着磁媒体と、前記着磁媒体が発生する磁場パターンを検出する磁気センサーと、前記着磁媒体と磁気センサーの間に配置され該着磁媒体が発生する磁場パターンを磁気センサーが検出可能なように引き出す磁気ガイド装置を備え、前記磁気ガイド装置は、軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層が交互に積層され、前記着磁媒体に積層露出断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記積層露出断面の反対側の積層露出断面に引き出して前記磁気センサーが検出可能とすることを特徴とする放射線治療装置である。
【００１１】
また、請求項７記載の本発明は、放射線の照射領域を調整するマルチリーフコリメータと、前記マルチリーフコリメータを構成する円弧状の各リーフの上端部に貼り付けられる着磁媒体と、前記着磁媒体が発生する磁場パターンを検出する磁気センサーと、前記着磁媒体と磁気センサーの間に配置され該着磁媒体が発生する磁場パターンを磁気センサーが検出可能なように引き出す磁気ガイド装置を備え、前記磁気ガイド装置は、軟磁性粒子を含み中心軸が全て一定の方向を向き且つ２次元的に等間隔配置された複数本のまっすぐな柱状磁性領域と該柱状磁性領域間の隙間を満たす非磁性領域から構成され、前記着磁媒体に前記柱状磁性領域の中心軸横断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記中心軸横断面の反対側の中心軸横断面に引き出して前記磁気センサーが検出可能とすることを特徴とする放射線治療装置である。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１または２記載の本発明によれば、着磁媒体が発生する磁場パターンを離れた位置にある磁場センサーが検出することができる。
【００１３】
請求項６または７記載の本発明によれば、磁気センサーを着磁媒体から離して配置することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に添付図面を参照して、この発明に係る磁気ガイド装置および放射線治療装置の好適な実施例を詳細に説明する。
【実施例】
【００１５】
まず、本実施例に係る放射線治療装置の構成について説明する。図１は、本実施例に係る放射線治療装置の構成を示す概要図である。放射線治療装置１は、被検体の患部を治療するための装置である。放射線を発生させ、被検体の患部に曝射することで、患部を治療する。
【００１６】
この放射線治療装置１は、被検体が載置される治療台２、放射線を曝射する回転架台３、および該回転架台３を回動可能に支持する回転支持台４から構成されている。
【００１７】
治療台２は、被検体の体軸方向（図１中矢印Ａの方向）に移動可能とされた天板２ａが備えられているとともに、上下動（図１中矢印Ｂの方向）が可能である。また、この治療台２は、天板２ａの面が放射線治療装置１の設置面と平行な関係を保つ回転動（図１中矢印Ｃ）が可能となっている。
【００１８】
回転支持台４は、装置設置面に固定されており、回転架台３を回動軸４ａを介して支持している。回転支持台４は、回動軸４ａを回転させることで、回転架台３を軸回り（図１中矢印Ｄ）の方向に回転可能とする。
【００１９】
回転架台３は、その断面が略Ｌ字状の立体形状を有している。略Ｌ字状の立体形状のうち、片腕３ａが回転支持台４に支持されており、他方の片腕３ｂに照射ヘッド５を備えている。照射ヘッド５は、治療台２と対向して配置される。
【００２０】
照射ヘッド５には、放射線源Ｓが内設されており、放射線を被検体に対して曝射する。放射線源Ｓは、電子加速器や対電子線ターゲット等で構成されており、電子加速器で電子を加速させ、対電子線ターゲットに衝突させることで放射線を発生させる。発生する放射線は、Ｘ線、γ線などであり、この他に加速された電子をターゲットに衝突させずに、直接患者の体表面に照射するといった使われ方もある。
【００２１】
この放射線治療装置１は、天板２ａに被検体を載置して、放射線が照射される患部が回動軸４ａの軸線（図中一点鎖線）と照射ヘッド５の軸線（図中同じく一点鎖線）とが交差するアイソセンタに位置するように、治療台２の被検体の体軸方向への移動や上下動並びに回転動、および回転架台３の軸回り方向への回転を行う。
【００２２】
患部がアイソセンタに位置すると、照射野Ｆ等を調整して放射線源から放射線を患部へ照射する。照射野Ｆは、放射線を照射する領域であり、患部形状に合わせて形成される。照射ヘッド５には、原体絞り装置（マルチリーフコリメータ）６が内設され、原体絞り装置６により照射野Ｆが形成される。
【００２３】
図２は、原体絞り装置６と放射線源との位置関係をあらわした側面から見た原理図である。図２に示すように、原体絞り装置６は、放射線源Ｓから照射される放射線の曝射軸上に設置されている。この原体絞り装置６は、マルチリーフ部分を備え、各リーフは、放射線の曝射方向軸を挟んで対向する板状のリーフ１０１Ａおよび１０１Ｂを備える。リーフ１０１Ａおよび１０１Ｂは、その断面がテーパ状とされるとともに、その上端面が短周長のアーチ状となっている。
【００２４】
このリーフ１０１Ａおよび１０１Ｂは、放射線の放射範囲に位置して放射範囲を絞ることで、患部形状に合致した照射野Ｆを形成して患部以外の組織への無用な照射を防止する。マルチリーフ部分は、リーフ１０１Ａおよび１０１Ｂの対からなり、その側面が互いに接する又は近接するように複数対が並置させられた構造となっている。
【００２５】
リーフ１０１Ａおよび１０１Ｂの対は、それぞれ独立して放射線源Ｓを中心とした同一円弧軌道に沿って接近又は離反移動する。それぞれのリーフ１０１Ａおよび１０１Ｂの対の接近または離反移動により、マルチリーフ部分は全体として適切な照射野Ｆを形成する。図３に、従来の原体しぼり装置６における各リーフを駆動するための動力伝達系の模式図を示す。同図に示すように、モータ３１の回転は、ウォームギア３２、ウォームホイール３３、アイドラギア３４、シャフト３５、駆動ギア３６を介してリーフ３７に伝達される。
【００２６】
次に、本実施例に係る放射線治療装置１によるリーフ位置計測方法について説明する。一般的に、光を検出する“光半導体”は放射線があたることで生ずる「光電効果」や「コンプトン散乱」による誤動作、半導体部分の劣化、プラスチックレンズの曇りといった問題を起こす可能性が高く、センサーとして使用できなくなる等といった欠点が考えられる。
【００２７】
そこで、本実施例に係る放射線治療装置１では、直接または間接的に放射線が当たった場合でも、誤動作や劣化が生じにくいとされている“磁気センサー”を使用する。即ち、本実施例に係る放射線治療装置１では、リーフ位置を計測するために、“着磁した磁気テープ”とその磁気パターンを高感度に検出できる“磁気センサー”を使うものとする。
【００２８】
図４は、本実施例に係る放射線治療装置１によるリーフ位置計測方法を説明するための側面図である。図４において、加速された電子は電子線４１に示すようにベンディング・マグネット４２により方向が曲げられ、ターゲット４３に衝突し、放射線４４を放射する。放射線４４の照射野を制御するマルチリーフコリメータの円弧状のリーフ３７は、下側面に歯が刻まれ、ギヤからなる動力伝達機構４５を介してモータに接続される。
【００２９】
このように、リーフ３７の下部端面は駆動ギアと嵌合するように“歯”が切られており、しかも複数枚あるリーフ３７は放射線が極力漏れないように、互いに数十μｍの間隙を隔てて摺動する構造になっている。そこで、本実施例に係る放射線治療装置１では、各リーフ３７の上端面に一定ピッチで着磁した磁気テープ４６を取り付け、リーフ３７の移動をガイドするフレーム４７に磁気センサー４８を取り付けるものとする。そして、リーフ３７の移動に合わせて磁気センサー４８が出力する電圧パルス数をカウントすることによって各リーフ３７の位置を高精度で計測することができる。
【００３０】
磁気センサー４８としては、感度が高いＧＭＲセンサー（＝巨大磁気抵抗センサー）が望ましいが、すだれ形ＡＭＲセンサー（＝異方向性磁気抵抗センサー）を使用するものであってもよい。図５−１にＧＭＲセンサーの外観斜視図を示す。通常、このＧＭＲセンサー５１は、平坦なガラス基板上に作成され、磁気テープ５２が発生する磁気パターンを検出するといった動作をする。図５−２に磁気テープ５２の外観図、図５−３にＧＭＲセンサー５１の上面拡大図、図５−４にＧＭＲセンサー５１の底面拡大図を示す。
【００３１】
図６にＧＭＲセンサー６１と磁気テープ６２との典型的な組合せ使用例を示す。図６では、着磁された磁気テープ６２が平らな対象物６３に貼付され、その上をＧＭＲセンサー６１が摺動することでパルス信号を検出する。
【００３２】
一方、本実施例に係る放射線治療装置１では、図７に示すように、リーフ３７の上部側面は凹形であるため、磁気センサー４８と磁気テープ４６との間に距離が生じ、この距離が、図８の典型的な磁気センサー（ＧＭＲセンサー）の特性図に示す使用ギャップを超えてしまう。図８において、ギャップは磁気センサー４８の表面（保護膜面）と磁気テープ４６の表面（保護膜面）との距離を示し、使用ギャップは許容できる距離を示す。
【００３３】
そこで、本実施例に係る放射線治療装置１では、図９に示すような軟磁性層８１と非磁性層８２が交互に積層された複合材料部品（以下「磁気ガイド」と呼ぶ）を磁気センサー４８と磁気テープ４６との間に配置する。
【００３４】
図１０は、磁気センサー４８と磁気テープ４６との間に配置された磁気ガイド９０を示す図である。構造を分かりやすくするため、磁気ガイド９０は誇張して描かれている。図１０には、磁気ガイド９０と磁気テープ４６との接触面の一部を拡大した図も示す。磁気ガイド９０は、磁気テープ４６が発生する磁場パターンを磁気センサー４８へ引き出し、磁気センサー４８が磁場パターンを検出することを可能とする。この磁気ガイド９０が、磁気テープ４６が発生する磁場パターンを磁気センサー４８へ引き出すことによって、磁気センサー４８を磁気テープ４６から離して配置することができる。
【００３５】
図１０に示すように、磁気ガイド９０が磁気テープ４６と接触する面はリーフ３７の上部凹形側面に対応した凸面であり、磁気ガイド９０が磁気センサー４８と接触する面は平面である。また、磁気ガイド９０は磁気センサー４８に取り付けられる。
【００３６】
次に、磁気テープ４６が発生する磁場パターンの磁気ガイド９０による磁気センサー４８への引き出しについて説明する。磁気回路に関しても電気回路と類似の法則が成立することが知られている。即ち、マグネットの起磁力をＦ、全磁束をΦt、回路の磁気抵抗(＝リラクタンス)をＲとすれば、その相互関係は式（１）で表される。
Φt＝Ｆ／Ｒ （１）
【００３７】
この磁気低抗Ｒは、透磁率をμ、回路の磁路長をＬ、磁路の断面積をＡとすると、式（２）のように表される。ただし、真空の透磁率はμ＝４π×１０-7〔H/m〕である。
Ｒ＝Ｌ/（μ・Ａ） （２）
【００３８】
磁気テープ４６と磁気センサー４８の位置関係がどのような場合でも、磁気テープ４６の着磁パターンが正しく磁気センサー４８に伝達されるために、図１０に示すように磁気テープ４６の着磁ピッチをλ、磁気ガイド９０の積層ピッチをλ′とおくとき、λとλ′は式（３）の関係を満たすことが必要とされる。ここで、軟磁性層８１の厚みをｔ１、非磁性層８２の厚みをｔ２としたとき、積層ピッチλ′はｔ１とｔ２の和に相当する。
λ／２＝ｎ・λ′ （３）
（但し、λ′＝ｔ１＋ｔ２，ｎは１以上の自然数）
【００３９】
さらに非磁性層の透磁率をμ、軟磁性層の透磁率をμ′とし、式（４）の関係を満たすように材料を選択する。
μ≪μ′ （４）
【００４０】
このとき、磁気テープ４６から出る磁力線８３は、透磁率が大きな層を通過しやすいため、図１１に示すように磁気テープ４６と接していない側の磁気ガイド端面まで到達し、リターンパスを経由して戻ってくることになる。磁気センサー４８は数ｋＨｚでの周波数応答があれば十分なので、軟磁性層８１を構成する軟磁性材料としては透磁率が数１０００のものが使え、且つ非磁性層の比透磁率はほぼ１に近いので、例えば磁気テープ４６の着磁ピッチが１００μｍの場合には、数ｍｍ程度までの距離まで着磁パターンを引き出すことが可能となる。
【００４１】
なお、図１０では、ｎ＝１（λ／２＝λ′）の場合を示したが、ｎ＝２（λ／２＝２λ′）の場合とｎ＝３（λ／２＝３λ′）の場合をそれぞれ図１２と図１３に示す。
【００４２】
また、磁気ガイド９０の製造方法の一例を図１４に示す。磁気テープ４６の着磁ピッチより十分小さな直径の軟磁性粒子粉末を耐放射線性樹脂、例えばＰＥＥＫ、ポリイミドなど、と十分混合させ、一様な厚みの軟磁性シートに加工する。同じ耐放射線樹脂を同じ厚みの非磁性シートに加工する。
【００４３】
そして、図１４に示すように、これら軟磁性シート９１と非磁性シート９２を必要な枚数だけ交互に積層し、加熱しながら徐々にローラ９３で圧延していく。積層ピッチが所望の距離λ′となった時点で圧延をストップし、磁気センサー４８とリーフ３７に適合する形状に切断・加工することで磁気ガイド９０を作成することができる。
【００４４】
上述してきたように、本実施例では、軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層８１と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層８２を交互に積層し、積層露出断面を磁気センサー４８への取り付け面およびリーフ３７との接触面に適合する形状に切断・加工して磁気ガイド９０を作成する。そして、磁気ガイド９０を磁気テープ４６と磁気センサー４８との間に配置することで、リーフ３７の上部側面が凹形であることに起因して磁気テープ４６と磁気センサー４８との間に生じるギャップによる磁場パターンの検出感度低下を防ぐことができる。また、磁気センサー４８と磁気テープ４６との直接的な接触をなくすことができ、磁気センサー４８自体の磨耗や破損を防ぐことができる。
【００４５】
なお、上記実施例では、軟磁性層８１と非磁性層８２を交互に積層して磁気ガイド９０を作成する場合について説明したが、柱状の軟磁性領域を有する材料を用いて磁気ガイド９０を作成することもできる。
【００４６】
図１５は、柱状の軟磁性領域９６と非磁性体領域９７から構成される材料を示す図である。また、図１５には、軟磁性領域９６の中心軸９８の横断面を磁気テープに接触させた際に、磁気テープが発生する磁場パターンを反対側の中心軸横断面に引き出す磁力線８３も示す。
【００４７】
図１５において、軟磁性領域の柱は、直線状で全てが概平行である。柱の断面形状はどんな形状であっても構わないが、その柱の中心軸間のピッチλ″と、磁気テープの着磁ピッチλとの関係は式（５）を満たすように作成される。ここで軟磁性領域の柱の外径をｔ１′、隣り合う軟磁性領域の柱間の距離（＝非磁性領域の厚み）をｔ２′としたとき、積層ピッチλ″はｔ１′とｔ２′の和に相当する。
λ／２＝ｎ′・λ″ （５）
（但し、λ″＝ｔ１′＋ｔ２′，ｎ′は１以上の自然数）
【００４８】
図１５に示した材料を用いた磁気ガイド９０は例えば以下のようにして作成することができる。まず、耐放射線性樹脂のブロックを作成し、エキシマレーザー等を使って貫通する孔を所望の形状となるように規則的にあける。そして、加工した樹脂ブロックを、軟磁性材料を溶かし込んだ溶液に浸し、“フェライトめっき”として知られている技術等によって、低温（２４°Ｃ〜１００°Ｃ）の条件下でこの貫通孔に軟磁性材料をめっきする。こうして出来た樹脂ブロックを所望の仕上がり形状に切断・加工することで、磁気ガイド９０を作成することができる。
【００４９】
なお、本実施例では、放射線治療装置１においてマルチリーフコリメータの各リーフ３７の位置を磁気センサー４８および磁気ガイド９０を用いて計測する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、着磁媒体の着磁パターンを離れた位置から磁気センサー４８および磁気ガイド９０を用いて計測する場合にも同様に適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
以上のように、本発明は、位置計測などで着磁媒体の着磁パターンを離れた位置から磁気センサーを用いて検出する場合に有用であり、特に、放射線が使われる環境下での位置計測に適している。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本実施例に係る放射線治療装置の構成を示す概要図である。
【図２】原体絞り装置と放射線源との位置関係をあらわした側面から見た原理図である。
【図３】リーフを駆動するための動力伝達系の模式図である。
【図４】本実施例に係る放射線治療装置によるリーフ位置計測方法を説明するための側面図である。
【図５−１】ＧＭＲセンサーの外観斜視図である。
【図５−２】磁気テープの外観図である。
【図５−３】ＧＭＲセンサーの上面拡大図である。
【図５−４】ＧＭＲセンサーの底面拡大図である。
【図６】磁気シートと磁気テープとの典型的な組合せ使用例を示す図である。
【図７】磁気センサーと磁気テープとの間に生じるギャップを示す図である。
【図８】磁気センサーの特性図である。
【図９】軟磁性層と非磁性層が交互に積層された複合材料部品を示す図である。
【図１０】磁気センサーと磁気テープとの間に配置された磁気ガイドを示す図である。
【図１１】磁気ガイドを通過する磁力線を示す図である。
【図１２】ｎ＝２の磁気ガイドを示す図である。
【図１３】ｎ＝３の磁気ガイドを示す図である。
【図１４】磁気ガイドの製造方法の一例を示す図である。
【図１５】磁気ガイド製造に用いられる他の材料を示す図である。
【符号の説明】
【００５２】
１ 放射線治療装置
２ 治療台
２ａ 天板
３ 回転架台
３ａ 片腕
３ｂ 片腕
４ 回転支持台
４ａ 回動軸
５ 照射ヘッド
６ 原体絞り装置
３１ モータ
３２ ウォームギア
３３ ウォームホイール
３４ アイドラギア
３５ シャフト
３６ 駆動ギア
３７，１０１Ａ，１０１Ｂ リーフ
４１ 電子線
４２ ベンディング・マグネット
４３ ターゲット
４４ 放射線
４５ 動力伝達機構
４６，５２，６２ 磁気テープ
４７ フレーム
４８ 磁気センサー
５１，６１ ＧＭＲセンサー
６３ 対象物
８１ 軟磁性層
８２ 非磁性層
８３ 磁力線
９０ 磁気ガイド
９１ 軟磁性シート
９２ 非磁性シート
９３ ローラ
９６ 柱状の軟磁性領域
９７ 非磁性体領域
９８ 柱状の軟磁性領域の中心軸
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層が交互に積層され、
着磁媒体に積層露出断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記積層露出断面の反対側の積層露出断面に引き出すことを特徴とする磁気ガイド装置。
【請求項２】
軟磁性粒子を含み中心軸が全て一定の方向を向き且つ互いに接触しない２次元的に等間隔配置された複数本のまっすぐな柱状磁性領域と該柱状磁性領域間の隙間を満たす非磁性領域から構成され、
着磁媒体に前記柱状磁性領域の中心軸横断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記中心軸横断面の反対側の中心軸横断面に引き出すことを特徴とする磁気ガイド装置。
【請求項３】
前記着磁媒体は、一定の着磁ピッチで着磁され、
磁性部分と非磁性部分の繰り返しピッチの自然数倍が、前記着磁媒体の着磁ピッチの半分に等しいことを特徴とする請求項１または２に記載の磁気ガイド装置。
【請求項４】
前記磁性部分は、最大直径が前記着磁ピッチより小さい軟磁性粒子を耐放射線性樹脂に均一に拡散させて固化した部材から構成され、
前記非磁性部分は、耐放射線性樹脂で構成されたことを特徴とする請求項３に記載の磁気ガイド装置。
【請求項５】
着磁媒体との接触面が凸形状であり接触面と反対側の面が平面であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の磁気ガイド装置。
【請求項６】
放射線の照射領域を調整するマルチリーフコリメータと、
前記マルチリーフコリメータを構成する円弧状の各リーフの上端部に貼り付けられる着磁媒体と、
前記着磁媒体が発生する磁場パターンを検出する磁気センサーと、
前記着磁媒体と磁気センサーの間に配置され該着磁媒体が発生する磁場パターンを磁気センサーが検出可能なように引き出す磁気ガイド装置を備え、
前記磁気ガイド装置は、
軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層が交互に積層され、
前記着磁媒体に積層露出断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記積層露出断面の反対側の積層露出断面に引き出して前記磁気センサーが検出可能とすることを特徴とする放射線治療装置。
【請求項７】
放射線の照射領域を調整するマルチリーフコリメータと、
前記マルチリーフコリメータを構成する円弧状の各リーフの上端部に貼り付けられる着磁媒体と、
前記着磁媒体が発生する磁場パターンを検出する磁気センサーと、
前記着磁媒体と磁気センサーの間に配置され該着磁媒体が発生する磁場パターンを磁気センサーが検出可能なように引き出す磁気ガイド装置を備え、
前記磁気ガイド装置は、
軟磁性粒子を含み中心軸が全て一定の方向を向き且つ２次元的に等間隔配置された複数本のまっすぐな柱状磁性領域と該柱状磁性領域間の隙間を満たす非磁性領域から構成され、
前記着磁媒体に前記柱状磁性領域の中心軸横断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記中心軸横断面の反対側の中心軸横断面に引き出して前記磁気センサーが検出可能とすることを特徴とする放射線治療装置。
【請求項１】
軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層が交互に積層され、
着磁媒体に積層露出断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記積層露出断面の反対側の積層露出断面に引き出すことを特徴とする磁気ガイド装置。
【請求項２】
軟磁性粒子を含み中心軸が全て一定の方向を向き且つ互いに接触しない２次元的に等間隔配置された複数本のまっすぐな柱状磁性領域と該柱状磁性領域間の隙間を満たす非磁性領域から構成され、
着磁媒体に前記柱状磁性領域の中心軸横断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記中心軸横断面の反対側の中心軸横断面に引き出すことを特徴とする磁気ガイド装置。
【請求項３】
前記着磁媒体は、一定の着磁ピッチで着磁され、
磁性部分と非磁性部分の繰り返しピッチの自然数倍が、前記着磁媒体の着磁ピッチの半分に等しいことを特徴とする請求項１または２に記載の磁気ガイド装置。
【請求項４】
前記磁性部分は、最大直径が前記着磁ピッチより小さい軟磁性粒子を耐放射線性樹脂に均一に拡散させて固化した部材から構成され、
前記非磁性部分は、耐放射線性樹脂で構成されたことを特徴とする請求項３に記載の磁気ガイド装置。
【請求項５】
着磁媒体との接触面が凸形状であり接触面と反対側の面が平面であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の磁気ガイド装置。
【請求項６】
放射線の照射領域を調整するマルチリーフコリメータと、
前記マルチリーフコリメータを構成する円弧状の各リーフの上端部に貼り付けられる着磁媒体と、
前記着磁媒体が発生する磁場パターンを検出する磁気センサーと、
前記着磁媒体と磁気センサーの間に配置され該着磁媒体が発生する磁場パターンを磁気センサーが検出可能なように引き出す磁気ガイド装置を備え、
前記磁気ガイド装置は、
軟磁性粒子を含む平坦な軟磁性層と軟磁性粒子を含まない平坦な非磁性層が交互に積層され、
前記着磁媒体に積層露出断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記積層露出断面の反対側の積層露出断面に引き出して前記磁気センサーが検出可能とすることを特徴とする放射線治療装置。
【請求項７】
放射線の照射領域を調整するマルチリーフコリメータと、
前記マルチリーフコリメータを構成する円弧状の各リーフの上端部に貼り付けられる着磁媒体と、
前記着磁媒体が発生する磁場パターンを検出する磁気センサーと、
前記着磁媒体と磁気センサーの間に配置され該着磁媒体が発生する磁場パターンを磁気センサーが検出可能なように引き出す磁気ガイド装置を備え、
前記磁気ガイド装置は、
軟磁性粒子を含み中心軸が全て一定の方向を向き且つ２次元的に等間隔配置された複数本のまっすぐな柱状磁性領域と該柱状磁性領域間の隙間を満たす非磁性領域から構成され、
前記着磁媒体に前記柱状磁性領域の中心軸横断面を接触させた際に、該着磁媒体が発生する磁場パターンを前記中心軸横断面の反対側の中心軸横断面に引き出して前記磁気センサーが検出可能とすることを特徴とする放射線治療装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５−１】
【図５−２】
【図５−３】
【図５−４】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５−１】
【図５−２】
【図５−３】
【図５−４】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２００９−２６１６９０（Ｐ２００９−２６１６９０Ａ）
【公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１１５５８２（Ｐ２００８−１１５５８２）
【出願日】平成２０年４月２５日（２００８．４．２５）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【出願人】（５９４１６４５４２）東芝メディカルシステムズ株式会社 (4,066)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年４月２５日（２００８．４．２５）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【出願人】（５９４１６４５４２）東芝メディカルシステムズ株式会社 (4,066)
【Ｆターム（参考）】
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